CN101598866B - 显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种显示面板，其具有显示区以及非显示区。所述显示面板包括第一基板、第二基板以及位于第一基板与第二基板之间的显示介质。第一基板上包括设置有像素阵列、多条引线、有机层以及导电图案。像素阵列位于显示区内。引线位于非显示区且与像素阵列电性连接。有机层覆盖像素阵列以及所述引线。导电图案位于引线上方的有机层上。另外，第二基板上包括设置有透明电极层，其中透明电极层位于显示区以及非显示区，特别是，此透明电极层与上述的导电图案电性连接至共同电压。

Description

显示面板

技术领域

本发明是有关于一种显示面板，且特别是有关于一种将彩色滤光阵列整合于像素阵列基板上(color filter on array，COA)或是将黑矩阵整合于像素阵列基板上(black matrix on array，BOA)的显示面板。

背景技术

近年来随着光电技术与半导体制造技术的成熟，带动了平面显示器(FlatPanel Display，FPD)的蓬勃发展，其中液晶显示器基于其低电压操作、无辐射线散射、重量轻以及体积小等优点，更逐渐取代传统的阴极射线管显示器而成为近年来显示器产品的主流。一般来说，液晶显示器中的液晶显示面板是由像素阵列基板、彩色滤光阵列基板和夹于两基板之间的液晶层所构成。

另外，在像素阵列与驱动电路之间是利用引线而使彼此电性连接。通常仅位于彩色滤光阵列基板的黑矩阵会间隔着液晶层而覆盖住仅位于像素阵列基板的引线所在之处，以避免光线由引线处产生漏光。这里所说的引线(例如：栅极引线)是指信号线(例如：栅极线)与外部元件连接之间所需的线段，并非为像素阵列中，用以形成像素区的信号线(例如：栅极线)。但是，因为黑矩阵无法百分之百将光线阻挡，而且引线(例如：栅极引线)所通入的电压较高且引线(例如：栅极引线)之间的距离又小，因此在引线(例如：栅极引线)上方的液晶分子容易受到引线(例如：栅极引线)的电压的影响，而导致引线(例如：栅极引线)处仍然会有些许漏光的情形。

发明内容

本发明提供一种显示面板，其可以解决在引线(例如：栅极引线)处的漏光的问题。

本发明提出一种显示面板，其具有显示区以及非显示区。所述显示面板包括第一基板、第二基板以及位于第一基板与第二基板之间的显示介质。第一基板上包括设置有像素阵列、多条引线、有机层以及导电图案。像素阵列位于显示区内。引线位于非显示区且与像素阵列电性连接。有机层覆盖像素阵列以及所述引线。导电图案位于引线上方的有机层上。另外，第二基板上包括设置有透明电极层，其中透明电极层位于显示区以及非显示区，特别是此透明电极层与上述的导电图案电性连接至共同电压。

基于上述，本发明因于引线上方的有机层上设置有导电图案，且此导电图案与对向基板上的透明电极层电性连接至共同电压。由于导电图案与对向电极处于共电压状态，因此引线上方的液晶分子不会受到引线的电压而产生扭转，因而可进一步避免光线从引线处产生漏光。

为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。

附图说明

图1是根据本发明一实施例的显示面板的局部剖面示意图；

图2是图1的显示面板的第一基板的俯视示意图，其中图1为对应图2的I-I’的剖面处；

图3至图13是根据本发明数个实施例的显示面板的局部剖面示意图。

其中，附图标记

102、104：基板

106：显示介质

110：显示区

112：绝缘层

114、116：保护层

120：非显示区

122、122a，122b：有机层

124：遮光图案层

150：像素阵列

151：主动元件

152：像素电极

153：像素结构

156：导电图案

156a：不透光的导电图案

158，164：配向层

162：透明电极层

162a：不透光区

170：拟间隙物

L：引线

SL：扫描线

DL：数据线

BL：背光光源

具体实施方式

第一实施例

图1是根据本发明一实施例的显示面板的局部剖面示意图。图2是图1的显示面板的第一基板的俯视示意图，其中图1为对应图2的I-I’的剖面处，且图2省略绘示彩色滤光层、黑矩阵以及位于其上的膜层。

请同时参照图1以及图2，本实施例的显示面板具有显示区110以及位于显示区110周围的非显示区120。也就是说，非显示区120环绕显示区110。此显示面板包括第一基板102、第二基板104以及显示介质106。在较一佳实施例中，第一基板102与第二基板104之间是通过框胶130而组立在一起，且显示介质106位于第一基板102与第二基板104之间且位于框胶130所围出的区域中。在本实施例中，显示介质106包括液晶分子、电泳材料或其它合适的材料。

更详细而言，第一基板102上包括设置有像素阵列150、引线L、有机层122以及导电图案124。

像素阵列150位于显示区120内。像素阵列150是由多个像素结构153以及与像素结构153电性连接的扫描线SL以及数据线DL所组成。一般来说，每一像素结构153包括主动元件151以及与主动元件151电性连接的像素电极152，而且每一像素结构153与对应的数据线DL以及扫描线SL电性连接。扫描线SL以及数据线DL延伸至非显示区120处称为引线L，L’。换言之，与扫描线SL连接的引线L是与扫描线SL同时形成，与数据线DL连接的引线L’是与数据线DL同时形成。引线L，L’主要是用来使像素阵列150与驱动电路(未绘示)电性连接，以使驱动电路的信号得以输入像素阵列150。也就是说，引线L，L’分别是位于扫描线SL与驱动电路(未绘示)间的线段以及数据线DL与驱动电路(未绘示)间的线段。其中，若，驱动电路可设置于第一基板102上，则此时即称为驱动电路于基板(circuit on board)。驱动电路(未绘示)亦可设置于非第一基板102上的电路板(未绘示)上。必需说明的是，驱动电路(未绘示)并非像素阵列150中的主动元件151，而是分别提供扫描信号于扫描线SL与数据信号于数据线DL的电路。由于像素阵列150的制造程序的缘故，在引线L上方会覆盖有绝缘层112以及保护层114，如图1所示。其中，绝缘层112可另称为栅极绝缘层，而保护层114是覆盖于像素阵列150的各晶体管上方，即位于各晶体管的源/漏极的上方。

有机层122覆盖在保护层114上。在本实施例中，有机层122可为彩色滤光层。但，本发明不限于此，在其他的实施例中，有机层122亦可为平坦层或是其他的有机膜层。在本实施例中，位于显示区110的有机层122a包括红色、绿色以及蓝色滤光图案，而位于非显示区120的有机层122b较佳的是蓝色滤光图案。但，本发明不限于此，位于非显示区120的有机层122b亦可为其他颜色的滤光图案，如红色或是绿色滤光图案。

特别是，在本实施例中，在有机层122的底下更包括有一遮光图案层124，遮光图案层124位于显示区110以及非显示区120中。在显示区110中的遮光图案层124为一网状结构，此网状结构中的每一空格即对应一个像素结构(或称为像素区域、或称为有效显示区域)，因此遮光图案层124又可称为黑色矩阵。在非显示区120中的遮光图案层124为环状结构或框形结构，其围绕在显示区110的周围。特别是，位于非显示区120中的遮光图案层124覆盖在引线L的上方，而引线L上方的遮光图案层124上更被有机层122b所覆盖，此有机层122b较佳的是蓝色滤光图案。在本实施例中，遮光图案层124的材质包括黑树脂。

另外，在一较佳实施例中，在有机层122上更包括覆盖有另一层保护层116。保护层116可为单层或多层结构，且其材质可为无机绝缘材料(例如：氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、富硅氮化物、富硅氧化物、富硅氮氧化物、富氮硅化物、富氧硅化物、富氮氧硅化物、或其它合适的材料、或上述任意的组合)、有机绝缘材料(例如：聚酯类薄膜(PET film)、聚烯类薄膜、聚丙酰类薄膜、聚碳酸酯类薄膜、聚环氧烷类薄膜、聚苯烯类薄膜、聚醚类薄膜、聚酮类薄膜、聚醇类薄膜、聚醛类薄膜、或其它合适的材料、或上述的组合)、或其它合适的材料、或上述任意的组合。此时，另一层保护层116可称为平坦层(flatnesslayer)或覆盖层(overcoat layer)，其材料亦可使用上面所描述的材料。但，在其他的实施例中，可以省略保护层116。

上述的像素阵列150中的像素电极152是形成在保护层116上，像素电极152可通过形成于保护层116以及有机层122中的接触窗而与主动元件151电性连接。

另外，在非显示区120的保护层116上则另外设置有导电图案156，且此导电图案156是位于引线L上方的有机层122上。在本实施例中，较佳地，导电图案156是与像素电极152同时形成，因此导电图案156的材质与像素电极12的材质相同，其例如是透明金属氧化物(如：铟锡氧化物、铟锌氧化物、铟锗锌氧化物、铝锌氧化物、铟锗氧化物、铟铝氧化物、或其它合适的材料、或上述任意的组合)。于其它实施例，亦不限于此。在本实施例中，导电图案156是与像素电极152是相互分隔开来的，较佳地，导电图案156是与像素电极152是相互电性绝缘。在本实施例中，导电图案156的形状是以矩形为例来说明的，但本发明不限于此，其亦可为其他的形状，例如是指状结构、多边形结构等等，只要是能在引线L上方即可。

除此之外，在第一基板102上的显示区110中更可包括设置有配向层158，用以使显示介质106能够具有特定的预倾角。在本实施例中，较佳地，配向层158仅设置于显示区110中，即配向层158设置于像素电极上。

另外，第二基板104位于第一基板102的对向，且第二基板104上包括设置有透明电极层162，且透明电极层162位于显示区110以及非显示区120中。换言之，透明电极层162自显示区110延伸至非显示区120中。除此之外，在第二基板104上的显示区110中更可包括设置有配向层164，用以使显示介质106能够具有特定的预倾角。在本实施例中，较佳地，配向层158所设置的位置相对应于配向层164的位置。换言之，配向层158的边缘是切齐配向层164的边缘。特别是，透明电极层162与第一基板102上的导电图案156电性连接至一共同电压。其中，透明电极层162材质可选用像素电极12的材质，但上述二者的材质可相同或不同。另外，必需说明的是，透明电极层162的材质无法改用不透光材质(如：金、银、铜、铝、钛、钽、合金、或其它合适材料、或上述任意的组合)。因为，观察者是位于第二基板104的外表面来观察及查觉背光光源BL的光线。也就是说，观察者是位于第二基板104不存在配向膜164与透明电极层162的表面外。若透明电极层162的材质无法改用不透光材质就无法达到让观察者观察的效果。

由于透明电极层162与导电图案156电性连接至一共同电压，因此透明电极层162与导电图案156之间的显示介质(液晶分子)106因为没有电压差之故，因此这部分的液晶分子106不会产生任何的扭转行为。换言之，由于导电图案156的遮蔽作用，引线L的电压将无法影响其上方的液晶分子106产生扭转行为，因而在引线L上方的液晶分子106将持续维持垂直排列的状态。如此，从第一基板102的背面所提供的背光光源BL因为引线L上方的液晶分子106的垂直排列之故便不会射出第二基板104，进而可避免该处产生漏光的情形。

特别是，在本实施例中，在引线L上方除了导电图案156的作用使得该处的液晶分子106呈现垂直排列之外，在引线L上方还有遮光图案层124以及蓝色滤光图案122b的遮蔽，进一步使背光光源BL无法到达第二基板104而透射出。由于蓝色滤光图案122b相较于其他颜色的滤光图案具有较佳的吸收效果，因此本实施例采用蓝色滤光图案作为位于引线L上方的有机层122b。但，本发明不限于此，在其他的实施例中，亦可采用其他颜色的滤光图案或者是光吸收效果类似于蓝色滤光图案的色彩层。另外，本实施例较佳的是在引线L上方覆盖遮光图案层124，然而，在其他的实施例中，亦可以省略遮光图案层124。

为了进一步降低引线L上方的漏光情形，在其他的实施例中，如图3所示，可进一步在第二基板104上的透明电极层162上形成一不透光区162a。图3的实施例的结构与图1相似，不同之处仅在于第二基板104上的透明电极层162上形成有一不透光区162a。其中不透光区162a存在于不具有配向膜164之处。上述的不透光区162a可通过激光烧灼(laser burn)的方式实现，其例如是采用200～400nm波长以及1～10Mw功率的激光对透明电极层162进行烧灼，以使对应于引线L上方的透明电极层162具有不透光区162a，且此不透光区162a仍具有导电性质。另外，在其他的实施例中，亦可以在对应于引线L上方的透明电极层162上以喷墨或是沉积等等方式形成一不透光层，以构成此不透光区162a。

根据本发明的另一实施例，除了在第二基板104的透明电极层162上形成不透光区162a之外，亦可以进一步使用不透光材质的导电图案156a，如图4所示。图4的实施例的结构与图3相似，不同之处仅在于第一基板102上的导电图案156a为不透光的导电图案(如：金、银、铜、铝、钛、钽、合金、碳黑、或其它合适材料、或上述任意的组合)。其中不透光区156a存在于不具有配向膜158之处。若导电图案156采用透明材质时，此不透光的导电图案156a可以通过对透明导电图案进行激光烧灼的方式达成，其例如是采用200～400nm波长以及1～10Mw功率的激光对电极层152进行烧灼，或者是直接使用金属(如：金、银、铜、铝、钛、钽、合金、或其它合适材料、或上述任意的组合)或其他不透光的导电材质来作为导电图案156的材料，而形成不透光的导电图案156a。

上述图4的实施例是在第二基板104的透明电极层162上形成不透光区162a之外，且于第一基板102上形成不透光的导电图案156a。但，根据本发明的另一实施例，亦可以仅在第一基板102上形成不透光的导电图案156a，而不在第二基板104的透明电极层162上形成不透光区162a。

第二实施例

在上述图1、图3以及图4的实施例中，有机层122是覆盖在遮光图案层124上，但，本发明不限于此。在其他的实施例中，亦可以是遮光图案层124是覆盖在有机层122上。请先参照图5，图5的实施例与图1相似，不同之处仅在于有机层122是形成在保护层114上，遮光图案层124是位于有机层122上。在较佳的实施例中，有机层122的上表面更覆盖有保护层116。另外，在图5的实施例中，导电图案156是位于遮光图案层124与有机层122(或保护层116)之间。由于导电图案156可与像素电极152一同形成，因此像素电极152是形成在保护层116上，遮光图案层124暴露出像素电极152，且配向层158覆盖像素电极152以及遮光图案层124的局部边缘。也就是说，遮光图案层124的局部上表面是被暴露于显示介质层106之中。较佳地，于本实施例中，配向层158的边缘切齐配向层164的边缘。

类似地，根据图5的实施例，亦可进一步使第二基板104上的透明电极层162上形成一不透光区162a，如图6所示。其中不透光区162a存在于不具有配向膜164之处。图6的实施例的结构与图5相似，不同之处仅在于第二基板104上的透明电极层162上形成一不透光区162a。上述的不透光区162a可通过激光烧灼的方式实现，其例如是采用200～400nm波长以及1～10Mw功率的激光对透明电极层162进行烧灼，以使对应于引线L上方的透明电极层162具有一不透光区162a，且此不透光区162a仍具有导电性质。另外，在其他的实施例中，亦可以在对应于引线L上方的透明电极层162上以喷墨或是沉积等等方式形成一不透光层，以构成此不透光区162a。

根据本发明的又一实施例，除了在第二基板104的透明电极层162上形成不透光区162a之外，亦可以进一步使用不透光材质的导电图案156a形成于引线L上方，如图7所示。图7的实施例的结构与图6相似，不同之处仅在于第一基板102上的导电图案156a为不透光的导电图案(如：金、银、铜、铝、钛、钽、合金、或其它合适材料、或上述任意的组合)。其中不透光区156a存在于不具有配向膜158之处。若导电图案156采用透明材质时，此不透光的导电图案156a可以通过对透明导电图案进行激光烧灼的方式达成，其例如是采用200～400nm波长以及1～10Mw功率的激光对电极层152进行烧灼，或者是直接使用金属(如：金、银、铜、铝、钛、钽、合金、或其它合适材料、或上述任意的组合)或其他不透光的导电材质来作为导电图案156的材料，而形成不透光的导电图案156a。

上述图7的实施例是在第二基板104的透明电极层162上形成不透光区162a之外，且于第一基板102上形成不透光的导电图案156a。但，根据本发明的另一实施例，亦可以仅在第一基板102上形成不透光的导电图案156a，而不在第二基板104的透明电极层162上形成不透光区162a。

第三实施例

图8为根据本发明一实施例的显示面板的局部剖面示意图。图8的实施例与图5相似，不同之处在于在引线L上方的有机层122上除了设计有导电图案156且导电图案156与电极层164电性连接至共同电压之外，更包括在导电图案156上设置拟间隙物170。特别是，拟间隙物170与第二基板104上的透明电极层162之间距有一间隙(A)。倘若显示区110中显示介质106具有一厚度(G)，那么间隙(A)与厚度(G)的关系为A≥1/2G。此拟间隙物170的设计可以排开引线L上方的显示介质(例如：液晶分子)106，但又不影响显示面板的显示区110中的显示介质106厚度(G)。此外，在图8的实施例中，拟间隙物170的下方并未覆盖有遮光图案层124。也就是，拟间隙物170是直接位于导电图案156上，且遮光图案层124在非显示区120中是位在拟间隙物170与显示区110之间，而遮光图案层124并未覆盖拟间隙物170。

类似地，根据图8的实施例，亦可进一步使第二基板104上的透明电极层162上具有一不透光区162a，并且使用不透光材质的导电图案156a，如图9所示。不透光区162a的形成方法以及不透光材质的导电图案156a的形成方法与先前所述的实施例相同，因此在此不再赘述。当然，本发明不限制需同时于第二基板104上的透明电极层162上设计一不透光区162a并且于第一基板102上使用不透光材质的导电图案156a，如图9所示。在其他的实施例中，亦可以仅于第二基板104上的透明电极层162上设计一不透光区162a，或是仅于第一基板102上使用不透光材质的导电图案156a。

在图8以及图9所绘示的实施例中，在引线L上方并未设置有遮光图案层124。但，本发明不限于此，在其他的实施例中，如图10所示，在引线L上方的有机层122上亦可覆盖有遮光图案层124，并且导电图案156是夹于有机层122与遮光图案层124之间，而拟间隙物170是位于遮光图案层124上，其它相类似的描述，烦请查看图8与图9的描述，再此不再赘言。更详细而言，在图10的实施例中，在非显示区120中设置有有机层122b，较佳的是，在非显示区120所设置的有机层122b是蓝色滤光图案。但，本发明不限于此，在其他的实施例中，亦可采用其他颜色的滤光图案或者是光吸收效果类似于蓝色滤光图案的色彩层。有机层122上覆盖有一层保护层116。另外，遮光图案层124是自显示区110延伸至非显示区120并且覆盖住非显示区120中的有机层122b。而导电图案156是夹于有机层122与遮光图案层124之间，且拟间隙物170是位于非显示区120中的遮光图案层124上。较佳地，导电图案156位于有机层122与遮光图案层124之间是不透光材质的导电图案156a且可进一步使第二基板104上的透明电极层162上具有一不透光区162a。

图11为根据本发明一实施例的显示面板的局部剖面示意图。图11的实施例与图1相似，不同之处在于在引线L上方的遮光图案层124上除了设计有导电图案156且导电图案156与透明电极层162电性连接至共同电压之外，更包括在导电图案156上设置拟间隙物170。特别是，拟间隙物170与第二基板104上的透明电极层162之间有一间隙(A)。倘若显示区110中显示介质106具有一厚度(G)，那么间隙(A)与厚度(G)的关系为A≥1/2G。此拟间隙物170的设计可以排开引线L上方的显示介质(例如：液晶分子)106，但又不影响显示面板的显示区110中的显示介质106厚度(G)。更详细而言，在图11的实施例中，仅在显示区110设置有机层122a，在非显示区120中未设置有有机层。另外，遮光图案层124自显示区110延伸至非显示区120且覆盖整个非显示区120。而导电图案156设置在非显示区120的遮光图案层124上，且拟间隙物170设置在导电图案156上。

类似地，根据图11的实施例，亦可进一步使第二基板104上的透明电极层162上具有一不透光区162a，并且使用不透光材质的导电图案156a，如图12所示。不透光区162a的形成方法以及不透光材质的导电图案156a的形成方法与先前所述的实施例相同，因此在此不再赘述。当然，本发明不限制需同时于第二基板104上的透明电极层162上设计一不透光区162a并且于第一基板102上使用不透光材质的导电图案156a，如图12所示。在其他的实施例中，亦可以仅于第二基板104上的透明电极层162上设计一不透光区162a，或是仅于第一基板102上使用不透光材质的导电图案156a。

在图11与图12所绘示的实施例中，在引线L上方并未设置有有机层122b。然，本发明不限于此，在其他的实施例中，如图13所示，在引线L上方的遮光图案层124上亦可覆盖有有机层122b，并且导电图案156位于有机层122b上，而拟间隙物170是位于有机层122b上。更详细而言，在图13的实施例中，遮光图案层124是自显示区110延伸至非显示区120并且覆盖非显示区120中的引线L。另外，本实施例在非显示区120中设置有有机层122b，较佳的是，在非显示区120所设置的有机层122b是蓝色滤光图案。但，本发明不限于此，在其他的实施例中，亦可采用其他颜色的滤光图案或者是光吸收效果类似于蓝色滤光图案的色彩层。有机层122上覆盖有一层保护层116。另外，而导电图案156是夹于有机层122与遮光图案层124之间，且拟间隙物170是位于非显示区120中的有机层122b(保护层116)上。较佳地，导电图案156位于有机层122与遮光图案层124之间是不透光材质的导电图案156a且可进一步使第二基板104上的透明电极层162上具有一不透光区162a。

上述各实施例皆是以于与扫描线SL连接的引线L上方形成导电图案、有机层、遮光图案层、拟间隙物的组合为例来避免引线L处产生漏光的情形。但，本发明不限仅能在与扫描线SL连接的引线L上方形成导电图案、有机层、遮光图案层、拟间隙物的组合，如果有需要的话，也可以在与数据线DL连接的引线L’上方形成如上所述的导电图案、有机层、遮光图案层、拟间隙物的组合，以避免引线L’处产生漏光的情形。当然，扫描线SL与数据线DL所分别连接的引线L、L’上方形成如上所述的导电图案、有机层、遮光图案层、拟间隙物的组合，以避免引线L、L’处产生漏光的情形。

综上所述，本发明因于引线上方的有机层上设置有导电图案，且此导电图案与对向基板上的透明电极层电性连接至共同电压。由于导电图案与对向电极处于共电压状态，因此引线上方的显示介质层(例如：液晶层)不会受到引线的电压而产生扭转，因而可进一步避免光线从引线处产生漏光。根据较佳的实施例，本发明更可在上述导电图案之处设置有蓝色滤光图案的有机层以及遮光图案层，或者是进一步设置拟间隙物，如此可更进一步减少光线从引线处产生漏光。

当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。

Claims (15)

1.一种显示面板，其具有一显示区以及一非显示区，其特征在于，该显示面板包括：

一第一基板，该第一基板上包括设置有：

一像素阵列，位于该显示区内；

多条引线，位于该非显示区，且与该像素阵列电性连接；

一有机层，覆盖该像素阵列以及所述引线；

一导电图案，位于所述引线上方的该有机层上；

一遮光图案层，位于所述引线的上方；

一第二基板，该第二基板上包括设置有一透明电极层，该透明电极层位于该显示区以及该非显示区，其中该透明电极层与该导电图案电性连接至一共同电压；以及

一显示介质，位于该第一基板与该第二基板之间；

其中，该有机层为一彩色滤光层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述引线为栅极引线。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，覆盖所述引线的该彩色滤光层为一蓝色滤光图案。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该遮光图案层位于该显示区以及该非显示区，并且位于该有机层的底下。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，该遮光图案层覆盖所述引线，且位于所述引线上方的该遮光图案层上的该有机层为一蓝色滤光图案。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该遮光图案层位于该显示区以及该非显示区，并且位于该有机层的上方且覆盖该导电图案。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，该遮光图案层覆盖所述引线，且位于所述引线上方的该有机层为一蓝色滤光图案，并且该导电图案位于所述引线上方的该蓝色滤光图案与该遮光图案层之间。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该第二基板上的该透明电极层具有一不透光区，其位于对应设置有所述引线之处。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，该透明电极层的该不透光区为一激光烧灼的电极层或是另被一不透光材料所覆盖的区域。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该第一基板上的该导电图案为一不透光的导电图案。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，该不透光的导电图案为一激光烧黑的导电图案或是另被一不透光材料所覆盖的导电图案。

12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该第一基板上更包括一拟间隙物，位于该导电图案上，其中该拟间隙物与第二基板的该透明电极层的间距有一间隙A。

13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，在该显示区中该显示介质具有一厚度G，且A≥1/2G。

14.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该第一基板更包括：

一第一保护层，位于该显示区以及该非显示区，且覆盖所述引线；以及

一第二保护层，覆盖该有机层。

15.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，该导电图案的材质包括金属氧化物或是金属。

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