CN103111344A - 一种玻璃破碎机 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种玻璃破碎机,包括机架,在机架内设有相邻的上转子和下转子,在各转子下端均设有限制物料的落料输送轨道并与机架形成半封闭式的滚筒组,两滚筒组相互平行且形成一个落料输送轨道。通过双转子与其相邻的滚筒组之间的配合,多点打击,能够一次性将玻璃进行破碎,节约现有的破碎机多次破碎时所需要额外耗费的能源同时保证了玻璃破碎的运送轨迹和破碎效率,采用双破碎转子进行破碎,破碎之后通过滚筒组进行送料活动,两次单独的破碎,确保了玻璃的破碎程度,经破碎后的粒径小于50mm,具有结构新颖简单、操作维修方便、产量大、效率高和能耗低的特点。
Description
技术领域
本发明属于工程机械设备技术领域,涉及一种采用双破碎转子,自由滚筒送料,多个打击点进行多次打击,确保玻璃打碎的玻璃破碎机。
背景技术
目前的锤式破碎机都是单转子、多排板棰、转速高,有的高达1400转/分,破碎的机理主要是“磨”,采用现有的锤式破碎机用于玻璃破碎时,都是将玻璃重复多次进行破碎,它的工作效率低,破碎的效果也不好。
发明内容
为了克服现有技术的上述缺点,本发明提供一种具有结构新颖简单、操作维修方便、产量大、效率高、能耗低特点的玻璃破碎机。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种玻璃破碎机,包括机架,在机架内设有相邻的上转子和下转子,在各转子下端均设有限制物料的落料输送轨道并与机架形成半封闭式的滚筒组,两滚筒组相互平行且形成一个落料输送轨道。
在所述机架上端设有进料口。
在上转子的下端设有横栏式的滚筒组,在下转子下端设有呈滑梯形状的滚筒组。
所述转子通过皮带装置与外部电机动力相连。
在所述电机下端设有一个框架。
所述滚筒组包括若干个滚筒,在滚筒之间设有用于物料掉落的间隙。
在所述下转子下端滚筒组下侧设有出料口。
在机架及框架下端设有一个底座。
本发明的有益效果是:通过双转子与其相邻的滚筒组之间的配合,多点打击,能够一次性将玻璃进行破碎,节约现有的破碎机多次破碎时所需要额外耗费的能源同时保证了玻璃破碎的运送轨迹和破碎效率,采用双破碎转子进行破碎,破碎之后通过滚筒组进行送料活动,两次单独的破碎,确保了玻璃的破碎程度,经破碎后的粒径小于50mm,具有结构新颖简单、操作维修方便、产量大、效率高和能耗低的特点。
附图说明
图1是本发明结构示意图。
图中:1-进料口,2-转子,3-电机,4-框架,5-滚筒组,6-出料口,7-底座。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
参见图1,一种玻璃破碎机,包括机架,机架上端设有进料口1,在机架内设有相邻的上转子和下转子,转子2通过皮带与外部电机3动力相连,在电机3下端设有一个安装框架4,在各转子2下端均设有限制物料的落料输送轨道并与机架形成半封闭式的滚筒组5,所述滚筒组5包括多个滚筒,滚筒之间设有用于物料掉落的间隙,在上转子的下端设有横栏式的滚筒组5,在下转子下端设有呈滑梯形状的滚筒组5,两滚筒组5相互平行且形成一个落料输送轨道,在下转子下端滚筒组5下侧设有出料口6,在机架及框架4下端设有一个底座7。
本发明通过双转子与其相邻的滚筒组之间的配合,多点打击,能够一次性将玻璃进行破碎,节约现有的破碎机多次破碎时所需要额外耗费的能源同时保证了玻璃破碎的运送轨迹和破碎效率,采用双破碎转子进行破碎,破碎之后通过滚筒组进行送料活动,两次单独的破碎,确保了玻璃的破碎程度,经破碎后的粒径小于50mm,具有结构新颖简单、操作维修方便、产量大、效率高和能耗低的特点。
Claims (7)
1.一种玻璃破碎机,包括机架,其特征是:在机架内设有相邻的上转子和下转子,在各转子下端均设有限制物料的落料输送轨道并与机架形成半封闭式的滚筒组,两滚筒组相互平行且形成一个落料输送轨道。
2.如权利要求1所述玻璃破碎机,其特征是:在所述机架上端设有进料口。
3.如权利要求1所述玻璃破碎机,其特征是:在上转子的下端设有横栏式的滚筒组,在下转子下端设有呈滑梯形状的滚筒组。
4.如权利要求1所述玻璃破碎机,其特征是:所述转子通过皮带装置与外部电机动力相连。
5.如权利要求4所述玻璃破碎机,其特征是:在所述电机下端设有一个框架。
6.所述滚筒组包括若干个滚筒,在滚筒之间设有用于物料掉落的间隙,
如权利要求1或3所述玻璃破碎机,其特征是:在所述下转子下端滚筒组下侧设有出料口。
7.如权利要求1或2所述玻璃破碎机,其特征是:在机架及框架下端设有一个底座。
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- 2013-03-03 CN CN2013100657606A patent/CN103111344A/zh active Pending
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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