CN101788018A - 新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架 - Google Patents

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李鑫辉
罗晓秋
徐淑萍
王劲松
马忠超
***
孙振生
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Abstract

本发明涉及一种新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架。新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架,以厚度≤2mm的钢板为材料,充分降低了轴承自重,提高轴承的转速;该保持架兜孔及外形一次冲压加工完成,最后再进行二次整形及磷化;该保持架兜孔采用方孔形式,降低了加工难度,充分满足大批量生产的要求;该保持架兜孔宽度设计为滚子直径的0.985倍,长度设计为滚子长度的1.02倍,可以保证滚子组外径不与外圈挡边干涉,保证轴承最终顺利装配,压严保持架下垂量,有效地提高了运转的稳定性。

Description

新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架
技术领域
本发明涉及一种新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架。
背景技术
圆柱滚子轴承属于能承受较大径向载荷又能承受一定微量轴向载荷的轴承,具有较高的承载能力,也适用于较高的转速。广泛应用于各类机械部件当中,作用极其重要,保持架多采用黄铜及尼龙材料。但对于批量大、工作转速、抗冲击性能、稳定性要求较高的圆柱滚子轴承而言,传统的铜质及尼龙保持架已无法满足设备的使用要求。铜质保持架虽然抗冲击强度较好,但加工工艺复杂,不利于大批量生产加工且成本较高;而尼龙保持架虽然工作转速较高、易于批量生产,但由于自身材料较脆,抗冲击强度较弱。因此,目前机械行业中迫切需要研制出一种既能满足大批量生产、又能满足高工作转速、高强度,高稳定性的圆柱滚子轴承保持架。
发明内容
本发明的目的是:提出一种既能满足大批量生产、又能满足高工作转速、高强度,高稳定性的圆柱滚子轴承保持架。
本发明的技术方案是:新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架,以厚度≤2mm的钢板为材料,充分降低了轴承自重,提高轴承的转速;该保持架兜孔及外形一次冲压加工完成,最后再进行二次整形及磷化;该保持架兜孔采用方孔形式,降低了加工难度,充分满足大批量生产的要求;该保持架兜孔宽度设计为滚子直径的0.985倍,长度设计为滚子长度的1.02倍,可以保证滚子组外径不与外圈挡边干涉,保证轴承最终顺利装配,压严保持架下垂量,有效地提高了运转的稳定性。
该保持架以引导为主,结构紧凑,间隙配合得当,加之自身材料的高硬度,可以承受较高的冲击载荷,此外,由于钢板韧性较好,保持架梁宽较铜质保持架可以略窄一些,这样就意味着随着直径系列的增加,在轴承主体设计发行面可以考虑增加一定数量的滚动体,承载能力也得到了大幅度的提高。
本发明的有益效果是:很好的满足了批量大、工作转速、机械强度、稳定性要求较高的圆柱滚子轴承的使用要求,在提高轴承承载能力、降低加工成本的基础上,大幅度的提高了其稳定性、抗冲击性能及工作转速,经过试验,这种新型保持架较传统结构保持架承载能力同比增加15%;转速可提高20%,成本降低10%。全面满足用户的使用要求。为我国轴承出口创汇起到了一定的积极推动作用。
附图说明:
图1为圆柱滚子轴承的结构示意图。
图中:1.外圈,2.弹簧挡圈,3.圆柱滚子,4.保持架,5.内圈。
图2为本发明的结构示意图及其A-A剖面图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步说明。
如图2所示,新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架,以厚度为1.5mm的钢板为材料,兜孔及外形一次冲压加工完成,最后再进行二次整形及磷化;该保持架兜孔采用方孔形式,其宽度设计为滚子直径的0.985倍,长度设计为滚子长度的1.02倍。
将上述制备的保持架应用于如图1所示的圆柱滚子轴承上,圆柱滚子轴承包括外圈1、弹簧挡圈2、圆柱滚子3、保持架4和内圈5。圆柱滚子3分布在外圈1与内圈5形成的滚道上并由保持架4上的若干兜孔均匀分隔开来;弹簧挡圈2通过其自身的弹性与外圈1内径方向上的凹槽过盈接触,从而保证外圈1不与其他零件分离。

Claims (3)

1.新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架,其特征在于,以厚度≤2mm的钢板为材料,该保持架兜孔及外形一次冲压加工完成,最后再进行二次整形及磷化。
2.根据权利要求1所述的新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架,其特征在于,该保持架兜孔采用方孔形式。
3.根据权利要求1所述的新型高强度、高稳定性圆柱滚子轴承冲压保持架,其特征在于,该保持架兜孔宽度设计为滚子直径的0.985倍,长度设计为滚子长度的1.02倍。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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