CN101982614A - 全套管钻机凿取岩石成桩的方法 - Google Patents

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刘富华
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Abstract

本发明涉及一种建筑施工方法,特别是一种适合在有岩层高效率钻孔和成桩的全套管钻机组合施工方法。本发明工艺步骤如下:①定桩位,全套管钻机就位;②压入钢套管,管内冲抓或旋挖取土至岩石面;③吊入潜孔锤总成并安装到钢套管上;④启动潜孔锤凿岩至设计深度,清孔;⑤安装钢筋笼并灌注砼;⑥一边灌注砼,同时一边上拔钢套管,直至全部拔出钢套管。本发明的方法操作简单易行、对地面破损小、施工中不坍孔、成桩质量好、防水效果好、成桩效率高、造价低、施工无污染,且可高效、快速凿钻岩石。

Description

全套管钻机凿取岩石成桩的方法
技术领域
本发明涉及一种建筑施工方法,特别是一种适合在有岩层高效率钻孔和成桩的全套管钻机组合施工方法。
背景技术
全套管钻机的工法是目前城市二次建设中最常用的成桩方法,它的优点是开挖、施工面积小,对地下土体、施工周边环境影响小,无污染,在清障的同时可进行灌桩施工,避免多个工序的重复开挖,且由于钢套管的护壁作用,成孔质量高,不会坍孔,垂直度高,扩孔尺寸小,施工效率高。由于城市二次建设的建筑物高度更高且深层地下存在残留桩,因此该采用工法必然会遇到坚硬岩层或残留桩。全套管钻机的工法很适用于土层或软岩层,而入硬岩则较困难,遇大于桩径一半的孤石处理难度大,在实际操作中虽然可采用辅助设施凿除岩石,但是施工效率会因此大大降低,操作也较为复杂。
潜孔锤凿岩钻机在国外已使用较为成熟,其优点是特别适用于岩石层、卵石层等硬质岩层的穿透施工,但起整体机造价高,吊车组合型无外套管,其护壁效果不理想,仍会坍孔,施工污染大,用来取岩石层以上的土有大材小用之感,会增加施工成本。
技术方案
本发明所要解决的技术问题是提供一种全套管钻机凿取硬质岩成桩的方法,其操作简单易行、对地面破损小、施工中不坍孔、成桩质量好、防水效果好、成桩效率高、造价低、施工无污染,且可高效、快速凿钻硬岩。
实现本发明目的所采用的技术方案是:
工艺步骤如下
①定桩位,全套管钻机就位;
②压入钢套管,管内冲抓或旋挖取土至岩石面;
③吊入潜孔锤总成并安装到钢套管上;
④启动潜孔锤凿岩至设计深度,清孔;
⑤安装钢筋笼并灌注砼;
⑥一边灌注砼,同时一边上拔钢套管,直至全部拔出钢套管。
在本发明的上述操作中,潜孔锤总成与多台套全套管钻机配合使用,凿岩至设计深度时用履带吊车直接吊装到现场另外的钢套管上;钢套管上端安装有连接卡,连接卡的中孔对潜孔锤总成的套管径向定位。
当潜孔锤凿岩后的孔径未满足设计要求时,应采用冲击锤或旋挖机加压入套管对岩孔修边,修孔至满足设计要求为至。
本发明的有益效果是:全套管钻机和潜孔锤凿岩钻机二机合一,各自发挥优势,全套管钻机发挥钢套管压入并护壁,快速取土至岩石面,潜孔锤总成以全套管钻机以压入的套管为平台,进行快速岩石凿取,因此在施工中不发生坍孔,成桩质量好,防水效果好,成桩效率高,造价低,施工无污染,同时又有可高效、快速地凿钻硬岩。
附图说明
图1为本发明的工艺流程示意图;
图2为本发明的设备整体示意图。
图中:连接卡1、动力头2、出碴管3、电控柜4、空压机组5、岩石面6、潜孔锤总成7、钢套管8。
具体实施方式
参见各图,本发明的工艺步骤如下:
①定桩位,全套管钻机就位;
②压入钢套管8,管内采用冲抓或旋挖取土至岩石面;
③吊入潜孔锤总成7并安装到的连接卡1上,使连接卡1上面的定位圈对潜孔锤总成的套管作径向定位,连接卡1下面的卡圈套在钢套管8上端用螺栓固定;
④启动潜孔锤凿岩至设计深度,测量孔深和孔径,当潜孔锤凿岩后的孔径未满足设计要求时,应采用冲击锤或旋挖机加压入套管对岩孔修边,修孔至满足设计要求为至,清孔;同时将潜孔锤总成用履带吊车直接吊装到现场另外的钢套管上进行同样的操作;
⑤安装钢筋笼并灌注砼;
⑥一边灌注砼,同时一边上拔钢套管,直至全部拔出钢套管。

Claims (3)

1.一种全套管钻机凿取岩石成桩的方法,其特征是工艺步骤如下:
①定桩位,全套管钻机就位;
②压入钢套管,管内冲抓或旋挖取土至岩石面;
③吊入潜孔锤总成并安装到钢套管上;
④启动潜孔锤凿岩至设计深度,清孔;
⑤安装钢筋笼并灌注砼;
⑥一边灌注砼,同时一边上拔钢套管,直至全部拔出钢套管。
2.按权利要求1所述的全套管钻机凿取岩石成桩的方法,其特征是:潜孔锤总成与多台套全套管钻机配合使用,凿岩至设计深度时用履带吊车直接吊装到现场另外的钢套管内;钢套管上端安装有连接卡,连接卡的中孔对潜孔锤总成的套管径向定位。
3.按权利要求2所述的全套管钻机凿取岩石成桩的方法,其特征是:当潜孔锤凿岩后的孔径未满足设计要求时,应采用冲击锤或旋挖机加压入套管对岩孔修边,修孔至满足设计要求为至。
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PB01 Publication
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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