CN101738649A - 多层涂布复合型光学膜结构 - Google Patents

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Abstract

一种多层涂布复合型光学膜结构,以具接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材、多层涂布及保护涂布层,该多层涂布内层的扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层,该多层涂布最表层的聚光层具有集旋光性微结构。藉此,利用多层涂布技术对光源的扩散及聚光效果做复合式的设计,藉整合于单一光学膜片可有效降低材料成本,并在具接口微结构的扩散层作为光扩散机制下,不仅可有效地提升辉度表现,同时亦可减少因掺杂粒子的分散及膜材翘曲等所致的品质变因,进而可在简化背光模块的组装以提高其组装效率的同时,亦提升此复合型光学膜的膜材质量与光学特性。

Description

多层涂布复合型光学膜结构
技术领域:
本发明涉及一种多层涂布复合型光学膜结构,尤指一种以具接口微结构的扩散层作为光扩散机制而可提供高亮度及高质量光源的背光模块中使用的光学膜片。
背景技术:
目前广泛应用液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)中具背光源的液晶显示装置结构,主要包含前面的面板部份及背面的光源模块部份。其中面板的部份包含有液晶、配向膜、ITO导电玻璃、彩色滤光片、偏光片及驱动IC模块等所组成,可提供彩色画面显色控制;而背光模块的部份则包含有冷阴极管(Cold Cathode Fluorescent Lamp,CCFL)或发光二极管(Light-Emitting Diode,LED)等灯源、反射片、导光板、扩散板、扩散片及聚光片等,可提供高亮度、高质量的显示用光源。由于背光模块的技术重点为如何有效地将线光源(CCFL)与点光源(LED)转换为高均匀性的面光源,而同时在最少灯源使用量之下可获得高增益的正视角(On-axis)辉度。因此,其中反射片的使用可将反射与散射的光源回收再利用,以充份提升光源使用效率;导光板与扩散板的使用可将光线行进方向引导为垂直板面的高指向性出光,且同时消除灯源影像(Lamp Mura);扩散片的使用可增加面光源的均匀性且同时消除或减少膜材本身或组装过程等所造成光学可视瑕疵;而聚光片的使用则可大幅度提升正视角的辉度增益。因此最佳化的背光模块设计将导致背光源质量与成本效益上极佳的性价比。另外,过多的灯源使用除了增加成本以外,亦会造成热生成量增高,进而减损相关材料的寿命及光学质量,并且对于可携式装置,亦会导致电能耗损增加,将不利于目前降低成本与轻量化的设计趋势。因为在节能减碳的全球趋势下,如何再有效地整合光学特性,已然为重要的技术课题。
关于上述扩散片的结构,其通常是于一透明基材上涂布扩散粒子,使光通过时会产生散射的效果,进而造成光源的雾化,藉此达到提高光线分布的均匀性。而上述聚光片的结构,则通常是于透明基材上涂布一层具有光束集中能力的微结构,其最常见的设计为棱镜型(Prism)的微结构,此将充分地利用光通量以提高液晶显示器正视角的亮度。
又,目前的复合型光学膜设计,如图10所示,其为美国专利公告第6,280,063号所揭,主要是将上述两种结构设计分别涂布于透明基材50的两面,意即该透明基材50的上方为具集光的棱镜型结构51,该透明基材50的下方则为具均匀分散扩散粒子521的扩散层结构52,藉此达到光扩散效果。然而,依照上述复合型光学膜5如此的设计,不仅易造成膜材的翘曲变异性控制困难,且其扩散粒子的分散性亦易有均匀性的变异等复杂技术问题,另外所涂布的粒子易造成下置光学膜片的表面刮伤瑕疵;同时,其光扩散粒子亦容易使光穿透率下降,进而造成复合光学膜在光学特性上的减损。故,一般无法满足使用者于实际使用时所期待。
发明内容:
本发明所要解决的技术问题是:针对上述现有技术的不足,提供一种多层涂布复合型光学膜结构,以具接口微结构的扩散层作为光扩散机制而可提供高亮度及高质量光源的背光模块中使用的光学膜片。
本发明的次要目的在于,利用多层涂布技术对光源的扩散及聚光效果做复合式设计,藉整合于单一光学膜片可有效降低材料成本,并在具接口微结构的扩散层作为光扩散机制下,不仅可有效地提升辉度表现,同时亦可减少因掺杂粒子的分散及膜材翘曲等所致的质量变因及粒子涂布所致下置光学膜片刮伤瑕疵的问题。
本发明的另一目的在于,可在简化背光模块的组装以提高其组装效率的同时,亦提升此复合型光学膜的膜材质量与光学特性。
为解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:一种多层涂布复合型光学膜结构,其特点是:以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材、多层涂布及保护涂布层,其中:该透明基材,具有两相对面,且其厚度介于30μm至300μm之间;该多层涂布内层具有扩散层组合,该扩散层组合位于该透明基材两相对面其中的一面上,且该扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层所组成,该些扩散层的涂布厚度介于1μm至50μm之间,且以单一扩散层其接口微结构的粗糙度值大于0.5μm以上,其中该扩散层组合为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构;该多层涂布最表层具有聚光层,该聚光层位于该扩散层组合上,且该扩散层组合位于该聚光层与该透明基材之间,其中该聚光层为用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构;该保护涂布层,位于该透明基材的另一相对面,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损;其中,该扩散层组合的折射率介于1.3至1.6之间,该聚光层的折射率介于1.4至1.7之间。
依照本发明另一较佳实施例,一种多层涂布复合型光学膜结构,其特点是:以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材、多层涂布及保护涂布层,其中:该透明基材,具有两相对面,且其厚度介于30μm至300μm之间;该多层涂布具有扩散层组合,该扩散层组合位于该透明基材两相对面其中的一面上,且该扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层所组成,该些扩散层的涂布厚度介于1μm至50μm之间,且其接口微结构的粗糙度值大于0.5μm以上,其中该扩散层组合为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构;该多层涂布具有聚光层,该聚光层位于该透明基材的另一相对面上,其中该聚光层为用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构;该保护涂布层,位于该扩散层组合上,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损;以及其中,该扩散层组合的折射率介于1.3至1.6之间,该聚光层的折射率介于1.4至1.7之间。
依照本发明再一较佳实施例,一种多层涂布复合型光学膜结构,其特点是:以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材、多层涂布及保护涂布层,其中:该透明基材,具有两相对面,且其厚度介于30μm至300μm之间;该多层涂布具有两扩散层组合,位于该透明基材的两相对面上,且该扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层所组成,该些扩散层的涂布厚度介于1μm至50μm之间,且其接口微结构的粗糙度值大于0.5μm以上,其中该扩散层组合为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构;该多层涂布具有聚光层,位于该两扩散层组合的其中之一上,其中该聚光层为用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构;该保护涂布层,位于该两扩散层组合的其中另一个上,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损;以及其中,该扩散层组合的折射率介于1.3至1.6之间,该聚光层的折射率介于1.4至1.7之间。
如此,以具接口微结构的扩散层作为光扩散机制而可提供高亮度及高质量光源的背光模块中使用的光学膜片;利用多层涂布技术对光源的扩散及聚光效果做复合式的设计,藉整合于单一光学膜片可有效降低材料成本,并在具接口微结构的扩散层作为光扩散机制下,不仅可有效地提升辉度表现,同时亦可减少因掺杂粒子的分散及膜材翘曲等所致的质量变因及粒子涂布所致下置光学膜片刮伤瑕疵的问题;还可在简化背光模块的组装以提高其组装效率的同时,亦提升此复合型光学膜的膜材质量与光学特性。
附图说明:
图1是本发明一较佳实施例的横剖面示意图。
图2是本发明另一较佳实施例的横剖面示意图。
图3是本发明再一较佳实施例的横剖面示意图。
图4是图1中A的放大示意图。
图5是本发明的散乱型接口微结构立体示意图。
图6是本发明的棱镜型接口微结构立体示意图。
图7是本发明的角锥型接口微结构立体示意图。
图8是本发明的透镜型接口微结构立体示意图。
图9是本发明金字塔型接口微结构立体示意图。
图10是已知的复合型光学膜横剖面示意图。
标号说明:
多层涂布复合型光学膜结构1                    透明基材11
多层涂布12                                   扩散层组合120
扩散层121、122                               接口微结构121a、121b
聚光层123                                    集旋光性微结构123a
保护涂布层13                                 多层涂布复合型光学膜结构2
透明基材21                                   多层涂布22
扩散层组合220                                扩散层221、222
接口微结构221a、222a                         聚光层223
集旋光性微结构223a                           保护涂布层23
多层涂布复合型光学膜结构3                    透明基材31
多层涂布32                                   扩散层组合320、321
扩散层322、323                               接口微结构322a、323a
聚光层324                                    集旋光性微结构324a
保护涂布层33                                 散乱型4a
棱镜型4b                                     角锥型4c
透镜型4d                                     金字塔型4e
复合型光学膜5                                透明基材50
棱镜型结构51                                 扩散层结构52
扩散粒子521
具体实施方式:
本发明为一种多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于以具接口微结构的扩散层作为光扩散机制。本发明为一利用多层涂布技术,扩散层接口控制(Interface-Dominating)微结构(Microstructure)设计,并配以有效的涂布层间折射率差值以获得提供光扩散效果的材料,且在结构机制上亦利用最表层的集旋光性微结构将散射的光线作集中化处理,藉以提高正视角(On-axis)的辉度值。上述接口控制微结构设计并无特殊限制,其例如但不限于散乱型(Random)的接口微结构设计,且于以下实施例中其接口微结构的粗糙度值(Ra),欲得一定的雾度效果,是将其控制在0.5微米(μm)以上,并以大于1μm为佳;另亦可将此接口微结构设计为棱镜型(Prism)、角锥型(Cone)、透镜型(Lens)及金字塔型(Pyramid)等不同具集光能力的微结构,且除了上述散乱型的结构外,其它的结构于其结构表面具有更细化散乱性破坏的凹凸点处理以增加光扩散的功能,进而可获致具不同光学特性的复合型光学膜材。本实施例的描述是为了说明以具接口微结构的扩散层为光扩散机制的设计原理,不应视为限制的观点,并藉由以下具体的实施例,以说明本发明的实施方式。
请参阅图1所示,为本发明一较佳实施例的横剖面示意图。如图所示:于本实施例中,本发明的多层涂布复合型光学膜结构1,其特征在于以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材11、多层涂布12及保护涂布层13。
该透明基材11,具有两相对面。
该多层涂布12内层的扩散层组合120,位于该透明基材11两相对面其中的一面上,用以将入射的光线作散射化处理。其中该扩散层组合120具有至少一个以上含接口微结构121a、121b的扩散层121、122所组成,该些扩散层121、122的涂布厚度介于1μm至50μm之间,并可进一步加入无机性或有机性的粒子材料。
该多层涂布12最表层的聚光层123,位于该扩散层组合120上,且该扩散层组合120位于该聚光层123与该透明基材11之间。其中该聚光层123具有用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构123a,可为棱镜型、角锥型、透镜型及金字塔型。
该保护涂布层13位于该透明基材11的另一相对面,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损。以上所述,构成一全新的多层涂布复合型光学膜结构1。
其中,上述该多层涂布12采用的材料折射率,以该聚光层123为最高,内层的扩散层组合120中以最下层扩散层121的折射率最低,其它扩散层122的折射率则介于此二层之间,另外亦可于121和123采用高折射率的材料,122采用低折射率的材料,以提供不同的光学特性表现。
请参阅图2所示,为本发明另一较佳实施例的横剖面示意图。如图所示:于本实施例中,本发明的多层涂布复合型光学膜结构2,其特征在于以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材21、多层涂布22及保护涂布层23。
该透明基材21,具有两相对面。
该多层涂布22的扩散层组合220,位于该透明基材21两相对面其中的一面上,是为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构。其中该扩散层组合220具有至少一个以上含接口微结构221a、222a的扩散层221、222所组成,该些扩散层221、222的涂布厚度介于1μm至50μm之间,并可进一步加入无机性或有机性的粒子材料。
该多层涂布22的聚光层223,位于该透明基材21的另一相对面上,其中该聚光层223是为用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构223a,并可为棱镜型、角锥型、透镜型及金字塔型。
该保护涂布层23位于该扩散层组合220上,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损。以上所述,构成另一全新的多层涂布复合型光学膜结构2。
其中,上述该扩散层组合220中各扩散层221、222的材料折射率是以最靠近该透明基材21的折射率最低,离该透明基材21最外层的折射率最高,另外亦可于221和23采用高折射率的材料,222采用低折射率的材料以提供不同的光学特性表现。
请参阅图3所示,为本发明再一较佳实施例的横剖面示意图。如图所示:于本实施例中,本发明的多层涂布复合型光学膜结构3,其特征在于以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材31、多层涂布32及保护涂布层33。
该透明基材31,具有两相对面。
该多层涂布32的两扩散层组合320、321,位于该透明基材31的两相对面上,是为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构。其中该扩散层组合320、321具有至少一个以上含接口微结构322a、323a的扩散层322、323所组成,该些扩散层322、323的涂布厚度介于1μm至50μm之间,并可进一步加入无机性或有机性的粒子材料。
该多层涂布32的聚光层324,位于该两扩散层组合320、321其中之一上,其中该聚光层324是为用以将散射和光线作集中化处理的集旋光性微结构324a,并可为棱镜型、角锥型、透镜型及金字塔型。
该保护涂布层33位于该两扩散层组合320、321另一之上,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损。以上所述,构成再一全新的多层涂布复合型光学膜结构3。
上述图1~图3中,其多层涂布内层的扩散层组合,可依其涂布的数量获得一个或一个以上扩散层的结构,例如2层涂布(含聚光层)可得具1个扩散层的结构,3层涂布可得具2个扩散层的结构,依此类推。
请参阅图4所示,为图1中A的局部放大示意图。如图所示,并请同时参阅图1:当本发明于组装时,以图1的多层涂布复合型光学膜结构1为例。该透明基材11使用的材料,可为此所属技术领域中通常知识所已知的,并可为具高光学穿透率的玻璃或塑料材料,例如聚乙烯对苯二甲酸酯(Polyethylene Terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)等,并以介于30μm至300μm之间的厚度范围为佳。
于该透明基材11上方的多层涂布12,包含有最表层具聚光效果的集旋光性微结构123a的聚光层123,及内层具扩散效果的数个含接口微结构121a、121b的扩散层121、122所组成的扩散层组合120。其中该聚光层123及该扩散层121、122的材料折射率为愈往上层折射率愈高为最佳,亦或121和123采用高折射率材料,122采用低折射率材料,并可为紫外光固化(UV Curing)或热固化(Thermal Setting)的树酯材料。且各接口微结构121a、121b及集旋光性微结构123a可利用滚轮(Roller)或平板作为模具,于该透明基材11或该扩散层121、122上再涂布上一层树酯材料,并进行压印制程(Embossing),最后以紫外光固化或热固化后完成。其中,依本实施例中以散乱型作为接口微结构,其扩散层涂布厚度控制介于3μm至25μm之间为佳;并且,亦可在该扩散层组合120中的各扩散层121、122选择加入适量的粒子,以改变材料或光学特性。
由于在该多层涂布12最表层的聚光层123需具有高集光能力,因此其材料为高折射率材料,一般介于1.4至1.7之间,并以大于1.5以上为佳。而该扩散层组合120则为低折射率材料,一般介于1.3至1.6之间,并以小于1.5以下为佳。其中,若该扩散层组合120包含三层涂布,则第一层与第三层使用低折射率的树酯材料,而第二层则类似于最表层的聚光层123宜使用高折射率的树酯材料。
此外,本发明为了改善一般光学膜材因表面电阻过高易产生高静电问题而导致组装质量不良,此实施例亦可于该透明基材11的下方施加一可抗静电及抗磨损的保护涂布层13,藉以更提高此光学膜材产品应用上的质量条件。如是,即完成该多层涂布复合型光学膜结构1的组装。
当本发明于运用时,平行入射光的光线101、102、103及104,经过具散乱型接口微结构121a之扩散层121,将因该扩散层组合120的折射率差而产生具散射特性的折射光,其光线201、202、203及204行进将由原本的平行入射状变化成散射状。据此足以明显显示光扩散的雾度(Haze)效果可在适合的材料组合设计下以接口的微结构设计来达成。
在本发明中,以一个具单一接口微结构设计的扩散层,其散乱型结构的粗糙度值大于0.5μm,且该聚光层与该扩散层的折射率差值为0.05以上,可得到此扩散层的雾度值介于5%至60%之间,而全穿透率约小于92%以下。因此于最佳化的材料设计与接口微结构设计下,除了可得到一定光扩散功能的雾度外,亦可得到与相同纯聚光层光学膜97%至100%间的辉度增益表现。
最后,当散射的光线201、202、203及204进入最表层的聚光层123时,即可被特殊的集旋光性微结构123a设计将其光线有效的集中化。因此,利用多层涂布技术所制之光学膜材再透过材料技术的设计、接口微结构的设计以及结合最表层的集旋光性微结构设计,将可以制造出高亮度及高质量的复合型光学膜结构1。
请参阅图5~图9所示,分别为本发明的散乱型接口微结构立体示意图、本发明的棱镜型接口微结构立体示意图、本发明的角锥型接口微结构立体示意图、本发明的透镜型接口微结构立体示意图及本发明的金字塔型接口微结构立体示意图。如图所示:上述各实施例中的接口微结构,是利用物理方法的机械性表面加工粗糙化或化学方法的表面腐蚀粗糙化等,并以滚轮或平板的表面作为加工模具,使成为具有微细组糙化的散乱结构表面,再用以进行扩散层的涂布压印制程,藉以得此具散乱型4a接口微结构的扩散层。另外,本发明的接口微结构并无特殊限制,除了上述的散乱型外,亦可为棱镜型4b、角锥型4c、透镜型4d及金字塔型4e等的接口微结构设计。
综上所述,本发明的多层涂布复合型光学膜结构,可有效改善现有技术的种种缺点,利用多层涂布技术对光源的扩散及聚光效果做复合式的设计,藉整合于单一光学膜片可有效降低材料成本,并在具接口微结构的扩散层作为光扩散机制下,不仅可有效地提升辉度表现,同时亦可减少因掺杂粒子的分散及膜材翘曲等所致的质量变因及因粒子涂布所致下置光学膜片刮伤瑕疵的问题,藉此在简化背光模块的组装以提高其组装效率的同时,亦提升此复合型光学膜的膜材质量与光学特性,进而能更进步、更实用、更符合使用者所须,确已符合发明专利申请的要件,依法提出专利申请。
惟以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,当不能以此限定本发明实施的范围;故,凡依本发明申请专利范围及发明说明书内容所作的简单的等效变化与修饰,皆应仍属本发明专利涵盖的范围内。

Claims (24)

1.一种多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材、多层涂布及保护涂布层,其中:
该透明基材,具有两相对面,且其厚度介于30μm至300μm之间;
该多层涂布内层具有扩散层组合,该扩散层组合位于该透明基材两相对面其中的一面上,且该扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层所组成,该些扩散层的涂布厚度介于1μm至50μm之间,且以单一扩散层其接口微结构的粗糙度值大于0.5μm以上,其中该扩散层组合为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构;
该多层涂布最表层具有聚光层,该聚光层位于该扩散层组合上,且该扩散层组合位于该聚光层与该透明基材之间,其中该聚光层为用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构;
该保护涂布层,位于该透明基材的另一相对面,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损;
其中,该扩散层组合的折射率介于1.3至1.6之间,该聚光层的折射率介于1.4至1.7之间。
2.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述透明基材为高光学穿透率的玻璃或塑料,并可为聚乙烯对苯二甲酸酯、聚碳酸酯、或聚甲基丙烯酸甲酯。
3.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层的涂布厚度介于1μm至50μm之间。
4.如权利要求3所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层的涂布厚度介于3μm至25μm之间。
5.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合中的扩散层为棱镜型、角锥型、透镜型、或金字塔型的接口微结构。
6.如权利要求5所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述棱镜型、角锥型及金字塔型的接口微结构的表面具有更细化散乱性破坏的凹凸点处理。
7.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层的接口微结构的粗糙度值大于0.5μm。
8.如权利要求7所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层的接口微结构的粗糙度值大于1μm。
9.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述聚光层为棱镜型、角锥型、透镜型及金字塔型的集旋光性微结构。
10.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述聚光层为高折射率材料,其折射率介于1.4至1.7。
11.如权利要求10所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述聚光层的折射率大于1.5且小于等于1.7。
12.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合的各扩散层为低折射率材料,其折射率介于1.3至1.6。
13.如权利要求12所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合的各扩散层的折射率大于等于1.3且小于1.5。
14.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合包含三层涂布,且第一层与第三层为低折射率的树酯材料,第二层则为高折射率的树酯材料。
15.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述聚光层与该扩散层的折射率差值为0.05以上,且该扩散层的雾度值介于5%至60%之间。
16.如权利要求1所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合中的各扩散层进一步加入粒子材料,该粒子材料为无机性或有机性材料。
17.一种多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材、多层涂布及保护涂布层,其中:
该透明基材,具有两相对面,且其厚度介于30μm至300μm之间;
该多层涂布具有扩散层组合,该扩散层组合位于该透明基材两相对面其中的一面上,且该扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层所组成,该些扩散层的涂布厚度介于1μm至50μm之间,且其接口微结构的粗糙度值大于0.5μm以上,其中该扩散层组合为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构;
该多层涂布具有聚光层,该聚光层位于该透明基材的另一相对面上,其中该聚光层为用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构;
该保护涂布层,位于该扩散层组合上,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损;以及
其中,该扩散层组合的折射率介于1.3至1.6之间,该聚光层的折射率介于1.4至1.7之间。
18.如权利要求17所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合中的扩散层为棱镜型、角锥型、透镜型及金字塔型的接口微结构。
19.如权利要求17所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述聚光层与该扩散层的折射率差值为0.05以上,且该扩散层的雾度值介于5%至60%之间,全穿透率小于92%以下。
20.如权利要求17所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合中的各扩散层进一步加入粒子材料,该粒子材料为无机性或有机性材料。
21.一种多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:以具散乱型接口微结构的扩散层作为光扩散机制,包括透明基材、多层涂布及保护涂布层,其中:
该透明基材,具有两相对面,且其厚度介于30μm至300μm之间;
该多层涂布具有两扩散层组合,位于该透明基材的两相对面上,且该扩散层组合具有至少一个以上含接口微结构的扩散层所组成,该些扩散层的涂布厚度介于1μm至50μm之间,且其接口微结构的粗糙度值大于0.5μm以上,其中该扩散层组合为用以将入射的光线作散射化处理的接口微结构;
该多层涂布具有聚光层,位于该两扩散层组合的其中之一上,其中该聚光层为用以将散射的光线作集中化处理的集旋光性微结构;
该保护涂布层,位于该两扩散层组合的其中另一个上,用以提供整体结构的抗静电及抗磨损;以及
其中,该扩散层组合的折射率介于1.3至1.6之间,该聚光层的折射率介于1.4至1.7之间。
22.如权利要求21所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合中的扩散层为棱镜型、角锥型、透镜型及金字塔型的接口微结构。
23.如权利要求21所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述聚光层与该扩散层的折射率差值为0.05以上,且该扩散层的雾度值介于5%至60%之间。
24.如权利要求21所述的多层涂布复合型光学膜结构,其特征在于:所述扩散层组合中的各扩散层进一步加入粒子材料,该粒子材料为无机性或有机性材料。
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