CN102557430B - 一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法 - Google Patents
一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102557430B CN102557430B CN201110434302.6A CN201110434302A CN102557430B CN 102557430 B CN102557430 B CN 102557430B CN 201110434302 A CN201110434302 A CN 201110434302A CN 102557430 B CN102557430 B CN 102557430B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glass
- damage
- threshold
- preparation
- melting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 67
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 24
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 24
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 8
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 4
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 239000005383 fluoride glass Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 abstract description 4
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 abstract 2
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 11
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 7
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000010010 raising Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000006132 parent glass Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000010512 thermal transition Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
本发明提出了一种化学性能稳定、损伤阈值较高的新型高损伤阈值激光窗口材料的制备方法。本发明的技术方案是通过在氟化物玻璃中引入可改善其成玻特性、物化性质的氧化物助剂,获得新型大尺寸的高损伤阈值窗口玻璃。本发明解决了氟化物玻璃易析晶、成玻性差、难以大尺寸生产的问题。同时其损伤阈值显著地提高,可用于高能激光器中提高负载能力,对ICF的顺利进行具有重要作用。
Description
技术领域
本发明属光学材料技术领域,具体涉及一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法。
背景技术
目前光学元件的损伤问题已经成为制约激光器向高能量、高重复发展的瓶颈,作为世界上大能量激光装置的代表有美国的NIF(National IgnitionFacility)装置、法国的LMJ(Laser Magajouk)装置和我国的神光装置。这些激光器为了获得高能光子,终端输出为三倍频激光,总输出功率高达全世界发电总功率的数十倍,是有史以来最大的光学工程,被用于ICF(InertialConfinement Fusion)作为驱动器。在这些巨型激光装置中,熔石英光学元件数量接近2000块,净口径达到400mm×400mm,大量应用于激光器中的透镜、窗口、光栅和碎片防护板上。但是,熔石英玻璃在三倍频激光辐照下表面损伤严重,而且损伤点在后续激光辐照下会进一步增长,出现大量的挡光现象,从而使光学器件难以满足使用要求。
导致熔石英光学元件表面损伤的原因很多包括材料在加工过程中引入的抛光粉、划痕、裂纹、表面污染物等;以及材料在生产过程中引入的杂质离子,结构缺陷。当前,研究人员通过CO2激光器处理、酸处理、提高抛光精度等方法已经将熔石英光学元件的加工精度提高到1个缺陷点/100cm2,但由于熔石英的结构缺陷(如oxygen deficient center,ODC;nonbridging oxygenhole center,NBOHC;self-trapped exciton,STE)并没有从根本上去除,因此,这些经过改良的熔石英光学元件依然不能满足高能激光***的需求。
早在1999年美国劳伦斯-里弗莫尔国家实验室就提出了一种可以取代熔石英提高激光损伤阈值的概念性途径,如采用氟化物晶体、氟化物玻璃等。紫外光刻实验表明,氟化物晶体和玻璃在紫外波段具有很好的损伤性能,同样的结果在氟化物所镀的紫外膜中也有体现。氟化物在紫外区的高透光性源于其具有大的能隙(如MgF2可达到11eV,熔石英为7.8eV);同时,氟化物玻璃并没有熔石英中所出现的结构缺陷,这可能是其损伤阈值高的一个重要因素。但氟化物玻璃也存在许多缺点,如容易析晶,成玻性差,大尺寸制作比较困难。因此,寻求一种在紫外区透光性好,损伤阈值高,且可大尺寸生产、化学稳定性好的光学窗口玻璃迫在眉睫。
发明内容
针对目前石英玻璃三倍频损伤阈值低,而氟化物玻璃易析晶、难以大尺寸生产等问题,本发明提出了一种化学性能稳定、损伤阈值较高的新型高损伤阈值激光窗口材料的制备方法。
为了实现上述目的,本发明的技术方案是通过在氟化物玻璃中引入可改善其成玻特性、物化性质的氧化物助剂,获得新型大尺寸的高损伤阈值窗口玻璃。具体制备方法如下:
一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)准备原材料,其中原材料各组分的配比如下:
玻璃组分 摩尔百分数mol%
AlF3: 30~35
BaF2: 20~30
MgF2 10~15
SiO2 19~28
La2O3: 3.5~6.5
Y2O3: 2~4
各组分配比之和为100%,根据以上摩尔配比计算出原材料各组分的质量,称取原材料各组分,混合均匀成粉料;
(2)将混合均匀的粉料加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1100~1220℃,并不断搅拌;
(3)待熔融得到完全澄清的高温玻璃液,将高温玻璃液注入到已经预热好的模具中成型;
(4)将成型的玻璃模具立刻放入马弗炉中,以10℃/小时速率进行退火,直到温度降到50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品,即得到高损伤阈值的激光窗口材料。
上述步骤(4)是将玻璃放入马弗炉中,首先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后,再以10℃/小时的速度退火,以消除玻璃中的应力。(玻璃转变温度Tg可在前期配方试验中通过DSC(differential scanning calorymeter)测试获得。)
本发明解决了氟化物玻璃易析晶、成玻性差、难以大尺寸生产的问题。同时其损伤阈值显著地提高,可用于高能激光器中提高负载能力,对ICF的顺利进行具有重要作用。
该窗口材料生产工艺简单,成本较低,对于大型工程项目的成本控制也有很大的帮助。
该窗口材料可作为透镜、窗口和棱镜等元器件用于强激光***,进一步提高激光器的负载能力,并有望光学元件材料用于惯性约束核聚变(inertialconfinement fusion,ICF)激光器。
附图说明
图1为本发明的氟化物-硅酸盐窗口材料与熔石英的的损伤阈值测试对比曲线。
图2为本发明的氟化物-硅酸盐窗口材料的透过率曲线。
具体实施方式
本发明提出的新型高损伤阈值激光窗口材料的制备方法,是以氟化物为基础玻璃体系,通过加入SiO2提高氟化物的成玻性和物理化学性质;加入氧化物La2O3、Y2O3提高玻璃的热转变温度及抗析晶性能;通过优化配方中各组成的比例,获得大尺寸、化学性能稳定、激光损伤阈值高于熔石英的窗口玻璃。
表1给出了具体实施例中各组分配比及相应样品的光学性能。
下面通过实施例对本发明作进一步说明。
表1
实施例一:
按上述配方1#中的摩尔组成计算出玻璃的重量百分比,然后称取原料10Kg混合均匀。将所配的粉料依次加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1200℃左右,熔制时间为24小时,在熔制过程中对玻璃液进行搅拌。待玻璃液澄清后,将玻璃液注入到已预热的模具中,并快速将玻璃放入已升温的马弗炉中,先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后,再以10℃/小时的速度退火至50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品。
取退火后的样品10mg,用玛瑙钵研成很细的粉末,进行差热分析。经测试样品的Tg为451℃,Tx为633℃。由以上两个数据可计算得到,ΔT为182℃。
将退火后的样品加工成厚度为1cm的薄片,并进行抛光处理,用紫外--可见分光光度计对样品的透过率进行测量,表1提供了材料在基频光、二倍频、三倍频光下的透过率分别为91.8%、91.1%、89.5%。
实施例二:
按上述配方2#中的摩尔组成计算出玻璃的重量百分比,然后称取原料10Kg混合均匀。将所配的粉料依次加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1200℃左右,熔制时间为24小时,在熔制过程中对玻璃液进行搅拌。待玻璃液澄清后,将玻璃液注入到已预热的模具中,并快速将玻璃放入已升温的马弗炉中,先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后,再以10℃/小时的速度退火至50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品。
取退火后的样品10mg,用玛瑙钵研成很细的粉末,进行差热分析。经测试样品的Tg为462℃,Tx为640℃。由以上两个数据可计算得到,ΔT为178℃。
将退火后的样品加工成厚度为1cm的薄片,并进行抛光处理,用紫外--可见分光光度计对样品的透过率进行测量,表1中提供了材料在基频光、二倍频、三倍频光下的透过率分别为91.4%、89.0%、85.5%。
实施例三:
按上述配方3#中的摩尔组成计算出玻璃的重量百分比,然后称取原料10Kg混合均匀。将所配的粉料依次加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1200℃左右,熔制时间为24小时,在熔制过程中对玻璃液进行搅拌。待玻璃液澄清后,将玻璃液注入到已预热的模具中,并快速将玻璃放入已升温的马弗炉中,先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后,再以10℃/小时的速度退火至50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品。
取退火后的样品10mg,用玛瑙钵研成很细的粉末,进行差热分析。经测试样品的Tg为457℃,Tx为642℃。由以上两个数据可计算得到ΔT为185℃。
将退火后的样品加工成厚度为1cm的薄片,并进行抛光处理,用紫外--可见分光光度计对样品的透过率进行测量,表1中提供了材料在基频光、二倍频、三倍频光下的透过率分别为91.8%、89.8%、86.2%。
实施例四:
按上述配方4#中的摩尔组成计算出玻璃的重量百分比,然后称取原料10Kg混合均匀。将所配的粉料依次加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1200℃左右,熔制时间为24小时,在熔制过程中对玻璃液进行搅拌。待玻璃液澄清后,将玻璃液注入到已预热的模具中,并快速将玻璃放入已升温的马弗炉中,先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后,再以10℃/小时的速度退火至50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品。
取退火后的样品10mg,用玛瑙钵研成很细的粉末,进行差热分析。经测试样品的Tg为473℃,Tx为643℃。由以上两个数据可计算得到,ΔT为170℃。
将退火后的样品加工成厚度为1cm的薄片,并进行抛光处理,用紫外可见--分光光度计对样品的透过率进行测量,表1中提供了材料在基频光、二倍频、三倍频光下的透过率分别为90.3%、90.8%、88.7%。
实施例五:
按上述配方5#中的摩尔组成计算出玻璃的重量百分比,然后称取原料10Kg混合均匀。将所配的粉料依次加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1200℃左右,熔制时间为24小时,在熔制过程中对玻璃液进行搅拌。待玻璃液澄清后,将玻璃液注入到已预热的模具中,并快速将玻璃放入已升温的马弗炉中,先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后,再以10℃/小时的速度退火至50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品。
取退火后的样品10mg,用玛瑙钵研成很细的粉末,进行差热分析。经测试样品的Tg为465℃,Tx为638℃。由以上两个数据可计算得到,ΔT为173℃。
将退火后的样品加工成厚度为1cm的薄片,并进行抛光处理,用紫外--可见分光光度计对样品的透过率进行测量,表1中提供了材料在基频光、二倍频、三倍频光下的透过率分别为90.9%、89.6%、87.7%。
实施例六:
按上述6#中的摩尔组成计算出玻璃的重量百分比,然后称取原料10Kg混合均匀。将所配的粉料依次加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1200℃左右,熔制时间为24小时,在熔制过程中对玻璃液进行搅拌。待玻璃液澄清后,将玻璃液注入到已预热的模具中,并快速将玻璃放入已升温的马弗炉中,先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后,再以10℃/小时的速度退火至50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品。
取退火后的样品10mg,用玛瑙钵研成很细的粉末,进行差热分析。经测试样品的Tg为475℃,Tx为645℃。由以上两个数据可计算得到,ΔT为170℃。
将样品加工成厚度为1cm的薄片,并进行抛光处理,用紫外--可见分光光度计对样品的透过率进行测量,表1中提供了材料在基频光、二倍频、三倍频光下的透过率分别为91.6%、91.7%、90.5%。
选取样品6对其损伤性能进行测试,同时与相同条件下测试的石英材料进行对比。可以看出,该窗口材料的损伤阈值在351nm、527nm、1053nm均高于石英材料,石英材料和本发明窗口材料损伤阈值测试数据比较如表2所示。其它各样品的测试数据与样品6相近。
表2
根据ISO11254-1建立材料损伤阈值测试平台,在该平台下,本发明的这种新型含硅酸盐氟化物玻璃在351nm波长处的损伤阈值为石英材料的2倍多,并在527nm、1053nm波长处的损伤阈值均高于传统石英材料;在近紫外区、可见光区和近红外光区的透过性能达到90%左右(如图2所示)。同时,差热分析结果显示,该玻璃的温度差,Tx-Tg=ΔT≥170(如表1所示),表现出了良好的热稳定性,并可进行大尺寸玻璃样品的生产。
Claims (2)
1.一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)准备原材料,其中原材料各组分的配比如下:
玻璃组分 摩尔百分数mol%
AlF3: 30~35
BaF2 20~30
MgF2 10~15
SiO2 19~28
La2O3: 3.5~6.5
Y2O3: 2~4
各组分配比之和为100%,根据以上摩尔配比计算出原材料各组分的质量,称取原材料各组分,混合均匀成粉料;
(2)将混合均匀的粉料加入坩埚中,通过电熔炉加热熔融,熔制温度控制在1100~1220℃,并不断搅拌;
(3)待熔融得到完全澄清的高温玻璃液,将高温玻璃液注入到已经预热好的模具中成型;
(4)将成型的玻璃模具立刻放入马弗炉中,以10℃/小时速率进行退火,直到温度降到50℃,关闭马弗炉,降温至室温,最后取出成品,即得到高损伤阈值的激光窗口材料。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤(4)将玻璃放入马弗炉中,首先以玻璃的转变温度Tg保温2小时后,再以10℃/小时的速度退火。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110434302.6A CN102557430B (zh) | 2011-12-16 | 2011-12-16 | 一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110434302.6A CN102557430B (zh) | 2011-12-16 | 2011-12-16 | 一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102557430A CN102557430A (zh) | 2012-07-11 |
CN102557430B true CN102557430B (zh) | 2014-04-23 |
Family
ID=46404231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201110434302.6A Active CN102557430B (zh) | 2011-12-16 | 2011-12-16 | 一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102557430B (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103265174B (zh) * | 2013-05-30 | 2015-12-02 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法 |
CN103265173B (zh) * | 2013-05-30 | 2015-07-15 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法 |
CN105000801B (zh) * | 2015-07-20 | 2017-08-29 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种透紫外、高损伤阈值氟磷酸盐激光玻璃及其制备方法 |
CN106495471B (zh) * | 2016-09-21 | 2019-04-02 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种低含氟磷酸盐基频激光色分离玻璃及其制备方法 |
CN106477880B (zh) * | 2016-09-21 | 2019-03-08 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 一种低含氟磷酸盐二倍频激光色分离玻璃及其制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3411067B2 (ja) * | 1993-08-27 | 2003-05-26 | 株式会社住田光学ガラス | 波長上方変換透明化ガラスセラミックスおよびその製造方法 |
EP1162180B1 (en) * | 2000-06-05 | 2007-01-24 | Kabushiki Kaisha Ohara | Optical glass suffering little change in refractive index when exposed to ultra-violet light during service |
US20040198581A1 (en) * | 2003-04-02 | 2004-10-07 | Infrared Fiber Systems, Inc. | Heavy-metal oxyfluoride glasses for high energy laser applications |
-
2011
- 2011-12-16 CN CN201110434302.6A patent/CN102557430B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102557430A (zh) | 2012-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102557430B (zh) | 一种高损伤阈值激光窗口材料的制备方法 | |
JP4756554B2 (ja) | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームとその製造方法、および光学素子とその製造方法 | |
CN101492248B (zh) | 2μm激光输出掺铥碲酸盐玻璃与光纤及其制备方法 | |
JP4408937B2 (ja) | ガラスの製造方法およびこのガラスから得られる精密プレス成形用プリフォームと光学素子 | |
CN108529871B (zh) | 玻璃、压制成型用玻璃材料、光学元件坯件及光学元件 | |
JP6639053B2 (ja) | ガラス、光学ガラス、リン酸塩光学ガラス、研磨用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材および光学素子 | |
TW200900370A (en) | Optical glass, press-molding preform, optical element and their production processes | |
JP2008013378A (ja) | リン酸塩ガラス、フツリン酸塩ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれぞれの製造方法 | |
JP6280015B2 (ja) | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | |
JP2006248897A (ja) | 光学ガラス、プレス成形用ガラスゴブおよび光学素子 | |
CN106116143A (zh) | 光学玻璃 | |
JP7003198B2 (ja) | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | |
JP2004043294A (ja) | 光学ガラスおよびレンズ | |
CN105000801B (zh) | 一种透紫外、高损伤阈值氟磷酸盐激光玻璃及其制备方法 | |
TWI706924B (zh) | 光學玻璃及光學元件 | |
JP2009018952A (ja) | 光学ガラス | |
CN101182118B (zh) | 碱金属镧铋镓酸盐红外光学玻璃及其制备方法 | |
JP2024019356A (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
CN103265174B (zh) | 一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法 | |
CN112551893A (zh) | 光学玻璃及光学元件 | |
CN106477880B (zh) | 一种低含氟磷酸盐二倍频激光色分离玻璃及其制备方法 | |
CN101269913A (zh) | 具有高析晶稳定性的掺Yb3+氟磷玻璃及其制备方法 | |
CN103265173B (zh) | 一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法 | |
CN108840565B (zh) | 一种2.3μm发光掺稀土碲酸盐激光玻璃及其制备方法 | |
CN106495471B (zh) | 一种低含氟磷酸盐基频激光色分离玻璃及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |