CN101921601A - 一种新型干馏炉排灰装置 - Google Patents

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韩放
鲍明福
高健
曹福东
赵志敏
陈胜中
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Abstract

本发明公开了一种新型干馏炉排灰装置,包括由水箱及坡形溜槽构成的壳体,在水箱中部设有若干块相互间隔的托料板,在托料板的上部设有由驱动装置驱动水平摆动的刮杆;沿水箱及溜槽底部设有由电机驱动绕转轮转动的锚链,锚链之间安装有刮杠。具有如下优点:1、结构简单,安装精度要求不高,易于安装。2、由于取消了铁锹、挡灰板等易损坏部件,保证了设备的正常运行,极大地降低了运行故障率,增加了干馏炉的出动率,降低了运行成本。同时,也避免了铁锹、挡灰板等部件损坏而引发的火灾、瓦斯泄露等事故的发生。延长了干馏炉的运行周期。3、本发明的规格可任意放大,排灰能力得到极大地提升,促进了干馏炉向大型化、高产化发展。

Description

一种新型干馏炉排灰装置
一、技术领域
本发明属于干馏技术领域,具体涉及一种新型干馏炉排灰装置。
二、背景技术
现有的干馏炉排灰装置包括由涡轮和涡杆构成的传动装置、灰皿、固定在干馏炉两侧炉壁上的铁锹及挡灰板。传动装置带动灰皿、干馏炉底部的排灰口及风头转动,并在铁锹的相互作用下实现排灰。该种排灰方式存在如下不足之处:1、铁锹要完全对称的固定在干馏炉的炉壁上,与炉底呈45°角,在水平轴线上与炉体呈15°角。铁锹下端距炉底20mm且不得刮底,大于2mm会影响灰渣的及时排出。铁锹侧面距灰皿10mm且不得刮帮,大于10mm会使灰渣不能安全排出。如上述安装尺寸无法满足,将使干馏炉两侧的排灰量不一致,造成炉内火层倾斜而影响正常生产,安装要求较高。2、灰皿中装有的起密封作用的水,会对部分浸入其中的铁锹及挡灰板造成严重的腐蚀,使用寿命大大缩短,极易损坏,无法正常运行,运行故障率高,也增加了运行成本。3、固定在干馏炉炉壁上的铁锹极易因腐蚀等原因出现脱落而顶坏灰皿,造成炉内瓦斯由炉底溢出形成火灾,存在极大的安全隐患。4、该种排灰装置的关键部件——灰皿为整体铸件,难以被制成较大体积,限制了排灰装置向大型化发展,而排灰能力的限制,又极大地阻碍了干馏炉向大型化、高产化发展。
三、发明内容
本发明的目的是提供一种新型干馏炉排灰装置,以克服现有排灰装置的诸多不足。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案为:包括由水箱及坡形溜槽构成的壳体,其特点是:在水箱中部设有若干块相互间隔的托料板,在托料板的上部设有由驱动装置驱动水平移动的刮杆;沿水箱及溜槽底部设有由电机驱动绕转轮转动的锚链,锚链之间安装有刮杠。
本发明具有如下优点:1、结构简单,安装精度要求不高,易于安装。2、由于取消了铁锹、挡灰板等易损坏部件,保证了设备的正常运行,极大地降低了运行故障率,增加了干馏炉的出动率,降低了运行成本。同时,也避免了铁锹、挡灰板等部件损坏而引发的火灾、瓦斯泄露等事故的发生。延长了干馏炉的运行周期。3、本发明的规格可任意放大,排灰能力得到极大地提升,促进了干馏炉向大型化、高产化发展。
四、附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2本发明的内部结构示意图;
五、具体实施方式
如图1、图2所示,本发明包括由水箱3及坡形溜槽4构成的壳体。在水箱3中部设有2块托料板7,托料板7通过两侧固定在水箱 3的内壁上。该2块托料板7之间留用于透过灰渣的间空20。在托料板7的上部设有紧贴在其表面的2条刮杆8。刮杆8连接在滑轮支架13上,滑轮支架13与水箱3上部支承于滑道19上的滑轮14连接。滑轮支架13侧端与支架12连接,支架12的上部通过顶杠11与驱动装置连接。该驱动装置由相互连接的电机10和偏心轮9构成。这样,电机10就能拉动刮杆8左右水平移动。沿水箱3及溜槽4底部2条锚链5。锚链围绕在主动转轮15、中转轮17及从动转轮16上,并在驱动电机21的驱动下绕它们逆时针转动。锚链5之间安装有若干条刮杠6。
使用时,将干馏炉1的排灰口2对准托灰板7,排出的灰渣落到托灰板上后,由水平移动的刮杆8从托灰板7间的间空20刮入水箱内,再由锚链5上刮杠6沿溜槽4向上输送,直至送入溜槽4出口处的废渣漏斗18内,周而复始,完成灰渣的排放工作。

Claims (2)

1.一种新型干馏炉排灰装置,包括由水箱(3)及坡形溜槽(4)构成的壳体,其特征是:在水箱(3)中部设有若干块相互间隔的托料板(7),在托料板(7)的上部设有由驱动装置驱动水平移动的刮杆(8);沿水箱(3)及溜槽(4)底部设有由电机(21)驱动绕转轮转动的锚链(5),锚链(5)之间安装有若干条刮杠(6)。
2.根据权利要求1所述的一种新型干馏炉排灰装置,其特征是:所述的驱动装置由相互连接的电机(10)和偏心轮(9)构成。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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