CN102478822A - 一种数控机床导轨直线度误差校正的新方法 - Google Patents
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Abstract
一种数控机床导轨直线度误差校正的新方法,其特征在于:在定导轨上装一激光头,在动导轨上相应一端装一测量直线偏摆的反射镜,测量方向与需控制的直线度误差方向相同,在动导轨上装一垂直导轨,垂直动导轨运动方向与动导轨偏摆方向一致,将工件装在垂直动导轨上,当动导轨运动并产生偏摆时,反射镜随之偏摆,固定在定导轨上的激光头测出偏摆的数值并通过数控***控制垂直动导轨产生一距离相等方向相反的运动,以抵消导轨直线度误差带来的偏摆,从而校正了动导轨直线度误差。 本发明简单方便,科学合理,校正导轨直线度误差及导轨后期变化对机床加工精度的影响。
Description
技术领域
本发明属于机械方法类,具体是一种数控机床导轨直线度误差校正的新方法。
背景技术
在高精度数控机床的加工中,对导轨的直线度有着很高的要求,由于机械加工及装配等环节不可避免地存在诸多误差,所以数控机床中导轨直线度的制造误差不可避免,而且由于环境温度变化、机床装配应力的释放、切削力等因素将直接影响导轨的直线度,特别是在精密和超精密加工中,机床导轨直线度的误差及变化是影响机床加工精度的重要因素,现有技术只能从提高导轨直线度的制造精度入手,对于机床在使用过程中的导轨直线度变化,只能采用定期维修调整的方法。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术的不足,公开一种简单方便、科学合理的数控机床导轨直线度误差的校正方法,以避免导轨直线度的制造误差以及导轨后期变化对机床加工精度的影响。
本发明通过下列技术方案实现:
一种数控机床导轨直线度误差校正的新方法,其特征在于:在定导轨上装一激光头,在动导轨上相应一端装一测量直线偏摆的反射镜,测量方向与需控制的直线度误差方向相同,在动导轨上装一垂直导轨,垂直动导轨运动方向与动导轨偏摆方向一致,将工件装在垂直动导轨上,当动导轨运动并产生偏摆时,反射镜随之偏摆,固定在定导轨上的激光头测量出动导轨各位置的偏摆的数值并通过数控***控制垂直动导轨产生一距离相等方向相反的运动,以抵消导轨直线度误差带来的偏摆,从而校正了动导轨直线度误差。
本发明在激光头测量出动导轨各位置的偏摆的数值后,可将全行程的偏摆数值输入数控***储存,根据动导轨在定导轨上的位置以及动导轨在该位置的偏摆数值对垂直动导轨作一数值相等方向相反的运动,从而校正动导轨的直线度误差。
本发明通过反射镜测量动导轨的偏摆误差,并通过数控***控制动导轨上的垂直动导轨的运动来抵消导轨直线度误差带来的偏摆,校正了直线度误差,简单方便,科学合理,通过校正直线度误差,以校正导轨直线度的制造误差及后期变化对机床加工精度的影响。
附图说明
图1为本发明示意图。
具体实施方式
实施例一
如图1所示,一种数控机床导轨直线度误差校正的新方法,其特征在于:在定导轨1上装有一激光头2,在动导轨3相应一端装有反射镜4,动导轨上装有一垂直导轨5,工件6装在垂直动导轨7上,动导轨3与垂直动导轨7都在水平面内运动,且运动方向相垂直,当动导轨3运动中产生水平偏摆时,反射镜4随之偏摆,且被激光头2记录,控制数控***使垂直动导轨7作一方向相反、距离相等的运动,抵消导轨直线度误差带来的偏摆,校正了垂直动导轨7上的工件6相对于定导轨1在水平方向的运动误差。
实施例二
一种数控机床导轨直线度误差校正的新方法,在定导轨上装有一激光头,在动导轨相应一端装有反射镜,动导轨上装有一垂直导轨,工件装在垂直动导轨上,动导轨与垂直动导轨都在水平面内运动,且运动方向相垂直,当动导轨运动中产生水平偏摆时,反射镜随之偏摆,且被激光头记录,控制动导轨全行程运动记录各位置的偏摆数值并储存进数控***中,拆去激光头和反射镜,当动导轨在任一位置时,将各位置的偏摆值输入数控***,数控***自动控制垂直动导轨作一方向相反、数值与该位置动导轨偏摆值相等的运动,抵消导轨直线度误差带来的偏摆。
Claims (1)
1. 一种数控机床导轨直线度误差校正的新方法,其特征在于:在定导轨上装一激光头,在动导轨上相应一端装一测量直线偏摆的反射镜,测量方向与需控制的直线度误差方向相同,在动导轨上装一垂直导轨,垂直动导轨运动方向与动导轨偏摆方向一致,将工件装在垂直动导轨上,当动导轨运动并产生偏摆时,反射镜随之偏摆,固定在定导轨上的激光头测出偏摆的数值并通过数控***控制垂直动导轨产生一距离相等方向相反的运动,以抵消导轨直线度误差带来的偏摆,从而校正了动导轨直线度误差;在激光头测量出动导轨各位置的偏摆的数值后,可将全行程的偏摆数值输入数控***储存,根据动导轨在定导轨上的位置以及动导轨在该位置的偏摆数值对垂直动导轨作一数值相等方向相反的运动,从而校正动导轨的直线度误差。
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2010
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PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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