CN101659904A - 水溶性多功能高性能去污增光剂 - Google Patents

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仇锦明
仇剑锋
仇剑梅
焦清华
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Abstract

一种可用于汽车漆面、金属、塑料、家具、地板和皮革制品等表面的多功能去污上光的多功能去污增光剂,特别是一种水溶性的多功能、高性能去污增光剂的配方及其生产工艺方法,它的配方是(重量%):十二烷基璜酸钠 1-28%,硅油 2.1-10%,聚乙二醇 5-20%,异炳醇 5-10%,乙二醇 3-5%,丙二醇 3-5%,水 35%。它的制造工艺是在15℃-20℃的水中将各组份逐一加入搅拌均匀而得本发明的成品。本发明是以水为溶剂、制造简单、成本低廉、节能环保的高性能产品。

Description

水溶性多功能高性能去污增光剂
一、技术领域
一种可用于汽车漆面、金属、塑料、家具、地板和皮革制品等表面的多功能去污上光的多功能去污增光剂,特别是一种水溶性的多功能、高性能去污增光剂的配方及其生产工艺方法。
二、技术背景
本发明人对汽车玻璃去污增光防雾防霜抗静电剂的大批的相关专利技术进行了精选、分析、综合等研究,研究结果表明这类技术从使用功能或目的分为:各种硬表面(如:汽车漆面、金属、塑料、家具、地板和皮革制品)的去污功能、增光亮功能、保护功能(防水、防绣、防腐、防尘、防紫外线和抗氧化、老化等功能)玻璃及硬表面的抗静电的功能,玻璃防雾、防霜、防雨、防冰冻等等功能,共不下8种功能;研究表明为了实现上述8种功能所用的材料功能分类共分17种,如在材料表面形成增光保护膜的主成膜剂,主要起润湿、吸湿、抗凝作用的防雾防霜剂,降低冰点的抗冻剂,加速冰霜溶化的增溶剂,抗静电剂,乳化剂、起分散作用的流平剂,起稀释作用的溶剂,起洗涤作用的去污剂,润滑剂、胶合剂、起抗反光作用的抗反光剂,增稠剂、防腐剂,酸度调解剂,催化剂、聚合剂、引发剂、增香剂等等共17种功能材料;研究分析表明以上17种功能材料中的每一种功能又可涉及到一种至多种具体的化工原料,有的一种功能材料可涉及10多种原料,统计分析表明17种功能中的主要的功能材料涉及的化工原料已超过了65种,因此精选搭配好各种原料,克服现有产品的缺点,使现有产品的性能得到提高很有必要。
三、发明内容
本发明的目的是要发明一种水溶性的多功能高性能的去污增光剂,达到组方和工艺简单,性能优良,性能价格比高等特点和优点,本发明的发明目的是以精选一物多用的多功能、高性能的去污功能材料和增光材料或保护材料取代单一功能材料实现的,
本发明组方如下(重量%)
原料名称          配方范围      实事例
十二烷基璜酸钠    1-28%        20%
硅油              2.1-10%      5%
聚乙二醇          5-20%        20%
异炳醇            5-10%        10%
乙二醇            3-5%         5%
丙二醇        3-5%        5%
水            35%
本发明制造工艺方法如下:
先在容器中放入水,水温控制在15C°-20C°(温度过高时,十二烷基璜酸钠的作用会受到影响)然后依次加入上述各组份的原料,充分混合搅拌均匀即得到成品。
本发明的优点:
1、本发明产品的配方合理简单,以水为溶剂使用安全
2、采用了硅油、异丙醇等一物多用性能好的原料,使产品达到用途广泛性能优异、性价比高的高性能要求。
3、本发明产品加工工艺简单,无污染物排放,不需要加热节能降耗、绿色环保,是难得的多功能高性能的典型产品。
四、具体实施方式:
现结合实施例对本发明的实施方式做进一步说明如下:
实施例:
本发明实施例的配方与前面三中所列相同,实施例工艺方法也与三中所列相同。

Claims (2)

1、一种可用于汽车漆面、金属、塑料、家具、地板和皮革制品等表面的多功能去污上光的多功能去污增光剂,特别是一种水溶性的多功能、高性能去污增光剂的配方及其生产工艺方法,其特征在于它的配方是(重量%):
十二烷基璜酸钠    1-28%
硅油              2.1-10%
聚乙二醇          5-20%
异炳醇            5-10%
乙二醇            3-5%
丙二醇            3-5%
水                35%。
2、按照权利要求1的一种水溶性的多功能、高性能去污增光剂的配方及其生产工艺方法,其特征在于它的制造工艺方法如下:
先在容器中放入水,水温控制在15℃-20℃(温度过高时,十二烷基璜酸钠的作用会受到影响)然后依次加入上述各组份的原料,充分混合搅拌均匀即得到成品。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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