CN102707847A - 一种在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法 - Google Patents
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Abstract
一种在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法,涉及在电容式触摸屏上制备透明导电层的技术领域。本发明包括如下步骤:将透明导电原料制备成待转印的透明导电层;对触摸屏面板表面进行强化处理,切割后制成触摸屏面板层;按顺序依次布置转印基材层、透明导电层、触摸屏面板层,利用转移印工艺,将透明导电层转印到触摸屏面板层上。本发明实现了应用范围广,避免出现断层现象,生产效率高,制造过程简单的目的。
Description
技术领域
本发明涉及在电容式触摸屏上制备透明导电层的技术领域。
背景技术
电容式触摸屏是新型显示器件领域的一项新技术,透明导电层是电容式触摸屏的核心材料,以经济的方法制作出高可靠性的导电层是制造合格电容屏的重要基础。
传统的导电层制备方法是通过在大片玻璃基板上真空溅镀氧化铟锡导电层,然后裁切加工成所需尺寸的小片玻璃;或者先将玻璃裁切成小片,强化处理后再真空溅镀氧化铟锡导电层。
前一种工艺无法对玻璃进行强化处理,面板强度不能达到要求,而后一种方法则存在设备复杂,工序繁多,生产效率低下等缺点。电容式触摸屏面板上常常需要印刷铭板,其厚度一般为5-10μm,在真空溅镀氧化铟锡导电层(其厚度通常≤0.1μm)过程中,因氧化铟锡与钢化玻璃之间存在高度差,在铭板与视区结合部氧化铟锡不易溅镀,容易形成断层现象。
发明内容
本发明目的是提供一种应用范围广,避免出现断层现象,生产效率高,制造过程简单的在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法。
一种在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法,包括如下步骤:
第一步:将透明导电原料制备成待转印的透明导电层;
第二步:对触摸屏面板表面进行强化处理,切割后制成触摸屏面板层;
第三步:按顺序依次布置转印基材层、透明导电层、触摸屏面板层,利用转移印工艺,将透明导电层转印到触摸屏面板层上。
本发明的透明导电原料为氧化铟锡或纳米银中的一种。
本发明采用上述技术方案,与现有技术相比具有优点:
1、克服断层现象:此方法充分利用纳米银导电膜的柔韧性,完全克服了真空溅镀氧化铟锡导电层所产生的断层现象;
2、适应面广:不仅可以向PC板、PMMA板以及复合板上转印,亦可以向钢化玻璃、PET面板上转印。
3、突破了平面式面板的单调形象,满足了个性化的需求;
4、适应面广:不仅可以向PC板、PMMA板以及复合板上转印,亦可以向钢化玻璃、PET面板上转印;
5、充分利用转移印刷的优点,简化了产品制造过程,提高生产效率。
附图说明
图1是本发明转印前的结构示意图。
图2是本发明转印后的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的技术方案进行详细说明:
如图1、图2所示,一种在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法,包括如下步骤:
第一步:将透明导电原料制备成待转印的透明导电层2;
第二步:对触摸屏面板表面进行强化处理,切割后制成触摸屏面板层1;
第三步:按顺序依次布置转印基材层3、透明导电层2、触摸屏面板层1,利用转移印工艺,将透明导电层2转印到触摸屏面板层1上。
本发明的透明导电原料为氧化铟锡或纳米银中的一种。
Claims (2)
1.一种在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法,其特征在于包括如下步骤:
第一步:将透明导电原料制备成待转印的透明导电层(2);
第二步:对触摸屏面板表面进行强化处理,切割后制成触摸屏面板层(1);
第三步:按顺序依次布置转印基材层(3)、透明导电层(2)、触摸屏面板层(1),利用转移印工艺,将透明导电层(2)转印到触摸屏面板层(1)上。
2.根据权利要求1所述的在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法,其特征在于上述透明导电原料为氧化铟锡或纳米银中的一种。
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2012
- 2012-02-01 CN CN2012100222794A patent/CN102707847A/zh active Pending
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