CN103092386A - 一种电子设备及其触控方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种电子设备及其触控方法,其中电子设备包括:获得单元,用于获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作的着力点坐标以及压力的大小;处理单元,用于根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。本发明的方案可以最大限度实现触摸屏更多的功能,避免误触,给用户带来新的交互体验,提高产品的易用性,提升电子设备的人机友好性。

Description

一种电子设备及其触控方法
技术领域
本发明涉及触控技术,特别是指一种电子设备及其触控方法。
背景技术
触摸屏和触摸按键在电子产品上的应用非常广泛,主要分为电阻式,电容式,声波式,红外反射式,光学式等方式。这些技术有一个共同的缺点,就是不能够测出用户触摸操作时的真实压力。
如在电容式触摸屏上,采用检测用户手指接触面积来间接地测量用户操作的压力,若接触面积大,则认为压力大,接触面积小,则认为压力小;这样不同的用户的手指面积差异较大,并且同一用户不同手指的面积也有较大的差异;或者同一个手指在不同的触摸角度下,就算用户的用力是一样的,其与触摸屏接触的面积也会有很大的差异,从而使触摸屏感受到的压力也有很大的差异,从而造成同样的操作却由于触摸屏检测到的压力大小不同,而无法正确执行该操作,这给用户带来了极大的困扰。
另外,用户不小心误触了触摸屏或触摸按键,触摸屏或触摸按键根本不能够判断出是误操作,依然按照正常触摸来识别,给用户带来不友好的体验。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种电子设备及其触控方法,可以最大限度实现触摸屏更多的功能,避免误触,给用户带来新的交互体验,提高产品的易用性,提升电子设备的人机友好性。
为解决上述技术问题,本发明的实施例提供一种电子设备,包括:
获得单元,用于获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作的着力点坐标以及压力的大小;
处理单元,用于根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。
优选的,所述处理单元在所述压力的大小处于一预设压力范围内时,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作。
优选的,所述预设压力范围包括:轻触操作对应的第一压力范围,滑动操作对应的第二压力范围和/或按压操作对应的第三压力范围。
优选的,所述第一压力范围与所述第二压力范围以及第三压力范围互不相同。
本发明的实施例还提供一种触控方法,应用于一电子设备,所述方法包括:
获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作的着力点坐标以及压力的大小;
根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。
优选的,根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作的步骤包括:
在所述压力的大小处于一预设压力范围内时,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作。
优选的,所述预设压力范围包括:轻触操作对应的第一压力范围,滑动操作对应的第二压力范围和/或按压操作对应的第三压力范围。
优选的,所述第一压力范围与所述第二压力范围以及第三压力范围互不相同。
本发明的实施例还提供一种电子设备,具有触摸屏,包括:
压力应变层,用于获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作在所述压力应变层的着力点坐标以及压力的大小;
处理器,用于根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。
优选的,所述压力应变层包括:屏面;设置于所述屏面下方的铟锡氧化物图形;设置于所述铟锡氧化物图形下方的触摸传感器;设置于所述触摸传感器下方的铟锡氧化物基板;以及设置于所述铟锡氧化物基板的上表面或者下表面的压力传感器;或者
所述压力应变层包括:屏面;设置于所述屏面下方的铟锡氧化物图形;设置于所述铟锡氧化物图形下方的触摸传感器;以及设置于所述触摸传感器下方的压力传感器。
本发明的上述技术方案的有益效果如下:
上述方案中,通过探测出用户触摸操作时的压力,并根据该压力的大小分析判断出用户的操作意愿,如轻触、滑动、按压或者误触等操作,这样可以最大限度实现触摸层更多的功能,避免误触,给用户带来新的交互体验,提高产品的易用性,提升电子设备的人机友好性。
附图说明
图1为本发明的电子设备的结构框图;
图2为本发明的电子设备的一具体实施例结构框图;
图3为本发明的电子设备的一具体实施例结构框图。
具体实施方式
为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
如图1所示,本发明的第一实施例:
一种电子设备10,该电子设备包括:
获得单元11,用于获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作的着力点坐标以及压力的大小;
处理单元12,用于根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。
本发明的该第一实施例中,该压力信号包括所述触摸操作的着力点坐标以及压力的大小;该压力信号会被传输给处理单元,该电子设备的处理单元根据该压力信号中压力的大小,执行与该着力点坐标对应的应用的相应操作,如压力比较小时,执行与该着力点坐标处的应用的打开操作,一连续的压力,执行与该着力点坐标处的应用的滑动操作等;其中,该应用是该电子设备的显示单元(该显示单元同时也是电子设备的触摸层)上当前显示的应用,如以图标或者链接显示的应用等。该实施例通过探测出用户触摸操作时的压力,并根据该压力的大小分析判断出用户的操作意愿,如轻触、滑动、按压或者误触等操作,这样可以最大限度实现触摸层更多的功能,避免误触,给用户带来新的交互体验,提高产品的易用性,提升电子设备的人机友好性。
优选的,在上述第一实施例中,所述处理单元在所述压力的大小处于一预设压力范围内时,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作。其中,该预设的压力范围定义了每种触摸操作的压力的可能变化范围;
具体地,如所述预设压力范围包括:轻触操作对应的第一压力范围,滑动操作对应的第二压力范围和/或按压操作对应的第三压力范围。
优选的,所述第一压力范围与所述第二压力范围以及第三压力范围互不相同。如检测到用户的触摸操作的压力的大小在第一压力范围值内时,判断为对该触摸操作的着力点位置处的应用的轻触操作,并对该应用执行轻触时对应的打开或者前进等操作;检测到用户的触摸操作的压力的大小在第二压力范围值内时,判断为对该触摸操作的着力点位置处的应用的滑动操作,并对该应用执行滑动时对应的滑动等操作;检测到用户的触摸操作的压力的大小在第三压力范围值时,判断为对该触摸操作的着力点位置处的应用的按压操作,并对该应用执行按压时对应的放大等操作;当检测到压力的大小均不在这些预设压力范围内时,判断为是误触,这样可以最大限度实现触摸屏更多的功能,避免误触,给用户带来新的交互体验,提高产品的易用性,提升电子设备的人机友好性。
与上述电子设备的第一实施例相对应的,本发明的第二实施例还提供一种触控方法,应用于一电子设备,所述方法包括:
获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作的着力点坐标以及压力的大小;
根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。
优选的,根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作的步骤包括:
在所述压力的大小处于一预设压力范围内时,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作。
其中,所述预设压力范围包括:轻触操作对应的第一压力范围,滑动操作对应的第二压力范围和/或按压操作对应的第三压力范围。
优选的,所述第一压力范围与所述第二压力范围以及第三压力范围互不相同。
需要说明的是,上述第一实施例所述的电子设备的所有实现方式均适用于该方法的实施例中,也能达到相同的技术效果,在此不再赘述。
本发明的第三实施例还提供一种电子设备,包括:
压力应变层,用于获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作在所述压力应变层上的着力点坐标以及压力的大小;
处理器,用于根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备上当前显示的应用。
该实施例中,压力应变层既具有触摸屏原有的功能,又具有感知压力的功能,同时具有触摸感知、压力感知以及显示三种功能,该电子设备的实施例同样通过压力应变层探测出用户触摸操作时的压力,并根据该压力的大小分析判断出用户的操作意愿,如轻触、滑动、按压或者误触等操作,这样可以最大限度实现触摸层更多的功能,避免误触,给用户带来新的交互体验,提高产品的易用性,提升电子设备的人机友好性。
在上述电子设备的第一具体实现结构中,压力应变层可以是全新的一种传感单元,包括:屏面以及位于屏面下方的触摸压力感应器,该触摸压力感应器在用户手指在屏面上进行触摸操作时,既可以获得该触摸操作的着力点坐标,又可以获知该触摸操作对屏面产生的压力的大小,该压力的大小可以通过屏面的变形度来体现,如变形度大,压力大,反之压力就小等。其中,该屏面可以是透明的或非透明的材料制成的屏面。
当然,上述电子设备的压力应变层还可以下述结构实现:
如图2所示,在上述电子设备的第二具体实现结构中,所述压力应变层包括:屏面21;设置于所述屏面21下方的铟锡氧化物图形(ITO Pattern)22;设置于所述铟锡氧化物图形22下方的触摸传感器23;设置于所述触摸传感器23下方的铟锡氧化物基板(ITO shielding)24;以及设置于所述铟锡氧化物基板的上表面或者下表面的压力传感器25;该种实现方式在不改变原有触摸屏体结构的情况下,在ITO shielding的下表面或上表面制作所述压力传感器该压力传感器可以很薄并且可以是透明的,这样压力应变层既可以采集到触摸信号,也可以采集到压力信号。
如图3所示,在上述电子设备的第三具体实现结构中,所述压力应变层包括:屏面31;设置于所述屏面31下方的铟锡氧化物图形32;设置于所述铟锡氧化物图形32下方的触摸传感器33;以及设置于所述触摸传感器33下方的压力传感器34。该种实现方式简化触摸屏的制造工艺,该压力传感器34所在的层充当铟锡氧化物基板的功能,从而降低电子设备的成本和触摸层的厚度。
上述图2和图3所示的压力应变层的结构是以电容式触摸屏为例进行说明的,该电子设备的触摸屏还可以是电阻式,声波式,红外反射式,光学式等技术方式,实现方式与上述第一实施例所述的电子设备相同,也能达到相同的技术效果。且上述图2和图3中所示的压力传感器还可以移植到电子设备的触摸按键中,也能达到与上述图2和图3所示实施例相同的技术效果。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种电子设备,其特征在于,包括:
获得单元,用于获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作的着力点坐标以及压力的大小;
处理单元,用于根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。
2.根据权利要求1所述的电子设备,其特征在于,所述处理单元在所述压力的大小处于一预设压力范围内时,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作。
3.根据权利要求2所述的电子设备,其特征在于,所述预设压力范围包括:轻触操作对应的第一压力范围,滑动操作对应的第二压力范围和/或按压操作对应的第三压力范围。
4.根据权利要求3所述的电子设备,其特征在于,所述第一压力范围与所述第二压力范围以及第三压力范围互不相同。
5.一种触控方法,应用于一电子设备,其特征在于,所述方法包括:
获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作的着力点坐标以及压力的大小;
根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。
6.根据权利要求5所述的触控方法,其特征在于,根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作的步骤包括:
在所述压力的大小处于一预设压力范围内时,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作。
7.根据权利要求6所述的触控方法,其特征在于,所述预设压力范围包括:轻触操作对应的第一压力范围,滑动操作对应的第二压力范围和/或按压操作对应的第三压力范围。
8.根据权利要求6所述的触控方法,其特征在于,所述第一压力范围与所述第二压力范围以及第三压力范围互不相同。
9.一种电子设备,其特征在于,包括:
压力应变层,用于获得用户进行触摸操作时产生的压力信号,其中,压力信号包括所述触摸操作在所述压力应变层上的着力点坐标以及压力的大小;
处理器,用于根据所述压力信号中的压力的大小,执行与所述着力点坐标对应的应用的相应操作,所述应用是所述电子设备当前显示的应用。
10.根据权利要求9所述的电子设备,其特征在于,
所述压力应变层包括:屏面;设置于所述屏面下方的铟锡氧化物图形;设置于所述铟锡氧化物图形下方的触摸传感器;设置于所述触摸传感器下方的铟锡氧化物基板;以及设置于所述铟锡氧化物基板的上表面或者下表面的压力传感器;或者
所述压力应变层包括:屏面;设置于所述屏面下方的铟锡氧化物图形;设置于所述铟锡氧化物图形下方的触摸传感器;以及设置于所述触摸传感器下方的压力传感器。
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