CN102049547A - 一种缸体斜孔加工装置 - Google Patents

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崔健涛
崔文来
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Abstract

本发明涉及一种缸体斜孔加工装置，其创新点在于：由滑台导轨、下滑台、中滑台、上滑台，定位液压缸、进给液压缸、电机、钻模、微型动力头及钻头组成；下滑台滑动安装于滑台导轨上，下滑台由水平安装于滑台导轨上的定位液压缸驱动进行水平位移；下滑台上表面水平固装有斜导轨，中滑台随动安装于下滑台上的斜导轨上，在中滑台前端固装有钻模；中滑台上表面滑动安装上滑台，该上滑台由安装于中滑台上的进给油缸驱动，在上滑台前端固装装配有钻头的微型动力头，并在上滑台上表面固装驱动微型动力头的电机。本发明具有结构简单、加工精度高、调整方便、故障率低等优点。

Description

一种缸体斜孔加工装置
技术领域
本发明涉及机械加工装置，特别是一种缸体斜孔加工装置。
背景技术
目前，在扎努西缸体的加工制造过程中，钻斜孔的工艺比较复杂，现有的加工设备极易产生钻孔刀具的损坏，而且斜度不易控制，因此加工出来的斜孔精度达不到要求，不能保证成品率。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种缸体斜孔加工装置，其具有结构简单、定位准确、加工精度高、故障率低的优点。
本发明解决其技术问题是采取以下技术方案实现的：
一种缸体斜孔加工装置，其特征在于：由滑台导轨、下滑台、中滑台、上滑台，定位液压缸、进给液压缸、电机、钻模、微型动力头及钻头组成；下滑台滑动安装于滑台导轨上，下滑台由水平安装于滑台导轨上的定位液压缸驱动进行水平位移；下滑台上表面水平固装有斜导轨，中滑台随动安装于下滑台上的斜导轨上，在中滑台前端固装有钻模；中滑台上表面滑动安装上滑台，该上滑台由安装于中滑台上的进给油缸驱动，在上滑台前端固装装配有钻头的微型动力头，并在上滑台上表面固装驱动微型动力头的电机。
而且，所述下滑台上表面的斜导轨通过其两侧的定位压紧油缸与下滑台固装。
而且，在中滑台后端安装有阻尼定位弹簧。
而且，所述的装配有钻头的微型动力头为1-2组。
而且，所述的钻模上制有1-2个导向斜孔。
本发明的优点和积极效果是：
1.本缸体斜孔加工装置采用独特的三层滑台设计，其中下滑台可起到定位作用；中滑台前端固装有钻模，解决了缸孔对斜孔的位置要求及公差尺寸要求，保证加工精度，并且在其后端安装阻尼定位弹簧，以防止后退；在上滑台上安装微型动力头用于钻削加工，装置整体工作平稳，精度高，特别适用于扎努西缸体的斜孔加工。
2.本发明具有结构简单、加工精度高调整方便、故障率低等优点。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为图1的左视图(省略钻模)；
图3为图1的俯视图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例做进一步详述：
一种缸体斜孔加工装置，由滑台导轨7、下滑台9、中滑台12、上滑台3，定位液压缸6、进给液压缸5、电机4、钻模1、微型动力头2及钻头15组成；下滑台滑动安装于滑台导轨上，下滑台由水平安装于滑台导轨上的定位液压缸驱动通过驱动块11带动进行水平位移。下滑台上表面水平固装有斜导轨10，中滑台随动安装于下滑台上的斜导轨上，在中滑台前端固装钻模，在该钻模上制有1-2个导向斜孔14，解决了缸孔对斜孔的位置要求及公差尺寸要求，保证加工精度。中滑台上表面滑动安装上滑台，该上滑台由安装于中滑台上的进给油缸驱动，在上滑台前端固装1-2组装配有钻头的微型动力头，本实施例中为两个助力头。并在上滑台上表面固装驱动微型动力头的电机，本装置可同时加工两个工件。下滑台上表面的斜导轨通过其两侧的定位压紧油缸13与下滑台固装。在中滑台后端安装有阻尼定位弹簧8，以防止中滑台后退。

Claims (5)

1.一种缸体斜孔加工装置，其特征在于：由滑台导轨、下滑台、中滑台、上滑台、定位液压缸、进给液压缸、电机、钻模、微型动力头及钻头组成；下滑台滑动安装于滑台导轨上，下滑台由水平安装于滑台导轨上的定位液压缸驱动进行水平位移；下滑台上表面水平固装有斜导轨，中滑台随动安装于下滑台上的斜导轨上，在中滑台前端固装有钻模；中滑台上表面滑动安装上滑台，该上滑台由安装于中滑台上的进给油缸驱动，在上滑台前端固装装配有钻头的微型动力头，并在上滑台上表面固装驱动微型动力头的电机。
2.根据权利要求1所述的缸体斜孔加工装置，其特征在于：所述下滑台上表面的斜导轨通过其两侧的定位压紧油缸与下滑台固装。
3.根据权利要求1所述的缸体斜孔加工装置，其特征在于：在中滑台后端安装有阻尼定位弹簧。
4.根据权利要求1所述的缸体斜孔加工装置，其特征在于：所述的装配有钻头的微型动力头为1-2组。
5.根据权利要求1所述的缸体斜孔加工装置，其特征在于：所述的钻模上制有1-2个导向斜孔。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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