CN101487941B - 彩色滤光片、显示面板、光电装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

一种彩色滤光片、显示面板、光电装置及其制造方法，该彩色滤光片包括一基板、多个彩色滤光图案层、一突起结构及一电极膜。基板具有一显示区以及围绕显示区的一周边区，且显示区中具有多个像素单元区以及位于这些像素单元区之间的一像素边界区。彩色滤光图案层位于显示区的这些像素单元区中。突起结构位于周边区中并且围绕显示区，其中突起结构的高度实质上大于这些彩色滤光图案层的高度。电极膜覆盖这些彩色滤光图案层以及突起结构的两侧表面，其中位于突起结构其中一侧表面的电极膜与位于突起结构的另一侧表面的电极膜电性绝缘。本发明的彩色滤光片位于显示区的电极膜不会受到周边区的电极膜的影响，能够维持稳定电压，避免显示画面异常。

Description

彩色滤光片、显示面板、光电装置及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种光学元件及其制造方法，且特别涉及一种彩色滤光片、显示面板、光电装置及其制造方法。

背景技术

随着平面显示技术的快速发展，市面上各种的平面显示装置(planedisplay apparatus)，例如液晶显示器(liquid crystal display，LCD)，等离子体显示器(plasma display panel，PDP)等日渐普及。传统的阴极射线管(cathoderay tube，CRT)虽然有其优点，然而碍于电子***构，使得阴极射线管的体积始终无法有效缩小，且其显示时所发出的辐射线也会造成伤眼等问题。液晶显示器具有重量轻、体积小、厚度薄、不闪烁、低耗电功率等优点，并朝向全彩化、大尺寸、低成本的目标迈进。因此，液晶显视器已逐渐取代传统的阴极射线管，并成为目前平面显示器的主流。

一般来说，液晶显示器可分为显示面板(display panel)及背光模块(backlight module)。背光模块可提供显示面板所需的面光源(surfacesource)。显示面板包含彩色滤光片(color filter)及薄膜晶体管阵列基板(thinfilm transistor array substrate)。由于背光模块所提供的部分光束，其透射彩色滤光片后将具有特定的颜色，因而显示面板显示的图像画面(image frame)具有彩色化的功效。再者，彩色滤光片是架构在透明的玻璃基板(glasssubstrate)上，并且具有遮光图案层、彩色滤光图案层及电极膜等光学元件。

分别完成彩色滤光片以及薄膜晶体管阵列基板的制作后，会依序进行对组、切割以及灌注液晶等步骤。在进行对组及切割之后的显示面板上，由于彩色滤光片裸露于周边的电极膜也会裸露在显示面板的周边，因而在显示面板的组装过程中，此显示面板于周边的电极膜一旦接触到其他具有信号的金属线时，此信号便会经由显示面板在周边的电极膜进而干扰位于显示区的电极膜的电压，使显示面板的显示画面异常。然而，位于彩色滤光片的周边的电极膜之下，并不具有任何凸出物或突起物。

一般来说，通过移除位于彩色滤光片的周边的电极膜即可解决上述干扰问题。而移除位于彩色滤光片的周边的电极膜方法，可在彩色滤光片的工艺中增加额外的光刻以及蚀刻工艺以图案化电极膜。然而，此一方法将使得彩色滤光片的制造成本提高。

发明内容

本发明提供一种彩色滤光片，其能使位于周边的电极膜不影响显示区的电极膜维持稳定的电压。

本发明更提供一种彩色滤光片的制造方法，其可制作出上述的彩色滤光片。

本发明更提供一种显示面板，其具有上述的彩色滤光片。

本发明更提供一种上述的显示面板的制造方法。

本发明更提供一种光电装置，其具有上述的显示面板。

本发明更提供一种上述的光电装置的制造方法。

本发明的一实施例提出一种彩色滤光片，包括一基板、多个彩色滤光图案层、一突起结构及一电极膜。基板具有一显示区以及围绕显示区的一周边区，且显示区中具有多个像素单元区以及一位于这些像素单元区之间的像素边界区。彩色滤光图案层位于显示区的这些像素单元区中。突起结构位于周边区中并且连续围绕显示区，其中突起结构的高度实质上大于这些彩色滤光图案层的高度。电极膜覆盖这些彩色滤光图案层以及突起结构的两侧表面，其中位于突起结构其中一侧表面的电极膜与位于突起结构的另一侧表面的电极膜电性绝缘。

在本发明的一实施例中，突起结构包括由这些彩色滤光图案层中的至少两个彩色滤光图案层所组成的一叠层，突起结构与遮光图案层构成聚合物层。

在本发明的一实施例中，彩色滤光片还包括一遮光图案层，其位于显示区的像素边界区中。遮光图案层可还包括延伸至周边区中。遮光图案层可包括一金属层、一树脂层或是由这些彩色滤光图案层所组成的一叠层。突起结构可包括由这些彩色滤光图案层中的至少两个彩色滤光图案层所组成的一叠层，且叠层可位于周边区中的遮光图案层上。

本发明的一实施例提出一种彩色滤光片的制造方法。首先，提供一基板。基板具有一显示区以及围绕显示区的一周边区，且显示区中具有多个像素单元区以及一位于这些像素单元区之间的像素边界区。接着，在显示区的这些像素单元区中形成多个彩色滤光图案层。然后，在周边区中形成连续围绕显示区的一突起结构，其中突起结构的高度实质上大于这些彩色滤光图案层的高度。此外，在基板上形成一电极膜，其覆盖这些彩色滤光图案层以及突起结构。最后，进行一研磨程序，以移除突起结构的顶部表面的电极膜。位于突起结构其中一侧表面的电极膜与位于突起结构的另一侧表面的电极膜电性绝缘。

在本发明的一实施例中，研磨程序还包括移除突起结构的部分厚度，且突起结构所保留的高度实质上大于这些彩色滤光图案层的高度。

本发明提出一种显示面板的制造方法，可包含如上述所述的彩色滤光片的制造方法。

本发明提出一种显示面板，可包含如上述所述的彩色滤光片。

本发明提出一种光电装置的制造方法，可包含如上述所述的显示面板的制造方法。

本发明提出一种光电装置，可包含如上述所述的显示面板。

基于上述，在本发明的实施例的彩色滤光片因采用了突起结构，且突起结构的高度实质上大于彩色滤光图案层的高度，而且位于突起结构的一侧表面的电极膜与另一侧表面的电极膜电性绝缘。如此一来，位于显示区的电极膜不会受到周边区的电极膜的影响，因而能够维持稳定的电压(voltage)，避免显示画面(display frame)的异常。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1A～1E为依照本发明的第一实施例的彩色滤光片的制作流程剖面示意图。

图2A为图1A的俯视图，且图1A为图2A沿着I-I′的剖面示意图。

图2B为图1B的俯视图，且图1B为图2B沿着I-I′的剖面示意图。

图2C为图1C的俯视图，且图1C为图2C沿着I-I′的剖面示意图。

图3A～3E为依照本发明的第二实施例的彩色滤光片的的制作流程局部剖面示意图。

图4为本发明的实施例的一种显示面板的示意图。

图5为本发明的实施例的一种光电装置的示意图。

上述附图中的附图标记说明如下：

120、120′、210：彩色滤光片

130、220：基板

132：显示区

132a：像素单元区

132b：像素边界区

133a、133a′、133b、133b′：遮光图案层

134：周边区

134a：遮光图案区

134b：突起结构区

136、136′：突起结构

137a、137b、137c：滤光图案层

138：电极膜

200、300：显示面板

230：显示介质

310：电子元件

320：光电装置

H1～H7：高度

S1、S2：侧表面

具体实施方式

第一实施例

图1A～1E为依照本发明的第一实施例的彩色滤光片的制作流程剖面示意图。图2A为图1A的俯视图，且图1A为图2A沿着I-I′的剖面示意图。图2B为图1B的俯视图，且图1B为图2B沿着I-I′的剖面示意图。图2C为图1C的俯视图，且图1C为图2C沿着I-I′的剖面示意图。

请参照图1A及图2A，首先，提供一基板130。基板130具有一显示区132以及围绕显示区132的一周边区134，且显示区132中具有多个像素单元区132a以及位于这些像素单元区132a之间的一像素边界区132b。在本实施例中，基板130的材料是包含无机透明材料(如：玻璃、石英、或其它合适材料、或上述的组合)、有机透明材料(如：聚烯类、聚酼类、聚醇类、聚酯类、橡胶、热塑性聚合物、热固性聚合物、聚芳香烃类、聚甲基丙酰酸甲酯类、聚碳酸酯类、或其它合适材料、或上述的衍生物、或上述的组合)、无机不透明材料(如：硅片、陶瓷、或其它合适材料、或上述的组合)、或上述的组合。

接着，请参照图1B与图2B，在显示区132的像素边界区132b中形成一遮光图案层133b。根据本发明的一实施例，遮光图案层133b可包括一金属层。金属材料的遮光图案层133b的制作方法包括进行溅镀(sputtering)程序、光刻程序、以及蚀刻程序。根据本发明的另一实施例中，遮光图案层133b包括一树脂层，其材料例如是黑树脂。而树脂材料的遮光图案层133b的制作方法包括进行喷墨程序、涂布程序以及光刻程序。此外，遮光图案层133b还可以是由多个彩色滤光图案层堆叠而成，其将于后续实施例作详细说明。

此外，在本实施例中，遮光图案层133b更包括延伸至周边区134中。换言之，周边区134可还包括一遮光图案层133a，其形成于邻近显示区132的周边区134，并围绕显示区132，且与显示区132内的遮光图案层133b相连接。再者，遮光图案层133a也可为金属层或是树脂层，优选地，其可与显示区132内的遮光图案层133b的组成或材料相同，但不限于此。与其它实施例上述二区域的材料也可不同。另外，遮光图案层133b的高度为H1，而遮光图案层133a的高度与遮光图案层133b的高度H1实质上相同。

请参照图1C及图2C，接着，在显示区132的这些像素单元区132a中形成多个彩色滤光图案层。本发明的实施例的多个彩色滤光图案层，优选地，以至少三个彩色滤光图案层137a，137b，137c为范例，但不限于此，在其它实施例，多个彩色滤光图案层也可至少两个彩色滤光图案层。本发明实施例的至少三个彩色滤光图案层137a，137b，137c的高度H2实质上可大于遮光图案层133b的高度H1。此外，本发明的彩色滤光图案层137a，137b，137c可包括红色滤光图案层、绿色滤光图案层及蓝色滤光图案层为范例，但不限于此。在其它实施例中，多个彩色滤光图案层的色彩，可使用色坐标上的颜色，例如：白色、紫色、棕色、黄色、青色、桃红色、橙色或其它合适的颜色等等。

在本实施例中，显示区132的遮光图案层133b的顶部表面也被彩色滤光图案层137a，137b，137c所覆盖，也即彩色滤光图案层137a，137b，137c可更延伸至遮光图案层133b的顶部表面上。换言之，位于像素单元区132a及像素边界区132b的彩色滤光图案层137a，137b，137c，其顶部表面可为具有同一高度的平面。此外，在其他未示出的实施例中，也可以先形成彩色滤光图案层137a，137b，137c，之后再形成遮光图案层133b。再者，彩色滤光图案层137a，137b，137c的制作方法，可采用旋转涂布工艺(spin coating)及烘烤(roast)工艺等步骤。然而，在其他实施例中，也可通过染色法(coloring method)、喷墨法或其他适用的方法来制作彩色滤光图案层137a，137b，137c。

请继续参照图1C及图2C，在周边区134中形成围绕显示区132的一突起结构136，其高度H4实质上大于这些彩色滤光图案层137a，137b，137c的高度H2。在本实施例中，突起结构136，优选地，包括由至少三个彩色滤光图案层137a，137b，137c所组成的一叠层，且突起结构136位于周边区134的遮光图案层133a上。然而，本发明并不受此限制。在其他未示出的实施例中，突起结构136也可由彩色滤光图案层137a，137b，137c中的一个或两个所组合而成。也就是说，突起结构136可由至少一个彩色光图案层所构成。倘若遮光图案层133a是选用树脂材料，那么突起结构136及遮光图案层133a即构成一聚合物层。此时，突起结构136的高度也实质上大于这些彩色滤光图案层137a，137b，137c的高度H2。或者是，遮光图案层133a是选用金属材料，而突起结构136选用树脂材料，突起结构136此时，突起结构136的高度也实质上大于这些彩色滤光图案层137a，137b，137c的高度H2。另外，当突起结构136选用树脂材料而不是选用至少二个彩色滤光图案层所组成的一叠层时，突起结构136可形成于彩色滤光图案层之前或之后，依设计上的所需来选用。值得注意的是，由于本实施例的突起结构136是以彩色滤光图案层137a，137b，137c中的一个、二个、三个或三个以上所组合而成为范例，因此当在显示区132的像素单元区132a及遮光图案层133b上形成彩色滤光图案层137a，137b，137c的同时，即可在遮光图案层133a上同时形成突起结构136。如此一来，便可节省突起结构136的额外工艺，因而不会增加彩色滤光片120的制作成本。

请参照图1D，接着，在基板130上形成一电极膜138，其覆盖这些彩色滤光图案层137a，137b，137c以及突起结构136。具体而言，电极膜138覆盖显示区132的彩色滤光图案层137a，137b，137c及周边区134的部分遮光图案层133a及位于遮光图案层133a外部的基板130上。此外，电极膜138的形成方法可以是采用物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)法的溅镀工艺。然而，在其他实施例中，也可以化学气相沉积(Chemical VaporDeposition，CVD)法或其它合适的方法来制作电极膜138。再者，电极膜138可以是单层或多层结构，且其材料可以是由透明导电材料制成，例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铟锡锌氧化物、氧化铪、氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化铝、铝锡氧化物、铝锌氧化物、镉锡氧化物、镉锌氧化物或上述的组合。

请参照图1E，进行一研磨程序，以移除突起结构136的顶部表面的电极膜138，使得位于突起结构136的一侧表面S1的电极膜138与位于突起结构136的另一侧表面S2的电极膜138电性绝缘。由于突起结构136的高度H4实质上大于彩色滤光图案层137a，137b，137c的高度H2。因此，上述的研磨程序会将除突起结构136的顶部表面的电极膜138移除，但不会移除彩色滤光图案层137a，137b，137c顶部表面的电极膜138。在其他未示出的实施例中，优选地，此研磨程序还包括移除突起结构136的部分厚度，且突起结构136所保留的高度仍实质上大于这些彩色滤光图案层的高度。也就是说，位于突起结构136的一侧表面S1的电极膜138与位于突起结构136的另一侧表面S2的电极膜138会于突起结构136上产生一间隔(gap)，而让突起结构136的顶部表暴露出来。上述的研磨程序可采用化学机械研磨(chemicalmechanical polishing，CMP)，其机制主要是把置放于研磨垫(polishing pads)(未示出)上的材料，通过研磨垫的旋转运动，并于材料与研磨垫之间加入具有研磨及抛光性质的化学机械研磨剂(CMP agent)(未示出)，进而达到化学蚀刻及机械抛光的目的。

如此一来，由于位于突起结构136的一侧表面S1的电极膜138与位于突起结构136的另一侧表面S2的电极膜138电性绝缘，因此位于显示区132的电极膜138便不会受到位于周边区134的突起结构136以外的电极膜138影响，而能够维持稳定的电压(voltage)，避免显示画面(display frame)的异常。

此外，因本实施例是通过研磨程序使突起结构136于两侧表面S1、S2的电极膜138电性绝缘，因此其不需增加额外的光刻、蚀刻程序以移除周边区的电极膜，因此不会增加彩色滤光片120的制造成本。

第二实施例

上述第一实施例的遮光图案层的材料可以是金属层或是树脂层，但本发明不限于此。在其他的实施例中，遮光图案层也可以由至少两彩色滤光图案层的堆叠层所构成。详细说明如下。图3A～3E为依照本发明的第二实施例的彩色滤光片的制作流程局部剖面示意图。在图3A至图3E中，与上述图1A至图1E相同的元件或膜层是以相同的标号表示。此外，元件或膜层相关的描述，烦请查看第一实施例，在此不再赘言。

首先，请参照图3A，在基板130的于像素单元区132a、一部分的像素边界区132b及周边区134中形成一滤光图案层137a，其中周边区134的彩色滤光图案层137a可分别配置于近邻且围绕显示区132的遮光图案区134a以及近邻且围绕遮光图案区134a的突起结构区134b。此外，位于像素边界区132b及遮光图案区134a的彩色滤光图案层137a的高度实质上低于像素单元区132a及突起结构区134b的彩色滤光图案层137a的高度H5。也就是说，彩色滤光图案层137a的一部分的高度(厚区)，例如：H5，实质上大于彩色滤光图案层137a的另一部分的高度(薄区，未标示)，且薄区，优选地，是位于彩色滤光图案层137a的两端，但不限于此。在其它实施例中，薄区(未标示)，也可位于彩色滤光图案层137a的合适的区域。

接着，请参照图3B，于另一像素单元区132a、另一部分的像素边界区132b及突起结构区134b形成一彩色滤光图案层137c，其中位于像素边界区132b的彩色滤光图案层137c的高度实质上低于像素单元区132a及突起结构区134b的滤光图案层137c的高度H6。此外，彩色滤光图案层137c的设计模式，优选地，可采用彩色滤光图案层137a所述的设计模式，但不限于此。

再者，请参照图3C，于另一像素单元区132a、另一部分的像素边界区132b、遮光图案区134a及突起结构区134b形成一彩色滤光图案层137b，其中像素边界区132b及遮光图案区134a的彩色滤光图案层137b的高度实质上低于像素单元区132a及突起结构区134b的彩色滤光图案层137b的高度H7。在本实施例中，优选地，高度H5实质上相等于高度H6及高度H7，但不限于此。在其它实施例，前述三者的其中至少一者的高度可实质不相同，但要符合厚、薄区的设计。此外，彩色滤光图案层137b的设计模式，优选地，可采用彩色滤光图案层137a所述的设计模式，但不限于此。在本实施例中，位于周边区134的遮光图案区134a的彩色滤光图案层137a，137b、彩色滤光图案层137c，137b或是彩色滤光图案层137a，137c的至少两两叠层来作为遮光图案层，且位于像素边界区132b的彩色滤光图案层137a，137b、彩色滤光图案层137c，137b或是彩色滤光图案层137a，137c的至少两两叠层来作为遮光图案层为范例，但不限于此。在其它实施例中，遮光图案层也可为至少三个彩色滤光图案层的叠层。

另外，本实施例的突起结构136是以至少三个彩色滤光图案层137a，137c，137b叠层为实施范例，但不限于此。在其它实施例中，也可至少两个彩色滤光图案层叠层，例如：137a，137c、137a，137b、或者是137b，137c。

之后，请参照图3D，在基板130上形成一电极膜138，其覆盖显示区132内的以至少三个彩色滤光图案层137a，137b，137c为范例以及周边区134内的突起结构136。

请参照图3E，进行一研磨程序，以移除突起结构136的顶部表面的电极膜138，使得位于突起结构136的一侧表面S1的电极膜138与位于突起结构136的另一侧表面S2的电极膜138电性绝缘。由于突起结构136的高度(H5+H6+H7)实质上大于彩色滤光图案层137a，137b，137c的高度。因此，上述的研磨程序会将除突起结构136的顶部表面的电极膜138移除，但不会移除彩色滤光图案层137a，137b，137c顶部表面的电极膜138。在其他未示出的实施例中，优选地，此研磨程序还包括移除突起结构136的部分厚度，且突起结构136所保留的高度仍实质上大于这些彩色滤光图案层的高度。也就是说，位于突起结构136的一侧表面S1的电极膜138与位于突起结构136的另一侧表面S2的电极膜138会于突起结构136上产生一间隔(gap)，而让突起结构136的顶部表面暴露出来。

值得一提的是，上述突起结构136可由彩色滤光图案层137a，137b，137c中的一个、两个、三个或三个以上所组成，只要是突起结构136的高度实质上大于彩色滤光图案层137a，137b，137c的高度即可。

图4为根据本发明的实施例的一种显示面板的示意图。请参照图4，本实施例的显示面板200的成品包括至少一彩色滤光片210、相对于此彩色滤光片210的另一基板220及一设置于彩色滤光片210与另一基板220之间的显示介质230，其中彩色滤光片210具有上述彩色滤光片120或彩色滤光片120′的结构(如图1E或图3D所示出)，且另一基板220选择性地具有多个有源元件、一透明电极或其它功能的层，如配向层等，其中显示介质230的材料包含液晶材料或其它合适的材料，例如：电泳材料、光电材料等等。显示面板200的制造方法包含如上所述的彩色滤光片120或彩色滤光片120′的制造方法，再依照各种显示面板200的制造程序并组装，以获得显示面板200。在本实施例中，由于显示面板200是采用上述的彩色滤光片120，因此采用彩色滤光片120的显示面板200可提升显示面板200的稳定度。

此外，显示面板200可为半穿透半反射式显示面板、反射型显示面板、彩色滤光片于有源层上(color filter on array)的显示面板、有源层于彩色滤光片上(array on color filter)的显示面板、垂直配向型(VA)显示面板、水平切换型(IPS)显示面板、多域垂直配向型(MVA)显示面板、扭曲向列型(TN)显示面板、超扭曲向列型(STN)显示面板、图案垂直配向型(PVA)显示面板、超级图案垂直配向型(S-PVA)显示面板、先进大视角型(ASV)显示面板、边缘电场切换型(FFS)显示面板、连续焰火状排列型(CPA)显示面板、轴对称排列微胞型(ASM)显示面板、光学补偿弯曲排列型(OCB)显示面板、超级水平切换型(S-IPS)显示面板、先进超级水平切换型(AS-IPS)显示面板、极端边缘电场切换型(UFFS)显示面板、蓝相显示面板(Blue phasedisplay panel)、高分子稳定配向型显示面板、双视角型(dual-view)显示面板、三视角型(triple-view)显示面板、三维显示面板(three-dimensional)或其它型面板。

图5为根据本发明的实施例的一种光电装置的示意图。请参照图5，本实施例的显示面板300可以跟电子元件310电连接而组合成一光电装置320，而显示面板300例如是上述一实施例的显示面板200。显示面板300制造方法包含如上述的显示面板200的制造方法，再依照各种电子元件310的制造程序并组装所得显示器，以获得光电装置320。另外，在本实施例中，由于显示面板300是采用上述的显示面板200，因此采用显示面板300的光电装置320可提升其产品可靠度。

另外，电子元件310包括如：控制元件、操作元件、处理元件、输入元件、存储元件、驱动元件、发光元件、保护元件、感测元件、检测元件、或其它功能元件、或前述的组合。而光电装置320的类型包括便携式产品(如手机、摄影机、照相机、笔记本电脑、游戏机、手表、音乐播放器、电子信件收发器、地图导航器、数码相片、或类似的产品)、音像产品(如音像放映器或类似的产品)、屏幕、电视、看板、投影机内的面板等。

综上所述，在本发明的实施例中彩色滤光片采用了突起结构，且突起结构的高度实质上大于彩色滤光图案层，例如：红、绿、蓝色滤光图案层的高度。因此利用研磨程序来移除位于突起结构的顶部表面的电极膜，使得位于突起结构的一侧表面的电极膜与另一侧表面的电极膜电性绝缘。也就是说，位于突起结构两侧的电极膜之间存在一间隔(gap)，而暴露出突起结构的顶部表面。如此一来，位于显示区的电极膜便不受位于周边区的突起结构以外的电极膜影响，而能够维持稳定的电压，避免显示画面的异常，进而提升采用此彩色滤光片的显示面板的稳定性以及采用此显示面板的光电装置的可靠度。

再者，通过研磨程序使突起结构在两侧表面的电极膜电性绝缘的方式，可不增加额外的光刻、蚀刻程序以移除周边区电极膜，因此可不增加彩色滤光片的制造成本。

另外，由于突起结构为可由多个彩色滤光图案层所组成的一叠层，因此在像素单元区及位于显示区的遮光图案层上形成彩色滤光图案层，例如：红、绿或蓝色滤光图案层的同时，也可在周边区的遮光图案层上形成突起结构。因此，突起结构的不需额外工艺即可形成，因而不会增加彩色滤光片的制作成本。

虽然本发明已以实施例揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围当视所附的权利要求所界定的范围为准。

Claims (17)

1.一种彩色滤光片的制造方法，包括：

提供一基板，其具有一显示区以及围绕该显示区的一周边区，且该显示区中具有多个像素单元区以及一位于所述多个像素单元区之间的像素边界区；

在该显示区的所述多个像素单元区中形成多个彩色滤光图案层；

在该周边区中形成连续围绕该显示区的一突起结构，其中该突起结构的高度实质上大于所述多个彩色滤光图案层的高度；

在该基板上形成一电极膜，覆盖所述多个彩色滤光图案层以及该突起结构；以及

进行一研磨程序，以移除该突起结构的顶部表面的该电极膜，其中位于该突起结构其中一侧表面的该电极膜与位于该突起结构的另一侧表面的该电极膜电性绝缘。

2.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法，其中该突起结构包括由所述多个彩色滤光图案层中的至少两个彩色滤光图案层所组成的一叠层。

3.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法，还包括于该显示区的像素边界区中形成一遮光图案层，其中该突起结构与该遮光图案层构成聚合物层。

4.如权利要求3所述的彩色滤光片的制造方法，其中该遮光图案层还包括延伸至该周边区中。

5.如权利要求4所述的彩色滤光片的制造方法，其中该突起结构包括由所述多个彩色滤光图案层中的至少两个彩色滤光图案层所组成的一叠层，且该叠层位于该周边区中的该遮光图案层上。

6.如权利要求3所述的彩色滤光片的制造方法，其中该遮光图案层是一金属层、一树脂层或由所述多个彩色滤光图案层所组成的一叠层。

7.如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法，其中该研磨程序还包括移除该突起结构的部分厚度，且该突起结构所保留的高度实质上大于所述多个彩色滤光图案层的高度。

8.一种彩色滤光片，包括：

一基板，其具有一显示区以及围绕该显示区的一周边区，且该显示区中具有多个像素单元区以及一位于所述多个像素单元区之间的像素边界区；

多个彩色滤光图案层，位于该显示区的所述多个像素单元区中；

一突起结构，位于该周边区中并且连续围绕该显示区，其中该突起结构的高度实质上大于所述多个彩色滤光图案层的高度；以及

一电极膜，覆盖所述多个彩色滤光图案层以及该突起结构的两侧表面，其中位于该突起结构其中一侧表面的该电极膜与位于该突起结构的另一侧表面的该电极膜电性绝缘。

9.如权利要求8所述的彩色滤光片，其中该突起结构包括由所述多个彩色滤光图案层中的至少两个彩色滤光图案层所组成的一叠层。

10.如权利要求8所述的彩色滤光片，还包括一遮光图案层，位于该显示区的像素边界区中。

11.如权利要求10所述的彩色滤光片，其中该遮光图案层还包括延伸至该周边区中。

12.如权利要求11所述的彩色滤光片，其中该突起结构包括由所述多个彩色滤光图案层中的至少两个彩色滤光图案层所组成的一叠层，且该叠层位于该周边区中的该遮光图案层上。

13.如权利要求10所述的彩色滤光片，其中该遮光图案层是一金属层、一树脂层或由所述多个彩色滤光图案层所组成的一叠层。

14.一种显示面板的制造方法，包含如权利要求1所述的彩色滤光片的制造方法。

15.一种光电装置的制造方法，包含如权利要求14所述的显示面板的制造方法。

16.一种显示面板，包含如权利要求8所述的彩色滤光片。

17.一种光电装置，包含如权利要求16所述的显示面板。

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