CN101527146B - 光学头的聚焦位置调整方法及其*** - Google Patents

光学头的聚焦位置调整方法及其*** Download PDF

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Abstract

本发明是关于一种光学头的聚焦位置调整方法,此光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置,用来对光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束,而将相对应的光学数据烧录于此光学记录媒体上,此聚焦位置调整方法包括下列步骤:在烧录过程中改变光学头的聚焦位置,以产生出相对应的烧录射频信号;搜寻出烧录射频信号的极小值,以及相对应的一目标聚焦位置;以及将光学头调整至上述目标聚焦位置,使光学头后续能在此目标聚焦位置对光学记录媒体进行烧录。

Description

光学头的聚焦位置调整方法及其*** 
技术领域
本发明涉及一种光学头聚焦位置的调整方法及***,尤其指一种用于光学记录/读写装置的光学头聚焦位置的调整方法及***。 
背景技术
现有技术中,在光学记录媒体上烧录数据时,光学头使用该聚焦误差零交点的聚焦位置进行烧录。然而,光盘片因为制程不稳定,常常会有倾斜或高低不平的问题,因此,此预定的聚焦位置并非一定为最佳的聚焦位置。最佳聚焦位置会在烧录的过程中改变。而光学头可能距离光学记录媒体太近或太远,导致该记录/读写装置所烧录出的光学记录媒体质量不稳定,进而影响从该光学记录媒体进行数据读取的质量。 
请参见图1是光学头在一特定聚焦时,将信息烧录在光学记录媒体上的过程中烧录射频信号变化示意图。首先,当光学头开始发出烧录光束时,感测模块会产生对应的烧录射频信号,即A基准;随后,当烧录光束发出一段时间后,传感器才会产生一较为稳定的烧录射频信号,即B基准;而当光学头中断发出烧录光束回到读取功率时,感测模块会从该较高的稳定的烧录射频信号跳变为一较低基准的电压,即C基准。而现有的光学头聚焦调整方法均采用B基准所对应的聚焦位置作为目标聚焦位置,然而,在实际应用中,从A基准到需要经过一个相对不稳定的阶段才能达到B基准,因此该B基准的获取往往不易精确。 
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提供一种光学头聚焦位置的调整方法,用以在烧录的过程中,调整光学头的聚焦位置,以有效解决已知烧录质量不稳定的问题。 
本发明所提供的聚焦位置调整方法是利用烧录射频信号从B基准跳变为C基准作为检测基准,当检测到烧录射频信号从高基准电压转为低基准电压时,获取烧录射频信号的电压最小值及其对应的目标聚焦位置,进一步调整光学头的聚焦位置为该目标聚焦位置,以有效解决已知烧录质量不稳定的问题。 
基于上述构思,本发明提出一种光学头的聚焦位置调整方法,该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置,用以对该光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束,而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上,该聚焦位置调整方法包括: 
1)用一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录,以产生一相对应的烧录射频信号; 
2)检测该烧录射频信号是否由一高基准电压转为低基准电压,若是,则进入3); 
3)获取该烧录射频信号的电压最小值,以及其对应的目标聚焦位置; 
4)将该光学头调整至该目标聚焦位置,以使该光学头后续能于该目标聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录; 
其中,所述高基准电压是指烧录光束发出一段时间后,烧录射频信号在较为稳定时的高基准电压;所述低基准电压是指,当光学头中断发出烧录光束回到读取功率时,烧录射频信号从所述高基准电压发生跳变后得到的低基准的电压。 
为了实现上述光学头的聚焦位置调整方法,本发明还提出一种光学头聚焦位置的调整***,包括: 
感测模块,用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束,并产生对应的烧录射频信号; 
控制模块,包括:一位置改变单元,以预定的位置改变程序,控制该光学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置;电位转换侦测单元,用于当侦测到所述感测模块所产生的烧录射频信号由高基准电压转为低基准电压时输出一转换信号;所述高基准电压是指烧录光束发出一段时间后,烧 录烧录射频信号在较为稳定时的高基准电压;所述低基准电压是指,当光学头中断发出烧录光束回到读取功率时,烧录射频信号从所述高基准电压发生跳变后得到的低基准的电压;极值产生单元,用于根据所述转换信号获取其中烧录射频信号的电压最小值,及其对应的目标聚焦位置。 
传动模块,根据所述控制模块的控制,将该光学头调整至该目标聚焦位置。 
本发明还提出另一种光学头的聚焦位置调整方法,该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置,用以对该光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束,而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上,该聚焦位置调整方法包括: 
1)用一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录; 
2)暂停烧录,以读取功率回读烧录的资料,以产生出一相对应的烧录射频信号; 
3)利用该烧录射频信号,获取振幅绝对值; 
4)改变该聚焦位置,并重复进入步骤1),以得到一最大振幅绝对值以及其对应的目标聚焦位置; 
5)将该光学头调整至该目标聚焦位置,以使该光学头后续能于该目标聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。 
为了实现上述另一种光学头的聚焦位置调整方法,本发明还提出一种光学头聚焦位置的调整***,包括: 
感测模块,用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束,并产生对应的烧录射频信号; 
控制模块,包括:一位置改变单元,以预定的位置改变程序,控制该光学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置;回读检测单元,用于对烧录之后暂停烧录,再回读烧录的数据所对应产生的烧录射频信号进行检测以获取一振幅绝对值;振幅计算单元,用于接收该振幅绝对值,并比较产生一最大振幅绝对值,及其对应的目标聚焦位置。 
传动模块,根据所述控制模块的控制,将该光学头调整至该目标聚焦位 置。 
采用上述方法及***的优点为在烧录期间可以根据烧录射频信号的下冲电压值或者振幅绝对值来持续调整聚焦位置,使整张光盘片由内至外拥有一致的烧录质量。或者,根据光盘片多个点的聚焦位置调整结果,决定任意位置的目标聚焦位置。 
为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附图示,作详细说明如下。 
附图说明
图1是现有技术中光学读取头的烧录射频信号变化示意图。 
图2A是根据本发明第一实施例所绘示的烧录射频信号(Write RF)的波形图。 
图2B是根据本发明第一实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流程图。 
图2C是根据本发明第一实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整***方框图。 
图3A是根据本发明第二实施例所绘示的烧录射频信号(Write RF)的波形图。 
图3B是根据本发明第二实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流程图。 
图3C是根据本发明第二实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整***方框图。 
图4A是根据本发明第三实施例所绘示的射频信号(RFSignal)的波形图。 
图4B是根据本发明第三实施例所绘示的光学头的聚焦位置调整方法流程图。 
图4C是根据本发明第三实施例所绘示的一种光学头的聚焦位置调整系 统方框图。 
具体实施方式
图2A是根据本发明第一实施例所绘示的烧录射频信号(Write RadioFrequency Signal,Write RF)的波形图。请参考图2A,此波形是在烧录期间,光学读取头的写入功率(Write Power)被固定为读取功率(Read Power)时,用以在光盘片上产生空白(Space)区块的波形图,在光盘技术中,烧录射频信号的定义如下: 
Write RF=Write Power×R 
其中,R为反射率。由于此时光学头正在用激光头以读取功率在光盘片上产生空白(Space)区块,而读取功率相对较低,并且在此期间,功率是固定的。因此,当光学头的聚焦越好,波形的下冲电压值(Undershoot Voltage)越低。接下来,图2B是根据本发明第一实施例所绘示的聚焦位置调整方法的流程图。请参考图2A以及图2B,在此实施例中,调整光学头聚焦位置的方法如下: 
步骤S201:开始烧录; 
步骤S202:在烧录过程中改变光学头的聚焦位置,以产生出相对应的烧录射频信号(Write RF); 
步骤S203:判断上述烧录射频信号(Write RF)是否由一高电压准位转低电压准位,当判断为是,则进行步骤S204;当判断为否,则持续进行步骤S203; 
步骤S204:获取上述烧录射频信号(Write RF)的极小值Vsc,以及其相对应的一目标聚焦位置; 
步骤S205:将光学头调整至上述目标聚焦位置,以使光学头后续能在此目标聚焦位置对光学记录媒体进行烧录。 
对应于实施例一的方法,本发明还提供了一种光学头的聚焦位置的烧录射频信号最小值调整***,参考图2C,包括感测模块21、控制模块22和传动模块23,其中: 
感测模块21,用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束,并产生对应的射频信号; 
控制模块22,包括:一电位转换侦测单元221、一第一存储单元222、一极值产生单元223和一位置改变单元224,其中: 
电位转换侦测单元221,用于当侦测到所述感测模块21所产生的射频信号由高基准电压转为低基准电压时输出一转换信号; 
第一存储单元222,用于当接收到所述电位转换侦测单元221输出的转换信号时,记录当前烧录射频信号的电压值; 
极值产生单元223,用于从第一存储单元222接收该电压值,并比较产生一该射频信号的最小值所对应的最低电压值,及其对应的目标聚焦位置; 
位置改变单元224,以预定的位置改变程序,控制该光学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置; 
传动模块23,根据控制模块22的控制,将该光学头调整至所述最低电压值所对应的目标聚焦位置。 
其中,所述射频信号是在烧录过程中产生的烧录射频信号。 
图3A是根据本发明第二实施例所绘示的烧录射频信号(Write RF)的波形图。请参考图3A,上述图2的实施例是以检测烧录射频信号(Write RF)的极小值电压,也就是下冲电压的最小值,来作为调整光学头聚焦位置的基础。图3B是根据本发明第二实施例所绘示的聚焦位置调整方法的流程图。请参考图3A和图3B,在此例中,默认了一组参考电压Vref。而上述的步骤可以如以下变化: 
步骤S301:开始烧录; 
步骤S302:在烧录过程中改变光学头的聚焦位置,以产生出相对应的烧录射频信号(Write RF); 
步骤S303:判断上述烧录射频信号(Write RF)是否由一高电压准位转低电压准位,当判断为是,则进行步骤S304;当判断为否则持续进行步骤S303; 
步骤S304:当烧录射频信号由一高电压准位转低电压准位,开始计时; 
步骤S305:判断烧录射频信号是否到达一预定电压Vref,若烧录射频信号尚未到达预定电压Vref,则维持步骤S304,继续计时;若烧录射频信号到达预定电压Vref,则进行步骤S306; 
步骤S306:当烧录射频信号由一相对低电压到达预定电压Vref时,停止计时,得到一下冲反应时间(Undershoot Response Time)tA~tC; 
步骤S307:重复上述步骤S303~步骤S306,以得到一最大下冲反应时间tC以及其对应的目标聚焦位置; 
步骤S308:将光学头调整至上述目标聚焦位置,以使光学头后续能在此目标聚焦位置对光学记录媒体进行烧录。 
由于此种方式可以在烧录的同时即刻得知聚焦状况,因此可以在接下来的烧录中,适当的调整聚焦位置,使烧录的质量提升。 
对应于实施例二的方法,本发明还提供了一种光学头的聚焦位置的最大下冲反应时间调整***,参考图3C,包括感测模块31、控制模块32和传动模块33,其中: 
感测模块31,用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束,并产生对应的射频信号; 
控制模块32,包括:一电位转换侦测单元321、一定时单元322、一极值产生单元323和一位置改变单元324,其中: 
电位转换侦测单元321,用于当侦测到所述感测模块31所产生的射频信号由高基准电压转为低基准电压时输出一转换信号; 
定时单元322,用于当接收到所述电位转换侦测单元321输出的转换信号时,启动计时,当所述烧录射频信号由一相对低电压到达一预定电压时,停止计时,以获得一下冲反应时间; 
极值产生单元323,接收该下冲反应时间,并比较产生一该射频信号的最小值所对应的最大下冲反应时间,及其对应的目标聚焦位置; 
位置改变单元324,以预定的位置改变程序,控制该光学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置; 
传动模块33,根据控制模块32的控制,将该光学头调整至所述最大下 冲反应时间所对应的目标聚焦位置。 
其中,所述射频信号是在烧录过程中产生的烧录射频信号。 
图4A是根据本发明第三实施例所绘示的射频信号(RF Signal)的波形图。在此图中绘示了振幅I14以及I14H,其中I14/I14H定义为I14/I14H调变(I14/I14HModulation)。在此实施例便以此I14/I14H调变作为基础,以调整光学头的聚焦位置。图4B是根据本发明第三实施例所绘示的聚焦位置调整方法的流程图。请参考图4A以及图4B,此实施例的光学头的聚焦位置的调整方法的步骤如下: 
步骤S401:在一聚焦位置对一光盘片进行烧录; 
步骤S402:暂停烧录,以一读取功率回读烧录的数据,以产生出一相对应的射频信号; 
步骤S403:利用上述射频信号,获取振幅绝对值; 
所述振幅绝对值是I14/I14H调变值(I14/I14H Modulation); 
步骤S404:改变上述聚焦位置,并重复步骤S401~步骤S403,以得到一最大振幅绝对值以及其对应的目标聚焦位置; 
当I14/I14H调变的调变值为最大时,即表示聚焦在最佳位置; 
步骤S405:将光学头调整至该目标聚焦位置,以使该光学头后续能在该目标聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录。 
其中,所述射频信号是在回读过程中产生的读取射频信号(Read RF)。 
此第三实施例虽然必须要暂停烧录并且回读射频信号(RF Signal),但是在此回读的过程,通常只需要回读一小部分的数据即可以检测到I14/I14H调变值,因此,此实施例仍可以使整张光盘片由内至外拥有一致的烧录质量。 
对应于实施例三的方法,本发明还提供了一种光学头的聚焦位置最大调制值调整***,参考图4C,包括感测模块41、控制模块42和传动模块43,其中: 
感测模块41,用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束。 
控制模块42,包括:一回读检测单元421、一振幅计算单元422和一位 置改变单元423,其中: 
回读检测单元421,用于对烧录之后暂停烧录,再以回读烧录的数据所对应产生的读取射频信号进行检测以获取一振幅绝对值。 
振幅计算单元422,用于接收该振幅绝对值,并比较产生一最大振幅绝对值,及其对应的目标聚焦位置。 
位置改变单元423,以预定的位置改变程序,控制该光学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置。 
传动模块43,根据所述控制模块42的控制,将该光学头调整至该目标聚焦位置。 
其中,振幅绝对值是I14/I14H调变值;以及射频信号为读取射频信号(Read RF) 
所述控制模块42还包括一第二存储单元,用于存储所述最大振幅绝对值所对应的目标聚焦位置,所述目标聚焦位置与位置改变单元中预定的位置相对应。 
综上所述,本发明的精神是在烧录过程中改变光学头的聚焦位置,产生相对应烧录射频信号的下冲电压值或I14/I14H调变值。其次,搜寻出烧录射频信号的下冲电压值的最小值(即对应最大下冲反应时间)或I14/I14H调变值的最大值,与相对应的目标聚焦位置。然后,将光学读取头调整至目标聚焦位置。此方法的优点为在烧录期间可以根据烧录射频信号的下冲电压值持续调整聚焦位置。 
另外,还可以根据光盘片多个点的聚焦位置调整结果,决定任意位置的目标聚焦位置。为此,在图2C,图3C和图4C中的控制模块中还可以包括一第二存储单元(图中未示出),其中,在图2C和图3C中,所述控制模块包括的所述第二存储单元,用于存储所述极值产生单元所产生的射频信号最小值所对应的目标聚焦位置,所述目标聚焦位置与位置改变单元中预定的位置相对应;在图4C中,所述控制模块包括的所述第二存储单元,用于存储所述最大振幅绝对值所对应的目标聚焦位置,所述目标聚焦位置与位置改变单元中预定的位置相对应,从而方便位置改变单元直接根据所述第二存储 单元所存储的光盘片多个点的聚焦位置调整结果,决定任意位置的目标聚焦位置。 
在较佳实施例的详细说明中所提出的具体实施例仅用以方便说明本发明技术内容,而非将本发明狭义地限制于上述实施例,在不超出本发明的精神及以下申请专利范围的情况,所做的种种变化实施,皆属于本发明的范围。因此本发明的保护范围当视后附的申请专利范围所界定内容为准。 

Claims (8)

1.一种光学头的聚焦位置调整方法,该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置,用以对该光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束,而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上,该聚焦位置调整方法包括:
1)用一聚焦位置在该光学记录媒体上进行烧录,以产生一相对应的烧录射频信号;
2)检测该烧录射频信号是否由一高基准电压转为低基准电压,若是,则进入3);
3)获取该烧录射频信号的电压最小值,以及其对应的目标聚焦位置;
4)将该光学头调整至该目标聚焦位置,以使该光学头后续能于该目标聚焦位置对该光学记录媒体进行烧录;
其中,所述高基准电压是指烧录光束发出一段时间后,烧录射频信号在较为稳定时的高基准电压;所述低基准电压是指,当光学头中断发出烧录光束回到读取功率时,烧录射频信号从所述高基准电压发生跳变后得到的低基准的电压。
2.如权利要求1所述的调整方法,其中所述步骤3)中获取烧录射频信号的电压最小值具体包括:
301)判断当该烧录射频信号由一高基准电压转低基准电压,记录当前烧录射频信号的电压值;
302)改变该聚焦位置,并重复进入步骤1),以得到一烧录射频信号的最低电压值;
所述目标聚焦位置为所述最低电压值对应的目标聚焦位置。
3.如权利要求2所述的调整方法,其中所述步骤3)中获取烧录射频信号的电压最小值具体包括:
311)判断当该烧录射频信号由一高基准电压转低基准电压,开始计时; 
312)判断当该烧录射频信号由一相对低电压到达一预定电压时,停止计时,以获得一下冲反应时间;
313)改变该聚焦位置,并重复进入步骤1),以得到一该烧录射频信号的电压最小值所对应的最大下冲反应时间;
所述目标聚焦位置为该烧录射频信号具有所述最大下冲反应时间时对应的目标聚焦位置。
4.如权利要求1至3任一项所述的调整方法,其中所述步骤4)之前还包括存储该烧录射频信号的电压最小时所对应的目标聚焦位置,所述目标聚焦位置对应于步骤1)中的聚焦位置。
5.一种光学头聚焦位置的调整***,该光学头位于与一光学记录媒体相距一预定距离的聚焦位置,用以对该光学记录媒体发出一预定功率的烧录光束,而将相对应的光学数据烧录于该光学记录媒体上,包括:
感测模块,用于感测出自该光学记录媒体上反射的烧录光束,并产生对应的烧录射频信号;
控制模块,包括:一位置改变单元,以预定的位置改变程序,控制该光学头改变在该光学记录媒体上进行烧录的聚焦位置;电位转换侦测单元,用于当侦测到所述感测模块所产生的烧录射频信号由高基准电压转为低基准电压时输出一转换信号;所述高基准电压是指烧录光束发出一段时间后,烧录射频信号在较为稳定时的高基准电压;所述低基准电压是指,当光学头中断发出烧录光束回到读取功率时,烧录射频信号从所述高基准电压发生跳变后得到的低基准的电压;极值产生单元,用于根据所述转换信号获取其中烧录射频信号的电压最小值,及其对应的目标聚焦位置,
传动模块,根据所述控制模块的控制,将该光学头调整至该目标聚焦位置。
6.如权利要求5所述的调整***,其中所述控制模块还包括一第一存储单元,用于当接收到所述电位转换侦测单元输出的转换信号时,记录当前烧录射频信号的电压值;所述极值产生单元,接收该电压值,并比较 接收到的多个所述电压值,产生一该烧录射频信号的电压最小值所对应的最低电压值,及其对应的目标聚焦位置;
所述传动模块,根据所述控制模块的控制,将该光学头调整至所述最低电压值所对应的目标聚焦位置。
7.如权利要求5所述的调整***,其中所述控制模块还包括一定时单元,用于当接收到所述电位转换侦测单元输出的转换信号时,启动计时,当所述烧录射频信号由一相对低电压到达一预定电压时,停止计时,以获得一下冲反应时间;所述极值产生单元,接收该下冲反应时间,并比较产生一该烧录射频信号的电压最小值所对应的最大下冲反应时间,及其对应的目标聚焦位置;
所述传动模块,根据所述控制模块的控制,将该光学头调整至该烧录射频信号具有所述最大下冲反应时间时对应的目标聚焦位置。
8.如权利要求5至7任一项所述的调整***,其中所述控制模块还包括一第二存储单元,用于存储所述极值产生单元所产生的烧录射频信号的电压最小值所对应的目标聚焦位置,所述目标聚焦位置与位置改变单元中预定的位置相对应。 
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