CN101289025B - 曝光装置以及激光控制部用电路板 - Google Patents

曝光装置以及激光控制部用电路板 Download PDF

Info

Publication number
CN101289025B
CN101289025B CN2008100933446A CN200810093344A CN101289025B CN 101289025 B CN101289025 B CN 101289025B CN 2008100933446 A CN2008100933446 A CN 2008100933446A CN 200810093344 A CN200810093344 A CN 200810093344A CN 101289025 B CN101289025 B CN 101289025B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mentioned
laser
control
control unit
card
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2008100933446A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101289025A (zh
Inventor
滨岸俊光
藤本守
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Skilling Group
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Publication of CN101289025A publication Critical patent/CN101289025A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101289025B publication Critical patent/CN101289025B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/0683Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/0617Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium using memorised or pre-programmed laser characteristics

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)

Abstract

本发明提供一种即使不设置校准传感器,也能够将激光的光量调整到规定值的曝光装置。上述曝光装置具有激光控制部,该激光控制部由能够独立交换的电路板构成,并接收来自全面控制整个装置的动作的主控制部的控制,控制从发出激光的激光发光部发出的激光,其中,用于调整因电路板的电路误差而引起的控制因素的偏差的误差调整信息存储在激光控制部所具有的存储器中,该误差调整信息是指,针对电路板在搭载到曝光装置之前预先取得的信息。激光控制部在从主控制部接到到使以规定的光量发出激光的控制指示时,基于存储在存储器中的误差调整信息,决定激光的发光条件,并按照发光条件使激光发光部发出激光。

Description

曝光装置以及激光控制部用电路板
技术领域
本发明涉及一种调整曝光用激光的光量的技术。
背景技术
作为直接形成图像在印版上的CTP(Computer To Plate:计算机直接制版)装置,将激光二极管(LD)用作曝光头(光源)的CTP装置到目前为止已被公知。在上述的CTP装置中,在LD之前设置校准传感器,通过该校准传感器测定激光的光量,并基于其测量值调整流动到LD的电流值,从而能够以预先设定的光量输出激光。使用该校准传感器的校准,一般每次交换LD的控制基板或LD自身时进行。另外,一般来讲,也为了确认LD有无劣化而定期进行上述校准。
此外,作为CTP装置的曝光方式,广泛采用通过从多个激光二极管同时照射光来进行曝光的多束(multibeam)方式。例如,具有如下的曝光头的CTP装置已被公知(例如,参照日本特开2000-43317号公报),即,该曝光头具有在一个方向上连续设置的多个激光二极管,和将从这些多个激光二极管照射出的激光成像在曝光位置上的透镜。另外,如下的CTP装置也已被公知(例如,参照日本特开2003-89180号公报),即,将多个激光二极管以规定的间隔分散地配置,并通过来自每个激光二极管的光,直接对多个部分区域同时进行曝光,以此进行整个区域的曝光。
另一方面,能够容易地进行新安装或交换作业的LED照明装置也已被公知(例如,参照日本特开2005-317586号公报)。
在如日本特开2000-43317号公报所公开的这种CTP装置的情况下,因为激光二极管集中设置在一个部位上,所以校准传感器与其配置地点对应地设置就可以。
相对于此,在日本特开2003-89180号公报所公开的CTP装置的情况下,为了将多个激光二极管分散地配置,所以需要以如下方式构成,即,至少在执行校准时,校准传感器能够配置在各激光二极管之前。例如,如果是想要用一个校准传感器能够执行对所有的激光二极管的校准的情况,就需要具有用于移动该校准传感器的机构部件,但其成为使CTP装置的装置成本增加的主要原因。虽说如此,对应于所有的激光二极管而设置校准传感器,理所当然地也与装置成本的增加相关。
另外,本来激光二极管的个数越多,有时校准所需的时间就越长,因此,从提高装置的运转率的观点来讲,优选尽量简单地进行校准本身。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而做出的,其目的在于提供一种即使不设置校准传感器,也能够将曝光用的激光光量调整到规定值的曝光装置。
(1)为了解决上述问题,本发明提供一种曝光装置,用激光对被曝光体进行曝光,其特征在于,具有:主控制部,其全面控制装置整体的动作;激光发光部,其发出激光;激光控制部,其由能够独立交换的电路板构成,并接收来自上述主控制部的控制指示,控制上述激光发光部发出激光,用于调整因上述电路板的电路误差而引起的控制因素(controlling factor)的偏差的误差调整信息存储在上述激光控制部所具有的存储器中,该误差调整信息是指,针对上述电路板在搭载到曝光装置之前预先取得的信息,上述激光控制部在从主控制部接收到使以规定的光量发出激光的旨意的控制指示时,基于存储在上述存储器上的上述误差调整信息,决定激光的发光条件,并使激光发光部根据上述发光条件发出激光。
(2)如上述(1)所述的曝光装置,其特征在于,激光控制部向上述激光发光部供给控制电流,以此控制在上述激光发光部中的上述激光的发光,该控制电流与上述主控制部所要求的发光光量相对应,上述误差调整信息是用于基于上述电路误差来调整上述控制电流的信息。
(3)如上述(2)所述的曝光装置,其特征在于,激光控制部具有驱动器,该驱动器用于输出电流值与施加电压相对应的上述控制电流,上述误差调整信息是用于确定对上述驱动器的施加电压和上述控制电流之间的比例关系的信息。
(4)如上述(1)至(3)中任一项所述的曝光装置,其特征在于,上述激光发光部具有光电转换元件,该光电转换元件用于检测上述激光发光部所发出的激光,并输出电流值与所检测的上述激光的光量相对应的监控电流,上述激光控制部能够实施反馈控制,该反馈控制基于从上述光电转换元件接收到的上述监控电流的电流值,控制上述激光发光部的发光,上述误差调整信息是用于基于上述电路误差来调整上述反馈控制中的基准信息的信息。
(5)如上述(4)所述的曝光装置,其特征在于,上述激光控制部具有:调整电路,其将上述监控电流的电流值转换输出为电压值;基准电压输出装置,其输出成为上述反馈控制的基准的基准电压;比较电路,其比较上述调整电路所输出的电压值和上述基准电压,并输出基于其结果的反馈信号,其中,上述误差调整信息是用于确定上述基准电压相对无上述电路误差时的理想值的比例的信息。
(6)一种激光控制部用电路板,在搭载于发出激光的激光发光装置上的情况下,在上述激光发光装置中发挥激光控制部的功能,该激光控制部接收到来自主控制部的控制指示,控制激光发光部发出激光,其中,该主控制部全面控制整个装置的动作,上述激光控制部用电路板的特征在于,具有存储器,该存储器存储预先取得的误差调整信息,该误差调整信息是指,在上述电路板发挥上述激光控制部的功能的情况下,在上述激光发光装置中用于调整因上述电路板的电路误差而引起的控制因素的偏差的信息,在搭载了上述电路板的上述激光发光装置中,上述激光控制部在从上述控制部接收到以规定的光量发出激光的控制指示时,基于存储在上述存储器中的上述误差调整信息,决定激光的发光条件,并使上述激光发光部按照上述发光条件发出激光。
发明效果
根据上述(1)至(6)的发明,即使在曝光装置中交换了发挥激光控制部的功能的电路板,不进行使用校准传感器的校准,就能够以曝光所需的规定的光量发出激光。
附图说明
图1是表示CTP装置100的主要动作部分的立体图。
图2是示意地表示CTP装置100的动作控制所涉及的要素的框图。
图3是用于说明对LD控制基板20取得第一误差调整信息的图。
图4是用于说明对于LD控制基板20取得第二误差调整信息的图。
具体实施方式
<装置概要>
图1是表示本实施方式的CTP装置100的主要动作部分的立体图。CTP装置100是这样一种装置:在配设于滚筒1的侧面且作为被曝光体的印版P的表面上,从曝光头5所具有的激光光源,以基于规定的曝光数据并以像素为单位的进行开/关而照射激光,使作为被曝光体的印版P的表面的感光材料感光,从而形成曝光图案。即,CTP装置是具有作为曝光装置的功能的装置。
滚筒1是由滚筒驱动装置6(例如,驱动电机)来驱动,由此以旋转轴AX为中心旋转的圆筒形的部件。
曝光头5具有如下结构,即,多个LD单元30沿着与旋转轴AX平行的方向,以一定的间隔w分散地被配置的结构。每个LD单元30具有作为激光光源的激光二极管(LD)31。此外,在本实施方式的CTP装置100中,激光二极管31和滚筒1(或者配设在其侧面上的印版P)之间没有设置校准传感器。即,从激光二极管31出射的光直接照射到印版P上。另外,曝光头5通过曝光头移动用滚珠螺杆3及曝光头移动用电机4的动作,沿着未图示的导轨被引导。
另外,图2是示意地表示CTP装置100的动作控制所涉及的要素的框图。CTP装置100,例如由未图示的CPU、ROM、RAM等构成,还具有;主控制装置11,其全面控制(overall control)CTP装置100的整体的动作;曝光数据输入装置12,其取得曝光数据,该曝光数据以像素为单位记录曝光时的激光的开/关信息(即,相当于曝光图像的二值化信息);滚筒驱动控制装置13,其控制由滚筒驱动装置6所驱动的滚筒的旋转动作;曝光头驱动控制装置14,其控制曝光头移动用滚珠螺杆3或曝光头移动用电机4的动作;LD控制装置21,其控制利用激光二极管31进行的激光的开/关动作。
作为曝光数据输入装置12,例如,相当于能够读取可移动存储介质的存储内容的未图示的媒体读取器,或者能够访问外部设备的通信接口等,上述外部设备通过LAN等通信网络与CTP装置100相连接。如果是前者,则通过曝光数据输入装置12取得存储在存储介质中的曝光数据。如果是后者,则例如通过曝光数据输入装置12取得存储在硬盘或数据库服务器等外部存储装置中的曝光数据。
在CTP装置100中,基于主控制装置11按照曝光数据输入装置12所取得的曝光数据的记录内容发送到各控制装置的控制信号,各控制装置控制作为其控制对象的构成要素的动作,以此实现在印版P上形成曝光图像。
更具体地讲,通过滚筒驱动控制装置13的控制并利用滚筒驱动装置6使滚筒1以规定的旋转速度旋转,同时通过LD控制装置21的控制从每个激光二极管31照射激光同时通过曝光头驱动控制装置14的控制使曝光头5与旋转轴AX平行地移动,以此各激光二极管31同时并列地形成所期望的曝光图像的规定部分。通过将曝光头5只移动相当于间隔w的距离并进行这种曝光,从而形成各部分曝光图像连续的曝光图像。
<激光的发光控制原理>
下面,对CTP装置100中的激光的发光控制的基本原理进行说明。CTP装置100作为相关的激光的发光控制的构成要素,主要具有DA转换器(DAC)22,LD驱动器23,增益调整电路24,PD输出比较电路25,DA转换器26,存储器27。此外,这些构成要素和LD控制装置21设置在LD控制基板20上。另外,CTP装置100以能够交换该LD控制基板20的方式构成。另一方面,LD单元30除了激光二极管31之外,还具有光电二极管(PD)32。
此外,如上所述,在CTP装置100上配设多个LD单元30,并在每个LD单元30所具有的激光二极管31中产生激光发光,但在每个激光二极管31中的发光控制的方式相同,因此,以下的说明适用于每个激光二极管31。
另外,虽然在本实施方式中将以下情况作为前提进行说明,即一个LD控制基板20所具有的LD控制装置21的其他构成要素控制所有的激光二极管31的发光,但即使在设置多个LD控制基板20并通过不同的LD控制装置21自各激光二极管31控制发光的情况(例如,与激光二极管31的每一个相对应地设置LD控制基板20的情况等)下,控制的实质方式也相同。
<第一基本控制方式>
在CTP装置100中,响应于自主控制装置11接收的规定的控制信号的LD控制装置21,若通过DA转换器22将规定电压值的LD功率电压V1施加到LD驱动器23,则LD驱动器23使对应于该电压值的操作电流Iop流过激光二极管31,从而激光二极管31以对应于该操作电流Iop大小的光量发出(照射)激光。
一般,形成曝光图像所需的光量对于所有的激光二极管31来讲是一定的,因此,要是对各激光二极管31预先确定以能够流与该一定值相对应的操作电流Iop方式所施加的LD功率电压V1的电压值,并且与曝光图像的开/关状态相对应地施加该电压值的LD功率电压V1,那么各激光二极管31就以相同的光量进行发光。由此,作为整个曝光图像实现用一定光量的曝光。这时的激光发光控制方式称为“第一基本控制方式”。
要基于第一基本控制方式来形成曝光图像,则需要表示用于曝光的激光的光量与用于实现用该光量的发光的操作电流Iop之间的关系的信息。这些关系是每个LD单元30(更具体地讲,是每个激光二极管31)所固有的。在本实施方式中,在将LD单元30配设在曝光头5之前(LD单元30的制造时等),预先确定操作电流Iop和光量之间的关系,并将其与该配设时一起存储保持在主控制装置100中。
由此,在第一基本控制方式的情况下,在每个激光二极管31中,从主控制装置11向LD控制装置21发出控制信号,以便操作电流Iop以存储保持在主控制装置11中的值流动,LD控制装置21将与该操作电流Iop相应的LD功率电压V1施加到LD驱动器23上,从而实现以规定光量的曝光。
<第二基本控制方式>
代替第一基本控制方式,也可以以如下方式进行反馈控制,即,通过设置在LD单元30上且作为光电转换元件的一种的光电二极管(PD)32,检测激光二极管31中的发光,并基于其发光光量,控制施加在LD驱动器23上的LD功率电压V1的值,以此使激光二极管31以一定的光量照射激光。
更具体地讲,通过施加规定的功率电压使激光二极管31中的发光产生,另一方面,将与发光光量相对应地在光电二极管32流动的监控电流Im供给到增益调整电路24,并转换成电压值(被检电压Vs),并在PD输出比较电路25中将该被检电压与APC电压Va进行比较,将与其结果相对应的反馈信号反馈给LD控制装置21,以此调整来自控制装置21的功率电压的施加,其中,上述APC电压Va是从LD控制装置21经由DA转换器26所供给的基准电压。即,相当于形成曝光图像所需的光量的监控电流Im流动时,成为被检电压Vs=APC电压Va。将上述激光的发光控制的方式称为“第二基本控制方式”。
为了实现基于第二基本控制方式的曝光图像的形成,需要预先确定表示用于曝光的激光的光量与对应于该光量流动的监控电流Im之间的关系的信息。这时的监控电流Im的值是被检电压Vs与APC电压Va相平衡时的值。这些关系是每个LD单元30(更具体地讲,激光二极管31和光电二极管32的组)所固有的,因此与第一基本控制方式的操作电流Iop同样,在将LD单元30配设在曝光头5之前被预先确定,并在该配设时一起存储保持在主控制装置11中。
由此,在第二基本控制方式的情况下,预先掌握在主控制装置11中与某发光光量(或者监控电流Im)相平衡的APC电压Va,根据基于实际的监控电流Im的被检电压Vs和APC电压Va之间的差异,进行反馈控制,从而实现以规定光量的曝光,上述反馈控制控制通过LD控制装置21施加到LD驱动器23上的LD功率电压V1。
<实际的发光控制>
在CTP装置100中,如上所述,主控制装置11保持着实现激光以曝光所需的规定光量发光所需的信息,上述信息用于确定操作电流Iop和该光量之间的关系、或者发光光量(或者监控电流Im)和APC电压之间的关系。因此,理想的情况是,如果要是通过基于相关关系向LD驱动器23施加一定的LD功率电压V1,从原理上讲,不管是第一基本控制方式还是第二基本控制方式,都应该能够实现始终以规定光量的发光。
但是,一般来讲,在LD控制基板20上存在因设计误差而引起的个体差(电路误差)。因此,当交换LD控制基板时,在交换前后,在产生以相同光量的激光发光所需的LD功率电压V1的值上可能会发生差异。例如,要是第一基本控制方式,则在将为了使在搭载了某一LD控制基板20的情况下的操作电流Iop流过而施加的LD功率电压V1,直接施加至搭载了不同的LD控制基板20的情形下时,不一定能得到与交换前相同值的操作电流Iop,而可能会发生导致激光的光量偏离所期望的值的情况。
到目前为止,每次交换LD控制基板20,使用校准传感器进行激光光量的校准是为了修正这种光量的偏离。在上述校准中LD功率电压V1被调整成使光量能够保持为规定的值。
但是,从上述第一以及第二基本控制方式中可以知道,LD控制基板20的个体差所影响的是,要是第一基本控制方式的情况,从LD控制装置21施加到LD驱动器23的LD功率电压V1和从LD驱动器23输出的操作电流Iop之间关系。要是第二基本控制方式的情况,从光电二极管32输出的监控电流Im和LD控制装置21所施加的APC电压Va之间的关系(此外,因为LD功率电压V1被反馈信号的值所控制,所以从结果上讲,是监控电流Im和LD功率电压V1的关系受到影响)。相对于此,操作电流Iop和激光的光量的关系以及监控电流Im和激光的光量的关系是在每个激光二极管31中所固有的,因此,要是操作电流Iop或监控电流Im相同,则即使LD控制基板20存在个体差,激光的光量也相同。
因此,在第一基本控制方式中,要是做成即使LD控制基板20不同,也输出相同的操作电流Iop,在第二基本控制方式中,要是将APC电压调整成即使LD控制基板20不同也在相同的监控电流Im流动时反馈信号成为零值,则不需要进行伴随着LD控制基板20的交换的校准。
在本实施方式中,着眼于上述的点,在LD控制基板所具有的存储器27中预先存储用于确定该LD控制基板20中的LD功率电压V1和操作电流Iop之间的关系,以及监控电流Im和APC电压Va之间的关系的信息。将这些信息称之为误差调整信息。在CTP装置100中,即使交换了LD控制基板20,通过LD控制装置21参照存储在存储器27中的误差调整信息进行控制,不进行利用校准传感器实行的校准,也能够进行以曝光所需的光量的激光发光。
以下,将参照预先存储在LD控制基板20上的误差调整信息所进行的、与第一以及第二基本控制方式相对应的实效的控制方式分别特别称为“第一实效控制方式”以及“第二实效控制方式”。对于这些控制方式依次进行说明。
<第一实效控制方式>
在第一实效控制方式的情况下,若需要通过从主控制装置11使某一电流值的操作电流Iop流动来发出激光,则需要将实现该电流值的LD功率电压V1正确地施加在LD驱动器23上。即,需要能够将从LD控制装置21施加到LD驱动器23上的LD功率电压V1和LD驱动器23所输出的操作电流Iop的关系确定成唯一。在LD驱动器23中所施压的LD功率电压V1与操作电流Iop之间存在如下(式1)所示的比例关系。由此,使能够将其系数α(α>0)确定成唯一的信息,作为第一误差调整信息而在搭载在CTP装置100上之前(例如,出厂时等)预先存储在存储器27中。
Iop=α·V1                        (式1)
图3是用于说明在向CTP装置100搭载之前,在LD控制基板20取得第一误差调整信息的图。首先,将已知(在图3中为7.5Ω)阻抗值Ro的阻抗41连接到LD控制基板20的LD驱动器23上,通过LD控制装置21经由DA转换器22,对LD驱动器23施加已知的电压V1α(在图3中为3.1V)。在这种状态下,用电压计42测量阻抗41的两端的电位差ΔV。然后,通过下面的(式2),求出此时流过阻抗的电流的电流值Iα
Iα=ΔV/Rα    (式2)
该电流值Iα相当于向LD驱动器23施加了电压值V1α的LD功率电压时的操作电流Iop的值。将此时的电压值V1α称为第一基准电压值,将电流值Iα称为第一基准电流值。根据(式1),在两者之间下面的(式3)的关系成立。
Iα=α·V1α               (式3)
因为若对(式3)进行变形,就能够唯一地确定系数α,所以将基准LD功率电压值V1α和基准操作电流值Iα的值作为第一误差调整信息存储到存储器27中。使用这些值,求出输出所期望的操作电流Iop所需的LD功率电压V1的值。换句话说,第一误差调整信息也可以称为确定LD功率电压和操作电流之间的比例关系的信息。实际上,即使不计算出系数α其本身,通过下面的(式4)也能够求出LD功率电压V1的值。
V1=(Iop/Iα)·V1α               (式4)
如图3中的例子所示,在Iα=280mA、且要求流动Iop=140mA的操作电流时,根据(式4),
V1=(140/280)×3.1=1.55V
当然,在用于曝光的发光光量根据曝光内容被分成任意个阶段而被设定的情况下,能够确定与各发光光量相对应的第一误差调整信息,并将其存储到存储器27中。
即,在第一实施控制方式的情况下,主控制装置11读取预先存储在存储器27中的第一基准电压值和第一基准电流值,对LD控制装置21施加从(式4)求出的LD功率电压。由此,例如即使交换了LD控制基板20,要是读取存储在该LD控制基板20的存储器27中的第一基准电压值和第一基准电流值,并根据(式4)进行运算的话,也能够求出用于对该LD控制基板20设定的LD功率电压的值。即,不需要使用校准传感器进行校准,通过使适当的操作电流Iop来流动而能够以曝光所需的规定的光量发出激光。
<第二实效控制方式>
在第二实效方式中,需要在实现了被检电压Vs与从LD控制装置21经由DA转换器26所施加的APC电压Va相平衡的状态(反馈信号成为零值的状态)的状况下以期望的发光光量产生激光发光,上述被检电压Vs是将从光电二极管32流出的监控电流Im通过增益调整电路24转换而得的。即,在发光光量过于不足的状态下,需要进行反馈控制,以便反馈信号不成成零值。
首先,在增益调整电路24中,根据下面的(式5)所示的关系,得到被检电压Vs。其中,K0是在增益调整电路24中给出现实增益(real gain)的系数(K0>0),β是表示电路误差的系数(电路误差系数β>0)。
Vs=β·K0·Im                (式5)
系数K0是在设计电路时已知的值,而且是预先被保持在主控制装置11中的值,但电路误差系数β是依赖于LD控制基板20的值。由此,即使流过相同的监控电流Im,要是电路误差系数β不同,则被检电压Vs的值也就不同。
此时,当监控电流Im的值为Ima时,要是被检电压Vs与APC电压Va相平衡,则根据(式5)下面的(式6)成立。
Va=β·K0·Ima               (式6)
此外,假设增益调整电路24上不存在电路误差时,β=1。若当监控电流Im的值为Ima时,不存在该电路误差时的被检电压Vs的值是Vsi,则根据(式5),下面的(式7)的关系成立。
Vsi=K0·Ima                  (式7)
而且,根据(式6)和(式7),下面的(式8)的关系成立。
Va=β·Vsi                   (式8)
(式8)意味着与被检电压Vs相平衡的APC电压Va是通过不存在电路误差时的被检电压Vs的值Vsi乘上电路误差系数β而得的。
若已知监控电流Im的值Ima,则Vsi是通过(式7)能够求出的值。由此,将能够唯一地决定该电路误差系数β的信息,在向CTP装置100搭载之前(例如,出厂时等),作为第二误差调整信息而存储到LD控制基板20的存储器27中。换句话说,第二误差调整信息也可以称为用于确定实际的APC电压Va电压对于不存在电路误差时的理想值的比的信息。
图4是用于说明在向CTP装置100搭载之前,对于LD控制基板20取得第二误差调整信息的图。
首先,在LD控制基板20的增益调整电路24上,连接阻抗值已知的阻抗51的基础上,通过已知的恒定电流(在图4中是电流值Iex)流动在增益调整电路24中,从增益调整电路24对PD输出比较电路25施加某一电压值Vex的被检电压Vs。在此时,电压值Vex是未知的。
同时,使LD控制装置21监视来自PD输出比较电路25的反馈信号,与此同时通过对DA转换器26输入DAC设定信号,进行逐渐增加APC电压Va的电压值的反馈控制。若是这样的话,最终使反馈信号成为零值,达到APC电压Va的值与被检电压Vs(=Vex)的值相平衡的状态。在此时DA转换器26所施加的APC电压Va的值称为电压值Vex。将此时所流动的恒定电流的电流值Iex称为基准电流值,将APC电压Va的电压值Vex称为第二基准电压值。两者之间,根据(式5)如下(式9)成立。
Vex=β·K0·Iex                   (式9)
若是将(式9)进行变形,就能够唯一地确定电路误差系数β,因此,第二基准电压值Vex和第二基准电流值Iex作为第二误差调整信息被存储到存储器27中。利用这些值,能够求出以某一发光光量(以某个值的监控电流Im)发出激光时的所期望的APC电压Va的值实际上,既使不计算电路误差系数β其本身,也能够通过下面的(式10)求出APC电压Va的值。
Va=(Vex·Vsi)/K0·Iex             (式10)
例如,增益调整电路24被设计成K0=4800,在Vsi=2V为理想的被检电压值的情况下,若在某一LD控制基板20中将Iex=0.5mA,Vex=1.8V的值作为第二误差调整信息被存储在存储器27中的情况下,其APC电压Va为如下成立。
Va=(1.8×2)/(4800×0.5×10-3)=1.5V
或者,若在LD控制基板20中将Iex=0.48mA,Vex=1.7V的值作为第二误差调整信息存储在存储器27中的情况下,其APC电压Va为如下:
Va=(1.7×2)/(4800×0.48×10-3)=1.476V
当然,在使用于曝光的曝光光量根据曝光内容被分成任意个阶段而被设置的情况下,与各曝光光量相对应的第二误差调整信息被确定,并被存储到存储器27中。
即,在第二实效控制方式的情况下,主控制装置11使LD控制装置21读取预先存储在存储器27中的第二基准电压值和第二基准电流值,并将从(式10)求出的APC电压供给给PD输出比较电路25。由此,例如,即使交换了LD控制基板20,要是读取存储在其LD控制基板的存储器27中的第二基准电压值和第二基准电流值,并根据(式10)进行运算,就能够求得应设定在该LD控制基板20上的APC电压的值。即,即使不使用校准传感器进行校准,也能够实现以所期望的发光光量产生激光发光时反馈信号成为零值的反馈控制。即,能够以曝光所需的规定的光亮发出激光。
<变形例>
在上述实施方式中所实现的因LD控制基板的个体差的修正所引起的误差的修正,不局限于如CTP装置100的激光二极管被分散地设置的CTP装置,同样也适用于通过与LD控制基板20相同的控制电路,进行激光二极管的发光控制的通常的曝光装置。
此外,在上述的实施方式中,设置在滚筒1的表面上的印版P成为曝光对象,但也可以滚筒1的表面自身替代该印版P作为被曝光体,通过将形成在该表面上的图像复制到被复制物上,以此能够进行图像成形。
此外,也可以是如下的方式,即,通过未图示的规定的装置进行向CTP装置100的印版P的搬入及搬出,以及向滚筒1的印版P的安装卸载等。此时,控制这些处理的控制装置也需要另外配备。

Claims (6)

1.一种曝光装置,用激光对被曝光体进行曝光,其特征在于,具有:
主控制部,其全面控制整个装置的动作;
激光发光部,其发出激光;
激光控制部,其由能够独立交换的电路板构成,并接收来自上述主控制部的控制指示,控制上述激光发光部发出激光,其中,
用于调整因上述电路板的电路误差而引起的控制因素的偏差的误差调整信息存储在上述激光控制部所具有的存储器中,该误差调整信息是指,针对上述电路板在搭载到上述曝光装置之前预先取得的信息,
上述激光控制部在从主控制部接收到使以规定的光量发出激光的控制指示时,基于存储在上述存储器中的上述误差调整信息,决定激光的发光条件,并使上述激光发光部按照上述发光条件发出激光。
2.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,
激光控制部向上述激光发光部供给控制电流,以此控制在上述激光发光部中的上述激光的发光,该控制电流与上述主控制部所要求的发光光量相对应,
上述误差调整信息是用于基于上述电路误差来调整上述控制电流的信息。
3.如权利要求2所述的曝光装置,其特征在于,
激光控制部具有驱动器,该驱动器用于输出电流值与施加电压相对应的上述控制电流,
上述误差调整信息是用于确定对上述驱动器的施加电压和上述控制电流之间的比例关系的信息。
4.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置,其特征在于,
上述激光发光部具有光电转换元件,该光电转换元件用于检测上述激光发光部所发出的激光,并输出电流值与所检测的上述激光的光量相对应的监控电流,
上述激光控制部能够实施反馈控制,该反馈控制基于从上述光电转换元件接收到的上述监控电流的电流值,控制上述激光发光部的发光,
上述误差调整信息是用于基于上述电路误差来调整上述反馈控制中的基准信息的信息。
5.如权利要求4所述的曝光装置,其特征在于,上述激光控制部具有:
调整电路,其将上述监控电流的电流值转换输出为电压值;
基准电压输出装置,其输出成为上述反馈控制的基准的基准电压;
比较电路,其比较上述调整电路所输出的电压值和上述基准电压,并输出基于其结果的反馈信号,其中,
上述误差调整信息是用于确定上述基准电压相对无上述电路误差时的理想值的比的信息。
6.一种激光控制部用电路板,在搭载于发出激光的激光发光装置上的情况下,在上述激光发光装置中发挥激光控制部的功能,该激光控制部接收到来自主控制部的控制指示,控制激光发光部发出激光,其中,该主控制部全面控制整个装置的动作,上述激光控制部用电路板的特征在于,
具有存储器,该存储器存储预先取得的误差调整信息,该误差调整信息是指,在上述电路板发挥上述激光控制部的功能的情况下,在上述激光发光装置中用于调整因上述电路板的电路误差而引起的控制因素的偏差的信息,
在搭载了上述电路板的上述激光发光装置中,上述激光控制部在从上述主控制部接收到以规定的光量发出激光的控制指示时,基于存储在上述存储器中的上述误差调整信息,决定激光的发光条件,并使上述激光发光部按照上述发光条件发出激光。
CN2008100933446A 2007-04-20 2008-04-18 曝光装置以及激光控制部用电路板 Expired - Fee Related CN101289025B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007-111495 2007-04-20
JP2007111495A JP2008265149A (ja) 2007-04-20 2007-04-20 露光装置およびレーザー制御部用回路基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101289025A CN101289025A (zh) 2008-10-22
CN101289025B true CN101289025B (zh) 2010-06-02

Family

ID=39872133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008100933446A Expired - Fee Related CN101289025B (zh) 2007-04-20 2008-04-18 曝光装置以及激光控制部用电路板

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7920609B2 (zh)
JP (1) JP2008265149A (zh)
CN (1) CN101289025B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5022587B2 (ja) * 2005-10-07 2012-09-12 富士フイルム株式会社 半導体レーザの駆動方法および装置、並びに補正パターンの導出方法および装置
JP4776644B2 (ja) * 2008-03-05 2011-09-21 シャープ株式会社 画像形成装置
CN102064466A (zh) * 2010-12-07 2011-05-18 深圳市大族激光科技股份有限公司 一种大功率激光电源控制***与方法技术领域
JP5713688B2 (ja) * 2011-01-12 2015-05-07 株式会社キーエンス レーザー加工システム及びレーザー加工装置
JP2015188047A (ja) * 2014-03-27 2015-10-29 株式会社Screenホールディングス 発光制御装置、露光装置、および発光制御装置の調整方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4751383A (en) * 1985-04-02 1988-06-14 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Method and apparatus for detection of position with correction of errors caused by errors in scale pitch
CN1754694A (zh) * 2004-09-30 2006-04-05 大日本网目版制造株式会社 印刷版的制版方法以及印刷版的制版装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5734672A (en) * 1996-08-06 1998-03-31 Cutting Edge Optronics, Inc. Smart laser diode array assembly and operating method using same
JP2000043317A (ja) * 1998-07-29 2000-02-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd マルチビーム描画方法および装置
JP4853753B2 (ja) 2001-09-18 2012-01-11 澁谷工業株式会社 レーザモジュールの照射位置調節装置
JP2005317586A (ja) 2004-04-27 2005-11-10 Yamagata Casio Co Ltd Led照明装置及びそれを備えた部品搭載装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4751383A (en) * 1985-04-02 1988-06-14 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Method and apparatus for detection of position with correction of errors caused by errors in scale pitch
CN1754694A (zh) * 2004-09-30 2006-04-05 大日本网目版制造株式会社 印刷版的制版方法以及印刷版的制版装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP平10-35006A 1998.02.10

Also Published As

Publication number Publication date
US7920609B2 (en) 2011-04-05
US20080259978A1 (en) 2008-10-23
CN101289025A (zh) 2008-10-22
JP2008265149A (ja) 2008-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101289025B (zh) 曝光装置以及激光控制部用电路板
CN101911407A (zh) 激光二极管驱动装置和包括其的图像形成设备
US20070237195A1 (en) Light Source, Method for Controlling Light Source, and Method for Replacing Light Source
US7852363B2 (en) Light scanning apparatus, image forming apparatus, and light power control method
US6603498B1 (en) Printer head with linear array of individually addressable diode-lasers
US8724082B2 (en) Semiconductor laser driver and image forming apparatus incorporating same
JP2008059689A (ja) レーザ駆動回路およびこのレーザ駆動回路を備える光ディスク装置
EP0442506A2 (en) Image reading device
JP4921226B2 (ja) 光量制御装置、露光装置、画像形成装置及び光量制御方法
US20010038268A1 (en) Device for the ecpoaure of photographic recording material
CN102347588B (zh) 半导体激光器驱动装置及设有该驱动装置的图像形成装置
JP3707073B2 (ja) 光量制御方法
US8928714B2 (en) Semiconductor laser driver and image forming apparatus incorporating same
US6498616B1 (en) Print head having non-volatile memory and means for transmitting correction and inherent data
CN101803457B (zh) 发光二极管模块及其控制方法
CN100550147C (zh) 监控激光功率的输出电压调节方法
JPH09272223A (ja) マルチビームレーザ駆動装置
US5477438A (en) Light source unit emitting a laser beam
US5140601A (en) Output control apparatus of laser unit and adjusting method thereof
JP2007300085A (ja) 光源、光源制御方法および光源交換方法
JP5134386B2 (ja) 光量制御装置およびそれを用いた画像形成装置
JP2005059251A (ja) 光量制御装置及び画像形成装置
JPS62179964A (ja) Led書き込みヘツド
JP2008290355A (ja) 印刷装置
JP2000351232A (ja) マルチビーム作画・記録装置における光量制御システム

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: SCREEN GROUP CO., LTD.

Free format text: FORMER NAME: DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.

Owner name: DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.

Free format text: FORMER NAME: DAINIPPON MESH PLATE MFR. CO., LTD.

CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Kyoto City, Kyoto, Japan

Patentee after: Skilling Group

Address before: Kyoto City, Kyoto, Japan

Patentee before: DAINIPPON SCREEN MFG Co.,Ltd.

Address after: Kyoto City, Kyoto, Japan

Patentee after: DAINIPPON SCREEN MFG Co.,Ltd.

Address before: Kyoto City, Kyoto, Japan

Patentee before: Dainippon Screen Mfg. Co.,Ltd.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20100602

Termination date: 20170418

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee