CN102350834A - 一种低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
一种低辐射镀膜玻璃,涉及玻璃深加工领域,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:所述Ag膜层沉积在MOx:Sb膜层之上,所述MOx:Sb膜层中的M为Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。优点是:在MOx:Sb膜层之上紧接着沉积Ag膜层,这样可以使Ag膜层更趋向于二维形态生长,Sb起到类似于表面活性剂的作用。这里的表面活性剂是动力学上有利于薄膜逐层生长的元素,利用它可以减少薄膜的表面粗糙度,使膜层的生长更加均匀。
Description
【技术领域】
本发明涉及玻璃深加工领域,尤其涉及一种可进行热处理的低辐射镀膜玻璃。
【背景技术】
低辐射玻璃(Low-E玻璃)是低辐射镀膜玻璃的简称,一般采用银层作为反射红外线的膜层,因其具有良好的阻隔热辐射透过的作用,被称为绿色、节能、环保玻璃,近年来被广泛运用于建筑领域。
而运用到汽车玻璃领域,镀膜玻璃还需经受如钢化或烘弯的高温过程而保持膜层性能达到行业标准。汽车前挡玻璃是夹层玻璃,烘弯工序是夹层玻璃制造工艺中的关键工序,汽车夹层玻璃的烘弯工序需要在连续烘弯炉中620℃以上的高温段区域至少停留2-4min,所以用于夹层玻璃的可烘弯低辐射镀膜玻璃对膜层配置的要求较高;而在高温下的停留时间对镀膜玻璃的膜层质量的影响最大,所以高温下的停留时间就决定了低辐射镀膜玻璃技术开发的难易程度。
一般低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层。申请号为200710045930.9的中国专利公开了一种双银膜系的低辐射镀膜玻璃,该专利描述的低辐射镀膜玻璃的结构为:玻璃基板/SnO2/NiCr/ZnOx/Ag/NiCr/TiOx/SnO2/TiOx/ZnO/Ag/NiCr/Si3N4。美国专利US6060178公开了一种可进行热处理的双银膜系的低辐射镀膜玻璃,该专利描述了几个低辐射镀膜玻璃的结构:(a)玻璃基板/Si3N4/ZnO/Ag/Nb/ZnO/Si3N4/ZnO/Ag/Nb/ZnO/Si3N4;(b)玻璃基板/ZnO/Ag/Nb/ZnO/Si3N4/ZnO/Ag/Nb/ZnO/Si3N4;(c)玻璃基板/ZnO/Ag/Nb/ZnO/Si3N4/ZnO/Ag/Nb/ZnO/TiN/Si3N4。
低辐射镀膜玻璃的膜层结构中,通常选用ZnO膜层作为Ag层的生长层(即先沉积ZnO膜层,紧接着在ZnO膜层上沉积Ag层),这样可以获得较好质量的Ag膜层。若在别的电介质膜层材料之上沉积Ag膜层,那么所获得的Ag膜层的质量将较差,这将导致低辐射玻璃的性能下降。
最常用的低辐射玻璃镀膜是通过磁控管辅助的磁控溅射技术来实现的,其中起反射远红外线作用的主要功能层是银层,但由于银层的特点是会造成透光性低、反光高,而且容易受到腐蚀或机械磨损,所以需要在银层上下镀制电介质膜层,其作用是通过光学干涉原理,起到提高玻璃透光率、降低反光率,调节外观色泽的作用,并提高耐化学腐蚀和机械摩擦能力。银层下面的电介质膜层还可以增加银层和玻璃的附着能力,改善银层成核结膜条件。
适用于汽车前挡的低辐射镀膜玻璃应该具备以下几点性能:1)低辐射镀膜玻璃的膜层要 能够经受620℃以上的高温热处理,并在此高温下至少停留2~4min,经过高温热处理后,产品的性能仍能基本保持不变;2)做成夹层的低辐射镀膜玻璃的可见光透过率要大于70%,更好的是大于75%;3)镀膜玻璃的太阳能透过率要尽可能的低;4)镀膜玻璃的膜层要具有足够好的机械耐久性和耐化学性能。
【发明内容】
本发明的目的在于克服上述缺陷,提供一种用于Ag膜层更好生长的膜层,并提供应用前述膜层的一种低辐射镀膜玻璃。
为达到上述目的,本发明提供了一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:所述Ag膜层沉积在MOx:Sb膜层之上,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
本发明的一种技术方案为:一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
本发明的另一种技术方案为:一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
本发明的第三种技术方案为:一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、第二电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第三牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
本发明的第四种技术方案为:一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、第二电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第三牺牲膜层、第三电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第四牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
在上述几种技术方案中,底层电介质膜层、第一电介质膜层、第二电介质膜层、第三电介质膜层、顶层电介质膜层和保护膜层选用以下的一种或多种材料组合:SnOx、TiOx、ZnOx、SiNx、ZnxSnyOn、ZnxTiyOn、ZrOx、NbOx、SiNOx,其膜层厚度为5~90nm;第一牺牲层、第二牺牲层、第三牺牲层和第四牺牲层选用以下的一种材料:NiCr、Ti、Nb、NiCrOx、Sb,其膜层厚度为1~5nm。
本发明的优点是:在MOx:Sb膜层之上紧接着沉积Ag膜层,这样可以使Ag膜层更趋向于二维形态生长,Sb起到类似于表面活性剂的作用。这里的表面活性剂是动力学上有利于薄膜逐层生长的元素,利用它可以减少薄膜的表面粗糙度,使膜层的生长更加均匀。
如果没有Sb作为表面活性剂的情形:此时台阶边缘的势垒比扩散势垒高得多,使附加的边缘势垒(原子落下台阶的势垒减去表面扩散的势垒)相当大,上台面上的增原子不容易跳下来。附加边缘势垒产生的原因是:原子跳下台阶时,它的配位数势必降低,因此这一过程会出现势垒。Sb的引入使扩散势垒增高,降低了Ag增原子在台面上的迁移率,同时使附加的边缘势垒减小。这样一方面使岛密度增大,另一方面使台阶处的增原子跳下来的概率和台面上的扩散概率相近。其次Sb的引入使原子沿台阶边缘扩散困难,使边缘很不规则,即台阶上有很多扭折。一般来说台阶的扭折处存在应变松弛,在扭折处跳下的势垒会有所降低。再次,增大的岛的密度使岛的尺寸减小,或使岛的枝杈变窄,这些都可以增大Ag增原子到达台阶的概率。这些效应都使得Ag薄膜生长更倾向于二维生长,使Ag层生长更加均匀、致密。
本发明所沉积的低辐射镀膜玻璃具有:1)膜层能够经受620℃以上的高温热处理,并在此高温下至少停留2~4min,经过高温热处理后,产品的性能仍能基本保持不变;2)将其做成汽车前挡夹层玻璃后,其可见光透过率大于70%,更好的是大于75%;3)镀膜玻璃具有较低的太阳能透过率;4)镀膜玻璃的膜层具有足够好的机械耐久性和耐化学性能。
通过合理设计调整各膜层及厚度,本发明的镀膜玻璃具有低的面电阻、低的辐射率、高的可见光透过率以及低的太阳能透过率,可应用于建筑领域,特别是汽车风挡玻璃领域。
【附图说明】
图1为本发明单银膜层结构示意图;
图2为本发明双银膜层结构示意图;
图3为本发明三银膜层结构示意图;
图4为本发明四银膜层结构示意图。
【具体实施方式】
在此先定义或说明以下几个词:“MOx:Sb膜层”表示在MOx膜层中含有Sb金属元素,而“ZnO:1%Sb”则表示在ZnO含有Sb金属元素,Sb的含量为1wt%,同理“TiO2:Sb”或“SnO2:Sb”或“ZrO:Sb”含义理解如上;SnOx、TiOx、ZrOx和SiOx中,当M为Zn时x取值在0<x≤1,当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2,当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3;ZnOx中x的取值为0<x≤1;SiNx中x的取值为0<x≤4/3;ZnxSnyOn和ZnxTiyOn中n的取值为0<n≤x+2y,其中x和y取任意正值;NbOx中x的取值为0<x≤5/2;SiNOx中x的取值为0<x≤1/2;NiCrOx中x的取值为0<x≤7/2。在这一整篇发明当中都用以上的表示方法。
本发明提供了一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:所述Ag膜层镀制在MOx:Sb膜层之上,其中所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合。
本发明的一种技术方案如图1所示:
一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合。
本发明的另一种技术方案如图2所示:
一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层;其中所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合。
本发明的第三种技术方案如图3所示:
一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在 于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、第二电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第三牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合。
本发明的第四种技术方案如图4所示:
一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、第二电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第三牺牲膜层、第三电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第四牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合。
在上述几种技术方案中,底层电介质膜层、第一电介质膜层、第二电介质膜层、第三电介质膜层、顶层电介质膜层和保护膜层选用以下的一种或多种材料组合:SnOx、TiOx、ZnOx、SiNx、ZnxSnyOn、ZnxTiyOn、ZrOx、NbOx、SiNOx,其膜层厚度为5~90nm;第一牺牲层、第二牺牲层、第三牺牲层和第四牺牲层选用以下的一种材料:NiCr、Ti、Nb、NiCrOx、Sb,其膜层厚度为1~5nm。
其中,上述技术方案MOx:Sb膜层中Sb的含量不可过多也不可太少,Sb的含量太少则起不到类似于表面活性剂的作用,若Sb的含量过多则膜层的缺陷增多使其可见光透过率降低太多。一般Sb的含量为0.01wt%~10wt%,优选Sb的含量为0.05wt%~4wt%;该膜层厚度为5~50nm。
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。
以下涉及实施例及对比例,均是在干净的、厚度为2.0mm的透明浮法玻璃原片(标记为玻璃基板2.0C)的空气面上依次镀上各膜层。其中银膜层所用靶材为平面靶,采用直流模式溅射;其余膜层所用靶材都为旋转靶,采用中频交流模式溅射。
单片玻璃基板镀膜烘弯后,镀膜玻璃基板的最外镀膜层为保护层,保护层向外镀膜玻璃基板依次和厚度为0.76mm的PVB、另外一片没有镀膜的厚度为2.0mm的透明浮法玻璃基板层压在一起,形成低辐射镀膜夹层玻璃。而形成的低辐射镀膜夹层玻璃需要通过敲击实验——最重要的物理性能测试之一,该实验是衡量膜层与PVB、玻璃之间粘结性能的检测方法。Solutia Europe s.a.公司将夹层玻璃敲击标准分为9级。根据敲击后碎玻璃粘在PVB上的量从少到多,规定标准等级为第1级至第9级。满足国标GB9656-2003要求的汽车夹层玻璃需要符合的敲击等级为:第3级≤敲击等级≤第6级。
敲击实验步骤为:
a.从整个低辐射镀膜夹层玻璃上切下两块100*300mm的试验片;b.将两试样放置在-18℃±2℃下保存至少2小时;c.将试样从上述低温处取出放置在常温下1-2分钟,便放在试样箱上用铁锤敲击;d.敲击后试样允许恢复到室温再与标准样片对照,但要等到冷凝水挥发后;e.将试样认真与标准样片比较,就可以判断出敲击实验的等级。
实施例1-3
表1 实施例1-3膜系结构和膜层厚度
如表1所示,分别列举了ZnO:Sb膜层中的金属元素Sb最低含量的实施例1、ZnO:Sb膜层中的金属元素Sb最高含量的实施例2和ZnO:Sb膜层中的金属元素Sb中间含量的实施例3所镀膜层及各膜层厚度。实施例1、2、3的膜系结构和膜层厚度是一样的,主要区别为ZnO:Sb膜层中的金属元素Sb含量不同。
实施例1-3性能测试如下:
实施例1 性能测试如下:
光学性能测试
在热处理之前,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.044,可见光透过率80.1%,烘弯加热后检测,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.028,可见光透过率为83.2%;然后洗涤、合片等工序后获得的低辐射镀膜夹层玻璃,经检测,其可见光透过率为75.8%,太阳能直接透过率43%。
物理性能
按照GB9656-2003,冲击实验、耐辐照实验、湿热循环实验等均能满足要求。经检测,敲击实验等级为4级,说明膜层与玻璃和PVB的附着力都很好。
实施例2 性能测试如下:
光学性能测试
在热处理之前,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.049,可见光透过率79.8%,烘弯加热后检测,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.031,可见光透过率为83%;然后洗涤、合片等工序后获得的低辐射镀膜夹层玻璃,经检测,其可见光透过率为75.5%,太阳能直接透过率43.2%。
物理性能
按照GB9656-2003,冲击实验、耐辐照实验、湿热循环实验等均能满足要求。经检测,敲击实验等级为4级,说明膜层与玻璃和PVB的附着力都很好。
实施例3 性能测试如下:
光学性能测试
在热处理之前,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.04,可见光透过率81%,烘弯加热后检测,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.02,可见光透过率为84%;然后洗涤、合片等工序后获得的低辐射镀膜夹层玻璃,经检测,其可见光透过率为76.1%,太阳能直接透过率42.2%。
物理性能
按照GB9656-2003,冲击实验、耐辐照实验、湿热循环实验等均能满足要求。经检测,敲击实验等级为4级,说明膜层与玻璃和PVB的附着力都很好。
实施例4
表2 实施例4膜系结构和膜层厚度
如表2所示,列举了实施例4所镀膜层及各膜层厚度。实施例4的膜系结构及ZnO:Sb膜层中的金属元素Sb含量和实施例3的是一样的,主要区别为膜层厚度是不一样。
实施例4 性能测试如下:
光学性能测试
在热处理之前,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.041,可见光透过率81.6%,烘弯加热后检测,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.022,可见光透过率为84.8%;然后洗涤、合片等工序后获得的低辐射镀膜夹层玻璃,经检测,其可见光透过率为76.3%,太阳能直接透过率42.6%。
物理性能
按照GB9656-2003,冲击实验、耐辐照实验、湿热循环实验等均能满足要求。经检测,敲击实验等级为4级,说明膜层与玻璃和PVB的附着力都很好。
实施例3 与对比例1
表3 实施例3和对比例1的膜系结构和膜层厚度
如表3所示,列举了实施例3和对比例1所镀膜层及各膜层厚度。对比例1的Ag膜层生长在纯的ZnO膜层之上,而实施例3的Ag膜层生长在ZnO:1%Sb膜层之上,其余部分是一样的。
对比例1 性能测试如下:
光学性能测试
在热处理之前,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.055,可见光透过率78.5%,烘弯加热后检测,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.035,可见光透过率为81.4%;然后洗涤、合片等工序后获得的低辐射镀膜夹层玻璃,经检测,其可见光透过率为73.8%,太阳能直接透过率44.2%。
物理性能
按照GB9656-2003,冲击实验、耐辐照实验、湿热循环实验等均能满足要求。经检测,敲击实验等级为4级。
实施例3与对比例1相比可以看出:采用ZnO:Sb膜层的低辐射镀膜玻璃比采用ZnO膜层的低辐射镀膜玻璃具有更好的性能。
实施例5-7
表4 实施例5、实施例6和实施例7的膜系结构和膜层厚度
如表4所示,实施例5-7分别列举了应用本发明的单银、三银和四银镀膜玻璃所镀膜层及各膜层厚度。
实施例5-7性能测试如下:
实施例5 性能测试如下:
光学性能测试
在热处理之前,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.065,可见光透过率80.4%,烘弯加热后检测,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.052,可见光透过率为84.6%;然后洗涤、合片等工序后获得的低辐射镀膜夹层玻璃,经检测,其可见光透过率为76.6%,太阳能直接透过率48.7%。
物理性能
按照GB9656-2003,冲击实验、耐辐照实验、湿热循环实验等均能满足要求。经检测,敲击实验等级为4级。
实施例6 性能测试如下:
光学性能测试
在热处理之前,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.031,可见光透过率77.3%,烘弯加热后检测,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.019,可见光透过率为79.1%;然后洗涤、合片等工序后获得的低辐射镀膜夹层玻璃,经检测,其可见光透过率为73.5%,太阳能直接透过率36.1%。
物理性能
按照GB9656-2003,冲击实验、耐辐照实验、湿热循环实验等均能满足要求。经检测,敲击实验等级为4级。
实施例7 性能测试如下:
光学性能测试
在热处理之前,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.023,可见光透过率76.1%,烘弯加热后检测,单片低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.014,可见光透过率为77.9%;然后洗涤、合片等工序后获得的低辐射镀膜夹层玻璃,经检测,其可见光透过率为70.3%,太阳能直接透过率35.4%。
物理性能
按照GB9656-2003,冲击实验、耐辐照实验、湿热循环实验等均能满足要求。经检测,敲击实验等级为4级。
用本发明公开的低辐射镀膜玻璃构成的夹层玻璃或中空玻璃具有冬暖夏凉的特性,使用它可以减少空调制冷及采暖的费用,具有节能的效果。本发明所公开的低辐射镀膜玻璃的各项性能指标都符合镀膜玻璃和汽车玻璃国家标准,可用于建筑物及汽车前挡风玻璃上。
最后需要说明的是,本发明采用溅射方法镀制膜层时,是应用该种金属制成的靶材在某一气氛中进行反应溅射。而得到的膜层金属原子和氧原子或氮原子的化学配比会随着气氛变化而逐渐变化。由于这种原因,出于简便,本文采用最佳化学配比来表示膜层成分。
Claims (10)
1.一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:所述Ag膜层沉积在MOx:Sb膜层之上,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述MOx:Sb膜层中Sb的含量为0.01wt%~10wt%。
3.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述MOx:Sb膜层中Sb的含量为0.05wt%~4wt%。
4.根据权利要求1-3之一的低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述MOx:Sb膜层厚度为5~50nm。
5.一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
6.一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
7.一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、第二电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第三牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
8.一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层,其特征在于:该玻璃膜层结构依次为:玻璃基板、底层电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、 第一牺牲膜层、第一电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第二牺牲膜层、第二电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第三牺牲膜层、第三电介质膜层、MOx:Sb膜层、Ag膜层、第四牺牲膜层、顶层电介质膜层、保护膜层,所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合,当M为Zn时x取值在0<x≤1;当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0<x≤2;当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0<x≤3。
9.根据权利要求1-3之一或5-8之一所述的低辐射镀膜玻璃,其特征在于:底层电介质膜层、第一电介质膜层、第二电介质膜层、第三电介质膜层、顶层电介质膜层和保护膜层选用以下的一种或多种材料组合:SnOx、TiOx、ZnOx、SiNx、ZnxSnyOn、ZnxTiyOn、ZrOx、NbOx、SiNOx,其膜层厚度为5~90nm;第一牺牲层、第二牺牲层、第三牺牲层和第四牺牲层选用以下的一种材料:NiCr、Ti、Nb、NiCrOx、Sb,其膜层厚度为1~5nm。
10.根据权利要求1-3之一或5-8之一所述的低辐射镀膜玻璃,其特征在于:该低辐射镀膜玻璃用于制作成汽车夹层玻璃或汽车中空玻璃。
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