CN102443824A - 具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法 - Google Patents

Abstract

一种具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其包含：在一基材表面成形一光致抗蚀剂层；以点矩阵光刻手段将具有全像效果的图案移转至该光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂具有全像效果的点矩阵光栅结构；在基材与光致抗蚀剂形成一导电薄膜而为一电镀基材；将该电镀基材以电镀手段令表面形成一电镀体后取出；从该电镀基材上剥离该电镀体，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面具有点矩阵光栅结构；通过其上光栅结构产生光学上的干涉效应，人眼即可看出电镀制品的表面呈现不同图案与色彩。

Description

具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法

技术领域

本发明涉及一种电镀制品的制法，特别是指具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法。

背景技术

一般物品或是货币，为了使消费者可辩识出真品与仿冒品的差别，通常会在物品上粘贴激光防伪贴纸，激光防伪贴纸的表面形成光栅，通过光栅产生光学上的干涉效应，当人眼以不同视角目视该激光防伪贴纸即可看到不同图案与色彩的呈现。

激光防伪标签贴纸由该物品所属机构发行，其他人无法完全复制该防伪标签贴纸，所以将该防伪标签贴纸粘贴在商品上即可供消费者辨识真品或是仿冒品。

现有的工艺技术只可将具有防伪标签的图案应用在平面模具，再以平面模具将该图案转印至纸制品，例如贴纸或纸钞；然而，将防伪图案形成在贴纸上，再由贴纸贴在物品上的方式，因激光防伪贴纸容易被撕下，被撕下激光防伪贴纸又可再贴附于其他仿冒的物品，则无法提供消费者根据激光防伪标签贴纸辨识商品的真伪。

或者，形成在物品上的防伪图案，例如现行的中国台湾五十元硬币，使用者以不同视角目视该侧面，将硬币向左倾斜15度其可呈现「五十」图样，而向右倾斜可呈现「50」图样，因此提供消费者或店家基础的辩识真伪币；因其图案不具有色彩变化而显得单调，且需分别倾斜相当角度才可辨识出其不同的图案，而不便于辨识。

发明内容

鉴于现有工艺技术只能将防伪标签形成在纸制品上，导致因防伪标签容易被撕下使防伪贴纸失去其意义，以及形成在物品上的防伪图案不具有色彩变化而显得单调，与不便于辨识的问题；由此，本发明提供一种制法，可在物品上形成防伪图案。

为达到前面揭示目的，本发明所采用的技术手段提供一种具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，包含：

在一基材表面成形一光致抗蚀剂层；

以点矩阵光刻手段将具有全像效果的图案移转至该基材表面的光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂具有全像效果的点矩阵光栅结构，且在点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间；

在基材与光致抗蚀剂上形成导电薄膜，而成为电镀基材；

将该电镀基材沉置电镀槽中，以电镀手段令电镀基材的表面形成一电镀体后取出；

从该电镀基材上剥离该电镀体，即为所要的电镀制品，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构，其中，该电镀制品的表面的点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间。

因此，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构，通过光栅产生光学上的干涉效应，当人眼以不同视角目视该电镀制品即可看到其表面呈现不同图案与色彩。

附图说明

图1是本发明具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法的制造流程图。

图2是本发明制法所得电镀制品的一较佳实施例平面示意图。

图3是本发明制法所得电镀制品的一较佳实施例局部放大图。

图4是本发明制法所得电镀制品的一较佳实施例区块示意图。

图5是本发明制法所得电镀制品的一较佳实施例的单一区块剖面示意图。

图6是本发明制法所得电镀制品应用于一模具的立体分解图。

图7是本发明制法所得电镀制品应用于一模具的剖面示意图。

附图标记说明：10-镍钴合金制品；11-区块；20-阳模；30-阴模；40-模穴。

具有体实施方式

请参考图1所示，是本发明具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法的一较佳实施例工艺流程图，包含以下步骤：

在一基材表面成形一光致抗蚀剂层，其以玻璃、金属或塑胶薄片等作为基材，并在该基材的表面以涂布方式形成该光致抗蚀剂层；

以点矩阵光刻手段将具有全像效果的点矩阵图案移转至该基材表面的光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂图案具有全像效果的点矩阵光栅结构，其利用内建绘图软件的电脑设计一图案，并令该图案可经过全像(hologram)设计而具有3D立体影像的效果，再将该图案输入至一点矩阵光刻装置，利用该点矩阵光刻装置以点矩阵光刻手段将点矩阵图案移转至该基材表面的光致抗蚀剂层，接续显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂形成凹凸状的具有全像效果的点矩阵光栅结构，且在点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间；

在基材与光致抗蚀剂表面形成一导电薄膜，而成为电镀基材，其中可以利用银镜反应、蒸镀或溅镀等方式在该基材上的光致抗蚀剂表面形成所述的导电薄膜，使电镀基材具有导电性；

将该电镀基材沉置一镍钴电镀槽中，以电镀手段令电镀基材的表面形成一镍钴合金电镀体后取出，其中令该电镀基材电连接一负电极并沉置镍钴电镀槽中，另将一正电极电连接一镍钴材料并沉置该镍钴电镀槽中，接着施加电压于该镍钴电镀槽的正、负电极，使镍钴电镀槽中的镍钴离子沉积于该导电薄膜的表面而形成镍钴合金电镀体，当镍钴合金电镀体沉积至预设的厚度，将该表面电镀有镍钴合金的电镀基材从镍钴电镀槽取出；

从该电镀基材上剥离该镍钴合金电镀体，即为所要的镍钴合金电镀制品，其表面形成对应于电镀基材的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构，其中，该电镀制品的表面的点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间。

请参考图2至图5所示，经由上述步骤所制成镍钴合金电镀制品的一较佳实施例，在镍钴合金电镀制品10的微观结构中，其点矩阵光栅结构包含多个排列成该图案的区块11，该多个区块11具有形成光栅的凹凸表面，利用光栅中每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间，以及凹部的深度，可产生光学上的干涉效应，使光从该多个区块11反射到人眼睛时，人眼可看到光线呈颜色的变化。

请参考图6与图7所示，该镍钴合金电镀制品10可应用在一模具，作为一模仁设置在一阳模20与阴模30合并所形成的空间中，以形成一模穴40，并使该镍钴合金制品10具有点矩阵光栅结构的表面面向模穴40；

在该模穴40注入熔化的铸造用原料，例如高分子塑料、玻璃或是镁合金等铸造用原料，该些铸造用原料根据该镍钴合金电镀制品10的点矩阵光栅结构的表面成形，待铸造用原料冷却脱模后的成品如附件一、附件二所示，其表面形成对应于镍钴合金电镀制品10表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构。

其中所述模具可为制造平板、浮雕或立体物品的模具，只须将镍钴合金电镀制品设置模具中形成模穴即可，例如制造保特瓶的模具，以该镍钴合金制品具有点矩阵光栅结构的表面面向模穴，在该模穴注入高分子塑料，待高分子塑料冷却脱模所成形的保特瓶，其表面即具有对应于镍钴合金电镀制品的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构。

该镍钴合金电镀制品除了作为模仁，尚有另一用法。将该镍钴合金电镀制品沉置一金属电镀槽中，该镍钴合金电镀制品电连接一负电极，一正电极电连接一金属材料并沉置该金属电镀槽中，例如银、黄金、K金、铜、铜合金或白金等金属材料，接着施加电压于该正、负电极，使金属电镀槽中的金属离子沉积于该镍钴合金电镀制品的表面而形成一金属电镀体，当金属电镀体沉积至一预设的厚度，将表面电镀有金属的镍钴合金电镀制品从金属电镀槽取出；

从该镍钴合金电镀制品上剥离该金属电镀体，即为所要的金属电镀制品，其表面形成对应于镍钴合金电镀制品的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构。

此外，所述的电镀基材尚包含另一用法。将电镀基材电连接一负电极并沉置一黄金电镀槽中，由一正电极电连接一黄金材料并沉置该黄金电镀槽中，接着施加电压于该正、负电极，使黄金电镀槽中的黄金离子沉积于该导电薄膜的表面而形成所述的黄金电镀体，当黄金电镀体沉积至一预设的厚度，将表面电镀有黄金的电镀基材从黄金电镀槽中取出；

从该电镀基材上剥离该黄金电镀体，即为所要的黄金电镀制品，该黄金电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面的具有全像效果的具有点矩阵光栅结构，由于黄金金属是一贵金属，所制成的黄金制品即可作为商品贩售。

此外，可再将该黄金电镀制品经过上述的电镀手段在黄金电镀制品的表面形成一镍钴合金电镀体，从该黄金电镀制品上剥离该镍钴合金电镀体，即为所要的镍钴合金电镀制品。

如前所述，该镍钴合金电镀制品可应用在一模具，作为一模仁设置在阳模与阴模合并所形成的空间中以形成一模穴，其中所述模具可为制造平板、浮雕或立体物品的模具；或是再以电镀手段令该镍钴合金电镀制品的表面沉积一金属电镀体，从镍钴合金电镀制品剥离金属电镀体，即可得到金属电镀制品，而所述的黄金电镀制品、镍钴合金电镀制品或其他金属电镀制品的表面皆具有点矩阵光栅结构，通过其上光栅结构产生光学上的干涉效应，进一步呈现不同图案与色彩的效果。

通过本发明具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，具有以下优点。

1.本发明制法可在物品表面直接成形有防伪功效的点矩阵光栅结构，可将具有点矩阵光栅结构推广到各种日常生活物品，进一步达到防伪目的；且因不需在物品表面粘贴防伪贴纸或以涂料印刷防伪图样，因此节省成本并避免涂料产生对环境有害的物质。

2.所述的黄金制品、镍钴合金制品或其他金属制品可在电镀槽中重复再利用，可节省购买该些金属的成本，亦避免将该些制品丢弃后，对环境造成的金属污染。

以上所示仅为本发明的优选实施例，对本发明而言仅是说明性的，而非限制性的。在本专业技术领域具有通常知识人员理解，在本发明权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变，修改，甚至等效的变更，但都将落入本发明的保护范围内。

Claims (8)

1.一种具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，包含以下步骤：

在一基材表面成形一光致抗蚀剂层；

以点矩阵光刻手段将具有全像效果的图案移转至该基材表面的光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂具有全像效果的点矩阵光栅结构，且在点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间；

在基材与光致抗蚀剂形成一导电薄膜，而成为一电镀基材；

将该电镀基材沉置一电镀槽中，以电镀手段令电镀基材的表面形成一电镀体后取出；

从该电镀基材上剥离该电镀体，即为所要的电镀制品，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构，其中，该电镀制品的表面的点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间。

2.如权利要求1所述的具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，在将电镀基材沉置电镀槽中，以电镀手段令电镀基材的表面形成电镀体的步骤中，令电镀基材沉置于镍钴电镀槽，用以在电镀基材的表面形成镍钴合金电镀体，从而形成镍钴合金电镀制品。

3.如权利要求2所述的具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，将所得的镍钴合金电镀制品以电镀手段令其表面沉积一金属电镀体后取出；

从该镍钴合金电镀制品上剥离该金属电镀体，即为所要的金属电镀制品，该金属电镀制品的表面形成对应于镍钴合金电镀制品的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构。

4.如权利要求2所述的具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，将所得的镍钴合电镀制品设置在一阳模与阴模合并所形成的空间中以形成一模穴，并使该镍钴合金电镀制品具有该点矩阵光栅结构的表面朝外；

在该模穴注入铸造用原料；

铸造用原料固化脱模的制品，其表面形成对应于镍钴合金电镀制品的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构。

5.如权利要求1所述的具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，在将电镀基材沉置电镀槽中，以电镀手段令电镀基材的表面形成电镀体的步骤中，令电镀基材沉置于黄金电镀槽，在电镀基材的表面形成黄金电镀体，从而形成黄金电镀制品。

6.如权利要求5所述的具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，将所得的黄金电镀制品以电镀手段令其表面沉积一镍钴合金电镀体后取出；

从该黄金电镀制品上剥离该镍钴合金电镀体，即为所要的镍钴合金电镀制品，该镍钴合金电镀制品的表面形成对应于黄金电镀制品的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构。

7.如权利要求6所述的具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，将所得的镍钴合金电镀制品以电镀手段令其表面沉积一金属电镀体后取出；

从该镍钴合金电镀制品上剥离该金属电镀体，即为所要的金属电镀制品，该金属电镀制品的表面形成对应于镍钴合金电镀制品的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构。

8.如权利要求6所述的具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，将所得的镍钴合电镀制品设置在一阳模与阴模合并所形成的空间中以形成一模穴，并使该镍钴合金电镀制品具有该点矩阵光栅结构的表面朝外；

在该模穴注入铸造用原料；

铸造用原料固化脱模的制品，其表面形成对应于镍钴合金电镀制品的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构。

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