CN101788508A - 矿浆品位在线测量装置 - Google Patents

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周俊武
赵建军
徐宁
陆博
赵宇
李�杰
***
缪天宇
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Abstract

本发明公开了一种矿浆品位在线测量装置,包括X射线管、高压电源、X射线探测装置、矿浆样品承载装置、信号处理单元、温度控制***、人机接口等。通过在X射线管上加以高压电源产生X射线,采用X射线做为激发源,照射到矿浆样品承载器内的矿浆上产生特征X射线。特征X射线被X射线探测装置接收并探测到产生特征X射线对应的信号,特征X射线信号被信号处理单元接收并分析计算出矿样元素的品位,激发能力高、测量精度高,而且不存在核污染。矿浆元素品位通过人机接口显示或输出,温度控制***控制X光管和X射线探测装置的温度,保障温度恒定,以保障测量稳定。

Description

矿浆品位在线测量装置
技术领域
本发明涉及一种矿浆品位检测技术,尤其涉及一种矿浆品位在线测量装置。
背景技术
选矿行业中矿浆品位的在线分析技术具有广泛的应用空间,利用X射线荧光分析仪进行矿石品位分析,具有诸多优点。
X射线荧光分析仪是一种利用初级X射线光子或其他微观离子激发待测矿物物质中的原子,使之产生荧光(次级X射线)而进行矿物物质成分分析和化学态研究的矿浆品位分析仪。它主要包括激发、色散、探测、记录及数据处理等单元。
现有技术中的矿浆品位分析仪均采用放射元素做为激发源。
上述现有技术至少存在以下缺点:
激发能力低、测量精度差,而且存在核污染。
发明内容
本发明的目的是提供一种激发能力高、测量精度高,而且不存在核污染的矿浆品位在线测量装置。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的:
本发明的矿浆品位在线测量装置,包括矿浆样品承载装置,矿浆流流过所述矿浆样品承载装置,所述矿浆样品承载装置的一侧设有X射线管和X射线探测装置,所述X射线管连接有高压电源;
所述高压电源用于使所述X射线管产生X射线,照射所述矿浆样品承载装置内的矿浆流,所述矿浆流被激发产生的特征X射线被所述X射线探测装置检测到,所述X射线探测装置将检测信号传送给信号处理单元。
由上述本发明提供的技术方案可以看出,本发明所述的矿浆品位在线测量装置,由于包括矿浆样品承载装置,矿浆流流过所述矿浆样品承载装置,所述矿浆样品承载装置的一侧设有X射线管和X射线探测装置,所述X射线管连接有高压电源,通过在X射线管上加以高压电源产生X射线,对矿浆样品承载装置内的矿浆流激发产生特征X射线,并进行检测,激发能力高、测量精度高,而且不存在核污染。
附图说明
图1为本发明矿浆品位在线测量装置的结构原理图。
具体实施方式
本发明的矿浆品位在线测量装置,其较佳的具体实施方式如图1所示:
包括矿浆样品承载装置,矿浆流流过矿浆样品承载装置,矿浆样品承载装置的一侧设有X射线管和X射线探测装置,X射线管连接有高压电源;
高压电源用于使所述X射线管产生X射线,照射矿浆样品承载装置内的矿浆流,矿浆流被激发产生的特征X射线被X射线探测装置检测到,X射线探测装置将检测信号传送给信号处理单元。
信号处理单元对接收到的检测信号进行处理,计算出矿浆中的元素含量并通过人机接口显示或输出。
还可以包括温度控制***,用于控制所述X光管和X射线探测装置的温度。
本发明通过在X射线管上加以高压电源产生X射线,采用X射线做为激发源,照射到矿浆样品承载器内的矿浆上产生特征X射线。特征X射线被X射线探测装置接收并探测到产生特征X射线对应的信号,特征X射线信号被信号处理单元接收并分析计算出矿样元素的品位,激发能力高、测量精度高,而且不存在核污染。矿浆元素品位通过人机接口显示或输出。温度控制***控制X光管和X射线探测装置的温度,保障温度恒定,以保障测量稳定。
本发明可以用于在线检测选矿行业中矿浆的元素含量,可同时检测一到多个矿浆样品流,可同时检测每个矿浆样品流中的一到多个元素含量,通过该装置的应用,对于实时监控选矿过程,提高生产指标具有重要意义。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种矿浆品位在线测量装置,其特征在于,包括矿浆样品承载装置,矿浆流流过所述矿浆样品承载装置,所述矿浆样品承载装置的一侧设有X射线管和X射线探测装置,所述X射线管连接有高压电源;
所述高压电源用于使所述X射线管产生X射线,照射所述矿浆样品承载装置内的矿浆流,所述矿浆流被激发产生的特征X射线被所述X射线探测装置检测到,所述X射线探测装置将检测信号传送给信号处理单元。
2.根据权利要求1所述的矿浆品位在线测量装置,其特征在于,所述信号处理单元对接收到的检测信号进行处理,计算出矿浆中的元素含量并通过人机接口显示或输出。
3.根据权利要求2所述的矿浆品位在线测量装置,其特征在于,还包括温度控制***,用于控制所述X光管和X射线探测装置的温度。
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