CN101157545A - 向多晶氧化铝陶瓷中掺杂的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种向多晶氧化铝陶瓷中掺杂的方法,包括以下步骤:先将氧化铝产品成型后进行初烧,温度在900℃~1250℃,时间1~2个小时;然后将成型初烧过的氧化铝产品和待添加的杂质放在一起加热但不直接接触,加热温度800℃~1500℃,时间2~5个小时,使杂质受热变成蒸汽,均匀地布满在氧化铝产品上;最后将附有杂质的氧化铝产品进行第三次高烧,温度1700℃~2000℃,时间10~12个小时。本发明采用蒸汽掺杂的方法,可以使杂质的分布更加均匀,特别适用于掺加少量杂质。与以往的浆料混合掺杂方式相比,它还具有可以机械化生产,速度快、产量大等优点。
Description
技术领域
本发明涉及一种陶瓷的制造方法,特别是涉及向多晶氧化铝陶瓷中添加少量辅料的方法。
背景技术
在高强度气体放电灯中,采用半透明多晶氧化铝(PCA)作电弧管材料。PCA的生产工艺包括如下基本步骤:混料、成型及预致密化、固相烧结。其中混料是加入添加剂、粘结剂及其它有利于成型的化学品,如分散剂,消泡剂,润滑剂等。我们多以高纯超细氧化铝粉为原料,配以适量的稀土化合物,加水球磨成浆料的方式完成混料的。生产陶瓷放电管时,为了得到更均匀的晶粒,在氧化铝粉中还需添加氧化镁。由于陶瓷金卤灯的放电管内有金属卤化物,而它会与氧化镁产生反应,影响灯的寿命、光效等,所以在添加时量要尽可能的少,当我们掺加的杂质少于250PPM时,用上述方法很难将其均匀的混合起来,烧制出来的效果往往达不到预定要求。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种向多晶氧化铝陶瓷中添加辅料的方法,可使添加的材料在陶瓷中分布更均匀,得到性能更优的产品。
为了解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:一种向多晶氧化铝陶瓷中掺杂的方法,包括以下步骤:
a)先将氧化铝产品成型后进行初烧,温度在900℃~1250℃,时间1~2个小时;
b)然后将成型初烧过的氧化铝产品和待添加的杂质放在一起加热但不直接接触,加热温度800℃~1500℃,时间2~5个小时,使杂质受热变成蒸汽,均匀地布满在氧化铝产品上;
c)最后将附有杂质的氧化铝产品进行第三次高烧,温度1700℃~2000℃,时间10~12个小时。
本发明采用蒸汽掺杂的方法,可以使杂质的分布更加均匀,特别适用于掺加少量杂质。与以往的浆料混合掺杂方式相比,它还具有可以机械化生产,速度快、产量大等优点。
作为对上述方法的改进,步骤b)中的待添加的杂质置于一个半封闭容器内,该半封闭容器内还设有一个带孔容器,所述氧化铝产品置于该带孔容器内。这样既可以将固态的杂质与氧化铝产品隔离,又能使杂质变成蒸汽后可以均匀地布满在氧化铝产品上。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
图1是本发明掺杂方法使用的一种容器结构。
图2是本发明掺杂方法与现有浆料混合法制得的多晶氧化铝陶瓷晶粒大小的分布图表。
具体实施方式
本发明的掺杂方法是,先将氧化铝产品成型后进行初烧,增加机械强度,初烧温度在900℃~1250℃,时间1~2个小时;然后将成型初烧过的氧化铝产品放在一个图1所示的带孔容器2中,再将它放置在一个半封闭的容器1中,半封闭的容器1里面放置着需要添加的杂质,并散布在带孔容器2的四周,此时杂质和产品因带孔的容器2而隔离开,然后将它们一起送至高温炉中进行加热,加热温度在800℃~1500℃,时间2~5个小时,此过程中杂质受热变成蒸汽,通过小孔,均匀地布满在产品上;再将附有杂质的氧化铝产品进行第三次高烧,此时温度在1700℃~2000℃,时间10~12个小时,杂质完全融合其中,得到需要的多晶氧化铝陶瓷产品。
该方法省去了很多成型前期复杂的准备工作,掺杂也更加简单更加均匀,生产更加机械化,可以有效地提高生产速度,加大产量。
将本发明的蒸汽掺杂法与现有的浆料混合法制成的下表是两种掺杂方法制成多晶氧化铝陶瓷放电管的晶粒大小进行统计对比,如图2所示,其横座标表示晶粒大小(μm),纵座标表示出现的频率。
由图2可以看出,采用蒸汽掺杂法得到的陶瓷管晶粒大小分布比较均匀,采用浆料混合法得到的陶瓷管晶粒大小分布相对比较分散,这也说明采用本发明的蒸汽掺杂法可以使杂质的分布更加均匀,从而提高产品的性能。
Claims (2)
1.一种向多晶氧化铝陶瓷中掺杂的方法,包括以下步骤:
a)先将氧化铝产品成型后进行初烧,温度在900℃~1250℃,时间1~2个小时;
b)然后将成型初烧过的氧化铝产品和待添加的杂质放在一起加热但不直接接触,加热温度800℃~1500℃,时间2~5个小时,使杂质受热变成蒸汽,均匀地布满在氧化铝产品上:
c)最后将附有杂质的氧化铝产品进行第三次高烧,温度1700℃~2000℃,时间10~12个小时。
2.根据权利要求1所述的向多晶氧化铝陶瓷中掺杂的方法,其特征是:步骤b)中的待添加的杂质置于一个半封闭容器(1)内,该半封闭容器(1)内还设有一个带孔容器(2),所述氧化铝产品置于该带孔容器(2)内。
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