CN102565659A - 太阳能级铸锭多晶硅片表征方法 - Google Patents

太阳能级铸锭多晶硅片表征方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102565659A
CN102565659A CN201110459786XA CN201110459786A CN102565659A CN 102565659 A CN102565659 A CN 102565659A CN 201110459786X A CN201110459786X A CN 201110459786XA CN 201110459786 A CN201110459786 A CN 201110459786A CN 102565659 A CN102565659 A CN 102565659A
Authority
CN
China
Prior art keywords
silicon chip
polycrystalline silicon
image
chip image
polysilicon chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201110459786XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN102565659B (zh
Inventor
付少永
张驰
熊震
王梅花
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Trina Solar Co Ltd
Original Assignee
Changzhou Trina Solar Energy Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Changzhou Trina Solar Energy Co Ltd filed Critical Changzhou Trina Solar Energy Co Ltd
Priority to CN201110459786.XA priority Critical patent/CN102565659B/zh
Publication of CN102565659A publication Critical patent/CN102565659A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102565659B publication Critical patent/CN102565659B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

本发明涉及太阳能级铸锭多晶硅片表征方法,具有如下步骤:使用荧光光致发光成像仪获得的多晶硅片图像;作多晶硅片图像的亮度频数直方图;以亮度频数直方图的峰值作为阈值,对多晶硅片图像进行对象识别,将其转换为二值矩阵;对得到的二值矩阵进行求和,得到亮区像素点数,其与总像素点数的比值即为洁净晶粒区面积比例ε,用硅片的洁净晶粒区面积比例ε表征最终多晶硅片太阳电池的效率。本发明基于阈值截取图像识别方法的量化处理方法,通过量化缺陷面积来预测电池片的效率,通过实验可以发现硅片的洁净晶粒区面积比例ε与对应的电池效率存在正相关,利用这种正相关性可对硅片进行快速筛选,提高最终产品的质量。

Description

太阳能级铸锭多晶硅片表征方法
技术领域
本发明涉及太阳能级铸锭多晶硅片表征方法,可用于铸锭多晶硅片电池制备前的预分档,将缺陷密度高的电池片预先筛选出,该方法对硅片的定量分辨与最终产品电池片的效率有较好的符合关系。
背景技术
铸锭多晶太阳能电池目前已经占据硅太阳能电池60%以上份额。荧光光致发光作为半导体检测的常用手段,目前主要有荧光光致发光谱仪和荧光光致发光成像仪两种方式,但两种方法因其特点,在使用上存在一定限制:
1.荧光光致发光光谱仪主要针对半导体微区进行缺陷探测,得到的是材料0维的成分信息。无法对整张多晶硅片进行快速评价。
2.荧光光致发光成像仪得到的是整张硅片的灰度衬度,如图1所示,深色部分代表高缺陷区域,亮度较大部分代表洁净晶粒,这种方法具有综合评价硅片质量的潜力,但目前对此方法所得到的数据缺少比较可靠的量化手段,特别是与最终产品电池片之间的关联性无法获得,制约了快速分选硅片的应用。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种太阳能级铸锭多晶硅片表征方法,对硅片质量进行量化分析,用于铸锭多晶硅片电池制备前的预分档,将缺陷密度高的电池片预先筛选出。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种太阳能级铸锭多晶硅片表征方法,具有如下步骤:
1)使用荧光光致发光成像仪获得的多晶硅片图像;
2)作多晶硅片图像的亮度频数直方图;
3)以亮度频数直方图的峰值作为阈值,对多晶硅片图像进行对象识别,将其转换为二值矩阵;
4)对得到的二值矩阵进行求和,得到亮区像素点数,其与总像素点数的比值即为洁净晶粒区面积比例ε,用硅片的洁净晶粒区面积比例ε表征最终多晶硅片太阳电池的效率。
本发明的有益效果是:本发明基于阈值截取图像识别方法的量化处理方法,通过量化缺陷面积来预测电池片的效率,将测试后的硅片制作成电池片,得到其效率数据,通过图4可以发现硅片的洁净晶粒区面积比例ε与对应的电池效率存在正相关,利用这种正相关性可对硅片进行快速筛选,提高最终产品的质量。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的荧光光致发光成像仪图像;
图2是本发明的硅片亮度矩阵的频数直方图;
图3是本发明中二值化亮度矩阵图片;
图4是本发明中硅片荧光光致发光图像洁净晶粒面积比ε值与效率对应关系。
具体实施方式
一种太阳能级铸锭多晶硅片表征方法,使用商用荧光光致发光成像仪获得的多晶硅片图像,并以亮度频数直方图的峰值作为阈值,对其进行对象识别,将其转换为二值矩阵并计算其洁净晶粒区面积比例,该数值与最终电池的转换效率有较好的对应关系。
主要步骤如下:
1)使用商用荧光光致发光成像仪获得多晶硅片的一个发光亮度矩阵,矩阵尺寸为1024×1024,或其它大小,也即如图1所示的图像。
2)以一定数量的灰阶,如128,作不同发光亮度区间的频数直方图,如图2所示,并得到频数直方图峰值p,即直方图顶点的横坐标值。认为亮度高于或等于p值的区域对应硅片洁净晶粒区域,而亮度值小于p值的区域对应硅片中的高密度缺陷区域。
3)以频数直方图峰值p为阈值,将发光亮度矩阵转化为二值矩阵(按下面公式处理),其中大于或等于p的像素点为1,小于p的像素点为0。
A ( i , j ) = 0 , AO , D < y 1 , AO , D &GreaterEqual; y
以下面的2×2矩阵 1000 1000 1300 1280 为例:假设作直方图得到阈值p为1200,将亮度大于等于1200的像素点值设为1,小于1200的像素点设为0,即得到只包含0和1的二值矩阵。
1000 1000 1300 1200 &RightArrow; 1000 0 0 1 1
如果对图1所示硅片数据进行上述处理并画图,则得到结果图3,其亮区域与暗区域的形态衬度相对原图符合得比较好,该二值化方法即传统的单值阈值法。
4)对得到的二值矩阵进行求和,得到亮区像素点数。其与总像素点数的比值即为洁净晶粒区面积比例ε。
实施例1:
1.取一批洁净铸锭多晶硅片若干,采集其荧光光致发光图像数据。
2.采用本发明所述的流程处理图像数据,获得每片硅片洁净面积比例ε。
3.以ε=0.8为截取线,挑出ε大于0.8的硅片,此部分硅片对应电池效率处于相对较低水平。

Claims (1)

1.一种太阳能级铸锭多晶硅片表征方法,其特征是:具有如下步骤:
1)使用荧光光致发光成像仪获得的多晶硅片图像;
2)作多晶硅片图像的亮度频数直方图;
3)以亮度频数直方图的峰值作为阈值,对多晶硅片图像进行对象识别,将其转换为二值矩阵;
4)对得到的二值矩阵进行求和,得到亮区像素点数,其与总像素点数的比值即为洁净晶粒区面积比例ε,用硅片的洁净晶粒区面积比例ε表征最终多晶硅片太阳电池的效率。
CN201110459786.XA 2011-12-31 2011-12-31 太阳能级铸锭多晶硅片表征方法 Active CN102565659B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110459786.XA CN102565659B (zh) 2011-12-31 2011-12-31 太阳能级铸锭多晶硅片表征方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110459786.XA CN102565659B (zh) 2011-12-31 2011-12-31 太阳能级铸锭多晶硅片表征方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102565659A true CN102565659A (zh) 2012-07-11
CN102565659B CN102565659B (zh) 2014-06-04

Family

ID=46411568

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201110459786.XA Active CN102565659B (zh) 2011-12-31 2011-12-31 太阳能级铸锭多晶硅片表征方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102565659B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103364704A (zh) * 2013-06-26 2013-10-23 常州天合光能有限公司 一种多晶硅片开路电压的预测方法
CN108445006A (zh) * 2018-04-11 2018-08-24 镇江仁德新能源科技有限公司 多晶硅锭整锭光电转化效率分布的表征方法及比较方法
CN110431407A (zh) * 2019-06-20 2019-11-08 长江存储科技有限责任公司 多晶硅表征方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6492188B1 (en) * 1999-01-11 2002-12-10 Mosel Vitelic Incorporated Monitor method for quality of metal ARC (antireflection coating) layer
CN101069072A (zh) * 2004-11-30 2007-11-07 国立大学法人奈良先端科学技术大学院大学 太阳能电池的评价方法和评价装置及其利用
WO2010090774A1 (en) * 2009-02-07 2010-08-12 Tau Science Corporation High speed detection of shunt defects in photovoltaic and optoelectronic devices
CN101988904A (zh) * 2010-10-15 2011-03-23 中国电子科技集团公司第十八研究所 太阳能电池缺陷检测方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6492188B1 (en) * 1999-01-11 2002-12-10 Mosel Vitelic Incorporated Monitor method for quality of metal ARC (antireflection coating) layer
CN101069072A (zh) * 2004-11-30 2007-11-07 国立大学法人奈良先端科学技术大学院大学 太阳能电池的评价方法和评价装置及其利用
WO2010090774A1 (en) * 2009-02-07 2010-08-12 Tau Science Corporation High speed detection of shunt defects in photovoltaic and optoelectronic devices
CN101988904A (zh) * 2010-10-15 2011-03-23 中国电子科技集团公司第十八研究所 太阳能电池缺陷检测方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
严婷婷等: "光致发光技术在Si基太阳电池缺陷检测中的应用", 《半导体技术》, vol. 35, no. 5, 31 May 2010 (2010-05-31), pages 454 - 457 *
柳效辉等: "基于Matlab的图像处理技术识别硅太阳电池的缺陷", 《上海交通大学学报》, vol. 44, no. 7, 31 July 2010 (2010-07-31) *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103364704A (zh) * 2013-06-26 2013-10-23 常州天合光能有限公司 一种多晶硅片开路电压的预测方法
CN103364704B (zh) * 2013-06-26 2015-10-28 常州天合光能有限公司 一种多晶硅片开路电压的预测方法
CN108445006A (zh) * 2018-04-11 2018-08-24 镇江仁德新能源科技有限公司 多晶硅锭整锭光电转化效率分布的表征方法及比较方法
CN108445006B (zh) * 2018-04-11 2020-01-10 镇江仁德新能源科技有限公司 不同多晶硅锭整锭光电转化效率的比较方法
CN110431407A (zh) * 2019-06-20 2019-11-08 长江存储科技有限责任公司 多晶硅表征方法
CN110431407B (zh) * 2019-06-20 2020-08-25 长江存储科技有限责任公司 多晶硅表征方法
US11467084B2 (en) 2019-06-20 2022-10-11 Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. Methods for polysilicon characterization

Also Published As

Publication number Publication date
CN102565659B (zh) 2014-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104732227B (zh) 一种基于清晰度和亮度评估的车牌快速定位方法
CN107727662A (zh) 一种基于区域生长算法的电池片el黑斑缺陷检测方法
CN102017191B (zh) 用于晶片成像及处理的方法和设备
CN103210482B (zh) 持久性特征检测
TWI476846B (zh) 光伏打胞元製造技術
CN108052980B (zh) 基于图像的空气质量等级检测方法
CN105046700B (zh) 基于亮度校正与颜色分类的水果表面缺陷检测方法及***
CN102565659B (zh) 太阳能级铸锭多晶硅片表征方法
CN110321959B (zh) 一种多光谱图像信息和cnn的煤矸识别方法
CN107742286A (zh) 一种多晶硅太阳能电池片el测试裂纹缺陷检测方法
EP3385716A3 (en) Method of using non-rare cells to detect rare cells
CN101090083A (zh) 晶片检测方法
CN110378295B (zh) 一种多光谱图像信息和光谱信息异构融合的煤矸识别方法
CN113554629A (zh) 基于人工智能的带钢红锈缺陷检测方法
CN102521606B (zh) 一种对jpeg图像的像素块分类方法及基于此的图像篡改检测和被篡改区域定位方法
CN110210060A (zh) 太阳能光伏板表面积灰程度的预测方法
CN109447978B (zh) 一种光伏太阳能电池片电致发光图像缺陷分类方法
CN107622484A (zh) 一种基于形状匹配的光伏电池片缺角检测算法
CN102735340B (zh) 一种基于压缩传感的水果颜色分级方法
CN101453558A (zh) 一种视频图像对比度改善方法
CN102750547B (zh) 一种基于压缩传感的水果大小分级方法
CN110930406A (zh) 一种基于卷积神经网络的匣钵筛分检测方法
CN106447657A (zh) 一种基于局部均值思想的ic粒子区域缺陷检测方法
CN103530887A (zh) 一种基于多特征融合的河面图像区域分割方法
CN108445006B (zh) 不同多晶硅锭整锭光电转化效率的比较方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 213031, No. 2, Tianhe Road, Xinbei Industrial Park, Jiangsu, Changzhou

Patentee after: trina solar Ltd.

Address before: 213031, No. 2, Tianhe Road, Xinbei Industrial Park, Jiangsu, Changzhou

Patentee before: CHANGZHOU TRINA SOLAR ENERGY Co.,Ltd.

Address after: 213031, No. 2, Tianhe Road, Xinbei Industrial Park, Jiangsu, Changzhou

Patentee after: TRINASOLAR Co.,Ltd.

Address before: 213031, No. 2, Tianhe Road, Xinbei Industrial Park, Jiangsu, Changzhou

Patentee before: trina solar Ltd.