CN102341232A - 网状金属微粒叠层膜和其制造方法 - Google Patents

网状金属微粒叠层膜和其制造方法 Download PDF

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CN102341232A CN2010800101799A CN201080010179A CN102341232A CN 102341232 A CN102341232 A CN 102341232A CN 2010800101799 A CN2010800101799 A CN 2010800101799A CN 201080010179 A CN201080010179 A CN 201080010179A CN 102341232 A CN102341232 A CN 102341232A
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Abstract

本发明是仅通过在膜的至少一面上涂布金属微粒液就可以得到的网状金属微粒叠层膜，其特征在于，全光线透过率的平均值为70％以上，全光线透过率的不均度为5％以下，长度为2m以上。根据本发明，提供透明性高，抑制出现莫尔条纹，全光线透过率的不均度小的超长网状金属微粒叠层膜。

Description

网状金属微粒叠层膜和其制造方法
技术领域
本发明涉及透明性和耐莫尔条纹性优异，进而全光线透过率的不均少的、超长网状金属微粒叠层膜、和其制造方法。
背景技术
导电性基板作为电路材料被用于各种机器中，在电磁波屏蔽基板、太阳能电池用途中使用。
电磁波屏蔽基板是为了抑制从以家电用品、手机、电脑、电视为代表的电子机器中放射出的各种各样的电磁波而使用的。特别是，从数码加电中的等离子体显示器面板、液晶电视等的平板显示器会释放出强烈的电磁波，可能会对人体有不良影响。这些显示器，由于要在距离屏面较近的距离长时间观察图像，所以需要抑制这些电磁波的电磁波屏蔽基板。
一般用于显示器面板的电磁波屏蔽基板使用透明导电性基板。现在采用的电磁波屏蔽基板用的导电性基板的制造方法采用了各种方法。例如在专利文献1和2中作为设置有图案化导电层的导电性基板的制造方法，将导电层印刷成格子状、或网状成图案状，从而制作透明性高的导电性膜。
现有技术
专利文献
专利文献1：日本特开1999-170420号公报(第1页、权利要求等)
专利文献2：日本特开2000-196286号公报(第1页、权利要求等)
发明内容
发明要解决的课题
但上述现有技术存在以下问题。
专利文献1中记载的通过丝网印刷设置导电层的方法，是可以得到透明性、全光线透过率的不均度得到抑制的图案形状的优异方法。但由于是丝网印刷，所以基本上是一片一片的制法，该制法不适合超长片。因此不能得到2m以上的超长片。此外，该基板，由于格子状的导电层具有规则结构，所以存在产生莫尔条纹现象的问题。
这里的莫尔条纹现象是指“点或线几何学上规则地分布而成的图案重合时产生的条纹状斑纹”。对于等离子体显示器而言，在屏面产生条纹样花纹。当在设置在显示器前面的电磁波屏蔽基板上设置格子状等规则图案时，与分割显示器背面版的RGB各色像素的、有规则的格子状隔壁等相互作用，就产生莫尔条纹现象。此外，当在电磁波屏蔽基板上设置格子状等规则图案时，该格子线宽越粗，该莫尔条纹现象越容易发生。
专利文献2中记载的方法是通过胶版印刷设置导电层的方法。该方法也是用于得到透明性、全光线透过率的不均度得到抑制的图像形状的优异方法。但该方法是一片一片的制法，超长的片不适合使用该制法。因此，不能得到2m以上的超长片。
本发明的目的在于，提供透明性高，不易出现莫尔条纹，进而全光线透过率的不均度得到抑制的超长网状金属微粒叠层膜。进而还提供这种网状金属微粒叠层膜的优选制造方法。
解决课题的方法
解决上述课题的本发明的构成方案和方法如下。
1).一种网状金属微粒叠层膜，在膜基材的至少一面上具有网状的金属微粒层，该叠层膜的全光线透过率的平均值为70％以上、全光线透过率的不均度为5％以内，且该叠层膜的长度为2m以上。
2).一种网状金属微粒叠层膜的制造方法，使用每10mm模头涂布宽度的、模头内的歧管容积为0.01～5.0cc的模头，通过模涂法(die coatingmethod)在膜基材的至少一面上涂布金属微粒分散液，从而在该膜基材上以网状叠层金属微粒层。
发明效果
根据本发明，可以提供透明性高，不易出现莫尔条纹，进而透明性的不均度得到抑制的超长网状金属微粒叠层膜。本发明的网状金属微粒叠层膜适合用于等离子体显示器面板、液晶电视等的平板显示器。
进而根据本发明的制造方法，通过在特定的条件下涂布金属微粒分散液，可以在涂膜不产生条纹、伤痕等缺点的情况下，以高生产性连续得到本发明的网状金属微粒叠层膜。
附图说明
图1是显示本发明的网状金属微粒叠层膜中的网状结构的一例平面图。
图2是示意性地显示膜上的气流方向的测定方法的概略图。
图3示意性地显示膜上的风速测定法的概略图。
具体实施方式
本发明是解决了上述课题的膜，即透明性高，抑制了莫尔条纹产生，抑制了透明性的不均匀，涂膜上没有条纹和伤痕等缺点的超长网状金属微粒叠层膜。具体地说，是在膜基材的至少一面上具有网状的金属微粒层，全光线透过率的平均值为70％以上，全光线透过率的不均度为5％以下，长度为2m以上的网状金属微粒叠层膜。
本发明的网状金属微粒叠层膜，在膜的至少一面上具有金属微粒层。本发明的网状金属微粒叠层膜，也可以在膜的两面上设置金属微粒层，但考虑到透明性，与在膜的两面上设置金属微粒层方式相比，更优选在膜的一面上具有该金属微粒层的网状金属微粒叠层膜。
本发明的网状金属微粒叠层膜具有网状的金属微粒层。这里的网状是指一些点被若干根线段连接而成的结构，例如，图1显示出了金属微粒层为网状的结构。即，本发明中的网状是指由金属微粒、后述的各种添加剂等构成的多条线段在多个点连接起来的结构。此外，图1的网状的金属微粒层显示的是下面说明的不规则网状结构。
本发明中的金属微粒层的网状结构优选是不规则的。这是由于，在将本发明的网状金属微粒叠层膜贴合在等离子体显示器上使用时，通过使网状结构为不规则的结构，可以得到不产生莫尔条纹现象的显示器。
这里的不规则的网状结构是由网的线部分和除此以外的孔隙部分构成的，观察到的孔隙部分的形状和大小参差不齐的状态即不规则的状态。进而，构成网的部分、即线状的部分的形状很多不是直线，且线粗细参差不齐。图1示出了不规则的网状结构的一例，但并不限于此。
本发明的网状金属微粒叠层膜，全光线透过率的平均值为70％以上。优选75％以上，更优选77％以上。当全光线透过率的平均值小于70％时，有时会在网状金属微粒叠层膜的透明性方面产生问题，此外更优选全光线透过率的最小值为70％以上。当全光线透过率的最小值为70％以上时，没有局部透明性不好的部分，所以优选。
全光线透过率的平均值越高越好，对其上限没有特殊限定。但考虑到膜表面的光反射，认为使网状金属微粒叠层膜的全光线透过率的平均值高于92％是困难的，所以认为，全光线透过率的平均值为92％是网状金属微粒叠层膜的全光线透过率的物理极限值(上限)。
此外，本发明的网状金属微粒叠层膜的全光线透过率的不均度为5％以下。优选3％以下，更优选2％以下。这里的全光线透过率的不均度是全光线透过率的平均值和最大值的差(绝对值)、或平均值和最小值的差(绝对值)中较大的值。具体地说，例如在全光线透过率的平均值为80％、最大值为81％、最小值为78％时，由于平均值和最大值的差(绝对值)为1％、平均值和最小值的差(绝对值)为2％，所以全光线透过率的不均度为2％。当全光线透过率的不均度大于5％时，在用于显示器面板或液晶电视等的平板显示器时，有时会产生显示不均匀等的问题。
此外，全光线透过率的不均度越小越好，对其下限没有特殊限定，但由于本发明的网状金属微粒叠层膜具有网状的金属微粒层，并且优选形态具有不规则的网状的金属微粒层，所以要在机械上、物理上完全消除不均匀是困难的。因此认为使全光线透过率的不均度小于0.1％是困难的，认为下限是0.1％。本发明中的全光线透过率是按照后述的“实施例”中记载的方法测定的值。
作为可以在本发明中的金属微粒层中使用的金属微粒，只要是由金属构成的微粒即可，没有特殊限定，可以列举出铂、金、银、铜、镍、钯、铑、钌、铋、钴、铁、铝、锌、铅等。这些金属可以使用1种，也可以2种以上组合使用。
作为金属微粒的调制方法，可以使用例如，在液层中使金属离子还原成金属原子，经过原子簇向纳米粒子生长的化学方法，使成块金属在惰性气体中蒸发，用冷肼捕捉变为微粒的金属的方法，使真空蒸镀到聚合物薄膜上得到的金属薄膜加热，破坏金属薄膜，使金属纳米粒子以固相状态分散到聚合物中的物理方法等。
本发明中的金属微粒层是由上述金属微粒构成的层，除了金属微粒以外，还可以其它的各种添加剂例如分散剂、表面活性剂、保护树脂、抗氧化剂、耐热稳定剂、耐气候稳定剂、紫外线吸收剂、颜料、染料、有机或无机的微粒、填充剂、抗静电剂等无机成分、有机成分。
本发明的网状金属微粒叠层膜是长度为2m以上的超长状。在将网状金属微粒叠层膜用于等离子体显示器面板、液晶电视等的平板显示器等中时，作为考虑到后加工等因素的长度，需要至少2m以上。即，如果网状金属微粒叠层膜的长度为2m以上，则适合用于平板显示器用途。此外，在2m以上的超长的情况中，从膜的移送等方面考虑，通常将网状金属微粒叠层膜卷在芯上作为膜筒操作。此外，本发明的网状金属微粒叠层膜，只要是其长度为2m以上即可，其长度没有特殊上限。但适合作为后述的膜基材的热塑性树脂膜，在较长时，有时以3000m左右的长度操作。因此，认为本发明的网状金属微粒叠层膜也可以以长度3000m左右操作。
为了使本发明的网状金属微粒叠层膜中的金属微粒层为网状、特别是不规则的网状，可以列举出使用金属微粒分散液来制造本发明的网状金属微粒叠层膜的方法。本发明中，在使用金属微粒分散液形成网状结构时，优选使用例如，使用包含由金属微粒和分散剂等有机成分构成的粒子的固体成分的分散液(金属胶体分散液)进行涂布的方法。作为该金属胶体分散液的溶剂，可以使用水、各种有机溶剂。
在制造本发明的网状金属微粒叠层膜时，作为金属微粒分散液，优选使用可自组装的金属微粒分散液。其中，“可自组装的金属微粒分散液”是指在基板的一面上涂布、放置后，自然地在基板上形成网状结构的分散液。作为这种金属微粒分散液，可以使用例如Cima NanoTech社制CE103-7。
本发明的网状金属微粒叠层膜，可以通过将前述的金属微粒分散液涂布到膜的至少一面上来制造。在该涂布金属微粒分散液的工序中，优选使用涂布装置不接触膜的涂布方法。特别优选使用模涂法。
在使用涂布装置与膜接触的接触式的涂布方法的情况中，有时会出现以下问题：在涂布金属微粒分散液时与膜接触的部分会出现伤痕，与膜接触的部分产生条纹等。
另一方面，作为涂布装置不与膜接触的涂布方法，除了模涂法以外，还有涂抹法(applicator method)、逗号涂布机法(comma coater method)、浸渍法等。但这些模涂法以外的涂布方法，在进行涂布时，需要使金属微粒分散液积存在液盘内，有时金属微粒分散液会在液盘内出现凝聚。此外，由于液盘是开放体系，所以当在金属微粒分散液中使用有机溶剂时，有时会因挥发而引起浓度变化。当因挥发引起浓度变化时，有时所得的网状金属微粒叠层膜的全光线透过率的不均度较大。而模涂法不需要使金属微粒分散液积存在液盘中，并且是密闭体系的，所以由挥发引起的浓度变化小。即，为了抑制金属微粒叠层膜的全光线透过率的不均度，优选通过作为利用涂布装置不接触膜的涂布方法的模涂法来涂布金属微粒分散液。
本发明的网状金属微粒叠层膜的制造方法优选使用模涂法，并使每10mm模头涂布宽度的、模头内的歧管容积为0.01cc以上5.0cc以下。通过使模头涂布宽度在该范围内，可以得到全光线透过率高、全光线透过率的不均度小的网状金属微粒叠层膜，所以优选。对歧管的形状没有特殊限定。模头内的歧管容积更优选0.05cc以上3.0cc以下，特别优选0.1cc以上0.5cc以下。当每10mm模头涂布宽度的、歧管的容积大于5.0cc时，金属微粒分散液会滞留在歧管中，有时出现分散液凝聚等问题，而在小于0.01cc时，歧管中积存少，不能将分散液稳定供给膜，造成涂布不均。
在通过模涂法来制造本发明的网状金属微粒叠层膜时，优选使模头内的歧管等效截面积为0.45mm2以上150mm2以下。通过使歧管等效截面积在该范围内，可以稳定地将分散液供给歧管内，结果可以得到全光线透过率高、全光线透过率的不均度小的网状金属微粒叠层膜。模头内的歧管等效截面积更优选0.45mm2以上100mm2以下，进而优选1mm2以上50mm2以下，特别优选4mm2以上20mm2以下。当模头内的歧管等效截面积大于150mm2时，在向歧管供给分散液时，有时分散液会滞留在歧管内，分散液凝聚。当小于0.45mm2时，歧管的积液部变窄，有时不能稳定将分散液供给膜，或者由于剪切而造成分散液凝聚。
这里，歧管等效截面积是指，在通过歧管截面的流体和通过一定圆形的截面的流体的流动容易程度相同时，该圆形的截面积。如果歧管等效截面积大，则流体流动容易，反之，如果歧管等效截面积小，则流体流动困难。歧管等效截面积可以通过下式求出。
·dn＝4×s/l
·Sn＝(dn/2)2π
其中，Sn：歧管等效截面积(mm2)
dn：歧管等效直径(mm)
s：歧管的截面积(mm)
l：歧管截面的周长(mm)。
即使歧管的截面积固定，但在歧管截面的周长较长即截面的形状为扁平时，流体变得流动困难。此时，歧管等效截面积变小。而当歧管截面的周长变短即截面的形状近于圆时，流体的流动变得容易。此时，歧管等效截面积增大。即，歧管等效截面积是显示截面积相同、形状不同的歧管之间流体流动难易性的指标。
在通过模涂法制造本发明的网状金属微粒叠层膜时，优选与将金属微粒分散液涂布在膜基材面上的涂布分开地，另行将金属微粒分散液从歧管排到膜基材面以外。具体地说，优选与用于从模头向膜基材涂布的开口(下文中称作“模头吐出部”)分开地，另行设置用于将金属微粒分散液从歧管排到膜基材面的开口(下文中称作“歧管排出部”)。通过从模头吐出部以及歧管排出部都排出金属微粒分散液，可以得到全光线透过率进一步提高、全光线透过率的不均度进一步减小的网状金属微粒叠层膜。从歧管排出部排出的量，相对于从模头吐出部排到膜基材上的涂布量100体积％优选为10体积％以上。更优选20体积％以上，特别优选50体积％以上。从歧管排出部排出的量，如果相对于从模头吐出部排出的涂布量100体积％少于10体积％，则有时金属微粒分散液会滞留在模头内的歧管中，溶液凝聚。
此外，从歧管排出部排出的量，越多则越可以降低在模头内的歧管中的滞留、凝聚，所以对其上限没有特殊限定。但考虑到从模头吐出部排出的涂布量的涂布稳定性，可以认为，从歧管排出部排出的量，如果相对于从模头吐出部排出的涂布量100体积％为1000体积％以下，就可以稳定进行涂布。
本发明中，在以平行膜面的方向当作0度时，优选在涂布金属微粒分散液后使涂布面上的空气以0±45度的范围内的方向流动。空气的流动方向、即气流角度以下述方式测定。在将金属微粒分散液涂布到膜基材上形成金属微粒层的工序中，在膜的宽度方向的中心，在涂布面上方2cm的位置与膜平行地放置顶端带有2cm线的棒。棒顶端带的线，如果与膜面平行地飘动，则气流角度为0度，如果向上方垂直飘动，则气流角度为90度，如果向下方垂直飘动，则气流角度为-90度(参照图2)。气流角度优选在0±45度的范围内，更优选在0±30度的范围内，进而优选在0±15度的范围内，特别优选在0±5度的范围内。当气流角度为0±45度的范围外时，当气流的风速变大时，有时连接成网状的金属微粒层结构会分解。因此，在使用网状金属微粒叠层膜作为导电性膜时，有时在导电性方面存在问题。通过将气流角度控制在0度±45度的范围内，进而以后述方式控制气流的风速，则可以在30秒以下的非常短的时间内在膜基材上形成网状的金属微粒层。当形成网状的金属微粒层的时间变长时，在连续工艺中用于使气流流通的干燥装置等生产设备的使用时间就变得非常长。因此，需要克服生产工艺的速度变慢的问题。如果在30秒以下的非常短的时间内形成网状的金属微粒层，则在使用连续工艺时可以使用通常的生产设备。此外，由于没有必要抑制生产工艺的速度，所以可以在成本不提高的情况下得到长度为2m以上的网状金属微粒叠层膜。
此外，在网状金属微粒叠层膜采用连续涂布的工艺时，优选气流的方向与膜的长度方向平行。如果与长度方向平行，则无论是方向与膜的流动方向相同的气流，还是方向与膜的流动方向相反的气流，都没有问题。在来自膜的宽度方向的气流的情况中，在制成网状金属微粒叠层膜后有时涂膜产生不均匀。
本发明中进而优选使0±45度的范围内的方向的气流的风速为1m/秒以上10m/秒以下。气流的风速的测定是使用风速计以下述方式测定的。在将金属微粒分散液涂布到膜基材上形成网状金属微粒层的工序中，在膜的宽度方向的中心的、膜面上方1cm的位置以使探棒的测定面翻滚的方式放置风速计。调整探棒的角度以仅能够测定通过上述说明的气流角度的测定法测出的角度上的气流的风速。并在静止状态下测定30秒钟内的风速(参照图3)。将30秒钟内测出的测定值的最大值作为气流的风速。
气流的风速优选为1m/秒以上10m/秒以下。更优选2m/秒以上8m/秒以下，进而优选3m/秒以上6m/秒以下。气流的风速大于10m/秒时，与气流角度无关，有时连接成网状的结构会分解。因此在使用网状金属微粒叠层膜作为导电性膜时，有时在导电性方面存在问题。此外，如果少于1m/秒，虽然可以得到网状金属微粒膜，但考虑采用连续工艺，由于形成网状金属微粒层需要较长时间，所以可能会产生成本提高等生产性方面的问题。
该气流可以通过排出膜上的空气，或者向膜上供给空气来产生。对排气或给气的方法没有特殊限定，例如作为排气的方法，可以使用排气扇、鼓风机等进行排气。此外，作为给气的方法可以使用冷却机、干燥机的方法进行给气。从膜上的气流的方向固定，不混乱的方面考虑，优选通过排气来产生气流。给气的方法，由给气装置向静止的空气中压入空气，无论怎样气流的方向也容易混乱。另一方面，排气的方法，由于是将静止的空气拉向排气装置侧，所以容易保持固定的气流方向。如果膜上的气流的方向固定，不混乱，则涂膜均匀，可以抑制全光线透过率的不均度，所以优选。
在将金属微粒分散液涂布到膜基材上之后，涂布面上的空气以0±45度的范围内的方向流动的时间优选在30秒以下。更优选25秒以下，进而优选20秒以下。空气流动的时间如果长于30秒，则在采用连续工艺时，有时干燥装置等生产设备的使用时间需要变长，或者需要抑制生产工艺的速度，所以有时会产生成本提高等生产性方面的问题。此外，尽管空气流动的时间越短越好，但由于需要用于使涂布上的涂膜形成网状的最低限的时间，现实中难以少于5秒，因而将5秒作为下限。该空气流动的时间既可以使膜穿过空气流动的装置内，用该穿过时间来调节，也可以用给排气装置来使静止的膜上空气流动，通过使该给排气装置的工作时间调节。
由于以上原因，在将金属微粒分散液涂布到膜基材上之后，使涂布面上的空气以0±45度的范围内的方向、风速1m/秒以上10m/秒以下的速度流动30秒钟以下的时间的方法是适合使金属微粒层形成网状的方法。
本发明中对于从在膜基材上涂布金属微粒分散液的涂布开始到涂布结束之间的膜上的温度、进而对于在金属微粒分散液的涂布后以0±45度的范围内的方向流动空气之间的膜上的温度没有特殊限定，可以根据金属微粒分散液中的溶剂来适当选择，但优选控制在满足10～50℃的条件。更优选15～40℃，特别优选15～30℃。如果膜上的温度小于10℃或大于50℃，则全光线透过率降低，在网状金属微粒叠层膜的透明性方面有时会出现问题。此外，有时连接成网状的结构会分解。因此在使用网状金属微粒叠层基板作为导电性基板时，有时在导电性方面存在问题。
膜上的温度的测定以下述方式进行。在将金属微粒分散液涂布到膜基材上形成网状金属微粒层的工序中，使用温度计测定膜的宽度方向的中心的、膜面上方1cm的温度。
考虑到将膜上的温度控制在上述范围内，在金属微粒分散液的涂布后以0±45度的范围内的方向流动的空气的温度优选10～50℃。更优选15～40℃，特别优选15～30℃。
本发明中，在将金属微粒分散液涂布到膜基材的涂布开始到涂布结束之间，进而在金属微粒分散液的涂布后以0±45度的范围内的方向流通空气之间，优选控制环境使膜上的湿度满足1～85％RH的条件。更优选10～70％RH，进而优选20～60％RH，特别优选30～50％RH。当膜上的湿度小于1％RH时，有时全光线透过率降低，在网状金属微粒叠层膜的透明性方面产生问题。当膜上的湿度大于85％RH时，连接成网状的结构有时会分解。因此在使用网状金属微粒叠层膜作为导电性基板时，有时在导电性方面存在问题。
膜上的湿度的测定以下述方式进行。在将金属微粒分散液涂布到膜基材上形成网状金属微粒层的工序中，使用湿度计，测定膜的宽度方向中心的、膜面上方1cm的湿度。
如果考虑要将膜上的湿度控制在上述范围内，则金属微粒分散液的涂布后以0±45度的范围内的方向流动的空气的湿度优选为1～85％RH。更优选10～80％RH，进而优选20～60％RH，特别优选30～50％RH。
本发明中，在作为金属微粒分散液使用可自组装成网状的金属微粒分散液时，从金属微粒分散液的涂布开始到金属微粒分散液形成网状之间，优选以上述方式将膜上的温湿度保持在特定条件。
通过上述制造方法得到的网状金属微粒叠层膜，还可以通过对金属微粒层进行热处理来提高导电性。该热处理的温度优选为100℃以上、小于200℃。更优选130℃以上180℃以下、进而优选140℃以上160℃以下。如果在200℃以上的高温下进行长时间热处理，则有时会出现膜的变形等问题。当热处理温度低于100℃时，则在将网状金属微粒叠层膜作为透明导电性膜使用时，有时在导电性方面存在问题。
该热处理的时间优选10秒以上3分钟以下。更优选20秒以上2分钟以下、进而优选30秒以上2钟分以下。当采用少于10秒的短时间的热处理时，在将网状金属微粒叠层膜作为导电性膜使用时，有时在导电性方面存在问题。如果进行长于3分钟的热处理，则在考虑采用连续工艺时，可能会引起生产性方面的问题，如热处理工序需要长时间、成本提高等。
本发明中，接着上述热处理，还使用酸、有机溶剂处理金属微粒层，则可以进一步提高导电性。
该用酸处理的方法可以在温和的处理条件下提高金属微粒的导电性，所以即使是在作为基材膜使用热塑性树脂等、耐热性、耐光性不好的材料时也可以进行酸处理。此外，由于不需要复杂装置、工序，所以从生产性方面来看也是优选的。
对酸处理中使用的酸没有特殊限定，可以从各种有机酸、无机酸中选择。作为有机酸，可以列举出乙酸、草酸、丙酸、乳酸、苯磺酸等。作为无机酸，可以列举出盐酸、硫酸、硝酸、磷酸等。它们既可以是强酸，也可以是弱酸。优选使用乙酸、盐酸、硫酸、和其水溶液，更优选盐酸、硫酸、和其水溶液。
作为用酸进行处理的具体方法，没有特殊限定。可以使用例如，将叠层有金属微粒层的膜浸渍在酸、或酸的溶液中，或者将酸、酸的溶液涂布到金属微粒层上，或者使酸、酸的溶液的蒸气作用到银微粒层上的方法。
作为用有机溶剂处理金属微粒层的阶段，在膜上以网状叠层金属微粒形成网状金属微粒叠层膜之后用有机溶剂处理的方法，导电性提高效果优异、生产性方面效率好，所以优选使用。此外，在有机溶剂处理前或后，还可以在叠层了金属微粒层的膜上印刷或涂布其它的层，以叠层。此外在用有机溶剂处理前或后，还可以对叠层了金属微粒层的膜进行干燥，或热处理，或紫外线照射处理等。
在用有机溶剂处理金属微粒层时，该有机溶剂的处理温度为常温即可。如果在高温下处理，则有时膜变白，破坏透明性。处理温度优选为40℃以下。更优选30℃以下，特别优选25℃以下。
对用有机溶剂处理金属微粒层的方法没有特殊限定。可以使用例如，将叠层了金属微粒层的膜浸渍在有机溶剂的溶液中，或者将有机溶剂涂布到金属微粒层上，或使有机溶剂的蒸气作用到金属微粒层上的方法。其中，将叠层了金属微粒层的膜浸渍在有机溶剂中，或者将有机溶剂涂布到金属微粒层上的方法，导电性提高效果优异，所以优选。
如果列举这种有机溶剂的一例，可以使用甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、1，3-丁二醇、3-甲基-1，3-丁二醇等醇类、丙酮、丁酮、甲基异丁基酮、环己酮、环戊酮等酮类、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类、己烷、庚烷、癸烷、环己烷等烷烃类、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲亚砜等双极性非质子溶剂、甲苯、二甲苯、苯胺、乙二醇丁醚、乙二醇、***、乙二醇甲醚、氯仿等、和它们的混合溶剂。其中，当含有酮类、酯类、甲苯时，导电性提高效果优异，所以优选，特别优选酮类。
此外，在对网状金属微粒叠层膜的金属微粒层热处理后，在接着用酸处理金属微粒层之前，通过用有机溶剂处理金属微粒层，可以进一步提高网状金属微粒叠层膜的导电性。
本发明中的网状金属微粒叠层膜的导电性优选表面电阻率的平均值为100Ω/sq.(ohm/square)以下。更优选70Ω/sq.以下，进而优选50Ω/sq.以下，特别优选30Ω/sq.以下。表面电阻率的平均值为100Ω/sq.以下时，在以网状金属微粒叠层膜作为透明导电性膜通电使用时，电阻产生的负荷小，所以发热得到抑制，并且可以在低电压下使用，所以优选。此外，在作为例如等离子体显示器面板、液晶电视等平板显示器的电磁波屏蔽基板用的透明导电性膜使用时，电磁波屏蔽性良好，所以优选。尽管导电性膜的表面电阻率较低的是优选的，但考虑到现实中低于0.1Ω/sq.是困难的，所以认为表面电阻率的平均值以0.1Ω/sq.为下限。
此外，更优选表面电阻率的最大值为100Ω/sq.以下。表面电阻率的最大值为100Ω/sq.以下时，不存在局部电阻负荷高的部分，所以优选。
本发明的网状金属微粒叠层膜的表面电阻率的不均度优选为30％以下。更优选20％以下、特别优选15％以下。这里表面电阻率的不均度是指，表面电阻率的平均值和最大值的差(绝对值)相对平均值的比例，或者是平均值和最小值的差(绝对值)相对平均值的比例，其中较大的值。具体地说，例如，当表面电阻率的平均值为30Ω/sq.、最大值为36Ω/sq.(比平均值大6Ω/sq.)、最小值为27Ω/sq.(比平均值小3Ω/sq.)时，平均值和最大值的差(绝对值)相对平均值的比例为20％，平均值和最小值的差(绝对值)相对平均值的比例为10％，所以表面电阻率的不均度为20％。当表面电阻率的不均度大于30％时，在将网状金属微粒叠层膜作为透明导电性膜使用时，有时会产生导电性不均、通电、信号不稳定等问题。本发明中的表面电阻率是按照后述的“实施例”中记载的方法测定的值。
此外，表面电阻率的不均度在模涂法可以通过以下方法抑制：使模头每10mm涂布宽度的、模头内的歧管容积为0.01cc以上5cc以下的方法，或使从歧管排出部排出的金属微粒分散液的排出量相对于从模头吐出部排到膜基材上的涂布量100体积％为10体积％以上的方法等。
本发明中的膜基材，没有特殊限定，但在使用在膜的表面上叠层有亲水性处理层的膜时，金属微粒容易叠层成网状，所以优选。作为亲水性处理层，没有特殊限定，可以使用由聚酯、丙烯酸改性聚酯、聚氨酯、丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚酰胺、聚乙烯醇类、淀粉类、纤维素衍生物、明胶等的天然树脂、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇缩丁醛、聚丙烯酰胺、环氧树脂、三聚氰胺树脂、尿素树脂、聚噻吩、聚吡咯、聚乙炔、聚苯胺、各种有机硅树脂、改性有机硅树脂等形成的层。
当本发明中的膜基材是热塑性树脂膜时，从透明性、柔软性、加工性优异等方面来看优选。本发明中所谓的热塑性树脂膜，是借助热可熔融或软化的膜的总称，没有特殊限定，但从机械强度、尺寸稳定性、透明性等方面考虑，优选聚酯膜、聚丙烯膜、聚酰胺膜等，进而，从机械强度、通用性等方面考虑，特别优选聚酯膜。
本发明的网状金属微粒叠层膜，除了膜基材、金属微粒层以外，还可以叠层各种层。例如，可以为了改善膜基材和金属微粒层之间的附着性而设置底涂层等，可以在金属微粒层上设置保护层，可以在膜基材的一面或两面上设置粘合层、脱模层、保护层、接合性赋予层或耐气候性层等。在将这些各种层设置在膜基材和金属微粒层之间时，优选使将要涂布金属微粒分散液的膜基材上的各层的表面润湿张力为45mN/m以上73mN/m以下。
本发明的网状金属微粒叠层膜，透明性高，不易产生莫尔条纹，进而在优选的状态下具有高导电性，所以可以作为等离子体显示器面板、液晶电视等的平板显示器中使用的电磁波屏蔽膜使用。进而还适合电路材料用途、透明加热器、太阳能电池用途等各种透明导电性膜用途。
实施例
下面将通过实施例来具体说明本发明的网状金属微粒叠层膜，但本发明不受这些实施例限定。
[特性的测定方法和效果的评价方法]
各实施例·比较例中制作出的网状金属微粒叠层膜的特性的测定方法和效果的评价方法如下。
(1)表面观察(形状观察)
使用微分干涉显微镜(LEICA DMLMライ力マイク口システムズ(株)制)以100倍的倍率观察网状金属微粒叠层膜的表面，观察网的形状。
(2)表面电阻率
表面电阻率以下述方式求出。将网状金属微粒叠层膜放置在温度23℃、相对湿度65％环境下24小时。然后在相同环境下以JIS-K-7194(1994)为依据测定表面电阻率。测定装置使用三菱化学株式会社制低阻抗仪-EP(型号：MCP-T360)。该测定器可以测定1×106Ω/sq.以下的值。
在网状金属微粒叠层膜的长度方向(机械方向)2m长的范围内，测定长度方向间隔10cm、宽度方向(垂直长度方向的方向)间隔10cm的各点的表面电阻率值。将全部测定点的表面电阻率值的平均值当作网状金属微粒叠层膜的表面电阻率。
当网状金属微粒叠层膜的长度方向长度为10m以上时，用相同的方法测定长度方向每隔10m的长度方向2m长的各范围，求出全部测定点的表面电阻率值的平均值。将该值作为网状金属微粒叠层基板的表面电阻率。例如在网状金属微粒叠层膜为30m的长度时，求出首个长度方向2m长的范围内、以及从距离该段10m远的12m部分开始的长度方向2m长的范围内、进而从距离该段10m远的24m部分开始的长度方向2m长的范围内的各测定点的表面电阻率值，求出全部测定点的表面电阻率值的平均值。
如果表面电阻率的平均值为100Ω/sq.以下，则导电性良好。
(3)表面电阻率的不均度
表面电阻率的不均度以下述方式求出。根据(2)测出的全部测定点的表面电阻率的值求出平均值、最大值、最小值。求出平均值和最大值的差(绝对值)相对平均值的比例、以及平均值和最小值的差(绝对值)相对平均值的比例，将较大的值作为表面电阻率的不均度。
如果表面电阻率的不均度为30％以下，则为良好。
(4)全光线透过率
全光线透过率以下述方式求出。将网状金属微粒叠层膜放置在温度23℃、相对湿度65％的环境下2小时，然后使用测定装置测定全光线透过率。测定装置使用スガ试验机(株)制全自动直读式雾度计算机“HGM-2DP”。在仅在膜的一面上叠层有金属微粒层的叠层膜的情况中，以光从叠层金属微粒层的那面侧进入的方式设置膜。
在网状金属微粒叠层膜的长度方向2m长的范围内测定长度方向间隔10cm、宽度方向间隔10cm的各点的全光线透过率。将全部测定点的全光线透过率的平均值作为网状金属微粒叠层膜的全光线透过率。
当网状金属微粒叠层膜的长度方向长度为10m以上时，使用相同方法测定长度方向每隔10米的长度方向2m长的各范围，求出全部测定点的全光线透过率的平均值，将该值作为网状金属微粒叠层基板的全光线透过率。例如，在网状金属微粒叠层膜为30m的长度时，求出首个长度方向2m长的范围内、以及从距离该段10m远的12m部分开始的长度方向2m长的范围内、进而从距离该段10m远的24m部分开始的长度方向2m长的范围内各测定点的全光线透过率，求出全部测定点的全光线透过率的平均值。
当测出的全光线透过率的平均值为70％以上时，透明性良好。
(5)全光线透过率的不均度
全光线透过率的不均度以下述方式求出。根据(4)中测出的所有测定点的全光线透过率的值求出平均值、最大值、最小值。求出平均值和最大值的差(绝对值)、以及平均值和最小值的差(绝对值)，将较大的值作为全光线透过率的不均度。
当全光线透过率的不均度为5％以下时，为良好。
(6)莫尔条纹性
莫尔条纹性以下述方式进行评价。在显示有图像的显示器的屏面前以屏面与网状金属微粒叠层膜基本平行的方式设置膜。在保持屏面与膜面基本平行的状态下使膜旋转360°，目视观察旋转中是否出现莫尔条纹现象。在仅在膜的一面叠层金属微粒层的情况中，以没有叠层金属微粒层的那面面向显示器屏面的方式设置膜。显示器使用松下电器产业株式会社制等离子体显示器VIERA TH-42PX50。
将没有观察到莫尔条纹的评价为“A”，将局部观察到莫尔条纹的评价为“B”。如果评价为“A”，则莫尔条纹性良好。
(7)金属微粒层叠层时的气流角度
气流角度以下述方式测定。在将金属微粒分散液涂布到膜基材上形成网状金属微粒层的工序中，在膜的宽度方向的中心的、膜面上方2cm的位置与膜平行地放置顶端带有2cm线的棒进行测定。棒的顶端带的线，如果与膜面平行地飘动，则气流角度为0度，如果向上方垂直飘动，则气流角度为90度，如果向下方垂直飘动，则气流角度为-90度。测定使用作为聚酯系纤维的复丝的、粗度140dtex的线。
(8)金属微粒层叠层时的气流的风速
气流的风速以下述方式测定。在将金属微粒分散液涂布到膜基材上形成网状金属微粒层的工序中，在膜的宽度方向的中心的、膜面上方1cm的位置以使探棒的测定面翻滚的方式放置风速计。调整探棒的角度以仅能够测定(7)中测出的角度上的气流的风速。并在静止状态测定30秒钟内的风速(参照图3)。将30秒钟内测出的测定值的最大值作为气流的风速。风速计使用日本力ノマツクス株式会社制CLIMOMASTER(MODEL 6531)。
(9)表面润湿张力
膜的表面润湿张力以下述方式测定。将各实施例·比较例中使用的膜放置到温度23℃、相对湿度50％的环境下6小时，然后在相同环境下依照JIS-K-6768(1999)测定表面润湿张力。
首先使膜的要测定面向上，放置在手涂机的基座上。将几滴表面润湿张力试验用混合液滴加到膜面上，然后马上牵引可以涂布湿厚度12μm的环棒进行铺展。
表面润湿张力的判断，在试验用混合液的液膜透明时观察，以2秒钟后的液膜的状态进行判断。如果液膜没有破裂、保持2秒以上涂布后的状态，则会润湿。在保持润湿2秒以上的情况中，进而使用表面润湿张力高的混合液进行同样评价。反之，在2秒内液膜破裂的情况中，使用表面润湿张力低的混合液进行同样评价。反复进行该操作，选择可以在约2秒钟润湿膜的表面的混合液，作为该膜的表面润湿张力。通过该测定法得到的表面润湿张力的最大值为73mN/m。表面润湿张力的单位是mN/m。
(10)金属微粒层形成时的膜上的湿度
膜上的湿度以下述方式测定。在将金属微粒分散液涂布到膜基材上形成网状金属微粒层的工序中，测定膜的宽度方向的中心的、膜面上方1cm的湿度。湿度测定15秒以上，取稳定后的值。测定装置使用CLIMOMASTER(MODEL 6531)。
(11)金属微粒层形成时的膜上的温度
膜上的温度以下述方式测定。在将金属微粒分散液涂布到膜基材上形成网状金属微粒层的工序中，测定膜的宽度方向的中心的、膜面上方1cm的温度。温度测定30秒以上，取稳定后的值。测定装置使用日本力ノマツクス株式会社制CLIMOMASTER(MODEL 6531)。
下面将基于实施例来说明本发明。
(金属微粒分散液1)
作为金属微粒分散液1，使用作为银微粒分散液的Cima NanoTech社制CE103-7。
(金属微粒分散液2)
向硝酸银的水溶液中滴加一乙醇胺，得到醇胺银配合物的水溶液(水溶液1)。与该溶液分开地，另行调制在溶解有作为还原剂的醌的水溶液中添加一乙醇胺而成的水溶液(水溶液2)。接着将水溶液1和水溶液2同时注入到塑料制容器中，使醇胺银配合物还原，变成银微粒。将该混合液过滤，然后用水洗净，再干燥，从而得到银微粒。进而将该银微粒再次溶解在水中，从而得到银微粒分散液。银微粒的数均粒径为1.4μm。
(实施例1)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(東レ(株)制ルミラ一(注册商标)U46、表面润湿张力47mN/m)的一面上涂布底漆，进行亲水性处理。亲水性处理后膜的表面润湿张力为73mN/m。接着使用排气风扇使基板上的空气排气，由此使温度25℃、湿度45％RH的空气在与基板面平行的0度方向流动。进而，将该气流的风速调整到4m/秒。此时膜上的温度为25℃，湿度为45％RH。在该气流下使用模涂法在基板上涂布金属微粒分散液1，使得双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的亲水性处理层上的湿厚度是30μm。此时以从模头内的歧管排出部的排出量相对于模头涂布量100体积％为24体积％的方式进行涂布。每10mm模头涂布宽度的、模头内的歧管容积为0.2cc，模头内的歧管等效截面积为13mm2。
涂布上的银微粒分散液(金属微粒分散液1)，涂布后自组装成不规则的网状。这样就得到了形成网状银微粒层的叠层膜。将所得的叠层膜接着在150℃的烘箱中热处理1分钟，从而得到网状金属微粒叠层膜。使膜的长度为100m。
所得的网状金属微粒叠层膜是不规则的网状。在长度100m的范围内的全光线透过率的平均值为80％。全光线透过率的最大值为81％、最小值为78％，全光线透过率的不均度为2％，良好。表面电阻率的平均值为30Ω/sq.。表面电阻率的最大值为36Ω/sq.、最小值为27Ω/sq.，表面电阻率的不均度为20％，良好。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例2)
除了使膜的长度为2m以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。
所得的网状金属微粒叠层膜是不规则的网状。长度2m的范围内的全光线透过率的平均值为80％。全光线透过率的最大值为81％、最小值为79％，全光线透过率的不均度为1％。全光线透过率的不均度比实施例1更好。此外，表面电阻率的平均值为30Ω/sq.。表面电阻率的最大值为33Ω/sq.、最小值为27Ω/sq.，表面电阻率的不均度为10％。表面电阻率的不均度比实施例1更好。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例3)
除了使膜的长度为2000m以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。
所得的网状金属微粒叠层膜是不规则的网状。长度2000m的范围内的全光线透过率的平均值为80％。全光线透过率的最大值为81％、最小值为78％，全光线透过率的不均度为2％。即使是比实施例1还长的2000m的网状金属微粒叠层膜，全光线透过率的不均度也与实施例1同样良好。表面电阻率的平均值为30Ω/sq.。表面电阻率的最大值为36Ω/sq.、最小值为27Ω/sq.，表面电阻率的不均度为20％。表面电阻率的不均度与实施例1同样良好。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例4)
除了使每10mm模头涂布宽度的、模头内的歧管容积为0.5cc、模头内的歧管等效截面积为30mm2以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。该歧管容积和歧管等效截面积的值为比实施例1的模头更有可能使金属微粒分散液滞留的值。
所得的网状金属微粒叠层膜是不规则的网状。长度100m的范围内的全光线透过率的平均值为79％。全光线透过率的最大值为81％、最小值为77％，全光线透过率的不均度为2％，良好。全光线透过率和全光线透过率的不均度与实施例1同样，但全光线透过率的最低值比实施例1差。表面电阻率的平均值为30Ω/sq.。表面电阻率的最大值为36Ω/sq.、最小值为27Ω/sq.，表面电阻率的不均度为20％，良好。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例5)
除了使每10mm模头涂布宽度的、模头内的歧管容积为1.0cc、模头内的歧管等效截面积为60mm2以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。该歧管容积和歧管等效截面积的值为比实施例4的模头更有可能使金属微粒分散液滞留的值。
所得的网状金属微粒叠层膜为不规则的网状。长度100m范围内的全光线透过率的平均值为79％。全光线透过率的最大值为81％、最小值为76％，全光线透过率的不均度为3％，良好。但全光线透过率的平均值和全光线透过率的不均度比实施例1差。表面电阻率的平均值为30Ω/sq.。表面电阻率的最大值为37Ω/sq.、最小值为27Ω/sq.，表面电阻率的不均度为23％，良好。但表面电阻率的不均度比实施例1差。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例6)
除了使每10mm模头涂布宽度的、模头内的歧管容积为5.0cc、模头内的歧管等效截面积为300mm2以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。该歧管容积和歧管等效截面积的值为比实施例5的模头更有可能使金属微粒分散液滞留的值。
所得的网状金属微粒叠层膜为不规则的网状。长度100m的范围内的全光线透过率的平均值为79％。全光线透过率的最大值为81％、最小值为75％，全光线透过率的不均度为4％，良好。但全光线透过率的平均值和全光线透过率的不均度比实施例1差。表面电阻率的平均值为40Ω/sq.。表面电阻率的最大值为48Ω/sq.、最小值为35Ω/sq.，表面电阻率的不均度为20％，良好。但表面电阻率的平均值比实施例1差。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例7)
除了使从模头内的歧管排出部排出的排出量相对于模头涂布量100体积％为50体积％以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。该排出量的值是可以期待比实施例1的模头更能减轻金属微粒分散液滞留的值。
所得的网状金属微粒叠层膜为不规则的网状。长度100m的范围内的全光线透过率的平均值为80％。全光线透过率的最大值为82％、最小值为79％，全光线透过率的不均度为2％，良好。全光线透过率的最大值、最小值均比实施例1高。表面电阻率的平均值为30Ω/sq.。表面电阻率的最大值为36Ω/sq.、最小值为27Ω/sq.，表面电阻率的不均度为20％，良好。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例8)
除了使从模头内的歧管排出部排出的排出量相对于模头涂布量100体积％为10体积％以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。该排出量的值为比实施例1的模头更有可能使金属微粒分散液滞留的值。
所得的网状金属微粒叠层膜，长度100m的范围内的全光线透过率的平均值为79％。全光线透过率的最大值为81％、最小值为75％，全光线透过率的不均度为4％，良好。但全光线透过率的平均值和全光线透过率的不均度比实施例1差。表面电阻率的平均值为40Ω/sq.。表面电阻率的最大值为48Ω/sq.、最小值为35Ω/sq.，表面电阻率的不均度为20％，良好。但表面电阻率的平均值比实施例1差。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例9)
在以与实施例1同样的方式得到的网状金属微粒叠层膜上涂布丙酮进行丙酮处理，得到透明导电性膜。
所得的透明导电性膜是不规则的网状。长度100m的范围内的全光线透过率的平均值为80％。全光线透过率的最大值为82％、最小值为78％，全光线透过率的不均度为2％，良好。表面电阻率的平均值为15Ω/sq.。表面电阻率的最大值为18Ω/sq.、最小值为12Ω/sq.，表面电阻率的不均度为20％。表面电阻率的平均值比实施例1更好，表面电阻率的不均度与实施1同样良好。耐莫尔条纹性为“A”。
(实施例10)
使用1N盐酸对以与实施例1同样的方式得到的透明导电性膜进行酸处理。
该透明导电性膜是不规则的网状。长度100m的范围内的全光线透过率的平均值为80％。全光线透过率的最大值为82％、最小值为78％，全光线透过率的不均度为2％，良好。并且表面电阻率的平均值为5Ω/sq.。表面电阻率的最大值为6Ω/sq.、最小值为4Ω/sq.，表面电阻率的不均度为20％。表面电阻率的平均值比实施例1更好，表面电阻率的不均度也与实施1同样良好。耐莫尔条纹性为“A”。
(比较例1)
除了使用涂抹器法来涂布金属微粒分散液1以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。
所得的网状金属微粒叠层膜是不规则的网状。长度2m的范围内的表面电阻率的平均值为50Ω/sq.。表面电阻率的最大值为65Ω/sq.、最小值为45Ω/sq.，表面电阻率的不均度为30％，良好。耐莫尔条纹性为“A”。
但在涂抹器涂布时的积液处，由于金属微粒分散液的浓度变化产生浓度不均，使得涂布得到的网状金属微粒叠层膜的涂膜产生不均匀。因此，虽然全光线透过率的平均值为76％，但全光线透过率的最大值为78％、最小值为70％，全光线透过率的不均度为6％，参差不齐。
(比较例2)
除了使用逗号涂布机法来涂布金属微粒分散液1以外，以与实施例1同样的方式得到网状金属微粒叠层膜。
所得的网状金属微粒叠层膜为不规则的网状。长度2m的范围内的表面电阻率的平均值为50Ω/sq.。表面电阻率的最大值为65Ω/sq.、最小值为45Ω/sq.，表面电阻率的不均度为30％，良好。耐莫尔条纹性为“A”。
但逗号涂布机涂布时液盘内的金属微粒分散液的浓度变化产生浓度不均，使得涂布得到的网状金属微粒叠层膜的涂膜产生不均匀。因此虽然全光线透过率的平均值为75％，但全光线透过率的最大值为81％、最小值为67％，全光线透过率的不均度为8％，参差不齐。此外，全光线透过率的平均值虽然为70％以上，但最小值小于70％，局部存在透明性方面的问题。
(比较例3)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(東レ(株)制“ルミラ一”U94)的一面上通过丝网印刷涂布金属微粒分散液2，印刷成线厚3μm、线宽50μm、格距300μm的格子状。将印刷上的金属微粒形成溶液2在120℃下干燥1分钟，从而得到叠层了规则格子状网的银微粒层的叠层膜。
为了用酸对该叠层膜的银微粒层进行处理，将连同叠层基板浸渍到0.1N(0.1mol/L)的盐酸(ナ力ライテスク(株)制N/10盐酸)中2分钟。然后取出叠层膜，水洗后为了去掉水分将叠层膜在120℃下干燥1分钟，从而得到网状导电性膜。
该导电性膜的表面电阻率的平均值为8Ω/sq.，全光线透过率的平均值为70％。全光线透过率的最大值为72％、最小值为68％，全光线透过率的不均度为2％，良好。表面电阻率的最大值为10Ω/sq.、最小值为7Ω/sq.，表面电阻率的不均度为25％，良好。但由于通过丝网印刷制造，所以只能得到20cm×20cm见方的导电性膜。此外，莫尔条纹性评价的结果，发现了莫尔条纹现象。
各实施例、各比较例的制造条件示于表1中，评价结果示于表2中。
Figure BDA0000088526940000251
Figure BDA0000088526940000261
产业可利用性
本发明的网状金属微粒叠层膜，透明性高，不易出现莫尔条纹，进而全光线透过率的不均度小。本发明的网状金属微粒叠层膜适合用于例如等离子体显示器面板、液晶电视等的平板显示器。进而适合用于电路材料用途、透明加热器、太阳能电池用途等的各种透明导电性膜用途。
附图标记说明
1网状金属微粒叠层膜
2棒
3线
4气流角度
5探棒
6测定孔
7风速测定器

Claims (9)

1.一种网状金属微粒叠层膜，在膜基材的至少一面上具有网状的金属微粒层，该叠层膜的全光线透过率的平均值为70％以上、全光线透过率的不均度为5％以内，且该叠层膜的长度为2m以上。
2.一种权利要求1所述的网状金属微粒叠层膜的制造方法，通过模涂法在膜基材的至少一面上涂布金属微粒分散液，从而在该膜基材上以网状叠层金属微粒层。
3.如权利要求2所述的网状金属微粒叠层膜的制造方法，上述模涂法中使用的模头内的歧管容积为：每10mm模头涂布宽度为0.01～5.0cc。
4.如权利要求2或3所述的网状金属微粒叠层膜的制造方法，上述模涂法中使用的模头内的歧管等效截面积为0.45～150mm2。
5.如权利要求2～4的任一项所述的网状金属微粒叠层膜的制造方法，相对于从上述模涂法中使用的模头内的歧管涂布到上述膜基材面上的金属微粒分散液的涂布量100体积％，从该歧管将10体积％以上的该金属微粒分散液排到该膜基材面以外。
6.如权利要求2～5的任一项所述的网状金属微粒叠层膜的制造方法，将平行膜面的方向当作0度，在将金属微粒分散液涂布到上述膜基材面上之后，使膜面上的空气以0±45度的范围内的方向、以风速1～10m/秒的速度流动。
7.如权利要求6所述的网状金属微粒叠层膜的制造方法，上述空气流动通过排气来进行。
8.一种等离子体显示器用电磁波屏蔽膜，使用了权利要求1所述的网状金属微粒叠层膜、或通过权利要求2～7的任一项所述的网状金属微粒叠层膜的制造方法得到的网状金属微粒叠层膜。
9.一种网状金属微粒叠层膜的制造方法，使用每10mm模头涂布宽度的、模头内的歧管容积为0.01～5.0cc的模头，通过模涂法在膜基材的至少一面上涂布金属微粒分散液，从而在该膜基材上以网状叠层金属微粒层。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013166841A1 (zh) * 2012-05-09 2013-11-14 南昌欧菲光科技有限公司 一种基于随机网格的图形化透明导电薄膜
WO2014036796A1 (zh) * 2012-09-05 2014-03-13 上海天马微电子有限公司 一种导电垫连接装置及触控屏
CN104978072A (zh) * 2015-07-30 2015-10-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示面板、触控显示装置、显示面板制作方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101144537B1 (ko) * 2009-07-16 2012-05-11 주식회사 엘지화학 전도체 및 이의 제조방법
JP6070690B2 (ja) * 2011-03-28 2017-02-01 エルジー・ケム・リミテッド 伝導性基板およびそれを含むタッチスクリーン
JP5716507B2 (ja) * 2011-04-12 2015-05-13 大日本印刷株式会社 面光源装置、及び画像表示装置
TWI584485B (zh) * 2011-10-29 2017-05-21 西瑪奈米技術以色列有限公司 於基材上對齊的網路
US20150200036A1 (en) * 2012-08-16 2015-07-16 Cima Nano Tech Israel Ltd. Emulsions for preparing transparent conductive coatings
CN103763897B (zh) * 2014-02-14 2015-06-17 哈尔滨工业大学 具有同心圆环的多周期主从嵌套圆环阵列电磁屏蔽光窗
CN103826428B (zh) * 2014-02-14 2015-07-29 哈尔滨工业大学 基于三角及正交混合分布圆环及子圆环阵列的电磁屏蔽光窗
KR102536945B1 (ko) 2016-08-30 2023-05-25 삼성전자주식회사 영상 표시 장치 및 그 동작방법
US11632884B2 (en) * 2021-05-31 2023-04-18 Nano And Advanced Materials Institute Limited Transparent EMI shielding film and production method for the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1930638A (zh) * 2004-03-10 2007-03-14 旭硝子株式会社 含有金属的微粒、含有金属的微粒分散液及含有导电性金属的材料
JP2007227906A (ja) * 2006-01-25 2007-09-06 Toray Ind Inc 導電性基板およびその製造方法
CN101036201A (zh) * 2004-10-08 2007-09-12 东丽株式会社 导电性薄膜
CN101185385A (zh) * 2005-06-03 2008-05-21 大日本油墨化学工业株式会社 电磁波屏蔽材料及其制造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4479161B2 (ja) * 2002-03-25 2010-06-09 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜とこの透明導電膜形成用塗布液および透明導電性積層構造体と表示装置
JP2008218860A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Toray Ind Inc 網目状金属微粒子積層基板の製造方法および透明導電性基板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1930638A (zh) * 2004-03-10 2007-03-14 旭硝子株式会社 含有金属的微粒、含有金属的微粒分散液及含有导电性金属的材料
CN101036201A (zh) * 2004-10-08 2007-09-12 东丽株式会社 导电性薄膜
CN101185385A (zh) * 2005-06-03 2008-05-21 大日本油墨化学工业株式会社 电磁波屏蔽材料及其制造方法
JP2007227906A (ja) * 2006-01-25 2007-09-06 Toray Ind Inc 導電性基板およびその製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013166841A1 (zh) * 2012-05-09 2013-11-14 南昌欧菲光科技有限公司 一种基于随机网格的图形化透明导电薄膜
WO2014036796A1 (zh) * 2012-09-05 2014-03-13 上海天马微电子有限公司 一种导电垫连接装置及触控屏
US9807879B2 (en) 2012-09-05 2017-10-31 Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. Connection apparatus for electrically conductive pads and touch control screen
CN104978072A (zh) * 2015-07-30 2015-10-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示面板、触控显示装置、显示面板制作方法
CN104978072B (zh) * 2015-07-30 2019-05-10 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示面板、触控显示装置、显示面板制作方法

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