CN100492065C - 滤色片基板、液晶显示板、液晶显示设备及其制法 - Google Patents

滤色片基板、液晶显示板、液晶显示设备及其制法 Download PDF

Info

Publication number
CN100492065C
CN100492065C CNB2004100317342A CN200410031734A CN100492065C CN 100492065 C CN100492065 C CN 100492065C CN B2004100317342 A CNB2004100317342 A CN B2004100317342A CN 200410031734 A CN200410031734 A CN 200410031734A CN 100492065 C CN100492065 C CN 100492065C
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
color filter
public electrode
overlayer
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2004100317342A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1624498A (zh
Inventor
姜承坤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of CN1624498A publication Critical patent/CN1624498A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100492065C publication Critical patent/CN100492065C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G02F1/133555—Transflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136231—Active matrix addressed cells for reducing the number of lithographic steps
    • G02F1/136236—Active matrix addressed cells for reducing the number of lithographic steps using a grey or half tone lithographic process

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本发明公开了一种滤色片基板、液晶显示板、液晶显示设备及其制法。该滤色片基板包括基板、滤色片、公共电极和覆盖层。基板包括透射区和与透射区相邻的反射区。滤色片形成在基板上，并且滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共电极设置在滤色片上。公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分。第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度。覆盖层位于公共电极上。因此，即使光通过反射区的液晶层两次，而通过透射区的液晶层一次，亮度也能变得均匀。

Description

滤色片基板、液晶显示板、液晶显示设备及其制法
技术领域
本发明涉及一种滤色片基板、液晶显示板、液晶显示设备和该滤色片基板的制法。更加特别地，本发明涉及一种具有增高亮度的滤色片基板、液晶显示板、具有该滤色片基板的液晶显示设备、以及用于降低成本的制造该滤色片基板的方法。
背景技术
液晶显示设备包括具有薄膜晶体管的阵列基板、滤色片基板和设置在阵列基板与滤色片基板之间的液晶层。液晶层中的液晶材料具有各向异性的介电常数和各向异性的透射率。因此，在向液晶层施加电场时，液晶层中的液晶分子重新排列，从而调整光的透射率以显示图像。
一般而言，液晶材料不发射光。因此，液晶显示设备使用环境光或由液晶显示设备内部装置产生的光来显示图像。
当移动装备的液晶显示设备仅使用由内部装置产生的光时，用于提供电源的电池尺寸增大，导致了该移动装备尺寸增大。当液晶显示设备仅使用环境光时，液晶显示设备无法在阴暗处显示图像。然而，当液晶显示设备使用由内部装置产生的光和环境光两者时，可以解决上述问题。
通常，反射透射型液晶显示设备包括液晶显示板、光学膜组件和背光组件。
液晶显示板包括滤色片基板、阵列基板和液晶层。滤色片基板包括滤色片和公共电极。阵列基板包括反射电极、透明电极和薄膜晶体管。液晶层设置在阵列基板与滤色片之间。光学膜组件包括偏振片和补偿膜。背光组件设置在液晶显示板下，用于为液晶显示板提供光。
液晶可以按各种方式配向。因此，根据液晶的配向，液晶显示设备可以分类为扭转向列(TN：twisted nematic)模式、超扭转向列(STN：supertwisted nematic)模式、混合扭转向列(MTN：mixed twisted nematic)模式、垂直配向(VA：vertical alignment)模式或电控双折射(ECB：electrically controlledbirefringence)模式。
滤色片允许波长与滤色片的颜色相对应的光通过滤色片。因此，在光通过滤色片时，亮度降低。
进入液晶显示设备的外部光通过滤色片和液晶层，从而在反射电极上反射。由此，反射光再次通过液晶层和滤色片，以离开液晶显示设备。因此，外部光通过液晶层和滤色片两次。
由背光组件产生的光通过透明电极、液晶层和滤色片，从而离开液晶显示设备。因此，由背光组件产生的光通过液晶层和滤色片一次。
在光通过滤色片时，光的亮度降低。因此，从反射电极反射的光的亮度比通过透明电极的光的亮度低。
韩国待审查专利公开No.2001-0055636公开了一种包括具有不同厚度的滤色片的滤色片基板。即，滤色片具有分别与透明电极和反射电极相对应的第一和第二部分，且第一部分比第二部分厚。
然而，从反射电极反射的光通过液晶层两次，而通过透明电极的光通过液晶层一次。因此，从反射电极反射的光的光学条件与通过透明电极的光的光学条件不同，使得显示质量下降。
发明内容
本发明提供了一种滤色片基板，其提高了亮度的均匀性，并且降低了制造成本。
本发明还提供了一种制造该滤色片基板的方法。
本发明还提供了一种包括该滤色片基板的液晶显示板。
本发明还提供了一种制造该液晶显示板的方法。
本发明还提供了一种包括该滤色片基板的液晶显示设备。
在根据本发明的典型滤色片基板中，该滤色片基板包括基板、滤色片、公共电极和覆盖层。基板包括透射区和与透射区相邻的反射区。滤色片形成在基板上，并且滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共电极设置在滤色片上。公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分。第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度。覆盖层位于公共电极上。
在制造该滤色片基板的典型方法中，在包括透射区和与透射区相邻的反射区的基板上形成滤色片。滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分。第一部分和第二部分具有彼此不同的厚度。然后，在滤色片上形成公共电极。公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分。第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度。然后，在公共电极上形成覆盖层。
在根据本发明的典型液晶显示板中，液晶显示板包括第一基板、第二基板和液晶层。第一基板包括基板、滤色片、公共电极和覆盖层。基板包括透射区和与透射区相邻的反射区。滤色片形成在基板上，并且滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共电极设置在滤色片上，并且公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分。第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度。覆盖层位于公共电极上。第二基板面对该第一基板。液晶层设置在第一与第二基板之间。
在制造该液晶显示板的典型方法中，形成第一基板。该第一基板包括基板、滤色片、公共电极和覆盖层。基板包括透射区和与透射区相邻的反射区。滤色片形成在基板上，并且滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共电极设置在滤色片上。公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分。第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度。覆盖层位于公共电极上。另外，形成第二基板。然后，将该第一和第二基板组装在一起，并且在第一与第二基板之间形成液晶层。
在根据本发明的典型液晶显示板中，液晶显示板包括第一基板、第二基板、液晶层、上部光学膜组件和下部光学膜组件。第一基板包括基板、滤色片、公共电极和覆盖层。基板包括透射区和与透射区相邻的反射区。滤色片形成在基板上，并且滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分。第一和第二部分具有彼此不同的厚度。公共电极设置在滤色片上，并且公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分。第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度。覆盖层位于公共电极上。第二基板面对该第一基板。液晶层设置在第一与第二基板之间。上部光学膜组件设置在第一基板的上表面上。上部光学膜组件包括上部四分之一波片和设置在上部四分之一波片上的上部偏振片。下部光学膜组件设置在第二基板的下表面上。下部光学膜组件包括下部四分之一波片和设置在下部四分之一波片上的下部偏振片。
根据本发明，滤色片基板包括厚度根据区域而不同的滤色片。即，透射区的滤色片比反射区的滤色片厚，使得反射电极与公共电极之间的距离大于透明电极与公共电极之间的距离。由此，透射区的电场比反射区的强。因此，即使外部光通过反射区的液晶层两次，而从背光组件产生的光通过透射区的液晶层一次，也可以使亮度均匀。
附图说明
通过参照附图详细介绍本发明的典型实施例，本发明的上述及其它特征和优点将变得更加明显易懂，其中：
图1为显示具有厚度不同的公共电极的液晶显示设备的示意图；
图2为沿着图1的线A-A’截取的截面图；
图3A至3I为显示图1的液晶显示设备的制造工序的截面图；
图4为显示根据本发明第一典型实施例的液晶显示设备的示意分解透视图；
图5为显示图4的液晶显示设备的示意图；
图6为显示图4的液晶显示设备的反射和透明电极的平面图；
图7为显示图4的液晶显示设备的公共电极的平面图；
图8为沿图5的线B-B’截取的截面图；
图9A至9J为显示图4的液晶显示设备的制造工序的截面图；
图10为显示根据本发明第二典型实施例的液晶显示设备的截面图；
图11A至11E为显示图10的液晶显示设备的制造工序的截面图；
图12为显示根据本发明第三典型实施例的液晶显示设备的截面图；
图13A至13E为显示图12的液晶显示设备的制造工序的截面图；
图14为显示根据本发明第四典型实施例的液晶显示设备的截面图；及
图15为显示根据本发明第五典型实施例的液晶显示设备的截面图。
具体实施方式
下面将参照附图详细介绍本发明的优选实施例。
包括带狭缝滤色片的液晶显示设备
图1为显示具有厚度不同的公共电极的液晶显示设备的示意图，而图2为沿着图1的线A-A’截取的截面图。
参照图1和2，液晶显示设备分别包括液晶显示板、上部和下部光学膜组件130和135。
液晶显示板包括第一和第二基板170和180，以及液晶层108。第一基板170包括上基板100、黑矩阵102、滤色片104a和104b、覆盖层105a和105b、公共电极106和间隔层110。第一基板170包括透射区157和反射区158。第二基板180包括下基板120、薄膜晶体管119、栅极绝缘层126、钝化层116、有机层114、透明电极112和反射电极113。第二基板180包括像素区140和光阻挡区145。
液晶显示设备通过调整液晶层180的液晶分子的排列来显示图像。像素区140包括反射电极区149和透明电极区147。反射电极反射进入液晶显示板的外部光，而透明电极允许由背光组件产生的光通过透明电极。
透射区157与透明电极区147相对应，而反射区158与光阻挡区145和反射电极区149相对应。反射区158还与透射区157相邻。反射区158可以仅与反射电极区149相对应。
薄膜晶体管119、透明电极112的一部分和反射电极113设置在反射电极区149中，而反射电极112的其余部分设置在透明电极区147中。
光阻挡区145与像素区140相邻。源极线118a’、栅极线118b和驱动电路(未示出)设置在光阻挡区145中。
黑矩阵102形成于上基板上，使得黑矩阵102设置于光阻挡区145中。
滤色片104a和104b形成于其上形成有黑矩阵102的上基板100上，使滤色片104a和104b允许具有特定波长的光通过。滤色片104a和104b包括用于提高透射率的狭缝103。狭缝103设置在反射电极113上方。
覆盖层105a和105b、以及公共电极106交替设置在其上形成有黑矩阵102、以及滤色片104a和104b的上基板100上。与透射区157相对应的公共电极106b设置在位于滤色片104a上的覆盖层105a上。而，与反射区158相对应的公共电极106a设置在滤色片104a和104b以及覆盖层105b之间。
由此，即使反射电极区149的单元间隙与透明电极区147的单元间隙基本相同，公共电极106a和106b的高度差也能在反射电极区149与透明电极区147之间形成不同的电场。
覆盖层105a和105b保护滤色片104a和104b，并且覆盖层105a和105b平整了形成在黑矩阵102与滤色片104a和104b之间的台阶部分。
间隔层110形成在其上形成有黑矩阵102、滤色片104a和104b、覆盖层105a和105b、以及公共电极106的上基板100上。
形成在下基板120上的薄膜晶体管119包括源极电极118a、栅极电极118b、漏极电极118c和半导体层图形。
驱动电路(未示出)经源极线118a’向源极电极118a施加数据电压。驱动电路(未示出)还经栅极线118b’向栅极电极118b施加扫描信号。
存储电容(未示出)形成在下基板120上，使得存储电容保持公共电极106与反射电极113之间或公共电极106与透明电极112之间的电压。
栅极绝缘层126形成在其上形成有栅极电极118b的下基板120上，使得栅极绝缘层126将栅极电极118b与源极电极118a和漏极电极118c电学绝缘。
钝化层116形成在其上形成有薄膜晶体管119的下基板120上，并且钝化层116包括用于暴露部分漏极电极118c的接触孔。
透明电极112形成在钝化层116上和接触孔的内壁上，使得透明电极112与漏极电极118c电连接。
反射电极113设置在钝化层116和部分透明电极112上。反射电极113反射外部光。
驱动电路(未示出)经薄膜晶体管119向透明电极112和反射电极113施加数据电压，从而在公共电极116a与反射电极113之间和公共电极116b与透明电极112之间形成电场。
液晶层108设置在第一与第二基板170与180之间，并且用密封剂(未示出)密封液晶显示层108。
研磨层(未示出)可形成在第一和第二基板170和180上，从而对准液晶层108的液晶分子。对研磨层(未示出)的表面进行研磨。
上部光学膜组件130包括上部四分之一波片132和上部偏振片134。上部四分之一波片132设置在上基板100的上表面上，且上部四分之一波片132将通过上部四分之一波片132的光的相位延迟λ/4。上部偏振片134设置在上部四分之一波片132上，从而偏振通过上部四分之一波片132的光。
下部光学膜组件135包括下部四分之一波片136和下部偏振片138。下部四分之一波片136设置在下基板120的下表面上，且下部四分之一波片136将通过下部四分之一波片136的光的相位延迟λ/4。下部偏振片138设置在下部四分之一波片136上，从而偏振通过下部四分之一波片136的光。
图3A至3I为显示图1的液晶显示设备的制造工序的截面图。
参照图3A，用于显示图像的像素区140和用于阻挡光的光阻挡区145定义在下基板120上。另外，反射电极区149和透明电极区147定义在像素区140内。
然后，在下基板120上形成薄膜晶体管119、栅极线118b’和源极线118a’。
然后，具有用于暴露薄膜晶体管119的漏极电极118c的接触孔的钝化层116形成在其上形成有薄膜晶体管119的下基板120上。
然后，在钝化层116上形成透明电极112和反射电极113。
由此，完成了包括下基板120、薄膜晶体管119、源极线118a’、栅极线118b’、透明电极112和反射电极113的第二基板180。
参照图3B，在上基板100上形成黑矩阵102，使得黑矩阵设置在光阻层145上方。然后，在其上形成有黑矩阵102的上基板100上形成包括狭缝103的滤色片104a和104b。狭缝103设置在反射电极区149上方。
参照图3C，在其上形成有滤色片104a和104b的上基板100上涂覆包括光致抗蚀剂的透明热固性塑料(thermosetting plastic)。然后，经掩模107a曝光热固性塑料。掩模107a具有与反射区158相对应的开口。掩模107a与狭缝103相对应的部分包括狭缝或网目(half tone)，使得仅一部分光可以通过掩模107a。
参照3D，显影热固性塑料从而形成狭缝103，并且在透射区157中形成覆盖层105a。
参照图3E，在其上形成有黑矩阵102、滤色片104a和104b、以及覆盖层105a的上基板100上涂覆透明且导电的材料，从而形成公共电极106。公共电极106具有根据区域而不同的高度。公共电极106形成在反射区158中的部分106a的高度与形成在透射区157中的部分106b的高度不同。
参照图3F，在公共电极106上涂覆热固性塑料105b’。然后，经暴露出透射区157的掩模107b曝光热固性塑料105b’。热固性塑料105b’可以基本上与图3C的热固性塑料105a’相同，或热固性塑料105b’可以与图3C的热固性塑料105a’不同。
参照图3G，显影热固性塑料105b’从而形成平整了公共电极106的台阶部分的覆盖层105b。
参照图3H，具有公共电极106和覆盖层105b的上基板100上形成间隔层110。由此，形成了包括滤色片104a和104b、覆盖层105a和105b、公共电极106、以及间隔层110的第一基板170。
参照图3I，将第一和第二基板170和180组装在一起，并且在第一与第二基板170与180之间诸如液晶材料，从形成液晶层108。由此，完成液晶显示板。
然后，在液晶显示板的上表面上附装上部四分之一波片132和上部偏振片134，从而形成上部光学膜组件130，并且在液晶显示板的下表面上附装下部四分之一波片136和下部偏振片138，从而形成下部光学膜组件135。
由此，形成在反射电极区149中的狭缝103增高了在反射电极113上反射的光的亮度。另外，在反射电极区149和透明电极区处具有不同高度的公共电极106优化了与反射电极区149和透明电极区147相对应的液晶层108的光学条件。
然而，交替形成覆盖层105a和105b、以及公共电极106的工艺非常复杂，使得该工艺增大了制造成本。因此，生产率下降。另外，公共电极106与狭缝103相邻的部分可具有不规则的形状。
实施例1
图4为显示根据本发明第一典型实施例的液晶显示设备的示意分解透视图。图5为显示图4的液晶显示设备的示意图。图6为显示图4的液晶显示设备的反射和透明电极的平面图。图7为显示图4的液晶显示设备的公共电极的平面图，而图8为沿图5的线B-B’截取的截面图。
参照图4至8，根据本发明第一典型实施例的液晶显示设备包括液晶显示板、上部光学膜组件230和下部光学膜组件235。
液晶显示板包括第一基板270、第二基板280和液晶层208。第一基板270包括上基板200、黑矩阵202、滤色片204a和204b、覆盖层205a、公共电极206和间隔层210a。第一基板270包括透射区257和反射区258。第二基板280包括下基板220、薄膜晶体管219、栅极绝缘层226、钝化层216、有机层214、透明电极212和反射电极213。第二基板280包括像素区240和光阻挡区245。像素区240包括红色像素区、绿色像素区和蓝色像素区。
液晶显示设备调整液晶层208的液晶分子的排列来显示图像。像素区240包括用于反射外部光的反射电极区249，以及由背光组件(未示出)产生的光通过其中的透明电极透明电极区247。透射区257与透明电极区247相对应。反射区258与透射区257相邻，并且反射区258与光阻挡区245和反射电极区249相对应。反射区258还可以仅与反射电极区249相对应。
薄膜晶体管219和透明电极212设置在反射电极区249中，而反射电极213设置在透明电极区247中。
光阻挡区245设置在像素区240附近。源极线218a’、栅极线218b’和驱动电路(未示出)设置在光阻挡区245中。
上基板200和下基板220包括诸如玻璃的透明材料。用于上基板200和下基板220的玻璃不包括碱离子。当玻璃包括碱离子时，液晶层208中液晶材料的电阻率由于碱离子而降低，导致显示质量的降低。另外，碱离子降低了密封剂与玻璃之间的结合力，且薄膜晶体管的运行劣化。
上基板200和下基板220可以包括三醋酸纤维(TAC：triacetylcellulose)、聚碳酸酯(PC：polycarbonate)、聚醚砜(PES：polyethersulfone)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET：polyethyleneterephthalte)、聚对叙二甲酸乙二酯(PEN：polyethylenenaphthalte)、聚乙烯醇(PVA：polyvinylalcohol)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA：polymethylmethacrylate)、环烯聚合物(COP：cyclo-olefin polymer)等。
优选地，上基板200和下基板220为光学等向性的。
在上基板上设置黑矩阵202，使得黑矩阵202设置于光阻挡区245中。黑矩阵202阻挡通过光阻挡区245的光以提高显像质量。黑矩阵202可以通过蚀刻金属或不透明有机材料膜形成。金属可包括铬(Cr)、氧化铬(CrOx)、氮化铬(CrNx)等，而不透明有机材料可包括碳黑、色素合成物、染料合成物等。色素合成物或染料合成物包括红色合成物、绿色合成物和蓝色合成物。可以在上基板200上涂覆包括光致抗蚀剂的不透明材料，并构图以形成黑矩阵202。红色滤色片、绿色滤色片和蓝色滤色片可交叠以形成黑矩阵。
滤色片204a和204b形成于其上形成有黑矩阵202的上基板200上，从而选择性地使具有特定波长的光通过。滤色片204a和204b包括红色滤色片、绿色滤色片和蓝色滤色片。滤色片204a和204b包括光起始剂(photoinitiator)、单体(monomer)、粘合剂(binder)、色素(pigment)、分散剂(disperser)、溶剂(solvent)、光致抗蚀剂(photoresist)等。透射区257的滤色片204a和204b比反射区258的滤色片204a和204b厚。优选，透射区257的滤色片204a和204b对反射区258的滤色片204a和204b的厚度比为从约1.8:1至约2.2:1。
由背光组件(未示出)产生的光通过透明电极区247的滤色片204a和204b一次，而离开液晶显示设备。然而，经反射电极区249的滤色片204a和204b进入液晶显示设备的外部光在反射电极上朝向反射电极区249的滤色片204a和204b反射，并再次经反射电极区249的滤色片204a和204b离开液晶显示设备。因此，透明电极区247的亮度基本与反射电极区249的亮度相同。
公共电极206设置在滤色片204a和204b上。相对于上基板200的表面，透射区257的公共电极206比反射区258的公共电极206高。公共电极206包括透明导电材料，例如氧化铟锡(ITO)和氧化铟锌(IZO)。
因此，即使反射电极区249的单元间隙基本与透明电极区247的单元间隙相同，根据反射电极区249和透明电极区247而具有不同高度的公共电极也将根据反射电极区249和透明电极区247而产生对液晶层208的不同电场。
即，反射电极区249的公共电极206a与反射电极213之间的距离比透明电极区247的公共电极206b与透明电极212之间的距离大，使得反射电极区249的公共电极206a与反射电极213之间形成的电场比透明电极区247的公共电极206b与透明电极212之间的电场弱。
因此，在向公共电极206a和206b施加参考电压，并向反射电极213和透明电极212施加像素电压时，反射电极区249的液晶的排列与透明电极区247的液晶的排列不同。
从背光组件(未示出)产生的光通过透明电极区247的液晶层208一次而离开液晶显示设备。外部光经反射电极区249的液晶层208进入液晶显示设备，在反射电极213上反射，而后经反射电极区249的液晶层208离开液晶显示设备。因此，外部光通过液晶层208两次。然而，反射电极区249的液晶分子的排列与透明电极区247的液晶分子的排列不同。因此，经透明电极区247离开液晶显示设备的光的光学特性与经反射电极区249离开液晶显示设备的光的光学特性类似。
覆盖层205a设置在反射区258的公共电极206a上。覆盖层205a保护公共电极206a并平整化滤色片204a和204b的台阶部分。优选，覆盖层205可包括诸如丙烯树脂、聚酰亚胺等的热固性塑料。覆盖层205a可形成在透射区257的公共电极206b上。当覆盖层205a形成在透射区257的公共电极206b上时，形成在公共电极206a上的覆盖层205a的厚度比仅在反射区上形成覆盖层205a的情况大。
间隔层210a形成在具有黑矩阵202、滤色片204a和204b、覆盖层205a、以及公共电极206的上基板上。间隔层210a保持第一基板270与第二基板280之间的单元间隙。优选，间隔层210a与黑矩阵202相对应地设置。
间隔层210a可以是柱状间隔层、球状间隔层或混合间隔层。
薄膜晶体管219形成在下基板220上。薄膜晶体管219包括源极电极218a、栅极电极218b、漏极电极218c和半导体层图形。
驱动电路(未示出)经源极线218a’向源极电极218a施加数据电压，驱动电路还经栅极线218b’向栅极电极218b施加扫描信号。
存储电容(未示出)形成在下基板220上。存储电容保持反射区258的公共电极206a与反射电极213之间、或透射区257的公共电极206b与透明电极212之间的电压差。存储电容(未示出)可以是前端栅极型或绝缘引线型。
栅极绝缘层226形成在其上形成有栅极电极218b的下基板220上，使得栅极绝缘层226将栅极电极218b从源极电极218a和漏极电极218c处电学绝缘。栅极绝缘层226可以包括氮化硅(SiNx)。
钝化层216设置在其上形成有薄膜晶体管219的下基板220上。钝化层216包括用于暴露部分漏极电极218c的接触孔。钝化层可包括氮化硅(SiNx)。
可以在钝化层226上形成有机层(未示出)。
透明电极212形成在钝化层216上和接触孔的内壁上。因此，透明电极212与漏极电极218c电连接。当像素电压施加于透明电极212时，电场形成在透明电极212与公共电极206b之间，以调整透明电极区247的液晶层208的液晶分子的排列。由此，调制光的透射率，以显示图像。透明电极212可包括透明且导电的材料，诸如氧化铟锡(IZO)、氧化铟锌(ITO)、氧化锌(ZO)等。
反射电极213形成在钝化层216和部分透明电极212上，以反射外部光。反射电极213包括导电材料，并且经透明电极212与漏极电极218c电连接。
驱动电路(未示出)经薄膜晶体管219向透明电极212和反射电极213施加像素电压。在反射电极213与公共电极206a之间、以及透明电极212与公共电极206b之间形成电场。
液晶层208设置在第一与第二基板270与280之间，并且用密封剂(未示出)密封液晶层208的液晶材料。
液晶层208中的液晶材料可以按各种方式配向。因此，液晶显示设备可以根据液晶的配向分类为扭转向列(TN)模式、超扭转向列(STN)模式、混合扭转向列(MTN)模式、垂直配向(VA)模式或电控双折射(ECB)模式。
例如，液晶配向为垂直配向模式。
配向膜(未示出)可形成在第一和第二基板270和280上，从而通过研磨配向层(未示出)来对准液晶分子。
上部光学膜组件230包括上部四分之一波片232和上部偏振片234。上部四分之一波片232设置在上基板200的上表面上，且上部四分之一波片232将通过上部四分之一波片232的光的相位延迟λ/4。上部偏振片234设置在上部四分之一波片232上，从而偏振通过上部四分之一波片232的光。偏振轴垂直于上部偏振片234的偏振轴的光无法通过上部偏振片234。
可以在上部偏振片234的上表面上设置保护膜(未示出)。保护膜可设置在上部四分之一波片232与上部偏振片234之间，或在上部四分之一波片232与上基板200之间。
下部光学膜组件235包括下部四分之一波片236和下部偏振片238。下部四分之一波片236设置在下基板220的下表面上，且下部四分之一波片236将通过下部四分之一波片236的光的相位延迟λ/44。下部偏振片238设置在下部四分之一波片236上，从而偏振通过下部偏振片238的光。偏振轴垂直于下部偏振片238的偏振轴的光无法通过下部偏振片238。
可以在下部偏振片238的下表面上设置保护膜(未示出)。保护膜可设置在下部四分之一波片236与下部偏振片238之间，或在下部四分之一波片236与下基板220之间。
上部和下部光学膜组件230和235彼此面对，并且上部和下部偏振片234和238的偏振轴彼此可以基本垂直。
图9A至9J为显示图4的液晶显示设备的制造工序的截面图。
参照图9A，在下基板220上限定用于显示图像的像素区240和用于阻挡光的光阻挡区245。另外，在像素区240内限定反射电极区249和透明电极区247。
然后，在下基板220上形成薄膜晶体管219、栅极线218b’和源极线218a’。
然后，在其上形成有薄膜晶体管219的下基板220上形成具有用于暴露薄膜晶体管219的漏极电极218c的接触孔的钝化层216。
然后，在透明电极区247及反射电极区249中的钝化层216上形成透明电极212和反射电极213。
由此，完成了包括下基板220、薄膜晶体管219、源极线218a’、栅极线218b’、透明电极212和反射电极213的第二基板280。
参照图9B，在上基板200上形成黑矩阵202，使得黑矩阵设置在光阻层245上方。在上基板200上限定与透明电极区247相对应的透射区257、以及与光阻挡区245和反射电极区249相对应的反射区258。
参照图9C，在其上形成有黑矩阵202的上基板200上涂覆红色滤色片合成物204a’。红色滤色片合成物204a’包括光起始剂、单体、粘合剂、色素、分散剂、溶剂、光致抗蚀剂等。然后，在红色滤色片合成物204a’上方设置红色滤色片掩模207a。经红色滤色片掩模207a曝光红色滤色片合成物204a’。红色滤色片掩模207a包括透明区、半透明区和不透明区。红色滤色片掩模207a的透明区与绿色滤色片区、蓝色滤色片区、光阻挡区245和周边区(未示出)相对应。该半透明区可以经狭缝或网目物质形成，并且半透明区与光阻挡区245、周边区(未示出)和红色像素区中的反射电极区249相对应。不透明区与透明电极区247相对应。
参照9D，显影红色滤色片合成物从而形成红色滤色片204a。反射电极区249的红色滤色片204a比透明电极区247的红色滤色片245a薄。
参照图9E，在完成红色滤色片时，在上基板200上涂覆绿色滤色片合成物204b’。绿色滤色片合成物204b’包括光起始剂、单体、粘合剂、色素、分散剂、溶剂、光致抗蚀剂等。然后，在绿色滤色片合成物204b’上方设置绿色滤色片掩模207b。经绿色滤色片掩模207b曝光绿色滤色片合成物204b’。绿色滤色片掩模207b包括透明区、半透明区和不透明区。绿色滤色片掩模207b的透明区与红色滤色片区、蓝色滤色片区、光阻挡区245和周边区(未示出)相对应。该半透明区可以经狭缝或网目物质形成，并且半透明区与绿色像素区中的反射电极区249相对应。不透明区与透明电极区247相对应。
参照图9F，显影绿色滤色片合成物，从而形成绿色滤色片204b。反射电极区249的绿色滤色片比透明电极区247的绿色滤色片204b薄。
然后，可以通过相同的工序，在其上形成有红色和绿色滤色片的上基板200上形成蓝色滤色片(未示出)。
在上述内容中，例如，红色、绿色和蓝色滤色片按顺序形成。也可以按照任意顺序形成红色、绿色和蓝色滤色片。
参照图9G，在滤色片204a和204b上涂覆透明且导电的材料，从而形成公共电极206。相对于上基板200的表面，透射区257的公共电极206比反射电极区258的公共电极206高。
参照图9H，在公共电极206上涂覆包括光致抗蚀剂的热固性塑料。然后，经掩模(未示出)曝光热固性塑料，并且显影热固性塑料以形成覆盖层205a。覆盖层205a设置在反射区258的公共电极206a上。
参照图9I，在公共电极206和覆盖层205a上涂覆热固性塑料，并且曝光并显影热固性塑料，从而形成间隔层210a。
由此，完成了包括滤色片204a和204b、覆盖层205、公共电极206、以及间隔层210的第一基板270。
参照图9J，第一和第二基板270和280组装在一起，在第一与第二基板270与280之间注入液晶材料，从而形成液晶层208。由此完成液晶显示板。
然后，在液晶显示板的上表面上附装上部四分之一波片232和上部偏振片234，从而形成上部光学膜组件230，并在液晶显示板的下表面上附装下部四分之一波片236和下部偏振片238，从而形成下部光学膜组件235。
液晶显示设备包括滤色片204a和204b、公共电极206、以及覆盖层205a。透射区257的滤色片204a和204b比反射区258的滤色片204a和204b厚。因此，形成在滤色片204a和204b上的公共电极206具有不同的高度。即，反射电极区249的公共电极206与反射电极213之间的距离比透明电极区247的公共电极206与透明电极212之间的距离大，使得反射电极区249的公共电极206与反射电极213之间形成的电场比透明电极区247的公共电极206与透明电极212之间的电场弱。由此，与透明电极区247和反射电极区249相对应的亮度均匀。
另外，覆盖层205a仅形成在公共电极层206上，从而降低了制造成本，并提高了生产率。另外，滤色片204a和204b不包括狭缝，使得形成在反射区258中的公共电极206a具有均匀的截面。
实施例2
图10为显示根据本发明第二典型实施例的液晶显示设备的截面图。本实施例的液晶显示设备与实施例1中的相同，除去覆盖层和间隔层。因此，用相同的附图标记表示与实施例1中相同或相似的部件，并且将略去进一步的说明。
参照图10，根据本发明第二典型实施例的液晶显示设备包括液晶显示板、上部光学膜组件230和下部光学膜组件235。
液晶显示板包括第一基板270、第二基板280和液晶层208。第一基板270包括上基板200、黑矩阵202、滤色片204a和204b、公共电极206和间隔层210b。
公共电极206设置在滤色片204a和204b上。相对于上基板200的表面，透射区257的公共电极206比反射区258的公共电极206高。
间隔层210b形成在公共电极206上，而间隔层210b保持第一与第二基板270与280之间的单元间隙。
图11A至11E为显示图10的液晶显示设备的制造工序的截面图。
参照图11A，形成包括下基板220、薄膜晶体管219、源极线218a’、栅极线218b’、透明电极212和反射电极213的第二基板280。
参照图11B，在上基板200上顺序形成黑矩阵202、滤色片204a’和204b、以及公共电极206。
参照图11C，在公共电极206上涂覆包括光致抗蚀剂的材料210b’。然后，在材料210b’上方设置掩模211b，并曝光材料210b’。掩模211b包括透明部分和不透明部分。不透明部分与间隔层210b相对应。
参照图11D，显影材料210b’，从而形成间隔层210b。由此，完成了包括黑矩阵202、滤色片204a和204b、公共电极206和间隔层210b的第一基板270。
参照图11E，将第一和第二基板270和280组装在一起，并且在第一与第二基板270与280之间注入液晶材料，从而形成液晶层208。然后，分别在上基板200的上表面和下基板220的下表面上形成上部和下部光学膜组件230和235。
根据本发明，在公共电极206上未形成覆盖层。然而，在光阻挡区245的公共电极206上形成间隔层210b。由此，简化了制造工艺。
实施例3
图12为显示根据本发明第三典型实施例的液晶显示设备的截面图。本实施例的液晶显示设备与实施例1中的相同，除去覆盖层和间隔层。因此，用相同的附图标记表示与实施例1中相同或相似的部件，并且将略去进一步的说明。
参照图12，根据本发明第三典型实施例的液晶显示设备包括液晶显示板、上部光学膜组件230和下部光学膜组件235。
液晶显示板包括第一基板270、第二基板280和液晶层208。第一基板270包括上基板200、黑矩阵202、滤色片204a和204b、覆盖层205c、公共电极206和间隔层210c。
公共电极206设置在滤色片204a和204b上。相对于上基板200，透射区257的公共电极206b比反射区258的公共电极206a高。
覆盖层205c设置在反射区258的公共电极206a上。在覆盖层205c上形成间隔层210c，使得间隔层210c与覆盖层205c一体地形成。因此，间隔层210c包括与覆盖层205c相同的材料。间隔层210c和覆盖层205c包括热固性塑料，诸如丙烯树脂、聚酰亚胺等。
覆盖层205c平整化了的第一基板270的表面，使得液晶层208中的液晶分子配向均匀。
图13A至13E为显示图12的液晶显示设备的制造工序的截面图。
参照图13A，形成包括下基板220、薄膜晶体管219、源极线218a’、栅极线218b’、透明电极212和反射电极213的第二基板280。
参照图13B，在上基板200上顺序形成黑矩阵202、滤色片204a和204b、以及公共电极206。
参照图13C，在公共电极206上涂覆包括光致抗蚀剂的热固性塑料。然后，经掩模211c曝光热固性塑料。掩模211c包括透明区、半透明区和不透明区。透明区与透射区257相对应。不透明区与间隔层210c相对应，而半透明区与反射区258相对应。
参照图13D，显影曝光的热固性塑料，从而同时形成覆盖层205c和间隔层210c。
由此，完成了包括黑矩阵202、滤色片204a和204b、公共电极206、覆盖层205c和间隔层210c的第一基板270。
参照图13E，将第一和第二基板270和280组装在一起，并且在第一与第二基板270与280之间注入液晶材料，从而形成液晶层208。由此，完成液晶显示板。
然后，在液晶显示板的上表面和下表面上形成上部光学膜组件230和下部光学膜组件。
根据本实施例，间隔层210c与覆盖层205c一体地形成，从而简化了制造工艺。
实施例4
图14为显示根据本发明第四典型实施例的液晶显示设备的截面图。本实施例的液晶显示设备与实施例1中的相同，除去覆盖层。因此，用相同的附图标记表示与实施例1中相同或相似的部件，并将略去进一步的说明。
参照图14，根据本发明第四典型实施例的液晶显示设备包括液晶显示板、上部光学膜组件230和下部光学膜组件235。
液晶显示板包括第一基板270、第二基板280和液晶层208。第一基板270包括上基板200、黑矩阵202、滤色片204a和204b、覆盖层205d、公共电极206和间隔层210d
公共电极206设置在滤色片204a和204b上。相对于上基板200，与透射区257对应的公共电极206b比与反射区258对应的公共电极206a高。
覆盖层205d设置在与反射区258对应的公共电极206a上。覆盖层205d包括凹凸部分。凹凸部分提高了反射电极区249的光的光学性质。
以下，将说明形成包括凹凸部分的覆盖层205d的方法。
在公共电极206上涂覆包括光致抗蚀剂的热固性塑料。
然后，经掩模(未示出)曝光热固性塑料。掩模包括透明区和半透明区。透明区与透射区257相对应，而半透明区与反射区258相对应。掩模(未示出)的半透明区包括多个狭缝。
然后，显影热固性塑料，从而形成包括凹凸部分的覆盖层205d。
间隔层210d设置在覆盖层205d上。
根据本实施例，覆盖层205d包括凹凸部分，从而增强了反射电极区249的光的光学性质。
实施例5
图15为显示根据本发明第五典型实施例的液晶显示设备的截面图。本实施例的液晶显示设备与实施例1中的相同，除去滤色片。因此，用相同的附图标记表示与实施例1中相同或相似的部件，并将略去进一步的说明。
参照图15，根据本发明第五典型实施例的液晶显示设备包括液晶显示板、上部光学膜组件230和下部光学膜组件235。
液晶显示板包括第一基板270、第二基板280和液晶层208。第一基板270包括上基板200、黑矩阵202、滤色片204c和204d、覆盖层205e、公共电极206和间隔层210e。
滤色片204c和204d形成在其上形成有黑矩阵的上基板上。滤色片204c和204d选择性地透射具有特定波长的光。透射区257的滤色片204c比反射区258的滤色片204d厚。滤色片204d包括凹凸部分。凹凸部分提高了反射电极区249的光的光学性质。
以下，将说明形成具有凹凸部分的滤色片204c和204d的方法。
在其上形成有黑矩阵202的上基板200上涂覆用于形成红色滤色片的红色滤色片合成物。然后，经掩模(未示出)曝光红色滤色片合成物。该掩模包括透明区、半透明区和不透明区。透明区与绿色像素区、蓝色像素区、光阻挡区(245)和周边区(未示出)相对应。半透明区包括狭缝，并且半透明区与光阻挡区245、周边区(未示出)和红色像素区的反射电极区249相对应。可以调节狭缝之间的距离和紫外光的强度来形成凹凸部分。
然后，显影红色滤色片合成物，从而形成红色滤色片204c。
然后，顺序形成绿色滤色片和蓝色滤色片。红色、绿色和蓝色滤色片可以按任意顺序形成。
公共电极206形成在滤色片204c和204d上。由此，将形成在凹凸部分204d上的公共电极206e形成为凹凸不平。
覆盖层205e设置在与反射区258相对应的公共电极206e上。
根据本实施例，滤色片204c和204d包括凹凸部分，以增强反射电极区249的光的光学性质。另外，平整化第一基板270从而使液晶层208的液晶分子的配向均匀。
根据本发明典型实施例，液晶显示设备包括厚度根据区域而不同的滤色片。即，透射区的滤色片比反射区的滤色片厚。由此，形成在滤色片上的公共电极具有根据区域而不同的高度。即，反射电极与公共电极之间的距离比透明电极与公共电极之间的距离长，从而使光的亮度均匀。
另外，在公共电极上形成覆盖层，从而降低制造成本并提高生产率。另外，滤色片不包括狭缝，使得反射区的公共电极具有均匀的截面。
覆盖层可以略去，或者间隔层可以与覆盖层一体地形成，从而降低制造成本。
覆盖层或滤色片可以包括凹凸部分，以提高反射电极区的光的光学性质。
利用上述本发明典型实施例及其优点，注意，可以在不脱离由所附权利要求限定的本发明的精神和范围的情况下对此进行各种改动、替换和变化。

Claims (25)

1.一种滤色片基板，包括：
基板，包括透射区和与透射区相邻的反射区；
滤色片，形成在基板上，滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分，第一和第二部分具有彼此不同的厚度；
公共电极，设置在滤色片上，公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分，第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度，以及
在该公共电极上的覆盖层，该覆盖层形成在该公共电极的第四部分上。
2.如权利要求1所述的滤色片基板，其中该第一部分比第二部分厚。
3.如权利要求2所述的滤色片基板，其中该第一部分与该第二部分的厚度比例在从1.8:1至2.2:1的范围内。
4.如权利要求1所述的滤色片基板，其中该滤色片包括提高光学性质的凹凸部分。
5.如权利要求1所述的滤色片基板，还包括形成在该公共电极上的间隔层。
6.如权利要求1所述的滤色片基板，还包括形成在该覆盖层上的间隔层。
7.如权利要求6所述的滤色片基板，其中覆盖层包括提高光学性质的凹凸部分。
8.如权利要求6所述的滤色片基板，其中该覆盖层和该间隔层彼此一体形成。
9.如权利要求6所述的滤色片基板，其中相对于所述基板，该公共电极的该第三部分具有第一高度，和该公共电极的该第四部分具有低于该第一高度的第二高度。
10.一种制造滤色片基板的方法，包括：
在包括透射区和与透射区相邻的反射区的基板上形成滤色片，滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分，第一部分和第二部分具有彼此不同的厚度；
在滤色片上形成公共电极，公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分，第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度，以及
在公共电极上形成覆盖层，该覆盖层形成在该公共电极的第四部分上。
11.如权利要求10所述的方法，其中该第二部分包括提高光学性质的凹凸部分。
12.如权利要求10所述的方法，其中该覆盖层按以下方式形成：
在滤色片上涂覆包括光致抗蚀剂的材料；
经掩模曝光该材料；以及
显影该材料以形成该覆盖层。
13.如权利要求12所述的方法，其中该覆盖层包括提高光学性质的凹凸部分。
14.如权利要求13所述的方法，其中该掩模包括狭缝。
15.如权利要求10所述的方法，还包括：
在覆盖层上形成间隔层。
16.如权利要求15所述的方法，其中该覆盖层和该间隔层彼此一体形成。
17.如权利要求16所述的方法，其中该覆盖层和该间隔层按以下方式形成：
在滤色片上涂覆包括光致抗蚀剂的材料；
经掩模曝光该材料，该掩模包括透明区、半透明区和不透明区；以及
显影该材料，从而同时形成该覆盖层和该间隔层。
18.一种液晶显示板，包括：
第一基板；
第二基板，面对该第一基板；以及
液晶层，设置在第一与第二基板之间，
其中，该第一基板包括：
基板，包括透射区和与透射区相邻的反射区；
滤色片，形成在基板上，滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分，第一和第二部分具有彼此不同的厚度；
公共电极，设置在滤色片上，公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分，第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度，以及
在该公共电极上的覆盖层，该覆盖层形成在该公共电极的第四部分上。
19.如权利要求18所述的液晶显示板，其中该第一部分比该第二部分厚。
20.如权利要求19所述的液晶显示板，其中该第一部分与该第二部分的厚度比例在从1.8:1至2.2:1的范围内。
21.一种形成液晶显示板的方法，包括：
形成第一基板；
形成第二基板；
组装该第一和第二基板；以及
在第一与第二基板之间形成液晶层，
其中，该第一基板包括：
基板，包括透射区和与透射区相邻的反射区；
滤色片，形成在基板上，滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分，第一和第二部分具有彼此不同的厚度；
公共电极，设置在滤色片上，公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分，第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度，以及
在该公共电极上的覆盖层，该覆盖层形成在该公共电极的第四部分上。
22.如权利要求21所述的方法，其中该覆盖层和形成在该公共电极上的间隔层彼此一体形成。
23.如权利要求22所述的方法，其中该覆盖层和该间隔层按以下方式形成：
在滤色片上涂覆包括光致抗蚀剂的材料；
经掩模曝光该材料，该掩模包括透明区、半透明区和不透明区；以及
显影该材料，从而同时形成该覆盖层和该间隔层。
24.一种液晶显示设备，包括：
第一基板；
第二基板，面对该第一基板；
液晶层，设置在第一与第二基板之间；
上部光学膜组件，设置在第一基板的上表面上，上部光学膜组件包括上部四分之一波片和设置在上部四分之一波片上的上部偏振片；以及
下部光学膜组件，设置在第二基板的下表面上，下部光学膜组件包括下部四分之一波片和设置在下部四分之一波片上的下部偏振片，
其中，该第一基板包括：
基板，包括透射区和与透射区相邻的反射区；
滤色片，形成在基板上，滤色片包括形成在透射区中的第一部分和形成在反射区中的第二部分，第一和第二部分具有彼此不同的厚度；
公共电极，设置在滤色片上，公共电极包括形成在透射区中的第三部分和形成在反射区中的第四部分，第三部分和第四部分相对于基板具有彼此不同的高度，以及
在该公共电极上的覆盖层，该覆盖层形成在该公共电极的第四部分上。
25.如权利要求24所述的液晶显示设备，其中该第一部分与该第二部分的厚度比例在从1.8:1至2.2:1的范围内。
CNB2004100317342A 2003-12-05 2004-03-24 滤色片基板、液晶显示板、液晶显示设备及其制法 Expired - Fee Related CN100492065C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR88232/2003 2003-12-05
KR1020030088232A KR100993820B1 (ko) 2003-12-05 2003-12-05 컬러 필터 기판, 이를 갖는 액정 표시 패널, 이를 갖는액정 표시 장치 및 그 제조방법
KR88232/03 2003-12-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1624498A CN1624498A (zh) 2005-06-08
CN100492065C true CN100492065C (zh) 2009-05-27

Family

ID=34632109

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004100317342A Expired - Fee Related CN100492065C (zh) 2003-12-05 2004-03-24 滤色片基板、液晶显示板、液晶显示设备及其制法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7133095B2 (zh)
JP (1) JP4700321B2 (zh)
KR (1) KR100993820B1 (zh)
CN (1) CN100492065C (zh)
TW (1) TWI291043B (zh)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10318258A1 (de) * 2003-04-16 2004-11-04 X3D Technologies Gmbh Anordnung zur zwei- oder dreidimensionalen Darstellung
JP4749678B2 (ja) * 2003-04-30 2011-08-17 サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド 液晶表示装置及びこの製造方法
JP4260563B2 (ja) * 2003-07-17 2009-04-30 アルプス電気株式会社 半透過反射型液晶表示パネルおよび半透過反射型液晶表示装置ならびに半透過反射型液晶表示パネルの製造方法
KR101082906B1 (ko) * 2004-10-18 2011-11-11 삼성전자주식회사 표시패널 및 이의 제조방법
KR101071261B1 (ko) * 2005-03-30 2011-10-10 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
US7379138B2 (en) * 2005-06-09 2008-05-27 Au Optronics Corporation Transflective liquid crystal display having first and second voltage potentials selected to achieve predetermined polarization states for light encountering respectively the transmissive and reflective areas
KR101263496B1 (ko) 2005-06-29 2013-05-13 엘지디스플레이 주식회사 컬러필터기판 및 그 제조방법
KR20070010550A (ko) * 2005-07-19 2007-01-24 삼성전자주식회사 공통 전극 표시판, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 그제조 방법
KR101253277B1 (ko) * 2006-02-03 2013-04-10 주식회사 동진쎄미켐 칼라 필터용 잉크, 이를 이용한 칼라 필터의 제조 방법 및 칼라 필터
US20080204636A1 (en) * 2007-02-26 2008-08-28 Chi Mei Optoelectronics Corporation Transflective liquid crystal display
JP5014971B2 (ja) * 2007-12-19 2012-08-29 ソニーモバイルディスプレイ株式会社 ディスプレイ装置
WO2009153942A1 (ja) * 2008-06-17 2009-12-23 シャープ株式会社 液晶表示装置
US8766269B2 (en) * 2009-07-02 2014-07-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device, lighting device, and electronic device
CN102269897A (zh) * 2010-06-02 2011-12-07 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制造方法、液晶面板以及液晶显示器
KR101677747B1 (ko) * 2010-06-24 2016-11-21 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN103278975B (zh) * 2013-05-27 2016-04-06 京东方科技集团股份有限公司 半透半反式液晶面板、阵列基板、彩膜基板及制作方法
CN105549258B (zh) * 2016-02-18 2019-02-01 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制造方法
CN105629580A (zh) * 2016-03-11 2016-06-01 武汉华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及装置
CN113419384B (zh) * 2021-06-17 2022-10-28 福州京东方光电科技有限公司 阵列基板及其制备方法和显示面板

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100313949B1 (ko) * 1998-11-11 2002-09-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티도메인액정표시소자
KR100684579B1 (ko) * 2000-07-04 2007-02-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반투과 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법
JP4050119B2 (ja) * 2001-10-02 2008-02-20 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP4368096B2 (ja) * 2001-10-02 2009-11-18 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP4094278B2 (ja) * 2001-11-20 2008-06-04 日本電気株式会社 半透過型アクティブマトリクス型液晶表示装置及びその製造方法
KR100790357B1 (ko) * 2002-02-26 2008-01-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사투과형 액정표시장치용 컬러필터기판 및 그 제조방법
KR100439649B1 (ko) * 2002-08-14 2004-07-12 엘지.필립스 엘시디 주식회사 반사투과형 액정표시장치 및 그의 제조방법
US20040080684A1 (en) * 2002-10-25 2004-04-29 Soo-Guy Rho Color filter panel, manufacturing method thereof, and liquid crystal display including color filter panel

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050054715A (ko) 2005-06-10
JP2005173559A (ja) 2005-06-30
CN1624498A (zh) 2005-06-08
US7133095B2 (en) 2006-11-07
TW200519422A (en) 2005-06-16
TWI291043B (en) 2007-12-11
KR100993820B1 (ko) 2010-11-12
US20050122450A1 (en) 2005-06-09
JP4700321B2 (ja) 2011-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100492065C (zh) 滤色片基板、液晶显示板、液晶显示设备及其制法
US7719641B2 (en) Array substrate, method of manufacturing the same and liquid crystal display apparatus having the same
US7688404B2 (en) Lidquid crystal display device and method for fabricating the same
US7436472B2 (en) Liquid crystal display device and method with color filters having overcoat layer thereover formed on substrate except for fourth color filter formed on the overcoat layer
KR101288835B1 (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
US20050195353A1 (en) Liquid crystal display apparatus and method of manufacturing the same
CN101685232B (zh) 阵列基底及其制造方法、采用该阵列基底的液晶显示装置
JP2003279952A (ja) ホログラフィック拡散子を利用した液晶表示装置
US10197845B2 (en) Manufacturing method of color filter substrate and manufacturing method of liquid crystal panel
US20060255337A1 (en) Multi-domain member for a display device
US20080062363A1 (en) Process and structure of liquid crystal panel with one drop fill
US20070195216A1 (en) Liquid crystal display panel
US20070019137A1 (en) Display substrate and liquid crystal display panel having the same
US7532299B2 (en) Method of fabricating a liquid crystal display device having column spacers and overcoat layer formed by double exposure
US20070091240A1 (en) Liquid crystal display and method of manufacturing the same
KR100635947B1 (ko) 컬러 필터 기판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
US20080062361A1 (en) Display panel and method for manufacturing a color filter substrate of the display panel
CN1325972C (zh) 面内切换模式的液晶显示器件及其制造方法
KR100957588B1 (ko) 반투과형 액정표시장치 및 그 제조 방법
KR101222956B1 (ko) 반투과형 액정표시소자
CN100395645C (zh) 黑白胆固醇液晶显示器及其制造方法
KR101100673B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
US20070195218A1 (en) Display substrate, display panel having the same and method of manufacturing the same
KR20060022806A (ko) 어레이 기판과, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 액정표시장치
KR20080001798A (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.

Effective date: 20121102

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20121102

Address after: Gyeonggi Do, South Korea

Patentee after: Samsung Display Co., Ltd.

Address before: Gyeonggi Do, South Korea

Patentee before: Samsung Electronics Co., Ltd.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20090527

Termination date: 20200324

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee