CN100578142C - 激光干涉对比测校装置 - Google Patents

激光干涉对比测校装置 Download PDF

Info

Publication number
CN100578142C
CN100578142C CN200810034409A CN200810034409A CN100578142C CN 100578142 C CN100578142 C CN 100578142C CN 200810034409 A CN200810034409 A CN 200810034409A CN 200810034409 A CN200810034409 A CN 200810034409A CN 100578142 C CN100578142 C CN 100578142C
Authority
CN
China
Prior art keywords
laser
spectroscope
measuring
measuring system
displacement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN200810034409A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101245984A (zh
Inventor
任胜伟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority to CN200810034409A priority Critical patent/CN100578142C/zh
Publication of CN101245984A publication Critical patent/CN101245984A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100578142C publication Critical patent/CN100578142C/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

本发明提供一种激光干涉对比测校装置,其中,该装置主要包括运动平台、激光器组件、50%分光镜、测量***和标准***;其中,标准***为已知精确的激光干涉测量***;测量***与标准***同时测量运动平台位移,然后通过比较测量结果检测测量***的精度和重复精度。与现有技术相比,本装置采用两套测量***,其中一套为测量***,另外一套已知精确的激光干涉测量***为标准***。以测量***所测的x向位移、y向位移和绕z轴的位移与标准***进行比较,有效提高了测量精度。

Description

激光干涉对比测校装置
技术领域
本发明涉及精密测量装置,尤其涉及一种激光干涉对比测校装置。
背景技术
在Agilent(安捷伦)《Laser&Optics Manual》中,我们可以看到激光干涉仪三轴测量(X、Y和Rz)的典型应用。如图1所示,X-Y台装有两个互相垂直的平面镜,其作为平面镜干涉仪的反射镜。其中X向有一个平面镜干涉仪,Y向有两个平面镜干涉仪。三个干涉仪可以测得三个位移X、Y和Y’,其中Rz转角:
θ = arctan Y - Y ′ D .............................................公式1
在此应用中,一般激光器X、Y、Ry和Rz自由度可调,分光镜X、Y和Rz自由度可调。此应用实例简单,主要用于三轴测量,不能用于测量***的对比测校。
发明内容
本发明的目的在于提供一种激光干涉对比测校装置,其可以有效提高测量精度。
为了达到上述的目的,本发明提供一种激光干涉对比测校装置,其中,该装置主要包括运动平台、激光器组件、50%分光镜、测量***和标准***;其中,标准***为已知精确的激光干涉测量***;测量***与标准***同时测量运动平台位移,然后通过比较测量结果检测测量***的精度和重复精度。
所述运动平台为二维运动平台、测量***测量运动平台的x向位移、y向位移和绕z轴旋转位移与标准***精确的x向位移,y向位移以及绕z轴旋转位移进行比较。
所述装置还包括经过减振的大理石平台,测量***以及标准***放置在经过减振的大理石平台上。
测量***和标准***共用激光器组件和50%分光镜,激光器组件发出激光,经50%分光镜后分为两束,其中反射光束作为标准***激光束,透射光束作为测量***激光束。
测量***包括三个反射镜、一个50%分光镜、一个33%分光镜、三个单轴干涉仪;测量***激光束经第一反射镜至33%分光镜分为两束,其中33%反射光束经第二反射镜反射至第一单轴干涉仪,其余67%透射光束经50%分光镜后分为两束,其中一束至第二单轴干涉仪,另外一束经第三反射镜后至第三单轴干涉仪。
两个单轴干涉仪沿x向放置,另一个单轴干涉仪沿y向放置。
标准***包括一个50%分光镜、两个反射镜以及两个三轴干涉仪;标准***激光束经50%分光镜后,反射光束至第一个三轴干涉仪,透射光束经第一反射镜和第二反射镜后至第二个三轴干涉仪。
第一个三轴干涉仪沿x向放置、第二个三轴干涉仪沿y向放置。
测量***中第一单轴干涉仪与二维运动平台距离和标准***中第二个三轴干涉仪与二维运动平台距离相等
与现有技术相比,本装置的主要优点为:本装置采用两套测量***,其中一套为测量***,另外一套已知精确的激光干涉测量***为标准***。以测量***所测的x向位移、y向位移和绕z轴的位移与标准***进行比较,以评估测量***的精度和重复精度,有效提高了测量的精度。
附图说明
通过本发明实施例并结合其附图的描述,可以进一步理解本发明的目的、具体结构特征和优点。其中,附图为:
图1是现有技术中激光干涉对比测校装置的光路示意图。
图2是本发明的激光干涉对比测校装置的结构示意图。
图3是本发明的激光干涉对比测校装置的光路示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本发明作进一步说明,但不应以此限制本发明的保护范围。
如图2所示,本发明提供的激光干涉对比测校装置主要包括经过减振的大理石平台1,二维运动平台2,激光器组件10,50%分光镜8b,用以纠正测量结果的温度气压补偿单元5,测量***(未标号)和标准***(未标号)。二维运动平台2,测量***以及标准***放置在经过减振的大理石平台上。标准***为已知精确的激光干涉测量***。将测量***所测二维运动平台2的x向位移,y向位移和绕z轴的位移与进行标准***比较,以评估并改进测量***的测量精度和重复精度。
测量***包括反射镜6a、6b和6c、50%分光镜8a、33%分光镜11、单轴干涉仪3a、3b和3c。其中,单轴干涉仪3a和3b为x向,单轴干涉仪3c为y向。标准***包括50%分光镜9、反射镜4a和4b以及三轴干涉仪7a和7b。其中,三轴干涉仪7a为x向,三轴干涉仪7b为y向。测量***和标准***共用一套激光器组件10和一个50%分光镜8b。
测量***中y向单轴干涉仪3c和标准***中y向三轴干涉仪7b与二维运动平台2距离相等(等死程),以减少死程误差引起的测量结果差异。
本装置中的二维运动平台2固定,三轴干涉仪7a和7b的绕z轴以及沿z轴的自由度可调;单轴干涉仪3a、3b和3c具有三维调节架,其可进行3个自由度Rx、Ry和Rz的调节。Rx、Ry、Rz和z,分别指绕x、y和z轴的旋转以及z向移动。其中,二维运动平台2靠近三轴干涉仪7a和7b以及单轴干涉仪3a、3b和3c一侧为镀膜面,可作为反射镜使用。
激光器组件10有两个可调自由度:Ry和Rz(绕y和z轴的旋转);各反射镜4a、4b、6a、6b和6c以及分光镜8a、8b、9和11的Rz自由度可调,均可绕z轴进行旋转。
本装置以测量***所测的x向位移、y向位移和绕z轴的位移与标准***测量的精确x向位移、y向位移和绕z轴的位移进行比较,评估测量***的精度和重复精度。
如图3所示,激光器组件10发出激光,经50%分光镜8b后分为两束,其中反射光束作为标准***激光束,透射光束作为测量***激光束。
标准***激光束经50%分光镜9后,反射光束至三轴干涉仪7b,透射光束经反射镜4b和反射镜4a后至三轴干涉仪7a。
测量***激光束经反射镜6b至33%分光镜11分为两束。其中33%反射光束经反射镜6c反射至单轴干涉仪3c,其余67%透射光束经50%分光镜8a后分为两束,其中一束至单轴干涉仪3b,另外一束经反射镜6a后至单轴干涉仪3a。
本装置采用测量***和标准***,此时还存在着两套光路的调节问题,光路调节包括顺向调节和逆向调节,可以先顺向调节,再逆向调节光路。
顺向调节从激光器组件10开始依次调节各光学组件,使光束打在二维运动平台组件2靠近激光干涉仪一侧的镀膜面上。逆向调节光路过程中,首先调节好标准***光路,然后以其为基准调节测量***光路,首先调节三轴干涉仪7a和7b,使其测量光束与二维运动平台组件2的反射镜垂直,然后调节单轴干涉仪3a、3b和3c及其后反射镜6a、6c和50%分光镜8a,使单轴干涉仪3a、3b和3c的测量光束与二维运动平台组件2的镀膜面垂直,最后按照光路依次调节其余光学组件,使之适应干涉仪的测量光束要求。
以上描述的仅仅是基于本发明的几个较佳实施例,并不能以此来限定本发明的范围。任何对本发明的方法作本技术领域内熟知步骤的替换、组合、分立,以及对本发明实施步骤作本技术领域内熟知的等同改变或替换均不超出本发明的揭露以及保护范围。

Claims (6)

1、一种激光干涉对比测校装置,其特征在于:该装置主要包括运动平台、激光器组件、50%分光镜、测量***和标准***;其中,
所述测量***和标准***共用激光器组件和50%分光镜,激光器组件发出激光,经50%分光镜后分为两束,其中反射光束作为标准***激光束,透射光束作为测量***激光束;
所述标准***为已知精确的激光干涉测量***,包括一个50%分光镜、两个反射镜以及两个三轴干涉仪;标准***激光束经50%分光镜后,反射光束至第一个三轴干涉仪,透射光束经第一反射镜和第二反射镜后至第二个三轴干涉仪;
所述测量***包括:三个反射镜、一个50%分光镜、一个33%分光镜、三个单轴干涉仪;测量***激光束经第一反射镜至33%分光镜分为两束,其中33%反射光束经第二反射镜反射至第一单轴干涉仪,其余67%透射光束经50%分光镜后分为两束,其中一束至第二单轴干涉仪,另外一束经第三反射镜后至第三单轴干涉仪;
测量***与标准***同时测量运动平台位移,然后通过比较测量结果检测测量***的精度和重复精度。
2、如权利要求1所述的一种激光干涉对比测校装置,其特征在于:所述运动平台为二维运动平台、测量***测量运动平台的x向位移、y向位移和绕z轴旋转位移与标准***精确的x向位移,y向位移以及绕z轴旋转位移进行比较。
3、如权利要求1所述的一种激光干涉对比测校装置,其特征在于:所述装置还包括经过减振的大理石平台,测量***以及标准***放置在经过减振的大理石平台上。
4、如权利要求1所述的一种激光干涉对比测校装置,其特征在于:两个单轴干涉仪沿x向放置,另一个单轴干涉仪沿y向放置。
5、如权利要求1所述的一种激光干涉对比测校装置,其特征在于:第一个三轴干涉仪沿x向放置、第二个三轴干涉仪沿y向放置。
6、如权利要求1所述的一种激光干涉对比测校装置,其特征在于:测量***中第一单轴干涉仪与二维运动平台距离和标准***中第二个三轴干涉仪与二维运动平台距离相等。
CN200810034409A 2008-03-07 2008-03-07 激光干涉对比测校装置 Active CN100578142C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200810034409A CN100578142C (zh) 2008-03-07 2008-03-07 激光干涉对比测校装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200810034409A CN100578142C (zh) 2008-03-07 2008-03-07 激光干涉对比测校装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101245984A CN101245984A (zh) 2008-08-20
CN100578142C true CN100578142C (zh) 2010-01-06

Family

ID=39946569

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200810034409A Active CN100578142C (zh) 2008-03-07 2008-03-07 激光干涉对比测校装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN100578142C (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102809346B (zh) * 2011-05-31 2014-12-17 上海微电子装备有限公司 运动平台的位置测量装置及其测量方法
CN102288104B (zh) 2011-07-22 2014-02-12 中国科学院上海光学精密机械研究所 六轴4细分干涉仪
CN102353325B (zh) * 2011-07-22 2013-08-14 中国科学院上海光学精密机械研究所 四轴4细分干涉仪
CN102508223B (zh) * 2011-11-30 2013-05-01 哈尔滨工业大学 应用于太赫兹激光源的电控可变扩束比装置
CN102878923A (zh) * 2012-10-17 2013-01-16 中国科学院上海光学精密机械研究所 五轴差分干涉仪

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
激光干涉仪测长精度校准方法的研究. 廖澄清,朱小平,王蔚晨,杜华.现代测量与实验室管理,第1期. 2005
激光干涉仪测长精度校准方法的研究. 廖澄清,朱小平,王蔚晨,杜华.现代测量与实验室管理,第1期. 2005 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN101245984A (zh) 2008-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104215181B (zh) 一种消除阿贝误差的大长度激光干涉测量***
CN110455226B (zh) 一种激光准直收发一体式直线度测量的标定***及方法
CN106441816B (zh) 计算全息法测量长焦距透镜透射波前的检测装置及检测方法
CN100578142C (zh) 激光干涉对比测校装置
CN103528499B (zh) 形貌补偿式双光轴线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN101819017B (zh) 大口径非球面反射镜顶点曲率半径的检测装置和方法
CN103528526B (zh) 形貌补偿式三光轴线位移激光干涉仪校准方法与装置
JP2561861B2 (ja) 組合わされたスケールと干渉計
CN102322788B (zh) 激光测速仪平行度精确测量装置及测量方法
CN103528525B (zh) 三光轴补偿及气浴式线位移激光干涉仪校准方法与装置
Leach Traceable measurement of surface texture at the National Physical Laboratory using NanoSurf IV
CN112254658B (zh) 一种薄膜厚度的量值溯源方法
Lipus et al. Analysis of laser interferometer measurement uncertainty by simulating error sources
CN106247992B (zh) 一种高精度、宽范围和大工作距自准直装置与方法
CN106225730B (zh) 便携式组合调零高精度激光大工作距自准直装置与方法
CN102445279B (zh) 一种测量干涉仪波长的装置及方法
CN103499279B (zh) 基于三标准光轴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
Yagüe-Fabra et al. A thermally-stable setup and calibration technique for 2D sensors
JP2008286598A (ja) 追尾式レーザ干渉計の波長推定方法
CN103528501B (zh) 基于四标准光轴气浴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103528500B (zh) 基于四标准光轴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499287B (zh) 基于双标准光轴气浴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499283B (zh) 基于双标准光轴的线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN103499285B (zh) 双光轴补偿及气浴式线位移激光干涉仪校准方法与装置
CN113091652B (zh) 一种具有滚动角自校正功能的测量***及方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 201203 Zhangjiang High Tech Park, Shanghai, Zhang Dong Road, No. 1525

Patentee after: Shanghai microelectronics equipment (Group) Limited by Share Ltd

Address before: 201203 Zhangjiang High Tech Park, Shanghai, Zhang Dong Road, No. 1525

Patentee before: Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.