CN101470217A - 显示装置 - Google Patents

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CN101470217A CNA200810184469XA CN200810184469A CN101470217A CN 101470217 A CN101470217 A CN 101470217A CN A200810184469X A CNA200810184469X A CN A200810184469XA CN 200810184469 A CN200810184469 A CN 200810184469A CN 101470217 A CN101470217 A CN 101470217A
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silicon oxide
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Abstract

本发明“显示装置”是在显示屏上设有构成面板等的透光性基板的显示装置。若在透光性基板的显示视认侧表面上形成防反射膜,则指纹或油膜等容易附着,使得指纹和油膜等产生的表面污染显见。因而,在透光性基板的显示视认侧表面上形成防反射膜,并在该防反射膜的上形成防污用硅氧化膜,从而难以附着指纹或油膜,并且即使附着也不会显见。

Description

显示装置
技术领域
本发明涉及在显示屏的显示视认侧表面上设置透光性基板(transparent board)的显示装置。具体而言,涉及具有在显示屏的表面上设置面板(cover plate)或触摸屏的结构的显示装置。
背景技术
在携带电话等的携带设备中,使用着液晶屏、有机EL屏、等离子体显示屏等的平板显示屏。在携带设备上使用平板显示屏的情况下,在壳体上收纳显示屏,在该显示面侧安装前面板来保护显示面。另外,也有在显示视认侧设置触摸屏代替前面板的情况(例如,参照特开平9-274536号公报)。
但是,若在显示屏的表面上设置前面板或触摸屏等,在构成前面板或触摸屏的透光性基板的表面上就会有反射,从而衰减从显示屏出射的显示光。另外,由于外光由透光性基板的表面反射,显示的视认性降低。还有,对于携带设备使用的显示屏要求耗电低。因此,不仅需要显示屏自身的耗电低,而且要求尽可能不使从显示屏出射的显示光衰减,使其高效地出射。
因此,作了在透光性基板的表面上形成防反射膜以降低表面的反射损失的努力。另一方面,在显示屏用于携带设备的情况下,移动使用时手或手指触摸显示面的机会增多。并且,容易因使用环境而附着油膜或其它污物。
在透光性基板表面上形成的防反射膜,利用防反射膜内的光的干涉来使基板表面的反射损失降低,使透过率提高。在这样的高透过率的透光性基板的表面上附着污物,会非常显眼。另外,如果使用者的指纹、汗水或油膜等附着在防反射膜的表面上,附着部分的光的干涉条件发生变化,使得污物突显,使显示的视认性下降。
发明内容
因此,本发明的显示装置是设有显示屏以及在显示屏的显示面侧设置透光性基板的显示装置,做成在透光性基板的显示视认侧表面上形成防反射膜,在防反射膜的表面上形成防污用的硅氧化膜。而且,在显示屏与透光性基板之间充填粘接剂进行粘接。
另外,硅氧化膜的表面构成为使其对水的接触角在80°~180°的范围。还有,以铅笔硬度为基准,硅氧化膜的硬度形成为处在6H~9H的范围。
这时,作为防反射膜,做成使用由氟化镁构成的单层膜。而且,透光性基板的硅氧化膜形成侧的表面,光的透过率在98%~99%的范围。
这里,透光性基板可以是构成前面板的基板,构成触摸屏的基板等。也可以在构成前面板的透光性基板与显示屏之间配置静电电容耦合式触摸屏。
附图说明
图1是用于本发明的显示装置的透光性基板的示意剖面图。
图2是本发明的显示装置的示意剖面图。
图3是本发明的显示装置的示意剖面图。
图4是本发明的显示装置的示意剖面图。
标记说明
1 透光性基板
2 防反射膜
3 硅氧化膜
4 上基板
5 下基板
6 液晶层
7 衬垫
8 上偏光板
9 下偏光板
10 液晶显示装置
11 输入端子
12 液晶屏
17 静电电容式触摸屏
具体实施方式
在本发明的显示装置中,在显示屏的显示面侧设有前面板或触摸屏。在作为前面板或触摸屏的构成要素的透光性基板的观察者侧的表面上形成防反射膜,在该防反射膜的表面上形成用以防止指纹等污物的防污用硅氧化膜。于是,指纹或油膜难以附着,并且具有即使指纹或污物附着也不显眼的优点。
作为显示屏,例如有液晶屏、有机EL屏、等离子体显示屏等的平面型显示屏。作为用于前面板等的透光性基板,例如有由玻璃、丙烯酸树脂(PMMA:甲基丙烯酸甲酯树脂),聚碳酸酯树脂等的塑料材料的基板。防反射膜可采用氟化镁膜。作为防反射膜,可以使用单层的氟化镁膜或使用与其它电介质材料组合的多层构造。再者,使用单层氟化镁膜在成本上是有利的。
至于硅氧化膜,可以使用二氧化硅氧化膜、一氧化硅氧化膜或SiOx(1<x<2)。硅氧化膜可采用将硅氧化物作为靶材的溅射法,或采用将硅氧化物或硅基板作为靶材的氧化气氛中的反应性溅射法制作。另外,可通过使用硅烷气体和氧气的CVD法或等离子体CVD法来制作硅氧化膜。
另外,在显示屏与透光性基板之间可以充填透光性粘接剂。作为透光性粘接剂,使用UV固化型粘接剂、可见光固化型粘接剂、热固化型粘接剂或透明性粘接片。通过使透光性粘接剂的折射率近似于透光性基板或显示屏的表面材料的折射率,可以使从显示屏出射的显示光在透光性基板的表面或显示屏的表面的反射损失降低。另外,由于透光性基板与显示屏用透光性粘接剂做成一体,提高了显示屏的耐冲击性。
另外,将硅氧化膜表面对于水的接触角取值在80°~180°的范围。于是,将透光性基板的表面变换成疏水性,指纹、汗或油膜变得难附着。例如,作为防反射膜,在氟化镁露出的情况下,对水的接触角是30°以下。由于在该表面上形成硅氧化膜,可以变换成疏水性的表面。可以使污物附着困难。另外,将硅氧化膜表面取值在6H~9H的铅笔硬度范围。于是,由于显示面变成高硬度,难以划伤。
另外,可在构成前面板的透光性基板与显示屏之间配置静电电容耦合式触摸屏。于是,可以从显示面侧输入信息。特别是,由于静电电容耦合式触摸屏的内部没有空气层等的表面,在用于显示装置时,可以使显示光的反射损失降低。
以下,基于各实施例具体说明本发明,各实施例中以液晶屏作为显示屏。对于同一部分或具有相同功能的部分,基本上附加相同标记。
实施例1
图1是示意表示本实施例的显示装置的前面板的剖面图。这是在透光性基板1的表面上形成防反射膜2,在其上方的表面上形成硅氧化膜3的结构。使用玻璃作为透光性基板1。防反射膜2是用溅射法形成的单层氟化镁(MgF2)。硅氧化膜3是用溅射法淀积至厚度的二氧化硅膜。再者,硅氧化膜3的膜厚不受此限。可取为可见光波长的1/2以下,例如,从
Figure A200810184469D0006081320QIETU
以下至数
Figure A200810184469D0006081330QIETU
测量硅氧化膜3形成侧的表面对于可见光的透过率是98.5%。形成淀积硅氧化膜之前防反射膜2的透过率是96.1%。因而,由于形成硅氧化膜3,透过率提高了2.4%。硅氧化膜3表面的铅笔硬度为6H以上。因此,可以做成难于划伤的表面。
另外,关于硅氧化膜3的表面的润湿性,对水的接触角是98°,对油酸(olein oil)的接触角是61°。由硅氧化膜3淀积之前的氟化镁膜构成的防反射膜2的接触角,对水是24°,对油酸是20°。即,由于淀积硅氧化膜3,可以使其变成疏水性表面。
图2示意表示本实施例的液晶显示装置10的剖面结构。如图所示,液晶显示装置10设有:透光性基板1、液晶屏12及背光单元15。液晶屏12是在由玻璃构成的上基板4与下基板5之间用密封材料7封入液晶层6的构造,在上基板4的外表面上粘贴偏光板8,在下基板5的外表面上粘贴下偏光板9。下基板5比上基板4突出,在其突出部的内表面侧安装用以驱动液晶层6的驱动器IC13,再者,在驱动器IC13上连接用以传递驱动信号的柔性连接器14。
透光性基板1与液晶屏12之间用透光性粘接剂16粘接。作为透光性粘接剂16,使用了UV固化型或可见光固化型的粘接剂。与热固化型比较,UV固化型或可见光固化型的粘接剂无需加热,因此固化收缩率小,可以减轻上下偏光板8、9的劣化或因固化收缩而加到液晶屏上的应力。也可使用在光固化型的粘接剂上添加热固化型的粘接剂后的透光性粘接剂16。由于液晶屏12用透光性粘接剂16固定在透光性基板1上,液晶屏12的耐冲击性得到改善。
这里,将透光性粘接剂16的折射率例如设定在1.50~1.55。通过使透光性粘接剂16的折射率近似于透光性基板1或上偏光板8,可以使透光性基板1的下面与透光性粘接剂16之间的界面或上偏光板8与透光性粘接剂16之间的界面的光的反射损失降低。
在图2中,也可以将液晶屏12上下反转。液晶屏12也可以是简单矩阵型液晶屏,或是在各像素上形成TFT元件的有源矩阵型液晶屏,或是其它类型的液晶屏。另外,在下部设置背光单元15,而在背光单元15与液晶屏12之间,可以***用以控制从背光单元15照射的光的方向的扩散板或棱镜片。另外,作为背光单元15,可以使用EL发光片,或是在端部设置LED,用导光板将光导入上方向的类型。
另外,图2中是上偏光板8粘贴在上基板4上的结构,但也可将上偏光板8粘贴在透光性基板1的液晶屏12侧的表面上。另外,可以将防眩用的1/4波长板设置在上偏光板8的表面或透光性基板1的液晶屏12侧的表面上。
通过将液晶显示装置10做成上述那样的结构,可降低透光性基板1的显示视认侧表面的反射损失,另外,由于液晶屏12与透光性基板1之间没有夹杂空气层,且将透光性粘接剂16的折射率近似于两基板的折射率,可以大幅度地降低从液晶屏12出射的显示光的反射损失。另外,由于将液晶显示装置10的露出面做成疏水性的表面,指纹等附着变得困难。还有,即使有指纹等的附着,也不会显眼。还有,由于将硅氧化膜3的铅笔硬度设于6H以上,使露出面难以受到划伤等损害。
在本实施例中,将透光性基板1作为前面板的构成要素作了说明,但即使是构成触摸屏的透光性基板,也基本上相同。这种情况下的液晶显示装置的结构由图3示意表示。与上述一样,在构成触摸屏或触摸开关等输入部件11的透光性基板的观察者侧,依次形成防反射膜2和防污用的硅氧化膜3,并将该透光性基板用透光性粘接剂16粘贴在液晶屏上。
实施例2
本实施例的液晶显示装置10的剖面结构示意表示于图4。与图2的液晶显示装置10不同点是,在液晶屏12与构成前面板的透光性基板1之间***了静电电容耦合式触摸屏。其它结构与图2的相同,因此省略其说明。
透光性基板1与触摸屏17用透光性粘接剂16粘接,同样,触摸屏17与液晶屏12也用透光性粘接剂16粘接。静电电容式触摸屏17的玻璃等透明基板的表面上形成有透明导电膜。使用者手指触及与形成透明导电膜的表面相反侧的表面,被触及部分与透明导电膜之间的电容就发生变化。二维地检测伴随该电容变化的电流变动,算出手指等接触的位置。因而,由于与电阻膜方式的触摸屏不同,无需将空气层夹在中间,可以***薄型且表面上的光反射损失小的触摸屏。
这时,由于使透光性粘接剂16的折射率与触摸屏的玻璃基板的折射率近似,还可以降低触摸屏表面上的光反射损失。另外,由于在透光性基板1的表面上形成防反射膜2,并在其上方形成作为防污膜的硅氧化膜3,指纹等难以附着,可以防止显示看不清楚的情况。
如上述各实施例的结构所示,在向外部露出的透光性基板表面上依次形成防反射膜和硅氧化膜,从而难以在表面上附着污物,且即使附着污物也不会变得显眼,可以防止显示看不清楚的情况。

Claims (8)

1.一种在显示屏的显示面侧设有透光性基板的显示装置,其特征在于,
在所述透光性基板的显示视认侧表面上形成有防反射膜,并在所述防反射膜的表面上形成有防污用的硅氧化膜。
2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述硅氧化膜表面对水的接触角在80°~180°的范围。
3.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述硅氧化膜的铅笔硬度在6H~9H的范围。
4.如权利要求1~3中任意一项所述的显示装置,其特征在于,在所述显示屏与所述透光性基板之间充填有透光性粘接剂。
5.如权利要求1~3中任意一项所述的显示装置,其特征在于,所述防反射膜是由氟化镁构成的单层膜。
6.如权利要求1~3中任意一项所述的显示装置,其特征在于,所述透光性基板的所述硅氧化膜形成侧的表面上,光的透过率在98%~99%的范围。
7.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,在所述透光性基板与所述显示屏之间,夹持有静电电容耦合式触摸屏。
8.如权利要求7所述的显示装置,其特征在于,所述透光性基板是构成前面板的基板。
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