CN102607772A - 一种曝光机曝光台密合度的测试方法 - Google Patents

一种曝光机曝光台密合度的测试方法 Download PDF

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杨长基
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Abstract

一种曝光机曝光台密合度的测试方法，主要包括将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上；吸1-5滴水或酒精滴于底片的四角及中间；闭合框架并将其吸成真空；观察水或酒精膜扩散状况，根据水或酒精膜扩散状况，判定框架密合性是否合格，用来监测曝光台面密合度。使用该方法可以克服现有技术对台面真空的监控太单一、笼统，对单点或局部区域漏光监控效果微乎其微的缺点，实现对曝光机曝光台密合性的监控，以便及时点检维护，进而提前预防漏光的产生。

Description

一种曝光机曝光台密合度的测试方法
技术领域
    本发明涉及印刷线路板技术领域，尤其涉及PCB影像转移曝光生产领域，主要用于监测曝光台面密合度。
 
背景技术
目前PCB影像转移生产领域，曝光作业真空度管控主要分为底片真空及台面真空两种。如附图1所示，底片真空管控A与B之间或C与D之间的真空度；台面真空管控A与C之间或B与D之间的真空度。
底片真空管控主要以机台上底片真空表头监控底片真空值为主，底片吸真空后底片与玻璃间显示的牛顿环清晰度为辅来监控。台面真空管控主要以机台上台面真空表头来监控台面真空值。
    现有技术对台面真空的监控太单一、笼统，对单点或局部区域漏光监控作用微乎其微。其原因主要有如下两点：第一：作业板子尺寸不一，使曝光框架及玻璃台面的受力不均；在长期使用的情况下，会引起框架及玻璃台面的轻微变形。从而形成单点或局部区域因真空不足，造成漏光不良；第二，曝光框架及玻璃台面长期使用的情况下，会引起框架周边紧固、密封设备的磨损或松动。导致框架密合性变差，造成局部真空不足而产生漏光不良。
 
发明内容
本发明的目的是提供一种曝光机曝光台密合度的测试方法。本发明通过：a将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上；b吸1-5滴水或酒精滴于底片的四角及中间；c闭合框架并将其吸成真空；d观察水或酒精膜扩散状况，根据水或酒精膜扩散状况，这四个步骤来实现判定框架密合性是否合格，如果扩散均匀，即水或酒精膜向四周扩散且与中间的水或酒精滴为同心圆，则可判定其密合性较好；如果扩散不均匀，即水或酒精膜虽向四周扩散为圆形，但与中间的水或酒精滴不是同心圆，则可判定其密合性不合格。使用该方法后可以克服现有技术对台面真空的监控太单一、笼统，对单点或局部区域漏光监控效果微乎其微的缺点，实现对曝光机曝光台密合性的监控，以便及时点检维护，进而提前预防漏光不良产生。
 
附图说明
图1当前曝光作业真空度管控示意图
图2具体实施例1中滴水示意图
图3具体实施例2中滴水示意图
图4具体实施例3中滴水示意图
图5具体实施例1的试验结果
图6具体实施例2的试验结果
图7具体实施例3的试验结果
具体实施方式
具体实施例1
将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上，吸1滴无色的水滴于上底片的四角及中间，如附图2所示，其中四角滴液体的位置距离底片边缘为4厘米，框架闭合并将其吸成真空，观察水膜扩散状况，其测试结果如附图5所示，由此可以判断曝光台的紧密度较好。
具体实施例2
将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上，吸1滴红色的酒精于下底片的四角及中间，如附图3所示，其中四角滴酒精的位置距离底片边缘为5厘米，框架闭合并将其吸成真空，观察酒精膜扩散状况，其测试结果如附图6所示，由此可以判断曝光台的紧密度不好。
具体实施例3
将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上，吸5滴绿色的水滴于上底片的四角及中间，如附图4所示，其中四角滴水的位置距离底片边缘为10厘米，框架闭合并将其吸成真空，观察水膜扩散状况，其测试结果如附图7所示，由此可以判断曝光台的紧密度较好。

Claims (3)

1.一种曝光机曝光台密合度的测试方法，其特征在于：
a将尺寸为长宽尺寸比曝光台小0-1寸的空白底片安装于曝光台面上；
b吸1-5滴水或酒精滴于底片的四角及中间；
c闭合框架并将其吸成真空；
d观察水或酒精膜扩散状况，根据水或酒精膜扩散状况，判定框架密合性是否合格。
2.一种如权利要求1所述的曝光机曝光台紧密度的测试方法，其特征在于四角滴水或酒精的位置距离底片边缘为大于等于4厘米小于10厘米。
3.一种如权利要求1所述的曝光机曝光台紧密度的测试方法，其特征在于水或酒精为无色或者有色的。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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