CN102617123A - 利用抛光废渣制造瓷砖坯体和釉面砖的配方及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种利用抛光废渣制造瓷砖坯体配方及方法,该配方按重量份配料:瓷砂18~40份、粘土20~30份、石灰石粒1~10份、硅灰石粒3~15份、釉面砖污泥渣3~10份、陶瓷抛光废渣15~45份、水玻璃1~2份、稀释剂0.15~0.4份、三聚磷酸钠0.05~0.2份、适量的水;瓷砖坯体的制造方法为:a.配料后将原料一起入球磨机球磨,磨成细度、筛余合适的浆料,经除铁过筛,喷雾干燥成粉料,b.将粉料放入压制成型机的模腔内,压制成具有一定厚度的湿坯,入干燥窑干燥,干燥后的湿坯施过底浆,然后进入素烧窑,在1080℃~1160℃的温度下进行素烧,并采取在1040℃~1060℃温度区域内进行保温,延长这一区域的烧成时间,同时加强氧化气氛的烧制工艺而得到瓷砖坯体。
Description
技术领域:
本发明涉及一种利用抛光废渣制造瓷砖坯体和釉面砖的配方及方法。
背景技术:
中国建筑卫生陶瓷产量已经连续18年位于全球第一,但是,随着陶瓷工业迅速发展,陶瓷工业废渣日益增多,尤其是陶瓷抛光废渣。据不完全统计,仅佛山陶瓷产区,每年产生陶瓷抛光废渣的量已超过300万吨,而全国陶瓷抛光废渣的产生量每年估计在1000万吨以上。如此大量的陶瓷抛光废渣已经不是以简单填埋方式以可解决的问题,而且随着经济的发展和社会的进步,保护环境已经成为人们关注的焦点,陶瓷抛光废渣的堆积挤占土地,影响当地空气的粉尘含量,而陶瓷抛光废渣的清理、填埋耗费大量人力物力,同时对地下水质有一定的影响。如何使这些抛光废渣变废为宝,化资源循环利用,已经成为陶瓷企业的当务之急。
由于陶瓷抛光废渣中含有氧化镁、碳化硅等物质,杂质多,可塑性低,烧成活性不高,在烧成时会放出氯气等有害气体,含有这些废渣的陶瓷产品会由于原料在高温生产气体而发泡。在陶瓷废渣循环利用方面,国内有些生产外墙砖的企业利用40%以上的废渣生产外墙砖,但是外墙砖的规格小,相对而言技术难度低,并且由于外墙砖用量较小,其消耗的陶瓷废渣有限。另外有些企业利用陶瓷抛光废渣生产轻质陶瓷砖,但产量有限,陶瓷抛光废渣仍然是以填埋为主,开发针对产量大的陶瓷釉面砖循环利用陶瓷抛光废渣进行生产的新技术成为了当务之急。
发明内容:
本发明的目的在于克服上述缺点,解决陶瓷抛光废渣在陶瓷釉面砖应用上因生产的气体过多而发泡,影响产品内质及外观质量,以及因气体过多会产生釉面针孔、气泡等缺陷,提供一种利用陶瓷抛光废渣生产砖坯和釉面砖的配方及方法,在不对现有二次烧成釉面砖生产工艺流程做出重大改变的基础上,重点对高温粘结性能好的坯体,高温透气性能好的底釉,始融温度高、高温粘度大、延展性好的面釉的组成,烧成工艺等进行调整与优化,使该技术具有较强的普适性,易于在行业内推广。
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本发明的利用陶瓷抛光废渣生产陶瓷砖坯及釉面砖,其中包括以下步骤:
A.高温粘结性能好的坯体制备。
a.粉料的制备:
按重量配比称取瓷砂18~40份、粘土20~30份、石灰石粒1~10份、硅灰石粒3~15份、釉面砖污泥渣3~10份、陶瓷抛光废渣15~45份。
将上述原料按重量份配料、外加水玻璃1~2份、稀释剂0.15~0.4份、三聚磷酸钠0.05~0.2份与适量的水一起入球磨机球磨,得到细度、筛余、含水率符合下表1参数的浆料,经除铁过筛,喷雾干燥成粉料,其粉料含水率(根据产品规格大小、天气干湿调节含水率)、颗粒级配为下表1的要求。
表1浆料及粉料工艺参数要求表
b.砖坯的制备及素烧烧成工艺
将上述步骤a中制备得到的粉料,放入压制成型机的模腔内,压制成具有一定厚度的湿坯,入干燥窑内进行干燥,干燥后的湿坯施过底浆,然后进入素烧窑,在1080℃~1160℃的温度下进行素烧,并采取在1040℃~1060℃温度区域内进行保温,延长这一区域的烧成时间,同时加强氧化气氛的烧制工艺而得到砖坯。
B.高温透气性能好的底釉的制备。
a.底釉熔块的制备:
按重量配比称取钾长石粉20~30份、轻质碳酸钙10~18份、玻璃粉6~12份、硼酸0.5~3份、硝酸钾0.5~3份、锆英粉3~8份、锂瓷石粉15~25份、滑石粉1~5份、石英粉15~25份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的玻璃体熔块备用。
b.底釉的制备:
将步骤a制成的熔块干料25~60份、钾长石粉5~25份、石英粉1~26份、氧化铝
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粉3~8份、硅酸锆3~8份、烧滑石1~28份、煅烧高岭土3~8份、高岭土7~15份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.2~0.6份与37~45份的水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛制得底釉。
C.始融温度高、高温粘度大、高温延展性好的面釉制备。
a.透明熔块的制备:
按重量配比称取钾长石粉25~40份、轻质碳酸钙13~22份、硼酸1~6份、硝酸钾0.2~2份、石英粉25~38份、碳酸锶0.5~2份、氧化锌3~10份、锂瓷石粉1~5份、氧化铝粉0.2~2份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的玻璃体熔块备用。
b.乳浊熔块的制备:
按重量配比称取钾长石粉12~20份、轻质碳酸钙10~20份、氧化锌5~10份、硼酸5~9份、滑石粉2~6份、锆英粉6~12份、硝酸钾1~5份、锂瓷石粉3~8份、碳酸锶0.5~3份、钛白粉0.2~2份、石英粉25~38份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的玻璃体乳浊熔块备用。
c.亚光熔块的制备:
按重量配比称取钾长石粉7~12份、轻质碳酸钙23~30份、氧化锌5~10份、锆英粉6~10份、硝酸钾1~5份、碳酸锶0.5~2份、萤石粉0.2~2份、滑石粉7~12份、钛白粉0.5~3份、石英粉35~42份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的玻璃体亚光熔块备用。
d.透明面釉的制备:
将步骤a制成的透明熔块干料60~85份、步骤b中制备的乳浊熔块15~40份、再外加高岭土1~5份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.15~0.45份与37~45份的水一起入球磨机球磨、磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆、除铁过筛制
得透明面釉。
e.乳浊面釉的制备:
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将步骤b制成的乳浊熔块干料70~85份、步骤a中制备的透明熔块15~30份、再外加高岭土1~5份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.15~0.45份与37~45份的水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛制得乳浊面釉。
f.亚光面釉的制备:
将步骤c制成的亚光熔块干料80~90份、步骤a中制备的透明熔块5~10份、步骤b中制备的乳浊熔块5~10份、再外加高岭土1~5份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.15~0.45份与37~45份的水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛制得亚光面釉。
D.产品的制备及釉烧烧成工艺
将步骤A得到的砖坯,先施步骤B得到的底釉,待底釉刚刚干时再分别施步骤C得到的透明面釉或乳浊面釉或亚光面釉,然后经过洗边、印花,进入釉烧窑,在1080℃~1140℃的温度中烧制,同时在1050℃及1090℃的温度区域进行保温,延长这两个温度区域的烧成时间,并加强氧化气氛。
本发明利用陶瓷抛光废渣生产釉面砖,通过优化高温粘结性能好的坯体,高温透气性能好的底釉,始融温度高、高温粘度大、延展性好的面釉的组成,烧成工艺等,克服了陶瓷抛光废渣在釉面砖生产中因产生的气体过多而发泡,影响产品内质及外观质量,以及因气体过多会产生釉面针孔、气泡等缺点。高温粘结性能好的坯体组成的优化研究,使坯体在1050℃左右温度区域,陶瓷抛光废渣排放大量气体时,部分原料如釉面砖污泥渣、石灰石、硅灰石等会在此温度下共同作用产生熔剂,这些熔剂在高温中成了较强的粘结剂,从而保证坯体不会因陶瓷抛光废渣排放的大量气体,造成坯体中的粒子粘结链断裂,从而使结构松散、致密度差,而造成发泡现象;由于普通的釉面砖坯配方烧结温度高,在1050℃左右陶瓷抛光废渣排放大量气体时,没有熔剂出现,使得坯体中的粒子在此时没有足够的粘结剂粘接,从而使粒子间的粘结链断裂,而造成结构松散、致密度差的发泡现象。高温透气性能好的底釉组成的优化研究,使产品在第二次釉烧时,在1050℃及1090℃左右的温度区域会出现大量的开口气孔,从而保证陶瓷抛光废渣排放的气体有通道顺利排出,而不会聚积在坯体内部进而破坏坯体结构,以及冲破釉面而形成针孔、釉泡等釉面缺陷,同时这些开口气孔通道又能保证面釉中的部分玻璃体在高温中
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随着这些通道进入到坯体表面,使底釉形成了一个良好的中间层,从而提高产品的抗釉裂性能。普通的釉面砖底釉在1050℃及1090℃这两个温度区域的性能达不到陶瓷抛光废渣排气的需要,而会造成产品发泡、出现釉面针孔、气泡等缺陷。始融温度高、高温粘度大、延展性好的面釉组成的优化,使面釉在1050℃左右陶瓷抛光废渣大量排气时,还没有熔融,开口气孔多,从而保证了气体的排放,同时在1090℃左右陶瓷抛光废渣 出现液相时,能够瞬间产生大量的液相,同时这些液相具有较高的粘度,能够瞬间封闭气孔,从而保证坯体中的残余气体不再通过釉面排出,此时液相的延展性应要好,能够在短时间内将因气体的排放及部分液相玻璃体通过底釉流到坯体表面时留小的小凹坑熔平,从而保证釉面质量,因此在本发明的各种面釉组成中,均采用多种不同组成的熔块混合构成,这样可以保证面釉从不同组成的熔块性能中确保同时具备以上所述的多种性能,从而保证产品的釉面质量。而普通的釉面砖的面釉因其组成单一,不能同时具备以上所述的多种性能。烧成工艺的优化,使产品烧成时,能够根据陶瓷抛光废渣的特性,采用特定的温度下通过保温、延长烧成时间、增加氧化气氛以保证陶瓷抛光废渣的气体排放。进而克服因陶瓷抛光废渣在高温下因排放的气体过多而使产品发泡、影响产品内质及外观以及使产品出现釉面针孔、气泡等缺点。
附图说明:
图1为本发明利用陶瓷抛光废渣生产釉面砖的生产工艺流程图;
具体实施方式:
下面结合实施例对本发明作进一步详细说明。
本发明涉及一种利用陶瓷抛光废渣生产釉面砖的制备方法,其中包括以下步骤:
A.高温粘结性能好的坯体的制备
坯体的组份见下表2:
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表2坯体的组份成分(重量份)
将上述原料按重量份配料,外加适量的水一起入球磨机球磨,磨成细度、筛余、含水率符合下表1参数的浆料,经除铁过筛,喷雾干燥成粉料,其粉料含水率(根据产品规格大小、天气干湿调节含水率)、粉料颗粒级配为下表1的要求。并经压制成型机压制成一定厚度的湿坯,入干燥窑内进行干燥,干燥后的湿坯施过底浆,然后进入素烧窑,按上表2中的温度进行素烧,并采取在1040℃~1060℃温度区域内进行保温,延长这一区域的烧成时间,并加强氧化气氛的烧成工艺,得到高温粘结性能好的砖坯。由于普通的釉面砖坯体的烧结温度高,在1050℃左右陶瓷抛光废渣排放大量气体时,没有熔剂出现,使得坯体中粒子在此时没有足够的粘结剂粘结而造成结构松散,致密度差,而造成发泡现象。通过多次试验,为了能够大量使用陶瓷抛光废渣生产釉面砖,达到节能、降耗、减污、增效的目的,调配出在1050℃左右陶瓷抛光废渣大量排气时,坯体中含的部分原料在此时能够共同作用产生熔剂,并且这些熔剂能够在高温中形成较强的粘结剂,从而保证坯体的粒子紧密地粘结在一起,不会因抛光废渣排放的气体而造成的粒子链断裂,结构松散而引起产品发泡。
表1浆料及粉料工艺参数要求
B.高温透气性能好的底釉的制备
a.底釉熔块的制备,其组份见下表3:
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表3底釉熔块组份成分(重量份)
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内熔制,水淬成透明的玻璃体熔块 备用。
b.高温透气性能好的底釉的制备,其组份见下表4:
表4底釉组份成分(重量份)
根据表4中的重量份进行配比,将步骤a制成的熔块与钾长石、石英粉、氧化铝粉、硅酸锆、烧滑石、锻烧高岭土、高岭土、甲基、三聚磷酸钠与水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛,得到高温透气性能好的底釉。由于普通的釉面砖底釉不能满足陶瓷抛光废渣在特定的温度区域内排放大量气体时,有足够的通道将这些气体有利的排出,使这些气体大量积压在产品内部,从而破坏产品的结构,造成发泡及釉面针孔、气泡等缺陷。通过多次试验,根据陶瓷抛光废渣的特性,调配出高温透气性能好的底釉,这种底釉在产品第二次釉烧时,在1050℃、1090℃左右的温度区域会出现大量的开口气孔,从而保证抛光废渣排放的气体有通道顺利排出,而不会聚积在坯体内进而破坏坯体结构;以及冲破釉面而形成针孔、釉泡等釉面缺陷,同时这些开口气孔通道又能保证面釉中的部分玻璃体在高温中随着这些通道进入到坯体表
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面,使底釉形成了一个良好的中间层,从而提高产品的抗釉裂性能。
C.始融温度高、高温粘度大、高温延展性好的面釉制备
a.始融温度高、高温粘度大、高温延展性好的面釉熔块制备,其组份见下表5:
表5面釉熔块组份成分(重量份)
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内熔制,水淬成透明的玻璃体熔块备用。
b.始融温度高、高温粘度大、高温延展性好的面釉制备,其组份见下表6:
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表6面釉组份成分(重量份)
根据表6的重量份进行配比,将步骤a制成的熔块与高岭土、甲基、三聚磷酸钠与水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛,得到始融温度高、高温粘度大、高温延展性好的面釉。由于本发明坯体配方添加了大量的陶瓷抛光废渣,而根据对陶瓷抛光废渣的特性分析,可知其在1050℃左右温度区域时有大量气体排出,在1090℃左右温度区域有液相出现,通过多次试验,调整出始融温度高、高温粘度大、高温延展性好的面釉。这种面釉在1050℃左右温度区域陶瓷抛光废渣大量排气时,还没有熔融,开口气孔多,从而保证了气体的排放,不至于这些气体聚积在产品内部而破坏产品的结构;同时在1090℃左右温度区域陶瓷抛光废渣出现液相时,能够瞬间产生大量的液相,同时这些液相具有较高的粘度,能够瞬间封闭气孔,从而保证坯体中的残余气体不再通过釉面排出,否则会因气体冲破釉面形成针孔、釉泡缺陷,此时液相的延展性又要好,能够在短时间内将因气体的排放及部分液相玻璃体通过底釉流到坯体表面时留下的小凹坑熔平,从而保证釉面质量。而普通的釉面砖的面釉因其组成单一,不能同时具备以上所述的多种性能,因此本发明在面釉的组成中,均采用多种不同组成的熔块混合构成,这样可以保证面釉从不同组成的熔块性能中确保同时具备以上所
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述的多种性能,以克服因产品中添加了大量陶瓷抛光废渣而带来的不利因素,保证产品质量。
D.产品的制备及釉烧烧成工艺
将步骤A得到的砖坯,先施步骤B得到的底釉,待底釉刚刚干时,再分别施步骤C得到的透明面釉或乳浊面釉或亚光面釉,同时为了保证产品的变形度,可灵活调节步骤B所得到的底釉种类与合适的面釉种类进行搭配,然后经过洗边、印花后进行釉烧,在1080℃~1140℃的温度区域中烧制,同时在1050℃及1090℃的温度区域进行保温,延长这两个温度区域的烧成时间,并加强氧化气氛,以确保陶瓷抛光废渣产生的大量气体能够顺利排出,不至于聚积在产品内部而破坏产品的结构及影响产品外观质量,或者因这些气体冲破釉面形成的针孔、气泡等面釉缺陷,从而影响产品质量。
本发明通过上述利用陶瓷抛光废渣生产釉面砖的制备方法制备得到的釉面砖产品,经检测产品各项指标符合GB/T4100-2006、GB6566-2001、HJ/T297-2006标准要求。
本发明在不对现有二次烧成釉面砖生产工艺流程做出重大改变的基础上,重点对高温粘结性能好的坯体,高温透气性能好的底釉,始融温度高、高温粘度大、延展性好的面釉的组成,烧成工艺等进行优化,使该技术具备较强的普适性,易于在行业内推广。
综上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,凡本行业的普通技术人员,均可按以上所述而顺畅地实施本发明,但是凡熟悉本专业的技术人员在不脱离本发明技术方案范围内,可利用以上所揭示的技术内容而做出的些许变更、修饰与演变的等同变化,均为本发明的等效实施例;同时,凡根据本发明的实质技术对以上实施例所作的任何等同变化的变更、修饰与演变,均仍属于本发明的技术方案的保护范围之内。
Claims (8)
1.利用抛光废渣制造瓷砖坯体配方,该配方按重量份配料:瓷砂18~40份、粘土20~30份、石灰石粒1~10份、硅灰石粒3~15份、釉面砖污泥渣3~10份、陶瓷抛光废渣15~45份、水玻璃1~2份、稀释剂0.15~0.4份、三聚磷酸钠0.05~0.2份、适量的水。
2.利用权利要求1所述配方制造瓷砖坯体的方法,其特征在于:该方法的步骤为:
a.将权利要求1中原料按重量份配料,然后将原料一起入球磨机球磨,磨成细度、筛余合适的浆料,经除铁过筛,喷雾干燥成粉料。
b.将上述步骤a中制备得到的粉料放入压制成型机的模腔内,压制成具有一定厚度的湿坯,入干燥窑内进行干燥,干燥后的湿坯施过底浆,然后进入素烧窑,在1080℃~1160℃的温度下进行素烧,并采取在1040℃~1060℃温度区域内进行保温,延长这一区域的烧成时间,同时加强氧化气氛的烧制工艺而得到瓷砖坯体。
3.利用权利要求1所得的瓷砖坯体制造的透明面釉釉面砖,其特征在于:釉面砖由面釉、底釉及权利要求1所配制得的瓷砖坯体构成,底釉施予瓷砖坯体的表面,底釉的表面施予面釉。
①.底釉的制备
按重量称取钾长石粉20~30份、轻质碳酸钙10~18份、玻璃粉6~12份、硼酸0.5~3份、硝酸钾0.5~3份、锆英粉3~8份、锂瓷石粉15~25份、滑石粉1~5份、石英粉15~25份。将上述原料混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的玻璃体即为底釉熔块。
按重量称取底釉熔块25~60份、钾长石粉5~25份、石英粉1~26份、氧化铝粉3~8份、硅酸锆3~8份、烧滑石1~28份、煅烧高岭土3~8份、高岭土7~15份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.2~0.6份与37~45份的水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛即制得底釉。
②.面釉制备:
a.透明熔块的制备:
按重量称取钾长石粉25~40份、轻质碳酸钙13~22份、硼酸1~6份、硝酸钾0.2~ 2份、石英粉25~38份、碳酸锶0.5~2份、氧化锌3~10份、锂瓷石粉1~5份、氧化铝粉0.2~2份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的熔块备用。
b.乳浊熔块的制备:
按重量称取钾长石粉12~20份、轻质碳酸钙10~20份、氧化锌5~10份、硼酸5~9份、滑石粉2~6份、锆英粉6~12份、硝酸钾1~5份、锂瓷石粉3~8份、碳酸锶0.5~3份、钛白粉0.2~2份、石英粉25~38份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的乳浊熔块备用。
c.透明面釉的制备:
将步骤a制成的透明熔块60~85份、步骤b中制备的乳浊熔块15~40份、再外加高岭土1~5份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.15~0.45份与37~45份的水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛及制得透明面釉。
4.一种制造权利要求3所述透明面釉釉面砖的方法,其特征在于:往砖坯表面先施底釉,待底釉刚刚干时再施透明面釉,然后经过洗边、印花,进入釉烧窑,在1080℃~1140℃的温度中烧制,同时在1050℃及1090℃的温度区域进行保温,延长这两个温度区域的烧成时间,并加强氧化气氛,待冷却后即制得透明面釉釉面砖。
5.利用权利要求1所得的瓷砖坯体制造的乳浊面釉釉面砖,其特征在于:釉面砖由面釉、底釉及权利要求1所配制得的瓷砖坯体构成,底釉施予瓷砖坯体的表面,底釉的表面施予面釉。
①.底釉的制备
按重量称取钾长石粉20~30份、轻质碳酸钙10~18份、玻璃粉6~12份、硼酸0.5~3份、硝酸钾0.5~3份、锆英粉3~8份、锂瓷石粉15~25份、滑石粉1~5份、石英粉15~25份。将上述原料混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的玻璃体即为底釉熔块。
按重量称取底釉熔块25~60份、钾长石粉5~25份、石英粉1~26份、氧化铝粉3~ 8份、硅酸锆3~8份、烧滑石1~28份、煅烧高岭土3~8份、高岭土7~15份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.2~0.6份与37~45份的水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛即制得底釉。
②.面釉制备:
a.透明熔块的制备:
按重量称取钾长石粉25~40份、轻质碳酸钙13~22份、硼酸1~6份、硝酸钾0.2~2份、石英粉25~38份、碳酸锶0.5~2份、氧化锌3~10份、锂瓷石粉1~5份、氧化铝粉0.2~2份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的熔块备用。
b.乳浊熔块的制备:
按重量配比称取钾长石粉12~20份、轻质碳酸钙10~20份、氧化锌5~10份、硼酸5~9份、滑石粉2~6份、锆英粉6~12份、硝酸钾1~5份、锂瓷石粉3~8份、碳酸锶0.5~3份、钛白粉0.2~2份、石英粉25~38份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的乳浊熔块备用。
c.乳浊面釉的制备:
将步骤b制成的乳浊熔块70~85份、步骤a中制备的透明熔块15~30份、再外加高岭土1~5份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.15~0.45份与37~45份的水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛即制得乳浊面釉。
6.一种制造权利要求5所述乳浊面釉釉面砖的方法,其特征在于:往砖坯先施底釉,待底釉刚刚干时再施乳浊面釉,然后经过洗边、印花,进入釉烧窑,在1080℃~1140℃的温度中烧制,同时在1050℃及1090℃的温度区域进行保温,延长这两个温度区域的烧成时间,并加强氧化气氛,待冷却后即制得乳浊面釉釉面砖。
7.利用权利要求1所得的瓷砖坯体制造的亚光面釉釉面砖,其特征在于:釉面砖由面釉、底釉及权利要求1所配制得的瓷砖坯体构成,底釉施予瓷砖坯体的表面,底釉的表面施予面釉。
①.底釉的制备
按重量称取钾长石粉20~30份、轻质碳酸钙10~18份、玻璃粉6~12份、硼酸0.5~3份、硝酸钾0.5~3份、锆英粉3~8份、锂瓷石粉15~25份、滑石粉1~5份、石英粉15~25份。将上述原料混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的玻璃体即为底釉熔块。
按重量称取底釉熔块25~60份、钾长石粉5~25份、石英粉1~26份、氧化铝粉3~8份、硅酸锆3~8份、烧滑石1~28份、煅烧高岭土3~8份、高岭土7~15份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.2~0.6份与37~45份的水,将上述材料一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛即制得底釉。
②.面釉制备:
a.透明熔块的制备:
按重量称取钾长石粉25~40份、轻质碳酸钙13~22份、硼酸1~6份、硝酸钾0.2~2份、石英粉25~38份、碳酸锶0.5~2份、氧化锌3~10份、锂瓷石粉1~5份、氧化铝粉0.2~2份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的熔块备用。
b.乳浊熔块的制备:
按重量称取钾长石粉12~20份、轻质碳酸钙10~20份、氧化锌5~10份、硼酸5~9份、滑石粉2~6份、锆英粉6~12份、硝酸钾1~5份、锂瓷石粉3~8份、碳酸锶0.5~3份、钛白粉0.2~2份、石英粉25~38份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的乳浊熔块备用。
c.亚光熔块的制备:
按重量称取钾长石粉7~12份、轻质碳酸钙23~30份、氧化锌5~10份、锆英粉6~10份、硝酸钾1~5份、碳酸锶0.5~2份、萤石粉0.2~2份、滑石粉7~12份、钛白粉0.5~3份、石英粉35~42份。
将上述原料按重量份配料,混合均匀,在熔块炉内于1480℃~1540℃的温度下熔制,水淬成透明的亚光熔块备用。
d.亚光面釉的制备:
将步骤c制成的亚光熔块80~90份、步骤a中制备的透明熔块5~10份、步骤b中制备的乳浊熔块5~10份、再外加高岭土1~5份、外加甲基0.05~0.15份、三聚磷酸钠0.15~0.45份与37~45份的水一起入球磨机球磨,磨成细度为325目筛的筛余为0.1%~0.5%的釉浆,除铁过筛即制得亚光面釉。
8.一种制造权利要求7所述亚光面釉釉面砖的方法,其特征在于:往砖坯先施底釉,待底釉刚刚干时再施亚光面釉,然后经过洗边、印花,进入釉烧窑,在1080℃~1140℃的温度中烧制,同时在1050℃及1090℃的温度区域进行保温,延长这两个温度区域的烧成时间,并加强氧化气氛,待冷却后即制得亚光面釉釉面砖。
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