CN101952771A - 液晶显示面板 - Google Patents

液晶显示面板 Download PDF

Info

Publication number
CN101952771A
CN101952771A CN200880125911XA CN200880125911A CN101952771A CN 101952771 A CN101952771 A CN 101952771A CN 200880125911X A CN200880125911X A CN 200880125911XA CN 200880125911 A CN200880125911 A CN 200880125911A CN 101952771 A CN101952771 A CN 101952771A
Authority
CN
China
Prior art keywords
sensitization sept
mode
display panels
hole
active
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN200880125911XA
Other languages
English (en)
Inventor
守屋由瑞
海瀬泰佳
吉田裕志
田坂泰俊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Publication of CN101952771A publication Critical patent/CN101952771A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133707Structures for producing distorted electric fields, e.g. bumps, protrusions, recesses, slits in pixel electrodes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396Spacers having different sizes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13398Spacer materials; Spacer properties
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136213Storage capacitors associated with the pixel electrode
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136277Active matrix addressed cells formed on a semiconductor substrate, e.g. of silicon
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/40Arrangements for improving the aperture ratio

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种液晶显示面板。在该液晶显示面板中,有源矩阵基板(20a)具有:多个开关元件(5);以覆盖各开关元件(5)的方式设置的具有通孔(16a)的绝缘膜;和经由设置在该绝缘膜上的通孔(16a)分别与各开关元件(5)连接的多个像素电极(17),对置基板具备用于保持液晶层的厚度的感光间隔物(23a),该液晶显示面板包括:第一像素列,其由多个像素排列而成,在该第一像素列中感光间隔物(23a)以与通孔(16a)的一端重叠的方式配置;和第二像素列,其由多个像素排列而成,在该第二像素列中感光间隔物(23a)以与通孔(16a)的另一端重叠的方式配置。

Description

液晶显示面板
技术领域
本发明涉及一种液晶显示面板,特别涉及利用在基板上形成为柱状的感光间隔物(photo-spacer)来保持单元厚度的液晶显示面板。
背景技术
液晶显示面板包括彼此相对地配置的一对基板和设置在该两个基板之间的液晶层。而且,在液晶显示面板中,利用设置在上述一对基板之间的间隔物,将上述液晶层的厚度即单元厚度保持为一定。这里,作为上述间隔物,历来使用在上述一对基板中的一个散布地配置的珠状的间隔物,但是,近年来,为了提高单元厚度的均匀性,不使用上述珠状的间隔物,而是使用在上述一对基板中的一个利用光刻来形成并配置的柱状的感光间隔物。
例如,在专利文献1中公开有在像素内具备突起的反射透过型的液晶显示装置及其方法,该突起具有间隔物功能、并限制液晶分子的取向。
专利文献1:日本特开2006-330602号公报
发明内容
然而,有源矩阵驱动方式的液晶显示面板具备有源矩阵基板和对置基板作为上述一对基板。
图11是现有的有源矩阵基板120的平面图。
如图11所示,有源矩阵基板120包括:设置为矩阵状的多个像素电极117;沿着各像素电极117的短边以相互平行地延伸的方式设置的多个栅极线113a;沿着各像素电极117的长边以相互平行地延伸的方式设置的多个源极线115;沿着各栅极线113a以相互平行地延伸的方式设置的多个电容线113b;和分别设置在各栅极线113a与各源极线115的交叉的部分、并分别与各像素电极117连接的多个薄膜晶体管(以下称为TFT)105。而且,在作为图像的最小单位的各像素,TFT105与像素电极117如图11所示,经由形成在TFT105上的树脂膜(未图示)的通孔116a连接。这里,在图11中,以双点划线表示形成于对置基板的感光间隔物123a(和123b)。另外,由于形成为比感光间隔物123a低,因此感光间隔物123b构成为:在面板表面被按压时与有源矩阵基板的表面抵接来保持单元厚度,并且在利用液晶滴下注入法所制造的液晶显示面板,当面板表面受到低温冲击时难以产生气泡。
如上所述,在对置基板形成有感光间隔物123a的情况下,可能导致以下问题:由于在贴合有源矩阵基板120和对置基板时产生偏移等,因而对置基板的感光间隔物123a的头部落入呈凹状地形成于有源矩阵基板120的通孔116a的内部。这样,在感光间隔物123a的头部落入通孔116a的内部的区域,单元厚度变窄,不能够将单元厚度保持为一定,因此难以实现由感光间隔物123a进行的稳定的单元厚度控制。
因此,如图11所示,能够考虑通过使形成于有源矩阵基板120的通孔116a与形成于对置基板的感光间隔物123a在平面视图中分离地配置,使得对置基板的感光间隔物123a的头部不落入有源矩阵基板120的通孔116a的内部。具体而言,在液晶显示面板中,随着像素的高精细化,各源极线115的间隔变得越来越窄,因此,通过将感光间隔物123a或通孔116a在平面视图中向透过区域突出地形成,使通孔116a与感光间隔物123a在平面视图中分离。这里,在图11中,透过区域是由相邻的一对栅极线113a和相邻的一对源极线115包围的区域中不与电容线113b和TFT105重叠的区域,是例如使来自背光源的光透过从而对图像显示有效的区域。而且,当使感光间隔物123a或通孔116a在平面视图中向着透过区域突出时,向该透过区域突出的部分对图像显示无效,因此导致像素的开口率降低。例如,在感光间隔物123a向着透过区域突出地形成的情况下,在感光间隔物123a的附近液晶层的取向容易紊乱,因此将该区域这遮蔽,导致像素的开口率降低。此外,在通孔116a向着透过区域突出地形成的情况下,在通孔116a的附近液晶层的取向容易紊乱,与上述的情况同样地,导致像素的开口率降低。此外,在感光间隔物123a和通孔116a附近的液晶层的取向紊乱的区域,发生光泄漏,从而可能导致对比度也下降的问题。
像这样,在现有的液晶显示面板中,难以通过通孔和感光间隔物的配置来保持单元厚度控制的稳定性,难以保持像素的开口率。
本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于提供一种液晶显示面板,其能够保持由感光间隔物进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
为了实现上述的目的,本发明包括:感光间隔物以与通孔的一端重叠的方式配置的第一像素列;和感光间隔物以与通孔的另一端重叠的方式配置的第二像素列。
具体而言,本发明的液晶显示面板包括:
有源矩阵基板;
与上述有源矩阵基板相对地配置的对置基板;
设置在上述有源矩阵基板与对置基板之间的液晶层,
上述有源矩阵基板具有:设置于第一透明基板的多个开关元件;以覆盖该各开关元件的方式设置的绝缘膜;和多个像素电极,其呈矩阵状设置在该绝缘膜上,并经由在该绝缘膜中对上述各开关元件形成的通孔,分别与该各开关元件连接,
上述对置基板具有感光间隔物,该感光间隔物以在第二透明基板立起的方式设置,用于保持上述液晶层的厚度,
与上述各像素电极对应地呈矩阵状规定有多个像素,
该液晶显示面板的特征在于,包括:
第一像素列,其由多个像素排列而成,在该第一像素列中上述感光间隔物以与上述通孔的一端重叠的方式配置;和
第二像素列,其由多个像素排列而成,在该第二像素列中上述感光间隔物以与上述通孔的另一端重叠的方式配置。
根据上述的结构,包括:第一像素列,其由多个像素排列而成,在该第一像素列中感光间隔物以与通孔的一端重叠的方式配置;和第二像素列,其由多个像素排列而成,在该第二像素列中感光间隔物以与通孔的另一端重叠的方式配置。因此,即使在如下情况下:假设由于在贴合有源矩阵基板和对置基板时产生偏移等而在第一像素列中对置基板的感光间隔物的头部落入有源矩阵基板的通孔的内部,在第二像素列中对置基板的感光间隔物的头部也不会落入有源矩阵基板的通孔的内部。而且,在该情况下,通过第二像素列的各像素中对置基板的感光间隔物的头部抵接于有源矩阵基板的通孔的外侧的像素电极,能够可靠地保持单元厚度,因此能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性。此外,由于感光间隔物以与通孔的一端或另一端重叠的方式配置,因此在平面视图中感光间隔物与通孔的间隔变窄。由此,能够抑制感光间隔物或通孔向着透过区域突出,因此能够抑制像素的开口率的降低。从而,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
上述第一像素列和第二像素列也可以彼此相邻。
根据上述的结构,第一像素列与第二像素列彼此相邻,因此,具体而言,以相邻的像素列中的一列能够可靠地保持单元厚度。
上述绝缘膜也可以是树脂膜。
根据上述的结构,绝缘膜通常是比无机绝缘膜更厚的树脂膜,因此,形成于绝缘膜的通孔较深,并且其内壁以向着上方变宽的方式倾斜地形成,由此可能损害稳定的单元厚度控制,但是,由于如上述那样具备第一像素列和第二像素列,因此能够进行稳定的单元厚度控制。
上述感光间隔物也可以具有:第一感光间隔物;和形成为比该第一感光间隔物低的第二感光间隔物。
根据上述的结构,第二感光间隔物形成为比第一感光间隔物低,因此,通常在第一感光间隔物的头部抵接于有源矩阵基板的表面来保持单元厚度并对面板表面进行按压时,第二感光间隔物的头部抵接于有源矩阵基板的表面来保持单元厚度,并且,在利用液晶滴下注入法所制造的液晶显示面板中,相比于所有的感光间隔物均为上述第一感光间隔物的情况,各感光间隔物的弹性特性与第二透明基板的弹性特性的差异变小,即使在面板表面负载有低温冲击的情况下,由于各感光间隔物随着第二透明基板的弯曲也产生弯曲,因此在两者之间也难以形成微小空间等,从而能够抑制气泡的产生。
上述感光间隔物也可以以成为上述液晶层的取向中心的方式构成。
根据上述的结构,感光间隔物成为液晶层的取向中心,因此在VA(Vertical Alignment:垂直取向)方式的液晶显示面板中,感光间隔物保持单元厚度并限制液晶层的取向。
上述有源矩阵基板也可以构成为,包括:以相互平行地延伸的方式设置的多个栅极线;以在与该各栅极线交叉的方向上相互平行地延伸的方式设置的多个源极线;和以沿着上述各栅极线相互平行地延伸的方式设置的多个电容线,上述感光间隔物和通孔配置为沿着上述各源极线与各电容线重叠。
根据上述的结构,感光间隔物和通孔配置为沿着各源极线与各电容线重叠,因此,在各源极线的间隔设定为较窄的高精细的液晶显示面板中,能够具体地抑制像素的开口率的降低。
上述有源矩阵基板也可以构成为,包括:以相互平行地延伸的方式设置的多个栅极线;以在与该各栅极线交叉的方向上相互平行地延伸的方式设置的多个源极线;和以沿着上述各栅极线相互平行地延伸的方式设置的多个电容线,上述感光间隔物和通孔配置为沿着上述各栅极线与各电容线重叠。
根据上述的结构,感光间隔物和通孔配置为沿着各栅极线与各电容线重叠,因此,在各源极线的间隔设定为较窄的高精细的液晶显示面板中,能够具体地抑制像素的开口率的降低,并且,例如由于将与作为开关元件设置的各TFT的半导体层的漏极区域连接的各漏极连接电极与各源极线的间隔设计为较宽,因此能够抑制各漏极连接电极与各源极线之间的同层间的泄漏(leakage)不良等。
此外,具体而言,本发明的液晶显示面板包括:
有源矩阵基板;
与上述有源矩阵基板相对地配置的对置基板;和
设置在上述有源矩阵基板与对置基板之间的液晶层,
上述有源矩阵基板包括:设置于第一透明基板的多个开关元件;以覆盖该各开关元件的方式设置的绝缘膜;和多个像素电极,其呈矩阵状地设置于该绝缘膜,并经由在该绝缘膜中对上述各开关元件形成的通孔,分别与该各开关元件连接,
上述对置基板具有第一感光间隔物和比该第一感光间隔物低的第二感光间隔物,该第一感光间隔物和该第二感光间隔物以在第二透明基板上立起的方式设置,用于保持所述液晶层的厚度,
该液晶显示面板的特征在于:
上述第一感光间隔物以与上述通孔不重叠的方式设置,
上述第二感光间隔物以与上述通孔重叠的方式设置。
根据上述的结构,通常,抵接于有源矩阵基板的表面的第一感光间隔物以与通孔不重叠的方式设置,因此能够可靠地保持单元厚度。此外,形成为比第一感光间隔物低、且在面板表面被按压时等抵接于有源矩阵基板的表面的第二感光间隔物以与通孔重叠的方式设置,因此能够抑制像素的开口率的降低。从而,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
发明的效果
根据本发明,包括:第一像素列,在该第一像素列中感光间隔物以与通孔的一端重叠的方式配置;和第二像素列,在该第二像素列中感光间隔物以与通孔的另一端重叠的方式配置,因此,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
附图说明
图1是构成实施方式1的液晶显示面板的有源矩阵基板20a的平面图。
图2是沿着图1中的II-II线的有源矩阵基板20a和具备该有源矩阵基板的液晶显示面板50a的截面图。
图3是沿着图1中的III-III线的有源矩阵基板20a的截面图。
图4是示意地表示液晶显示面板50a的平面图。
图5是示意地表示实施方式2的液晶显示面板50b的平面图。
图6是示意地表示实施方式3的液晶显示面板50c的平面图。
图7是示意地表示实施方式4的液晶显示面板50d的平面图。
图8是构成实施方式5的液晶显示面板的有源矩阵基板20e的平面图。
图9是沿着图8中的IX-IX线的有源矩阵基板20e和具备该有源矩阵基板的液晶显示面板50e的截面图。
图10是示意地表示实施方式6的液晶显示面板50f的平面图。
图11是现有的有源矩阵基板120的平面图。
附图标记的说明:
La        第一像素列
Lb        第二像素列
P         像素
5TFT      (开关元件)
10a       第一透明基板
10b       第二透明基板
13a       栅极线
13b       电容线
15a       源极线
16        树脂膜(绝缘膜)
16a       通孔
17        像素电极
20a,20e  有源矩阵基板
23a       第一感光间隔物
23b       第二感光间隔物
30a,30e  对置基板
40        液晶层
50a~50f  液晶显示面板
具体实施方式
以下,根据附图详细地说明本发明的实施方式。另外,本发明并不限定于以下的各实施方式。
(发明的实施方式1)
图1~图4表示本发明的液晶显示面板的实施方式1。具体而言,图1是构成本实施方式1的液晶显示面板的有源矩阵基板20a的平面图。而且,图2是沿着图1中的II-II线的有源矩阵基板20a和具备该有源矩阵基板的液晶显示面板50a的截面图,图3是沿着图1中的III-III线的有源矩阵基板20a的截面图。另外,在图1中,如后述那样,以粗线表示有源矩阵基板20a中配置在最上层的各像素电极17。
如图2所示,液晶显示面板50a包括:彼此相对地配置的有源矩阵基板20a和对置基板30a;设置在两个基板20a与30a之间的液晶层40;和用于将两个基板20a和30a相互粘接并将液晶层40密封在两个基板20a与30a之间的密封材(未图示)。
如图1~图3所示,有源矩阵基板20a包括:玻璃基板等第一透明基板10a;在第一透明基板10a上呈大致L字形状地设置的半导体层11;以覆盖半导体层11的方式设置的栅极绝缘膜12;在栅极绝缘膜12上以相互平行地延伸的方式设置的多个栅极线13a;在栅极绝缘膜12上以沿着各栅极线13a相互平行地延伸的方式设置的多个电容线13b;以覆盖各栅极线13a和各电容线13b的方式设置的层间绝缘膜14;在层间绝缘膜14上在与各栅极线13a正交的方向上以相互平行地延伸的方式设置的多个源极线15a;在层间绝缘膜14上在各源极线15a之间呈岛状地设置的多个漏极连接电极15b;以覆盖各源极线15a和各漏极连接电极15b的方式设置的树脂膜16;在树脂膜16上呈矩阵状地设置的多个像素电极17;和以覆盖各像素电极17的方式设置的取向膜(未图示)。
这里,在液晶显示面板50a中,与各像素电极17对应地,构成图像的最小单位的多个像素P(参照后述的图4)各自被规定为矩阵状。而且,在各像素P,在由相邻的一对栅极线13a和相邻的一对源极线15a包围的区域中、与构成电容线13b和后述的TFT5的部分不重叠的区域,例如使来自背光源的光透过,构成对图像显示有效的区域(透过区域)。
此外,在有源矩阵基板20a中,如图1所示,在各栅极线13a与各源极线15a的交叉部分,设置有TFT5作为开关元件。
如图3所示,TFT5包括:由栅极线13a的一部分和向着栅极线13a的侧边突出的突出部构成的栅极电极G;半导体层11,其具有以与栅极电极G重叠的方式被规定的沟道区域11a、被规定在沟道区域11a的外侧的低浓度掺杂区域(所谓的LDD区域)11b以及被规定在低浓度掺杂区域11b的外侧且包括源极区域S和漏极区域D的高浓度掺杂区域11c;和设置在栅极电极G与半导体层11之间的栅极绝缘膜12。这里,如图1和图3所示,源极区域S经由形成于栅极绝缘膜12和层间绝缘膜14的叠层膜的有源接触孔14a与源极线15a连接。此外,如图2所示,漏极区域D经由形成于栅极绝缘膜12和层间绝缘膜14的叠层膜的有源接触孔14b与漏极连接电极15b连接。进一步,如图1和图2所示,漏极连接电极15b经由形成于树脂膜16的通孔16a与像素电极17连接。
此外,如图1和图2所示,漏极区域D以与电容线13b重叠的方式设置,该电容线13b和设置在其间的栅极绝缘膜12一并构成辅助电容。
如图2所示,对置基板30a包括:玻璃基板等第二透明基板10b;在第二透明基板10b上呈格子状地设置的黑矩阵21a;在黑矩阵21a的各格子间设置有红色层、绿色层和蓝色层等着色层的彩色滤光片层21b;以覆盖彩色滤光片层21的方式设置的共用电极22;在共用电极22上以立起的方式设置的的第一感光间隔物23a和第二感光间隔物23b(参照图1);和以覆盖共用电极22的方式设置的取向膜(未图示)。这里,在图1的有源矩阵基板20a的平面图中,以双点划线表示配置于对置基板30a的第一感光间隔物23a和第二感光间隔物23b。
第一感光间隔物23a例如形成为4.5μm左右的高度,并且如图2所示那样构成为:与有源矩阵基板20a的表面(像素电极17的表面)抵接,来保持液晶层40的厚度即单元厚度。
第二感光间隔物23b例如形成为4.2μm左右的高度,低于第一感光间隔物23a,并且构成为:在面板表面被按压时与有源矩阵基板20a的表面(像素电极17的表面)抵接,来保持液晶层40的厚度。此外,第二感光间隔物23b构成为:由于形成为比第一感光间隔物23a低,因此在通过液晶滴下注入法制造液晶显示面板50a的情况下,相比于所有感光间隔物均为第一感光间隔物23a的情况,各感光间隔物的弹性特性与第二透明基板10b的弹性特性的差异变小,即使在面板表面负载有低温冲击时,由于各感光间隔物随着第二透明基板10b的弯曲也弯曲,因此在两者之间难以形成微小空间等,从而能够抑制气泡的产生。
这里,图4是示意地表示液晶显示面板50a的平面图。在该图4中,各像素P包括形成于有源矩阵基板20a的通孔16a、以及形成于对置基板30a的第一感光间隔物23a和第二感光间隔物23b。
如图4所示,液晶显示面板50a包括:第一像素列La,在该第一像素列La中各第一感光间隔物23a以与通孔16a的一端(图中下侧)重叠的方式配置;和第二像素列Lb,其与第一像素列La相邻,并且在该第二像素列Lb中各第一感光间隔物23a以与通孔16a的另一端(图中上侧)重叠的方式配置。
此外,在液晶显示面板50a中,如图4所示,各第二感光间隔物23b在第一像素列La和第二像素列Lb中以与各通孔16a重叠的方式配置。这里,例如在像素P的尺寸为30μm×90μm左右的情况下,第一感光间隔物23a的个数密度为11个/mm2左右,第二感光间隔物23b的个数密度为360个/mm2左右。此外,在像素P的尺寸为40μm×120μm左右的情况下,第一感光间隔物23a的个数密度为11个/mm2左右,第二感光间隔物23b的个数密度为197个/mm2左右。进一步,在像素P的尺寸为50μm×150μm左右的情况下,第一感光间隔物23a的个数密度为11个/mm2左右,第二感光间隔物23b的个数密度为122个/mm2左右。另外,为了抑制显示品质的降低,第一感光间隔物23a优选仅配置于显示蓝色的各像素P。
上述结构的液晶显示面板50a构成为:对在有源矩阵基板20a上的各像素电极17与对置基板30a上的共用电极22之间配置的液晶层40施加规定的电压,来改变构成液晶层40的液晶分子的取向状态,由此对各像素P调整透过面板内的光的透过率,显示图像。
接着,举一个例子来说明本实施方式的液晶显示面板50a的制造方法。另外,本实施方式的制造方法包括有源矩阵基板制作工序、对置基板制作工序和液晶滴下贴合工序。
(有源矩阵基板制作工序)
首先,在玻璃基板等第一透明基板10a的整个基板,例如使用乙硅烷(disilane)作为原料气体,通过等离子体CVD(Chemical VaporDeposition:化学气相沉积)法将非晶硅膜(厚度为50nm左右)成膜之后,利用激光照射等进行加热处理,变成多晶硅膜。然后,利用光刻对该多晶硅膜进行图案化来形成半导体层11。另外,也可以在第一透明基板10a与半导体层11之间,通过等离子体CVD法将氧化硅膜等成膜,形成基底覆盖(base coat)膜。
接着,在形成有半导体层11的整个基板,通过等离子体CVD法将例如氧化硅膜(厚度为100nm左右)成膜并形成栅极绝缘膜12之后,经由栅极绝缘膜12在半导体层11掺杂磷或硼作为杂质。
进一步,在栅极绝缘膜12上的整个基板,通过溅射法例如将氮化钽膜(厚度为50nm左右)和钨膜(厚度为350nm左右)依次成膜,然后,利用光刻进行图案化来形成栅极线13a和电容线13b。
接着,将栅极线13a(栅极电极G)作为掩膜,经由栅极绝缘膜13在半导体层11掺杂磷或硼,由此在与栅极电极G重叠的部分形成沟道区域11a。
进一步,在以覆盖栅极电极G的方式形成岛状的光抗蚀剂(未图示)之后,经由该光抗蚀剂和栅极绝缘膜12,在半导体层11掺杂磷或硼。另外,在半导体层11的与电容线13b重叠的区域,在形成电容线13b之前,另外掺杂磷或硼。然后,通过进行加热处理来对掺杂的磷或硼进行活性化处理,形成低浓度掺杂区域11以及包括源极区域S和漏极区域D的高浓度掺杂区域11c。
接着,在半导体层11形成有沟道区域11a、低浓度掺杂区域11b和高浓度掺杂区域11c的整个基板,通过等离子体CVD法依次将氮化硅膜(厚度为250nm左右)和氧化硅膜(厚度为700nm左右)成膜来形成层间绝缘膜14之后,将栅极绝缘膜12和层间绝缘膜14的叠层膜的与源极区域S和漏极区域D重叠的部分分别蚀刻除去,形成有源接触孔14a和14b。
而且,在形成有具有有源接触孔14a和14b的层间绝缘膜14的整个基板,通过溅射法例如将钛膜(厚度为100nm左右)、铝膜(厚度为350nm左右)和钛膜(厚度为100nm左右)依次成膜之后,利用光刻进行图案化来形成源极线15a和漏极连接电极15b。
进一步,在形成有源极线15a和漏极连接电极15b的整个基板,例如在通过旋涂法涂敷丙烯酸树脂来形成树脂膜16(厚度为2μm左右)之后,将树脂膜16的与漏极连接电极15b重叠的部分蚀刻除去,由此形成通孔16a。
而且,在形成有具有通孔16a的树脂膜16的整个基板,在通过溅射法例如将ITO(Indium Tin Oxide:氧化铟锡)膜(厚度为100nm左右)成膜之后,利用光刻进行图案化来形成像素电极17。
最后,在形成有像素电极17的整个基板通过印刷法涂敷聚酰亚胺树脂之后,进行摩擦处理,由此形成取向膜。
如上所述,能够制作有源矩阵基板20a。
(对置基板制作工序)
首先,在玻璃基板等第二透明基板10b的整个基板,例如在以2μm左右的膜厚将着色为黑色的感光性抗蚀剂材料成膜之后,利用光刻进行图案化来形成黑矩阵21a。
接着,在黑矩阵21a的各个格子间,例如在以2μm左右的膜厚将着色为红色、绿色或蓝色的感光性抗蚀剂材料成膜之后,利用光刻进行图案化来形成所选择的颜色的着色层(例如红色层)。然后,通过对其他两种颜色反复进行同样的工序,形成其他着色层(例如绿色层和蓝色层),由此形成彩色滤光片层21b。
进一步,在形成有彩色滤光片层21b的基板上通过溅射法将ITO膜(厚度为100nm左右)成膜,形成共用电极22。另外,也可以在形成有彩色滤光片层21b的基板上将ITO成膜之前,以覆盖彩色滤光片层21b的方式形成覆盖层(overcoat),从而提高平坦性。
然后,在形成有共用电极22的整个基板,例如在通过旋涂法涂敷厚度为4.5μm左右的感光性丙烯酸树脂之后,利用光刻进行图案化来形成第一感光间隔物23a(高度为4.5μm左右)和第二感光间隔物23b(4.2μm左右)。另外,第一感光间隔物23a和第二感光间隔物23b通过以下方式形成规定的高度:例如使用波长为365nm(i线)或波长为405nm/436nm(gh线)的光,并适当地调整处理时间、光的强度,经由包括光透过率不同的区域的半色调掩膜或灰阶掩膜对感光性丙烯酸树脂进行曝光之后,对该被曝光的感光性丙烯酸树脂有选择地进行灰化等。
最后,在形成有第一感光间隔物23a和第二感光间隔物23b的整个基板通过印刷法涂敷聚酰亚胺树脂之后,进行摩擦处理,由此形成取向膜。
如上所述,能够制作对置基板30a。
(液晶滴下贴合工序)
首先,例如使用分配器在由上述的对置基板制作工序所制作的对置基板30a上,将由紫外线固化和热固化并用型树脂等构成的密封材描绘成框状。
接着,向描绘有上述密封材的对置基板30a中密封材的内侧的区域滴下液晶材料。
进一步,在减压条件下将被滴下有上述液晶材料的对置基板30a和在上述有源矩阵基板制作工序中制作的有源矩阵基板20a贴合之后,在大气压下开放该贴合而成的贴合体,由此对贴合体的表面加压。
然后,在对由上述贴合体夹持的密封材照射UV光之后,通过将该贴合体加热使密封材固化。
如以上所述,能够制造液晶显示面板50a。
如以上说明的那样,根据本实施方式的液晶显示面板50a,包括:第一像素列La,其由多个像素P排列而成,在该第一像素列La中第一感光间隔物23a以与通孔16a的一端重叠的方式配置;和第二像素列Lb,由多个像素P排列而成,在该第二像素列Lb中第一感光间隔物23b以与通孔16a的另一端重叠的方式配置。因此,即使由于在贴合有源矩阵基板20a和对置基板30a时产生偏移等而假设在第一像素列La中,对置基板30a的第一感光间隔物23a的头部落入有源矩阵基板20a的通孔16a的内部,在第二像素列Lb中对置基板30a的第一感光间隔物23a的头部也不会落入有源矩阵基板20a的通孔16a的内部。而且,在该情况下,在第二像素列Lb的各像素P中对置基板30a的第一感光间隔物23a的头部抵接于有源矩阵基板20a的通孔16a的外侧的像素电极17,由此能够可靠地保持单元厚度,因而能够保持利用第一感光间隔物23a来进行的单元厚度控制的稳定性。此外,第一感光间隔物23a以与通孔16a的一端或另一端重叠的方式配置,因此不需要针对贴合偏移等的余量,从而能够缩短在平面视图中第一感光间隔物23a与通孔16a的间隔。由此,能够抑制第一感光间隔物23a或通孔16a向透过区域突出,因而能够抑制像素的开口率的降低。从而,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
此外,根据本实施方式的液晶显示面板50a,第二感光间隔物23b形成为比第一感光间隔物23a低,因此,通常在第一感光间隔物23a的头部抵接于有源矩阵基板20a的表面而能够保持单元厚度、并且面板表面被按压时,第二感光间隔物23b的头部抵接于有源矩阵基板20a的表面,从而能够保持单元厚度,并且在通过液晶滴下注入法制造的液晶显示面板中,相比于所有感光间隔物均为第一感光间隔物23a的情况,各感光间隔物的弹性特性与第二透明基板10b的弹性特性的差异变小,从而即使在面板表面负载有低温冲击的情况下,由于各感光间隔物随着第二透明基板10b的弯曲也弯曲,因此在两者之间难以形成微小空间等,从而能够抑制气泡的产生。
此外,根据本实施方式的液晶显示面板50a,第一感光间隔物23a、第二感光间隔物23b和通孔16a沿着各源极线15a以与各电容线13b重叠的方式配置,因此,特别是在将各源极线15a的间隔设定为较窄的高精细的液晶显示面板中,能够抑制像素的开口率的降低。
此外,根据本实施方式的液晶显示面板50a,能够抑制各第一感光间隔物23a和各通孔16a附近的液晶层40的取向容易紊乱的部分向透过区域突出,能够抑制光泄漏的发生以及对比度的降低。而且,由此不需要另外设置用于抑制光泄漏和对比度降低的遮光膜。
(发明的实施方式2)
图5是示意地表示本实施方式的液晶显示面板50b的平面图。另外,在以下各实施方式中,对与图1~图4相同的部分标注相同的附图标记,并省略其详细的说明。
在上述的实施方式1的液晶显示面板50a中,如图4所示,各第二感光间隔物23b以与各通孔16a的整体重叠的方式配置,但是在本实施方式的液晶显示面板50b中,如图5所示,各第二感光间隔物23b以与各通孔16a的一部分重叠的方式配置。
根据本实施方式的液晶显示面板50b,与上述的实施方式1同样地,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
(发明的实施方式3)
图6是示意地表示本实施方式的液晶显示面板50c的平面图。
在上述的实施方式1的液晶显示面板50a和实施方式2的液晶显示面板50b中,如图4和图5所示,将各通孔16a以沿着源极线15a(在图中纵方向上)相对于各第一感光间隔物23a偏移的状态配置,在本实施方式的液晶显示面板50c中,如图6所示,将各通孔16a以沿着栅极线13a(在图中横方向上)相对于各第一感光间隔物23a偏移的状态配置。
具体而言,如图6所示,液晶显示面板50c包括:第一像素列La,在该第一像素列La中各第一感光间隔物23a以与通孔16a的一端(图中左侧)重叠的方式配置;和第二像素列Lb,其与第一像素列La相邻,并且在该第二像素列Lb中各第一感光间隔物23a以与通孔16a的另一端重叠的方式配置。
根据本实施方式的液晶显示面板50c,与上述实施方式1和2同样地,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
根据本实施方式的液晶显示面板50c,能够减小在平面视图中各第一感光间隔物23a与各通孔16a的间隔,因此,能够将各源极线与各漏极连接电极的间隔设计为较宽,能够抑制同层间的泄漏不良等。
(发明的实施方式4)
图7是示意地表示本实施方式的液晶显示面板50d的平面图。
在上述实施方式3的液晶显示面板50c中,如图6所示,各第二感光间隔物23b以与各通孔16a的整体重叠的方式配置,但是在本实施方式的液晶显示面板50d中,如图7所示,各第二感光间隔物23b以与各通孔16a的一部分重叠的方式配置。
根据本实施方式的液晶显示面板50d,与上述实施方式1~3同样地,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
(发明的实施方式5)
图8是构成本实施方式的液晶显示面板的有源矩阵基板20e的平面图,图9是沿着图8中的IX-IX线的有源矩阵基板20e和具备该有源矩阵基板的液晶显示面板50e的截面图。
在上述的各实施方式中,例示了透过型的液晶显示面板,在本实施方式中,对半透过型的液晶显示面板50e进行说明。
具体而言,如图9所示,液晶显示面板50e包括:彼此相对地配置的有源矩阵基板20e和对置基板30e;设置在两个基板20e与30e之间的液晶层40;和用于将两个基板20e与30e彼此粘接并且在两个基板20e与30e之间密封有液晶层40的密封材(未图示)。
如图9所示,有源矩阵基板20e构成为在上述实施方式1的有源矩阵基板20a的各像素电极17上设置有反射电极18。这里,反射电极18在各像素电极17上设置在各栅极线13a与邻接于该栅极线13a的一个电容线13b之间,构成进行反射模式的显示的反射区域。而且,从反射电极18露出的像素电极17构成进行透过模式的显示的透过区域。
此外,有源矩阵基板20e能够通过以下方式制作:在上述实施方式1中说明的有源矩阵基板制作工序中,在形成像素电极17之后,在形成有该像素电极17的整个基板上通过溅射法例如将钼膜和铝膜依次成膜,利用光刻进行图案化来形成反射电极18。
如图9所示,对置基板30e构成为在上述实施方式1的对置基板30a中的彩色滤光片层21b与共用电极22之间设置有白层(white layer)21c。这里,白层21c构成为:以与有源矩阵基板20e的反射区域18重叠的方式设置,并且反射区域的单元厚度为透过区域的单元厚度的1/2。
此外,对置基板30e通过以下方式制作:在上述的实施方式1中说明的对置基板制作工序中,在形成彩色滤光片层21b之后,将无色的感光性抗蚀剂材料在形成有该彩色滤光片层21b的整个基板上成膜之后,利用光刻进行图案化来形成白层21c。
根据本实施方式的液晶显示面板50e,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,能够较宽地设计各源极线与各漏极连接电极的间隔,从而能够抑制同层间的泄漏不良等。
在上述的各实施方式中,通过在将各第一感光间隔物23a和各第二感光间隔物23b的位置固定的状态下使通孔16a的位置移动,设定各感光间隔物与通孔的位置关系,但是本发明也可以在将通孔的位置固定的状态下使各感光间隔物的位置移动,由此设定各感光间隔物与通孔的位置关系,此外,也可以组合以上两种方式。
在上述的各实施方式中,在相互相邻的第一像素列La和第二像素列Lb中,各第一感光间隔物23a以与相互相邻的一对通孔16a的内侧重叠的方式配置,但是在本发明中,各第一感光间隔物也可以以与相互相邻的一对通孔的外侧重叠的方式配置。
在上述的各实施方式中,第一像素列La和第二像素列Lb相互相邻,但是在本发明中,第一像素列La和第二像素列Lb也可以彼此分离。即,在第一像素列La与第二像素列Lb之间,配置有一列以上在感光间隔物与通孔之间未设定有特别的位置关系的像素列,该像素列也可以重复。
(发明的实施方式6)
图10是示意地表示本实施方式的液晶显示面板50f的平面图。
在上述的各实施方式的液晶显示面板中,规定有:第一像素列La,在该第一像素列La中各第一感光间隔物23a以与各通孔16a的一端重叠的方式配置;和第二像素列Lb,在该第二像素列Lb中各第一感光间隔物23a以与各通孔16a的另一端重叠的方式配置,但是在本实施方式的液晶显示面板50f中,第一感光间隔物23a以与通孔16a不重叠的方式设置,第二感光间隔物23b以与通孔16a重叠的方式设置。
根据本实施方式的液晶显示面板50f,通常抵接于有源矩阵基板的表面的第一感光间隔物23a以与通孔16a不重叠的方式设置,因此能够可靠地保持单元厚度。此外,形成为比第一感光间隔物23b低、并且在面板表面被按压时等抵接于有源矩阵基板的表面的第二感光间隔物23b以与通孔16a重叠的方式设置,因此能够抑制像素的开口率的降低。从而,能够保持利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低。
在上述的各实施方式中,没有言及液晶层的取向方式,但是在ASV(Advanced Super View:高级超视觉)液晶等的VA方式的液晶显示面板中,也可以将上述各实施方式的各感光间隔物作为液晶层的取向中心。
在上述的各实施方式中,作为感光间隔物,例示了第一感光间隔物和第二感光间隔物,但是在本发明中,通常也可以仅为与有源矩阵基板的表面抵接的感光间隔物。
在上述的各实施方式中,例示了感光间隔物配置在各像素的大致中央(在半透过型中为反射区域的大致中央)的结构,但是只要是在各像素内,感光间隔物可以配置在任何位置。
在上述的各实施方式中,例示了具备TFT作为开关元件的液晶显示面板,但是本发明也能够应用于具备MIM(Metal Insulator Metal:金属绝缘体金属)等其他开关元件的液晶显示面板。
工业上的可利用性
如以上说明的那样,本发明能够保持就利用感光间隔物来进行的单元厚度控制的稳定性,抑制像素的开口率的降低,因此对在像素内配置有感光间隔物的液晶显示面板全体而言是有用的。

Claims (8)

1.一种液晶显示面板,其包括:
有源矩阵基板;
与所述有源矩阵基板相对地配置的对置基板;和
设置在所述有源矩阵基板与对置基板之间的液晶层,
所述有源矩阵基板具有:设置于第一透明基板的多个开关元件;以覆盖该各开关元件的方式设置的绝缘膜;和多个像素电极,其呈矩阵状设置在该绝缘膜上,并经由在该绝缘膜中对所述各开关元件形成的通孔,分别与该各开关元件连接,
所述对置基板具有感光间隔物,该感光间隔物以在第二透明基板上立起的方式设置,用于保持所述液晶层的厚度,
与所述各像素电极对应地呈矩阵状规定有多个像素,
该液晶显示面板的特征在于,包括:
第一像素列,其由多个像素排列而成,在该第一像素列中所述感光间隔物以与所述通孔的一端重叠的方式配置;和
第二像素列,其由多个像素排列而成,在该第二像素列中所述感光间隔物以与所述通孔的另一端重叠的方式配置。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于:
所述第一像素列和第二像素列彼此相邻。
3.根据权利要求1或2所述的液晶显示面板,其特征在于:
所述绝缘膜是树脂膜。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的液晶显示面板,其特征在于:
所述感光间隔物具有:第一感光间隔物;和形成为比该第一感光间隔物低的第二感光间隔物。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的液晶显示面板,其特征在于:
所述感光间隔物以成为所述液晶层的取向中心的方式构成。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的液晶显示面板,其特征在于:
所述有源矩阵基板具有:以相互平行地延伸的方式设置的多个栅极线;以在与该各栅极线交叉的方向上相互平行地延伸的方式设置的多个源极线;和以沿着所述各栅极线相互平行地延伸的方式设置的多个电容线,
所述感光间隔物和通孔配置为沿着所述各源极线与各电容线重叠。
7.根据权利要求1~5中任一项所述的液晶显示面板,其特征在于:
所述有源矩阵基板具有:以相互平行地延伸的方式设置的多个栅极线;以在与该各栅极线交叉的方向上相互平行地延伸的方式设置的多个源极线;和以沿着所述各栅极线相互平行地延伸的方式设置的多个电容线,
所述感光间隔物和通孔配置为沿着所述各栅极线与各电容线重叠。
8.一种液晶显示面板,其包括:
有源矩阵基板;
与所述有源矩阵基板相对地配置的对置基板;和
设置在所述有源矩阵基板与对置基板之间的液晶层,
所述有源矩阵基板具有:设置于第一透明基板的多个开关元件;以覆盖该各开关元件的方式设置的绝缘膜;和多个像素电极,其呈矩阵状地设置于该绝缘膜,并经由在该绝缘膜中对所述各开关元件形成的通孔,分别与该各开关元件连接,
所述对置基板具有第一感光间隔物和比该第一感光间隔物低的第二感光间隔物,该第一感光间隔物和该第二感光间隔物以在第二透明基板上立起的方式设置,用于保持所述液晶层的厚度,
该液晶显示面板的特征在于:
所述第一感光间隔物以与所述通孔不重叠的方式设置,
所述第二感光间隔物以与所述通孔重叠的方式设置。
CN200880125911XA 2008-04-14 2008-12-17 液晶显示面板 Pending CN101952771A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008-104575 2008-04-14
JP2008104575 2008-04-14
PCT/JP2008/003825 WO2009128123A1 (ja) 2008-04-14 2008-12-17 液晶表示パネル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101952771A true CN101952771A (zh) 2011-01-19

Family

ID=41198834

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200880125911XA Pending CN101952771A (zh) 2008-04-14 2008-12-17 液晶显示面板

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20110141425A1 (zh)
EP (1) EP2267522A4 (zh)
JP (1) JP5108091B2 (zh)
CN (1) CN101952771A (zh)
RU (1) RU2467367C2 (zh)
WO (1) WO2009128123A1 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104380189A (zh) * 2012-06-25 2015-02-25 夏普株式会社 有源矩阵基板、液晶显示装置和有源矩阵基板的制造方法
CN106324925A (zh) * 2016-08-17 2017-01-11 友达光电股份有限公司 像素结构及应用其的显示面板
CN106873248A (zh) * 2011-08-31 2017-06-20 夏普株式会社 液晶显示面板和液晶显示装置
CN107015409A (zh) * 2017-05-18 2017-08-04 上海天马微电子有限公司 空间光调制器及显示装置
CN107678220A (zh) * 2017-10-30 2018-02-09 武汉天马微电子有限公司 阵列基板、显示面板和显示装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101602635B1 (ko) * 2009-11-30 2016-03-22 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치, 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
JP5077367B2 (ja) * 2010-01-28 2012-11-21 凸版印刷株式会社 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ基板、その製造方法、及び半透過型液晶表示装置
KR20130080687A (ko) * 2012-01-05 2013-07-15 삼성디스플레이 주식회사 액정 적하 방법 및 이를 이용한 액정 표시 장치 제조 방법
JP6335442B2 (ja) * 2013-06-11 2018-05-30 三菱電機株式会社 液晶表示装置
TWI567452B (zh) * 2014-07-17 2017-01-21 群創光電股份有限公司 液晶顯示裝置及其元件基板
US9543335B2 (en) 2014-07-17 2017-01-10 Innolux Corporation Liquid-crystal display and element substrate thereof
TWI582968B (zh) * 2014-08-15 2017-05-11 群創光電股份有限公司 陣列基板結構及接觸結構
CN104505373B (zh) * 2014-12-19 2017-11-21 上海天马微电子有限公司 一种显示面板和显示装置及显示面板的制造方法
US20170242286A1 (en) * 2016-02-19 2017-08-24 Apple Inc. Display Having Column Spacer Structures with Minimized Plastic Deformation
JP7018687B2 (ja) 2017-06-07 2022-02-14 トライベイル テクノロジーズ, エルエルシー 液晶表示パネル

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2008713C1 (ru) * 1992-03-04 1994-02-28 Малое научно-производственное объединение "ЭЛО" Цветная жидкокристаллическая дисплейная панель с активной матрицей
TW459275B (en) * 1999-07-06 2001-10-11 Semiconductor Energy Lab Semiconductor device and method of fabricating the same
US6747289B2 (en) * 2000-04-27 2004-06-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method of fabricating thereof
KR100720093B1 (ko) * 2000-10-04 2007-05-18 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
JP2002341354A (ja) * 2001-05-16 2002-11-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子
JP2003215602A (ja) * 2002-01-24 2003-07-30 Sharp Corp 液晶表示装置
JP4057820B2 (ja) * 2002-03-08 2008-03-05 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 カラー液晶表示装置及びカラー液晶表示装置の製造方法
KR100433229B1 (ko) * 2002-05-17 2004-05-28 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
CN1497299A (zh) * 2002-09-26 2004-05-19 三星电子株式会社 液晶显示器、液晶显示器面板及其制造方法
US7286204B2 (en) * 2003-03-28 2007-10-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Spacers for display devices
JP3907647B2 (ja) * 2003-09-08 2007-04-18 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP4092309B2 (ja) * 2004-06-03 2008-05-28 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP2005345972A (ja) * 2004-06-07 2005-12-15 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd アクティブマトリックス型液晶表示装置の製造方法
JP2006330470A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP2006330602A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Sharp Corp 液晶表示装置およびその製造方法
KR100740041B1 (ko) * 2005-06-30 2007-07-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼 컬럼 스페이서를 구비한 액정 패널 및 그 제조 방법
US8009261B2 (en) * 2005-09-22 2011-08-30 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device comprising a plurality of first and second supports
KR101250316B1 (ko) * 2005-10-18 2013-04-03 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조 방법
JP2007139859A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
US7525631B2 (en) * 2005-12-13 2009-04-28 Lg Display Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of fabricating the same
TWI308974B (en) * 2005-12-30 2009-04-21 Au Optronics Corp Liquid crystal display panel
US7567331B2 (en) * 2006-02-07 2009-07-28 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Liquid crystal display
JP2007316329A (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
US20070285608A1 (en) * 2006-06-13 2007-12-13 Au Optronics Corporation Placement of spacers in a liquid crystal display panel
EP2075628B1 (en) * 2006-11-30 2016-08-10 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix substrate for liquid crystal display panel

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106873248A (zh) * 2011-08-31 2017-06-20 夏普株式会社 液晶显示面板和液晶显示装置
CN104380189A (zh) * 2012-06-25 2015-02-25 夏普株式会社 有源矩阵基板、液晶显示装置和有源矩阵基板的制造方法
CN106324925A (zh) * 2016-08-17 2017-01-11 友达光电股份有限公司 像素结构及应用其的显示面板
CN107015409A (zh) * 2017-05-18 2017-08-04 上海天马微电子有限公司 空间光调制器及显示装置
US10437097B2 (en) 2017-05-18 2019-10-08 Shanghai Tianma Micro-electronics Co., Ltd. Spatial light modulator and display device
CN107678220A (zh) * 2017-10-30 2018-02-09 武汉天马微电子有限公司 阵列基板、显示面板和显示装置
US10802348B2 (en) 2017-10-30 2020-10-13 Wuhan Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. Array substrate, display panel and display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP5108091B2 (ja) 2012-12-26
WO2009128123A1 (ja) 2009-10-22
JPWO2009128123A1 (ja) 2011-08-04
EP2267522A1 (en) 2010-12-29
EP2267522A4 (en) 2012-03-07
RU2010130674A (ru) 2012-05-20
US20110141425A1 (en) 2011-06-16
RU2467367C2 (ru) 2012-11-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101952771A (zh) 液晶显示面板
US8035779B2 (en) Thin film transistor display panel, liquid crystal display having the same, and method of manufacturing liquid crystal display
US8253941B2 (en) Apparatus for manufacturing display panel and method for manufacturing the same
US9052550B2 (en) Thin film transistor liquid crystal display
CN104407475B (zh) 液晶显示面板
US7211827B2 (en) Thin film transistor array panel and liquid crystal display including the panel
US9025096B2 (en) Liquid crystal display device and method of fabrication for the same
US7989807B2 (en) Thin-film transistor substrate, method of manufacturing same and display apparatus having same
US7989814B2 (en) Thin film transistor array panel and method of manufacturing the same
CN101685232B (zh) 阵列基底及其制造方法、采用该阵列基底的液晶显示装置
US8730418B2 (en) Array substrate and method for manufacturing the same
US20110128459A1 (en) Thin film transistor array substrate, fabrication method thereof, and liquid crystal display using the tft array substrate
EP2043074A1 (en) Display panel substrate, display panel using the substrate, display panel substrate manufacturing method, and display panel manufacturing method
US8169583B2 (en) Thin film transistor array panel and liquid crystal display having the same
KR20080084034A (ko) 액정표시장치의 칼라필터 및 제조방법
CN104570525A (zh) 液晶显示装置及其制造方法
CN102043273B (zh) 常黑模式液晶显示器装置
US20070019137A1 (en) Display substrate and liquid crystal display panel having the same
US20080198310A1 (en) Display substrate and display panel having the same
US20100109007A1 (en) Thin film transistor array panel and method for manufacturing the same
KR20030026088A (ko) 기판 흡착용 진공 척 구조
US20070052908A1 (en) Liquid crystal display and method for manufacturing the same
EP1950604B1 (en) Transflective liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2003029269A (ja) 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
CN106950762A (zh) 显示装置及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20110119