CN103019448A - 一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置,涉及显示技术,感应电极隔垫物的材质与色阻的材质相同,且感应电极隔垫物至少与所述红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的一个位于同一层,感应电极隔垫物采用色阻层的堆叠产生,所以可以在色阻图形形成的同时形成感应电极隔垫物,然后制作导电层,再进行支撑隔垫物制作,简化了工艺制程,降低了制作彩膜基板的工艺复杂度。

Description

一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术,尤其一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置。
背景技术
目前,嵌入式触摸屏采用电压感应方式或是感应盒厚变化产生的电容变化的感应方式时,均需要在彩膜基板上制作感应电极隔垫物。
如图1所示,感应电极隔垫物的高度比支撑隔垫物小,同时,感应电极表面覆盖导电金属或ITO层,从而在收到压力时,接触阵列基板上的感应电极,产生电压或电容变化,实现触摸感应。
目前感应电极隔垫物的是采用支撑隔垫物材料制作,而感应电极隔垫物和支撑隔垫物的高度不同,且感应电极表面需要覆盖导电金属或ITO层,而支撑隔垫物需要保证绝缘性,所以需要多次涂覆隔垫物材料,工艺流程复杂。
具体的,在色阻等层制作完毕后,首先制作感应电极隔垫物,再覆盖导电金属或ITO层,然后再制作支撑隔垫物,从而完成彩膜基板的制作。
可见,至少需要两次涂覆隔垫物材料分别形成感应电极隔垫物和支撑隔垫物,工艺流程复杂,制程较长。
发明内容
本发明实施例提供一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置,以降低制作彩膜基板的工艺复杂度。
一种彩膜基板,包括:
色阻、感应电极隔垫物、覆盖在所述色阻及感应电极隔垫物上的导电层,以及与阵列基板绝缘连接的支撑隔垫物,其中,
所述感应电极隔垫物的材质与所述色阻的材质相同,且所述感应电极隔垫物至少与所述红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的一个位于同一层。
一种显示装置,包括本发明实施例提供的彩膜基板。
一种彩膜基板制作方法,包括:
同时制作色阻及感应电极隔垫物;
在所述色阻及感应电极隔垫物上制作导电层;
制作支撑隔垫物。
本发明实施例提供一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置,感应电极隔垫物的材质与色阻的材质相同,且感应电极隔垫物至少与所述红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的一个位于同一层,感应电极隔垫物采用色阻层的堆叠产生,所以可以在色阻图形形成的同时形成感应电极隔垫物,然后制作导电层,再进行支撑隔垫物制作,简化了工艺制程,降低了制作彩膜基板的工艺复杂度。
附图说明
图1为现有技术中彩膜基板结构示意图;
图2a和图2b为本发明实施例提供的彩膜基板结构示意图;
图3为本发明实施例提供的彩膜基板制作方法流程图;
图4为本发明实施例提供的较具体的彩膜基板制作方法流程图。
具体实施方式
本发明实施例提供一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置,感应电极隔垫物的材质与色阻的材质相同,且感应电极隔垫物至少与所述红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的一个位于同一层,感应电极隔垫物采用色阻层的堆叠产生,所以可以在色阻图形形成的同时形成感应电极隔垫物,然后制作导电层,再进行支撑隔垫物制作,简化了工艺制程,降低了制作彩膜基板的工艺复杂度。
如图2a所示,本发明实施例提供的彩膜基板包括:
色阻201、感应电极隔垫物202、覆盖在色阻及感应电极隔垫物上的导电层203,以及与阵列基板绝缘连接的支撑隔垫物204,其中,
感应电极隔垫物202的材质与色阻201的材质相同,且感应电极隔垫物202至少与所述红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的一个位于同一层。
这样,就可以同时制作感应电极隔垫物202与色阻201,从而减少工艺流程,降低工艺复杂度。
其中,导电层可以是导电金属层或者ITO(氧化铟锡)层,也可以由导电金属层和ITO层复合而成。
支撑隔垫物需要与阵列基板绝缘,所以可以直接使用绝缘物制作支撑隔垫物,并将支撑隔垫物设置在导电层上。
进一步,制作红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻的同时,只要使感应电极隔垫物采用红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的至少一层在对应位置进行图形堆叠即可,这样就可以使得感应电极隔垫物与色阻同时制作,不必单独制作感应电极隔垫物,从而减少工艺流程。
如图2b所示,本发明实施例提供的彩膜基板中,由多个颜色的色阻进行图形堆叠制作感应电极隔垫物较佳,这样,即可进一步确保感应电极隔垫物具有足够的高度,提高触控灵敏度。
本发明实施例还相应提供一种显示装置,该显示装置包括本发明实施例提供的彩膜基板。
本发明实施例还相应提供一种彩膜基板制作方法,如图3所示,该方法包括:
步骤S301、同时制作色阻及感应电极隔垫物;
步骤S302、在色阻及感应电极隔垫物上制作导电层;
步骤S303、制作支撑隔垫物。
由于在步骤S301中同时制作了色阻及感应电极隔垫物,所以将两个步骤合并成一步完成,减少了工艺流程。
其中,导电层可以是导电金属层或者ITO层,也可以由导电金属层和ITO层复合而成,所以在步骤S302中,在色阻及感应电极隔垫物上制作导电层,具体包括:
在色阻及感应电极隔垫物上制作导电金属层;和/或
在色阻及感应电极隔垫物上制作ITO层。
支撑隔垫物需要与阵列基板绝缘,所以可以直接使用绝缘物制作支撑隔垫物,并将支撑隔垫物设置在导电层上,此时,步骤S303中,制作支撑隔垫物,具体为:
在导电层上制作支撑隔垫物。
制作红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻的同时,只要使感应电极隔垫物采用红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的至少一层在对应位置进行图形堆叠即可,此时,步骤S301中,同时制作色阻及感应电极隔垫物,具体为:
同时制作红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的至少一个及感应电极隔垫物。
进一步,在步骤S301中,同时制作色阻及感应电极隔垫物,可以具体为:在制作色阻的同时,采用色阻积层的方式制作感应电极隔垫物,如果感应电极隔垫物和色阻的高度差异较大,可以采用半色调曝光或者灰阶曝光的方式进行层积高度调整,得到不同高度的色阻及感应电极隔垫物。
通常,在制作色阻前,还需要制作黑矩阵,此时,步骤S301在同时制作色阻及感应电极隔垫物之前,还包括:
在基板上制作黑矩阵。
具体的,如图4所示,制作彩膜基板的较具体的方法包括:
步骤S401、进行基板清洗;
步骤S402、在基板上制作黑矩阵;
步骤S403、同时制作色阻及感应电极隔垫物;
步骤S404、在色阻及感应电极隔垫物上制作导电层;
步骤S405、在导电层上制作支撑隔垫物。
通过上述步骤,即可完成彩膜基板中色阻、感应电极隔垫物及支撑隔垫物的制作,减少了工艺流程,降低了工艺复杂度。
本发明实施例提供一种彩膜基板制作方法、彩膜基板及显示装置,感应电极隔垫物的材质与色阻的材质相同,且感应电极隔垫物至少与所述红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的一个位于同一层,感应电极隔垫物采用色阻层的堆叠产生,所以可以在色阻图形形成的同时形成感应电极隔垫物,然后制作导电层,再进行支撑隔垫物制作,简化了工艺制程,降低了制作彩膜基板的工艺复杂度。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:
色阻、感应电极隔垫物、覆盖在所述色阻及感应电极隔垫物上的导电层,以及与阵列基板绝缘连接的支撑隔垫物,其中,
所述感应电极隔垫物的材质与所述色阻的材质相同,且所述感应电极隔垫物至少与所述红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的一个位于同一层。
2.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述导电层具体为:
导电金属层和/或氧化铟锡ITO层。
3.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述支撑隔垫物设置在所述导电层上。
4.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-3任一所述的彩膜基板。
5.一种彩膜基板制作方法,其特征在于,包括:
同时制作色阻及感应电极隔垫物;
在所述色阻及感应电极隔垫物上制作导电层;
制作支撑隔垫物。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述在所述色阻及感应电极隔垫物上制作导电层,具体包括:
在所述色阻及感应电极隔垫物上制作导电金属层;和/或
在所述色阻及感应电极隔垫物上制作ITO层。
7.如权利要求5所述的方法,其特征在于,同时制作色阻及感应电极隔垫物,具体为:
同时制作红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中的至少一个及感应电极隔垫物。
8.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述同时制作色阻及感应电极隔垫物,具体为:
在制作色阻的同时,采用色阻积层的方式制作感应电极隔垫物。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在制作色阻的同时,采用色阻积层的方式制作感应电极隔垫物,具体包括:
采用半色调曝光或者灰阶曝光的方式进行层积高度调整,得到不同高度的色阻及感应电极隔垫物。
10.如权利要求5所述的方法,其特征在于,在所述同时制作色阻及感应电极隔垫物之前,还包括:
在基板上制作黑矩阵。
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