CN101880778A - 一种铜锍处理方法及其设备 - Google Patents

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袁剑平
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Abstract

本发明公开了一种铜锍处理方法,液态铜锍水碎为固体铜锍颗粒后依次包括1)脱除水分、2)区分贮存、3)精确计量和4)配料混合。还公开了处理设备,包括至少2个下部设有集水器的脱水仓、至少1个贮料仓和胶带运输机,胶带运输机由计算机控制***控制,贮料仓分别贮存冶炼炉不同炉次产出的不同品位的脱水后的铜锍,设置在每个贮料仓出料口的定计量给料胶带由计算机控制***控制,以分别控制各个贮料仓的铜锍给料量。本发明方法可以避免铜锍表面水自然流淌排放,明显改善操作环境,且设备占地小,投资相对较低,冶炼炉不同炉次不同品位的冰铜分别储存,可以精确控制贮料仓的给料量,配料精度高,特别适合用于处理原料成分波动的铜连续吹炼工艺。

Description

一种铜锍处理方法及其设备
技术领域
本发明涉及铜锍,尤其是涉及一种铜锍处理方法及其设备。
背景技术
铜锍是一种铜冶炼过程中的中间产品,需要与硅石等助剂冶炼成粗铜。目前各工厂水碎后的铜锍采用的是堆式配料工艺,铜锍的水分脱除依靠自然流淌,需要设置大型的穹顶式铜锍库,土建费用高,操作环境差,还需要设置大型的铜锍堆料机、取料机,设备投资大。此外,由于采用的是堆式配料,无计量设施,配料精度低。
发明内容
本发明所要解决的一个技术问题是弥补上述现有技术的问题,提供一种铜锍处理方法。
本发明所要解决的另一个技术问题是弥补上述现有技术的问题,提供一种铜锍处理设备。
本发明的铜锍处理方法的技术问题通过以下技术方案予以解决。
这种铜锍处理方法,预处理步骤是将冶炼炉不同炉次产出的不同品位的液态铜锍水碎为固体铜锍颗粒。
这种铜锍处理方法的特点是:还依次包括以下步骤:
1)脱除水分
将水碎后的铜锍由胶带运输机送至至少2个脱水仓中依次逐个静置,利用铜锍自重将铜锍挤压脱水,直至铜锍表面含水量降低到4~8%,脱除的铜锍表面含水由脱水仓下部的集水器收集排放至集水坑后,再由回水泵回收至水循环***;避免铜锍表面水的无组织的排放,保证良好的操作环境,有效解决以往自然流淌,操作环境差的问题;
2)区分贮存
将脱水仓中脱除水分后的铜锍由胶带运输机送至至少1个贮料仓,冶炼炉不同炉次产出的不同品位的脱水后的铜锍分别贮存在不同的贮料仓中;
3)精确计量
按照精确设定的配料,由计算机控制***分别控制各个贮料仓的铜锍给料量;
4)配料混合
将贮存在不同的贮料仓中的铜锍提供给同一条胶带运输机汇总,完成配料混合。
本发明的铜锍处理方法的技术问题通过以下进一步的技术方案予以解决。
所述至少2个脱水仓中依次逐个静置时间,总计是4-8小时。
所述至少1个贮料仓是10~24个贮料仓,具体数量由铜锍的产量决定。
所述控制各个贮料仓的铜锍给料量,包括控制贮料仓出料口的铜锍出料量和胶带运输机运带的行进速度。
所述水碎是用水压为0.4~0.8MPa,流量为铜锍流量15~20倍的水冲击铜锍,将液态铜锍水碎成固体铜锍颗粒,所述固体铜锍颗粒中粒度为5~8mm的铜锍颗粒占80%。
本发明的铜锍处理设备的技术问题通过以下技术方案予以解决。
这种铜锍处理设备,包括至少2个下部设有集水器的脱水仓、至少1个贮料仓和设置在脱水仓与贮料仓之间的胶带运输机。
这种铜锍处理设备的特点是:
所述胶带运输机包括可逆胶带、转运胶带、贮料仓顶卸料胶带、混合铜锍输送胶带和定计量给料胶带,所述定计量给料胶带设置在每个贮料仓出料口,是由计算机控制***控制的定计量给料胶带,以分别控制各个贮料仓的铜锍给料量。
所述贮料仓是分别贮存冶炼炉不同炉次产出的不同品位的脱水后的铜锍的贮料仓。
本发明的铜锍处理设备的技术问题通过以下进一步的技术方案予以解决。
所述定计量胶带运行速度为0.1~0.5m/s。
还包括回水泵,用于将各个脱水仓下部的集水器收集排放至集水坑的铜锍表面含水回收至水循环***。
所述脱水仓的容积为60~80m3
所述至少1个贮料仓是10~24个贮料仓。
本发明与现有技术相比所具有的有益效果:
本发明方法可以避免铜锍表面水的无引导的自然流淌排放,可有效回收铜锍中夹带的水分,明显改善操作环境。本发明设备占地小,贮料仓是由普通的钢板焊接而成的贮料仓,结构简单;胶带运输机是普通的胶带运输机,易从市场采购,而且很便宜,设备投资相对较低,冶炼炉不同炉次、不同品位的铜锍分别储存,每个铜锍贮料仓设置由计算机控制***控制的定计量给料胶带,精确控制给料量,可以达到很高的配料精度,特别适合用于处理原料成分波动的铜连续吹炼工艺。
附图说明
图1是本发明具体实施方式的方法流程图;
图2是本发明具体实施方式的设备示意图。
具体实施方式
下面对照附图并结合具体实施方式对本发明作进一步的说明。
一种用于原料成分波动的铜连续吹炼工艺的处理铜锍设备,包括三个容积为70m3的下部设有脱水器的脱水仓2、十个贮料仓5和设置在脱水仓2与贮料仓3之间的胶带运输机,均为现有的设备。
胶带运输机包括可逆胶带1、转运胶带3、贮料仓顶卸料胶带4、混合铜锍输送胶带6和定计量给料胶带7,定计量给料胶带7设置在每个贮料仓5出料口,定计量胶带运行速度为0.1~0.5m/s,由计算机控制***控制,以分别控制各个贮料仓5的铜锍给料量。
十个贮料仓5分别贮存冶炼炉不同炉次产出的不同品位的脱水后的铜锍。
还包括回水泵8,用于将三个脱水仓2下部的集水器收集排放至集水坑的铜锍表面含水回收至水循环***,避免铜锍表面水的无引导的自然流淌排放,可有效回收铜锍中夹带的水分,明显改善操作环境。
本具体实施方式的设备处理铜锍的方法,预处理步骤是用水压为0.4~0.8MPa,流量为铜锍流量15~20倍的水冲击冶炼炉不同炉次产出的不同品位的铜锍,将液态铜锍水碎成固体铜锍颗粒,固体铜锍颗粒中粒度为5~8mm的铜锍颗粒占80%;
还依次包括以下步骤:
1)脱除水分
将水碎后的铜锍由胶带运输机送至脱水仓2中,在脱水仓2中静置4~8h,利用铜锍自重将铜锍挤压脱水,直至铜锍表面含水量降低到4~8%,脱除的铜锍表面含水由脱水仓2下部的集水器收集排放至集水坑后,再由回水泵8回收至水循环***;
2)区分贮存
将脱水仓2中脱除水分后的铜锍由胶带运输机送至十个贮料仓5,冶炼炉不同炉次产出的不同品位的脱水后的铜锍分别贮存在不同的贮料仓5中;
3)精确计量
按照精确设定的配料,由计算机控制***分别控制各个贮料仓5的给料量,包括控制贮料仓5出料口的出料量和胶带运输机运带的行进速度。
4)配料混合
将贮存在不同的贮料仓5中的铜锍提供给同一条胶带运输机6汇总,完成配料混合。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下做出若干等同替代或明显变型,而且性能或用途相同,都应当视为属于本发明由所提交的权利要求书确定的专利保护范围。

Claims (10)

1.一种铜锍处理方法,预处理步骤是将冶炼炉不同炉次产出的不同品位的液态铜锍水碎为固体铜锍颗粒,其特征在于:
还依次包括以下步骤:
1)脱除水分
将水碎后的铜锍由胶带运输机送至至少2个脱水仓中依次逐个静置,利用铜锍自重将铜锍挤压脱水,直至铜锍表面含水量降低到4~8%,脱除的铜锍表面含水由脱水仓下部的集水器收集排放至集水坑后,再由回水泵回收至水循环***;
2)区分贮存
将脱水仓中脱除水分后的铜锍由胶带运输机送至至少1个贮料仓,冶炼炉不同炉次产出的不同品位的脱水后的铜锍分别贮存在不同的贮料仓中;
3)精确计量
按照精确设定的配料,由计算机控制***分别控制各个贮料仓的铜锍给料量;
4)配料混合
将贮存在不同的贮料仓中的铜锍提供给同一条胶带运输机汇总,完成配料混合。
2.如权利要求1所述的铜锍处理方法,其特征在于:
所述至少2个脱水仓中依次逐个静置时间,总计是4-8小时。
3.如权利要求1或2所述的铜锍处理方法,其特征在于:
所述至少1个贮料仓是10~24个贮料仓,具体数量由铜锍的产量决定。
4.如权利要求3所述的铜锍处理方法,其特征在于:
所述控制各个贮料仓的铜锍给料量,包括控制贮料仓出料口的铜锍出料量和胶带运输机运带的行进速度。
5.如权利要求4所述的铜锍处理方法,其特征在于:
所述水碎是用水压为0.4~0.8MPa,流量为铜锍流量15~20倍的水冲击铜锍,将液态铜锍水碎成固体铜锍颗粒,所述固体铜锍颗粒中粒度为5~8mm的铜锍颗粒占80%。
6.一种铜锍处理设备,包括至少2个下部设有集水器的脱水仓、至少1个贮料仓和设置在脱水仓与贮料仓之间的胶带运输机,其特征在于:
所述胶带运输机包括可逆胶带、转运胶带、贮料仓顶卸料胶带、混合铜锍输送胶带和定计量给料胶带,所述定计量给料胶带设置在每个贮料仓出料口,是由计算机控制***控制的定计量给料胶带;
所述贮料仓是分别贮存冶炼炉不同炉次产出的不同品位的脱水后的铜锍的贮料仓。
7.如权利要求6所述的铜锍处理设备,其特征在于:
所述定计量胶带运行速度为0.1~0.5m/s。
8.如权利要求6或7所述的铜锍处理设备,其特征在于:
还包括回水泵,用于将各个脱水仓下部的集水器收集排放至集水坑的铜锍表面含水回收至水循环***。
9.如权利要求8所述的铜锍处理设备,其特征在于:
所述脱水仓的容积为60~80m3
10.如权利要求9所述的铜锍处理设备,其特征在于:
所述至少1个贮料仓是10~24个贮料仓。
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Date Code Title Description
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20101110