CN102969334A - 一种用于woled的彩色滤光片结构及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种用于WOLED的彩色滤光片结构及其制造方法。该彩色滤光片结构包括：玻璃基板；黑色矩阵图案层，位于玻璃基板的上方，其包括多个间隔分布的黑矩阵；以及像素层，包括红色子像素、绿色子像素、第一蓝色子像素和第二蓝色子像素。红色子像素、绿色子像素、第一蓝色子像素和第二蓝色子像素均设置于相邻的黑矩阵之间。第二蓝色子像素的薄膜厚度小于第一蓝色子像素的薄膜厚度。采用本发明，在像素层中采用红色子像素、绿色子像素、第一蓝色子像素和第二蓝色子像素的结构，藉由第二蓝色子像素的薄膜厚度小于第一蓝色子像素的薄膜厚度，使光源通过该第二蓝色子像素而修正频谱行为，进而达到显示器所需的色温要求。
Description
技术领域
本发明涉及有机发光显示器，尤其涉及一种用于WOLED（White Organic Light Emitting Diode，白光有机发光二极管）的彩色滤光片结构及其制造方法。
背景技术
有机发光二极管（Organic Light Emitting Diode，OLED）具有主动发光、发光效率高、反应时间快、工作电压低、广视角、面板厚度薄、功耗低、工作温度范围广以及可实现柔性显示等诸多优点，因而被称为继CRT（Cathode Ray Tube，阴极射线管）、LCD（Liquid Crystal Display，液晶显示器）之后的第三代显示技术。其中，白光有机发光二极管属于面光源，相较于LED的点光源，可以制造成大面积、任意形状的平板光源，因而更适合液晶显示器的背光源及全彩色的OLED显示器。
在全彩色的OLED显示器中，三基色（Red、Green和Blue）虽然同等重要，但白光发射却获得了更多的关注，这是因为任何想得到的色彩范围都可以通过将白光过滤而得到。例如，OLED器件可以包含发射红色、绿色、蓝色三种光的化合物，以共同产生白光。然而，这也同时带来一些问题，比如器件的效率低于1lm/W，需要大的驱动电压，而且使用寿命较短。
现有技术中，出于WOLED的使用寿命考虑，其光源的色点偏黄,难以达成标准电视显示器的色点要求（如，9000~10000K）。一种解决方案是在于，采用非等比例设计的像素开口率来达到标准的白点位置，但是客制化光罩的应用会增加成本花费。此外，如果直接采用色点较接近的标准白点光源，又会缩短使用寿命。
有鉴于此，如何设计一种用于WOLED的彩色滤光片结构，以有效地消除上述缺陷，并且还可节约成本，延长光源的使用寿命，是业内相关技术人员亟待解决的一项课题。
发明内容
针对现有技术中的WOLED光源在使用时所存在的上述缺陷，本发明提供了一种用于WOLED的彩色滤光片结构及其制造方法。
依据本发明的一个方面，提供了一种用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构，包括：
一玻璃基板；
一黑色矩阵图案层，位于所述玻璃基板的上方，所述黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵；以及
一像素层，包括一红色子像素、一绿色子像素、一第一蓝色子像素和一第二蓝色子像素，其中，所述红色子像素、所述绿色子像素、所述第一蓝色子像素和所述第二蓝色子像素中的每一子像素均设置于相邻的黑矩阵之间，
其中，所述第二蓝色子像素的薄膜厚度小于所述第一蓝色子像素的薄膜厚度。
优选地，白光有机发光二极管光源通过所述第二蓝色子像素后的色温介于5500K~13000K之间。
优选地，白光有机发光二极管光源通过所述第二蓝色子像素的色温为T2且未通过所述第二蓝色子像素的色温为T1，则T2与T1满足：T2-T1>2000K。
优选地，该彩色滤光片结构还包括一保护层（OC，Over Coat），位于所述像素层的上方，并用以填平所述像素层。
依据本发明的另一个方面，提供了一种用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构的制造方法，包括以下步骤：
提供一玻璃基板；
形成一黑色矩阵图案层于所述玻璃基板的上方，其中，该黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵；
形成一红色子像素、一绿色子像素和一第一蓝色子像素于相邻的黑矩阵之间；以及
形成一第二蓝色子像素于相邻的黑矩阵之间，其中，所述红色子像素、所述绿色子像素、所述第一蓝色子像素和所述第二蓝色子像素构成一像素层，并且所述第二蓝色子像素的薄膜厚度小于所述第一蓝色子像素的薄膜厚度。
优选地，该制造方法还包括：形成一保护层于所述像素层的上方，从而填平所述像素层。
优选地，该白光有机发光二极管光源通过所述第二蓝色子像素后的色温介于5500K~13000K之间。
依据本发明的又一个方面，提供了一种用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构的制造方法，包括以下步骤：
提供一玻璃基板；
形成一黑色矩阵图案层于所述玻璃基板的上方，其中，该黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵；
形成一红色子像素和一绿色子像素，所述红色子像素和所述绿色子像素均位于相邻的黑矩阵之间；
涂布一蓝色阻层于所述红色子像素和绿色子像素的上方；
采用半调光制程（half tone）形成一第一蓝色子像素和一第二蓝色子像素，其中，所述红色子像素、所述绿色子像素、所述第一蓝色子像素和所述第二蓝色子像素构成一像素层，所述第二蓝色子像素的薄膜厚度小于所述第一蓝色子像素的薄膜厚度。
优选地，该制造方法还包括：形成一保护层于所述像素层的上方，从而填平所述像素层。
优选地，该白光有机发光二极管光源通过所述第二蓝色子像素后的色温介于5500K~13000K之间。
采用本发明的用于WOLED的彩色滤光片结构及其制造方法，在像素层中采用红色子像素、绿色子像素、第一蓝色子像素和第二蓝色子像素的RGBB’结构，藉由第二蓝色子像素的薄膜厚度小于第一蓝色子像素的薄膜厚度，使光源通过该第二蓝色子像素而修正频谱行为，进而达到显示器所需的色温要求。此外，第一蓝色子像素和第二蓝色子像素为相同颜色的色阻材质制成，仅薄膜厚度不同，因而可节省制程上的换线成本。
附图说明
读者在参照附图阅读了本发明的具体实施方式以后，将会更清楚地了解本发明的各个方面。其中，
图1示出依据本发明的一实施方式的用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构示意图；
图2示出依据本发明的另一实施方式，用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构的制造方法的流程框图；
图3示出采用图2的制造方法所形成的彩色滤光片结构的主要步骤分解示意图；
图4示出依据本发明的又一实施方式，用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构的制造方法的流程框图；以及
图5示出采用图4的制造方法所形成的彩色滤光片结构的主要步骤分解示意图。
具体实施方式
为了使本申请所揭示的技术内容更加详尽与完备，可参照附图以及本发明的下述各种具体实施例，附图中相同的标记代表相同或相似的组件。然而，本领域的普通技术人员应当理解，下文中所提供的实施例并非用来限制本发明所涵盖的范围。此外，附图仅仅用于示意性地加以说明，并未依照其原尺寸进行绘制。
下面参照附图，对本发明各个方面的具体实施方式作进一步的详细描述。
图1示出依据本发明的一实施方式的用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构示意图。
参照图1，本发明的彩色滤光片结构包括：一玻璃基板10、一黑色矩阵图案层和一像素层。
具体地，黑色矩阵图案层位于玻璃基板10的上方。在图1中，黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵，即，黑矩阵201、203、205、207和209。像素层包括一红色子像素（Red sub-pixel）302、一绿色子像素（Green sub-pixel）304、一第一蓝色子像素（Bluesub-pixel）306和一第二蓝色子像素308。其中，红色子像素302、绿色子像素304、第一蓝色子像素306和第二蓝色子像素308中的每一子像素均设置于相邻的黑矩阵之间。例如，红色子像素302位于黑矩阵201与黑矩阵203之间，绿色子像素304位于黑矩阵203与黑矩阵205之间，第一蓝色子像素306位于黑矩阵205与黑矩阵207之间，以及第二蓝色子像素308位于黑矩阵207与黑矩阵209之间。
需要特别说明的是，本发明的彩色滤光片结构采用RGBB’四个子像素的架构，且第二蓝色子像素308的薄膜厚度设置为小于第一蓝色子像素306的薄膜厚度。如此一来，当白光有机发光二极管穿过第二蓝色子像素308后，可对显示画面的色温加以调节。
在一具体实施例中，白光有机发光二极管光源通过第二蓝色子像素308后的色温介于5500K~13000K之间。较佳地，若定义白光有机发光二极管光源通过第二蓝色子像素308的色温为T2，且未通过第二蓝色子像素308的色温为T1，则T2与T1满足：T2-T1>2000K。
在一具体实施例中，该彩色滤光片结构还包括一保护层40（OC，Over Coat）。该保护层40位于像素层的上方，并用以填平该像素层。例如，该保护层40不仅填充黑矩阵201和红色子像素302左侧的区域，还填充红色子像素302、绿色子像素304之间且黑矩阵203上方的区域。
图2示出依据本发明的另一实施方式，用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构的制造方法的流程框图。图3示出采用图2的制造方法所形成的彩色滤光片结构的主要步骤分解示意图。
参照图2，在该制造方法中，首先，提供一玻璃基板（步骤S101）。然后，形成一黑色矩阵图案层于玻璃基板的上方，其中，该黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵（步骤S103）。接着，形成一红色子像素、一绿色子像素和一第一蓝色子像素于相邻的黑矩阵之间（步骤S105）。最后，形成一第二蓝色子像素于相邻的黑矩阵之间，其中，红色子像素、绿色子像素、第一蓝色子像素和第二蓝色子像素构成一像素层，并且第二蓝色子像素的薄膜厚度小于第一蓝色子像素的薄膜厚度（步骤S107）。
结合图2和图3，在该彩色滤光片结构的制造方法中，首先提供一玻璃基板10。然后，形成一黑色矩阵图案层于玻璃基板10的上方，该黑色矩阵图案层由多个间隔分布的黑矩阵构成，如黑矩阵201、203、205、207和209，如图3（a）所示。接着，形成一红色子像素302、一绿色子像素304和一第一蓝色子像素306于相邻的黑矩阵之间。更详细地，形成红色子像素302于黑矩阵201与黑矩阵203之间，形成绿色子像素304于黑矩阵203与黑矩阵205之间，以及形成第一蓝色子像素306于黑矩阵205与黑矩阵207之间。最后，形成一第二蓝色子像素308于相邻的黑矩阵207与黑矩阵209之间，其中，红色子像素302、绿色子像素304、第一蓝色子像素306和第二蓝色子像素308构成一像素层，并且第二蓝色子像素308的薄膜厚度小于第一蓝色子像素306的薄膜厚度，如图3（b）所示。
在一具体实施例中，该制造方法还包括：形成一保护层40于像素层的上方，从而填平该像素层，如图3（c）所示。
图4示出依据本发明的又一实施方式，用于白光有机发光二极管的彩色滤光片结构的制造方法的流程框图。图5示出采用图4的制造方法所形成的彩色滤光片结构的主要步骤分解示意图。
参照图4，在该制造方法中，首先，提供一玻璃基板（步骤S201）。然后，形成一黑色矩阵图案层于玻璃基板的上方，该黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵（步骤S203）。接着，形成一红色子像素和一绿色子像素于相邻的黑矩阵之间（步骤S205）。接着，涂布一蓝色色阻层于红色子像素和绿色子像素的上方（步骤S207）。最后，利用半调光（half tone）制程形成一第一蓝色子像素和一第二蓝色子像素，其中，红色子像素、绿色子像素、第一蓝色子像素和第二蓝色子像素构成一像素层，并且第二蓝色子像素的薄膜厚度小于第一蓝色子像素的薄膜厚度（步骤S209）。
结合图4和图5，在该彩色滤光片结构的制造方法中，首先提供一玻璃基板10。然后，形成一黑色矩阵图案层于玻璃基板10的上方，该黑色矩阵图案层由多个间隔分布的黑矩阵构成，如黑矩阵201、203、205、207和209。接着，形成一红色子像素302和一绿色子像素304于相邻的黑矩阵之间。具体地，形成红色子像素302于黑矩阵201与黑矩阵203之间，形成绿色子像素304于黑矩阵203与黑矩阵205之间。接着，涂布一蓝色色阻层50于红色子像素302和绿色子像素304的上方，如图5（a）所示。最后，利用半调光（half tone）制程对蓝色色阻层50进行处理，形成一第一蓝色子像素306和一第二蓝色子像素310，如图5（b）所示。在此，红色子像素302、绿色子像素304、第一蓝色子像素306和第二蓝色子像素310构成一像素层，并且第二蓝色子像素310的薄膜厚度小于第一蓝色子像素306的薄膜厚度。
在一具体实施例中，该制造方法还包括：形成一保护层40于像素层的上方，从而填平该像素层，如图5（c）所示。
采用本发明的用于WOLED的彩色滤光片结构及其制造方法，在像素层中采用红色子像素、绿色子像素、第一蓝色子像素和第二蓝色子像素的RGBB’结构，藉由第二蓝色子像素的薄膜厚度小于第一蓝色子像素的薄膜厚度，使光源通过该第二蓝色子像素而修正频谱行为，进而达到显示器所需的色温要求。此外，第一蓝色子像素和第二蓝色子像素为相同颜色的色阻材质制成，仅薄膜厚度不同，因而可节省制程上的换线成本。
上文中，参照附图描述了本发明的具体实施方式。但是，本领域中的普通技术人员能够理解，在不偏离本发明的精神和范围的情况下，还可以对本发明的具体实施方式作各种变更和替换。这些变更和替换都落在本发明权利要求书所限定的范围内。
Claims (10)
1.一种用于白光有机发光二极管（WOLED，White OrganicLight Emitting Diode）的彩色滤光片结构，其特征在于，所述彩色滤光片结构包括：
一玻璃基板；
一黑色矩阵图案层，位于所述玻璃基板的上方，所述黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵；以及
一像素层，包括一红色子像素、一绿色子像素、一第一蓝色子像素和一第二蓝色子像素，其中，所述红色子像素、所述绿色子像素、所述第一蓝色子像素和所述第二蓝色子像素中的每一子像素均设置于相邻的黑矩阵之间，
其中，所述第二蓝色子像素的薄膜厚度小于所述第一蓝色子像素的薄膜厚度。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片结构，其特征在于，所述白光有机发光二极管光源通过所述第二蓝色子像素后的色温介于5500K~13000K之间。
3.根据权利要求2所述的彩色滤光片结构，其特征在于，所述白光有机发光二极管光源通过所述第二蓝色子像素的色温为T2且未通过所述第二蓝色子像素的色温为T1，则T2与T1满足：
T2-T1>2000K。
4.根据权利要求1所述的彩色滤光片结构，其特征在于，所述彩色滤光片结构还包括一保护层（OC，Over Coat），位于所述像素层的上方，并用以填平所述像素层。
5.一种用于白光有机发光二极管（WOLED，White OrganicLight Emitting Diode）的彩色滤光片结构的制造方法，其特征在于，该制造方法包括以下步骤：
提供一玻璃基板；
形成一黑色矩阵图案层于所述玻璃基板的上方，其中，该黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵；
形成一红色子像素、一绿色子像素和一第一蓝色子像素于相邻的黑矩阵之间；以及
形成一第二蓝色子像素于相邻的黑矩阵之间，其中，所述红色子像素、所述绿色子像素、所述第一蓝色子像素和所述第二蓝色子像素构成一像素层，并且所述第二蓝色子像素的薄膜厚度小于所述第一蓝色子像素的薄膜厚度。
6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，该制造方法还包括：
形成一保护层于所述像素层的上方，从而填平所述像素层。
7.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述白光有机发光二极管光源通过所述第二蓝色子像素后的色温介于5500K~13000K之间。
8.一种用于白光有机发光二极管（WOLED，White OrganicLight Emitting Diode）的彩色滤光片结构的制造方法，其特征在于，该制造方法包括以下步骤：
提供一玻璃基板；
形成一黑色矩阵图案层于所述玻璃基板的上方，其中，该黑色矩阵图案层包括多个间隔分布的黑矩阵；
形成一红色子像素和一绿色子像素，所述红色子像素和所述绿色子像素均位于相邻的黑矩阵之间；
涂布一蓝色阻层于所述红色子像素和绿色子像素的上方；
采用半调光制程（half tone）形成一第一蓝色子像素和一第二蓝色子像素，其中，所述红色子像素、所述绿色子像素、所述第一蓝色子像素和所述第二蓝色子像素构成一像素层，所述第二蓝色子像素的薄膜厚度小于所述第一蓝色子像素的薄膜厚度。
9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，该制造方法还包括：
形成一保护层于所述像素层的上方，从而填平所述像素层。
10.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述白光有机发光二极管光源通过所述第二蓝色子像素后的色温介于5500K~13000K之间。
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