CN101585720A - 一种制备颗粒硼肥的方法 - Google Patents

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赵春明
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Abstract

本发明是属于化工技术领域，涉及一种制备颗粒硼肥的方法，该方法以十水硼砂、五水硼砂和浓硫酸为原料，经过混合、造粒、筛分、干燥制成颗粒硼肥。本发明的工艺简单易实现，且生产的颗粒硼肥利于作物吸收，便于运输，具有非常广阔的应用前景。

Description

一种制备颗粒硼肥的方法
技术领域
本发明是属于化工技术领域，涉及一种制备颗粒硼肥的方法。
背景技术
硼肥是植物必须的营养元素之一，硼以硼酸分子(H3BO3)的形态被植物吸收利用，在植物体内不易移动。硼能促进根系生长，对光合作用的产物-碳水化合物的合成与运转有重要作用，对受精过程的正常进行有特殊作用。因此对防治油菜“花而不实”，棉花“蕾而不花”和果树“落蕾、落花、落果”等症均有明显能力，油菜、棉花、大豆、甜菜、苹果、柑橘等施硼肥都有显著增产，并改善品质。中国缺肥土壤在南方北方都有，合理施用硼肥对发展我国农业有重要意义。
我国的硼肥市场多是十水硼砂，五水硼砂和硼泥，作为叶面喷施肥比较方便，但作为混合肥料和单一施用肥料比较麻烦，国内的颗粒硼肥多是依靠进口，价格昂贵，基于这种现状，我们研制了颗粒硼肥。
发明内容
本发明提出了一种工艺简单易实现的制备颗粒硼肥的方法，制成的硼肥完全能够满足作物施肥的需要，替代进口硼肥。
本发明的技术解决方案是：本发明以十水硼砂、五水硼砂和浓硫酸为原料，各原料重量百分比为：
十水硼砂    20％
五水硼砂    75％
浓硫酸      5％
具体制备步骤如下：
(1)将五水硼砂粉碎成80～100目；
(2)按上述比重将十水硼砂与浓硫酸，以及水在保温锅均匀搅拌混合，保温锅的温度控制在80～160℃之间，搅拌时间为20～40分钟，制成粘合剂备用；
(3)将粉碎好的五水硼砂投入造粒机内，用步骤(2)配制好的粘合剂进行造粒；
(4)将造好的颗粒投入回转筛内进行颗粒的筛分，筛孔径为2.0mm～4.0mm，直径小于2mm的颗粒重新回到造粒工序，直径为4.0mm以上的颗粒粉碎后作为原料投入使用；
(5)取2.0mm～4.0mm区间的颗粒在震动烘干机内进行烘干，烘干温度控制在60～120℃。
(6)根据标准GB/T 12684-2006检测；
(7)将合格产品进行分装。
本发明的有益效果是：工艺简单易实现，且生产的颗粒硼肥利于作物吸收，便于运输，具有非常广阔的应用前景。
具体实施方式
实施例1
以十水硼砂、五水硼砂和浓硫酸为原料，各原料重量百分比为：
十水硼砂    20％
五水硼砂    75％
浓硫酸      5％
具体制备步骤如下：
(1)将750公斤五水硼砂粉碎成80～100目；
(2)将200公斤十水硼砂与50公斤浓硫酸，以及水在保温锅均匀搅拌混合，保温锅的温度控制在80～160℃之间，搅拌时间30分钟，制成粘合剂备用；
(3)将粉碎好的五水硼砂投入造粒机内，用步骤(2)配制好的粘合剂进行造粒；
(4)将造好的颗粒投入回转筛内进行颗粒的筛分，筛孔径为2.0mm～4.0mm，直径小于2mm的颗粒重新回到造粒工序，直径为4.0mm以上的颗粒粉碎后作为原料投入使用；
(5)取2.0mm～4.0mm区间的颗粒在震动烘干机内进行烘干，烘干温度为100℃。
(6)根据标准GB/T12684-2006检测，检测结果为：B2O3 49.96％，强度3.24Kg，水分3.4％。
(7)将合格产品进行分装。

Claims (1)

1、一种制备颗粒硼肥的方法，其特征在于，该方法以十水硼砂、五水硼砂和浓硫酸为原料，各原料重量百分比为：
十水硼砂    20％
五水硼砂    75％
浓硫酸      5％
步骤如下：
(1)将五水硼砂粉碎成80～100目；
(2)按上述比重将十水硼砂与浓硫酸，以及水在保温锅均匀搅拌混合，保温锅的温度控制在80～160℃，搅拌时间为20～40分钟，制成粘合剂备用；
(3)将粉碎好的五水硼砂投入造粒机内，用步骤(2)配制好的粘合剂进行造粒；
(4)将造好的颗粒投入回转筛内进行颗粒的筛分，筛孔径为2.0mm～4.0mm，直径小于2mm的颗粒重新回到造粒工序，直径为4.0mm以上的颗粒粉碎后作为原料投入使用；
(5)取2.0mm～4.0mm区间的颗粒在震动烘干机内进行烘干，烘干温度控制在60～120℃；
(6)根据标准GB/T 12684-2006检测；
(7)将合格产品进行分装。
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Cited By (3)

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Date Code Title Description
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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