CN101561606A - 主动组件数组基板 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种主动组件数组基板,其包括一基板、一画素数组以及多个遮光图案。基板具有一显示区与一围绕显示区的彩色滤光片区,而彩色滤光片区具有多个间隔区。画素数组包括多条控制配线与多个连接该些控制配线的画素单元,其中所述的控制配线延伸至彩色滤光片区,而彩色滤光片区内的间隔区则位于每相邻二控制配线之间。间隔区内具有多个遮光图案,并与该画素数组电性绝缘,其中各间隔区内的遮光图案的数量为多个。

Description

主动组件数组基板
技术领域
本发明是有关于一种组件数组基板,且特别是有关于一种边缘处设置有一遮光图案的主动组件数组基板。
背景技术
目前较为普遍的液晶显示器大多为薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)其主要组件包括一薄膜晶体管数组基板、一彩色滤光基板以及一液晶层。彩色滤光基板是平行地设置于薄膜晶体管数组基板的上方,且液晶层是夹置于薄膜晶体管数组基板与彩色滤光基板之间。
请参考图1,液晶显示面板100可划分为一显示区100a以及一彩色滤光片区100b,其中,显示区100a为主要显示影像画面的部分,而彩色滤光片区100b中设置一框胶110,使薄膜晶体管数组基板透过框胶110而与彩色滤光基板接合。
目前发现,设置于液晶显示面板100下方的背光模块(图中未示)所提供的光线会穿过彩色滤光片区110b中各扫描配线111之间的间隙以及各数据配线112之间的间隙,而使得液晶显示面板100边缘处发生漏光的情形。因此,目前在框胶的下方一般会设置数个浮接金属(floating metal)113,以作为遮光的用。
然而,这些浮接金属113的设置,却可能产生静电放电的伤害,进而降低面板的良率。
发明内容
本发明的目的是提供一种主动组件数组基板,以减少静电放电发生的机率。
本发明提出一种主动组件数组基板。主动组件数组基板包括一基板、一画素数组以及多个遮光图案。基板具有一显示区与一围绕显示区的彩色滤光片区,而彩色滤光片区具有多个间隔区。画素数组包括多条控制配线与多个连接该些控制配线的画素单元,其中所述的控制配线延伸至彩色滤光片区,而彩色滤光片区内的间隔区则位于每相邻二控制配线之间。间隔区内具有多个遮光图案,并与该画素数组电性绝缘,其中各间隔区内的遮光图案的数量为多个。
在本发明一实施例中,其中各遮光图案的形状为一长条状。
在本发明一实施例中,遮光图案的宽度小于该两相邻控制配线之间的距离。
在本发明一实施例中,遮光图案的宽度大于该两相邻控制配线之间的距离。
在本发明一实施例中,这些遮光图案是由一金属材料或是一不透光材料,而不透光材料为一树脂或一有机光阻。
在本发明一实施例中,控制配线包括多数条扫描配线以及多数条数据配线。其中这些扫描配线以及一些遮光图案是由同一道图案化制程所形成。这些数据配线以及一些遮光图案是由同一道图案化制程所形成。
在本发明一实施例中,其中在各该间隔区内,相邻两遮光图案之间的距离为5微米到8微米之间。
在本发明一实施例中,多个晶体管沿着虚资料配线排列。
在本发明一实施例中,更包括一保护层,该保护层覆盖于该些遮光图案。
综上所述,本发明的主动组件数组基板所包括的画素数组可以驱动液晶层内的液晶分子,进而产生影像,故本发明的主动组件数组基板能应用于显示器中。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。
附图说明
图1是习知技术的主动组件数组基板的俯视示意图;
图2是本发明一实施例的主动组件数组基板的俯视示意图;
图3是图2中的主动组件数组基板的局部放大示意图;
图4是图2中的中线I-I的剖面示意图;及
图5是图2中的中线I-I的另一实施例的剖面示意图。
附图中主要组件符号说明:
100        液晶显示面板
100a       显示区
100b       彩色滤光片区
110        框胶
111        扫描配线
112        资料配线
113        浮接金属
200        主动组件数组基板
210        基板
210a       显示区
210b       彩色滤光片区
2100       间隔区
220        画素数组
221        扫描配线
222        资料配线
223        画素单元
230        遮光图案
230a       接地设计的遮光图案
240        绝缘层
250        保护层
具体实施方式
图2是本发明一实施例的主动组件数组基板的俯视示意图。请参阅图2,主动组件数组基板200包括一基板210、一画素数组220以及多个遮光图案230,其中基板210可为玻璃基板,并可具有透光性。
基板210具有一显示区210a与一彩色滤光片区210b。彩色滤光片区210b位于显示区旁210a,且彩色滤光片区210b具有多个间隔区2100。显示区210a与彩色滤光片区210b皆在基板的同一表面上。
画素数组220包括多条控制配线221、222与多个画素单元223,且画素单元223电性连接这些控制配线221、222。控制配线221、222包括多条扫描配线221以及多条数据配线222。而这些多条扫描配线221以及多条数据配线222分别延伸至该彩色滤光片区210b,而各该间隔区2100位于相邻二扫描配线221之间或相邻二数据配线222之间。
各个画素单元223包括一晶体管以及一电性连接晶体管的画素电极。这些晶体管例如是薄膜晶体管,并且皆具有闸极(gate)、源极(source)与汲极(drain)。画素电极可为透明导电层,其材料例如是铟锡氧化物(Indium Tin Oxide,ITO)或铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide,IZO)。
承上述,这些晶体管的闸极分别电性连接这些扫描配线221,源极分别电性连接这些数据配线222,而汲极分别电性连接这些画素电极。因此,这些扫描配线221可以开启或关闭这些晶体管,以控制这些数据配线222输出电压给画素电极。
上述的多个遮光图案230位于彩色滤光片区210b内,并分别配置于彩色滤光片区210b内的间隔区2100内,并与该画素数组220电性绝缘,其中各该间隔区内2100的遮光图案230的数量为多个,而相邻两遮光图案之间具有一定的距离,此距离较佳为5微米到8微米之间。此外,遮光图案230是位于两相邻控制配线(221、222)之间,且从剖面图来看遮光图案230的宽度可小于两相邻控制配线(221、222)之间的距离。
此外,这些遮光图案230可为一金属材料或是一不透光材料,举例来说,不透光材料可为一有机光阻。其次,这些遮光图案230可避免讯号线之间产生漏光的情形,以达到良好的遮光效果。
遮光图案230的形状可为一长条状。因此,在各该间隔区内,遮光图案的设计可为多个不连续的长条状排列,这些不连续的长条状排列遮光图案设计,可避免电荷的累积,减少静电放电发生的机率。其次,这些遮光图案230可设计成一虚线(Dotted line)图案,一般而言,因虚线图案比实线图案具有较少的图形面积,如此可防止电荷的累积,但又不损及其遮光的功能,且虚线图案的设计,又可阻断电荷的传递,不让静电向内部传导,进一步防制静电破坏的发生。
图3是图2中的主动组件数组基板的局部放大示意图。请参考图3,在各该间隔区2100内的多个遮光图案230中,其中一个遮光图案230为一具有接地设计的遮光图案230a。
图4是为沿着图2的I-I’剖面线所绘制的薄膜晶体管数组基板于彩色滤光片区的剖面示意图。请参阅图2与图4,在此实施例中,彩色滤光片区210b内的扫描配线221是由第一金属层(M1)制作而成,而资料配线222是由第二金属层(M2)制作而成。
因此,配置于相邻二扫描配线221间的遮光图案230可由第二金属层(M2)制作而成,做为扫描配线221的遮光设计。
同理,配置于相邻二数据配线222的遮光图案则由制作第一金属层(M1)时形成,做为数据配线222的遮光与防静电设计。
也就是说,进行第一金属层(M1)的图案化制程时,其可同时形成扫描配线221与配置于相邻二数据配线222的遮光图案230。当进行第二金属层(M2)的图案化制程时,可同时形成数据配线222与配置于相邻二扫描配线221的遮光图案230。藉此,这些遮光图案230可分别避免数据配线222间或扫描配线221间产生漏光的情形。
在此实施例中,遮光图案230除可由金属材料制作而成之外,其亦可由不透光材料制作而成,如:有机光阻。此外,第一金属层(M1)上配置有一绝缘层240(即所谓的闸绝缘层),以使遮光图案230与扫描配线221电性绝缘。
再者,在扫描配线221及数据配线222上同样配置有一保护层250,用以保护扫描配线221及数据配线222免于受损及受潮,并使扫描配线221及数据配线222与其上方的组件电性绝缘。
图5是为沿着图2的I-I’剖面线所绘制的薄膜晶体管数组基板于彩色滤光片区的另一实施例剖面示意图。请参阅图5与图2,在此实施例中,彩色滤光片区210b内的扫描配线221是由第一金属层(M1)制作而成,而资料配线222是由第二金属层(M2)制作而成。
在第一金属层(M1)上配置有一绝缘层240(即所谓的闸绝缘层)。此外,在扫描配线221及数据配线222上同样配置有一保护层250,用以保护扫描配线221及数据配线222免于受损及受潮,并使扫描配线221及数据配线222与其上方的组件电性绝缘。
需特别说明的是,在此实施例中,保护层250则覆盖于遮光图案230。
本实施例中遮光图案230的材质可以是一不透光材料所组成,例如不透光材料可为一树脂。如此,当遮光图案230的材料为一树脂时,遮光图案230的制作方法即可与习的的黑矩阵(Black Matrix)相同。也就是说,在一般形成黑矩阵(Black Matrix)的制成时,黑矩阵(Black Matrix)与遮光图案230可同时形成。须特别一提的是,这时的遮光图案230设计,因考虑到遮光的需求,所以从剖面图来看时,遮光图案230的宽度大于该两相邻控制配线(221、222)之间的距离。
因此,遮光图案230除了可达到黑矩阵(Black Matrix)的遮光效果外,亦可避免习知技术中静电放电伤害的情形。
综上所述,在本发明的主动组件数组基板中,由于配置于控制配线之间隔区内具有多个遮光图案,且相邻两遮光图案之间存有一定的距离。因此,在液晶显示器的制造过程中,或是在液晶显示器运作的时候,当发生静电放电(Electrostatic Discharge,ESD)或有突波产生时,断开来的的遮光图案设计,能减少静电突波进入至虚画素区内的机会,提高静电防护能力,更进一步地增加产品的良率。
虽然本发明以前述实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明,任何熟习相像技艺者,在不脱离本发明的精神和范围内,所作更动与润饰的等效替换,仍为本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种主动组件数组基板,其特征在于,包括:
一基板,具有一显示区与一围绕该显示区的彩色滤光片区,而该彩色滤光片区具有多个间隔区;
一画素数组,包括多条控制配线与多个连接该些控制配线的画素单元,其中该些控制配线延伸至该彩色滤光片区,而各该间隔区位于相邻二控制配线之间;以及
多个遮光图案,分别配置于该些间隔区内,并与该画素数组电性绝缘,其中各该间隔区内的遮光图案的数量为多个。
2.根据权利要求1所述的主动组件数组基板,其特征在于,所述的遮光图案的形状为一长条状。
3.根据权利要求2所述的主动组件数组基板,其特征在于,所述的遮光图案的宽度小于该两相邻控制配线之间的距离。
4.根据权利要求2所述的主动组件数组基板,其特征在于,所述的遮光图案的宽度大于该两相邻控制配线之间的距离。
5.根据权利要求1所述的主动组件数组基板,其特征在于,所述的遮光图案是由一金属材料或是一不透光材料所组成。
6.根据权利要求5所述的主动组件数组基板,其特征在于,所述的不透光材料为一树脂或一有机光阻。
7.根据权利要求1所述的主动组件数组基板,其特征在于,所述的控制配线包括多数条扫描配线以及多数条数据配线;所述的扫描配线以及配置于相邻二数据配线间的遮光图案是由同一道图案化制程所形成。
8.根据权利要求7所述的主动组件数组基板,其特征在于,所述的数据配线以及配置于相邻二扫描配线间的遮光图案是由同一道图案化制程所形成。
9.根据权利要求1所述的主动组件数组基板,其特征在于,在所述的各间隔区内,相邻两遮光图案之间的距离为5微米到8微米之间。
10.根据权利要求1所述的主动组件数组基板,其特征在于,更包括一保护层,该保护层覆盖于该些遮光图案。
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