CN100427995C - 用于使光均匀化的装置和用这种装置进行照明的结构 - Google Patents

用于使光均匀化的装置和用这种装置进行照明的结构 Download PDF

Info

Publication number
CN100427995C
CN100427995C CNB2004800423354A CN200480042335A CN100427995C CN 100427995 C CN100427995 C CN 100427995C CN B2004800423354 A CNB2004800423354 A CN B2004800423354A CN 200480042335 A CN200480042335 A CN 200480042335A CN 100427995 C CN100427995 C CN 100427995C
Authority
CN
China
Prior art keywords
plane
incidence
laser
exit facet
uniformization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2004800423354A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1997928A (zh
Inventor
托马斯·米特拉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hentze Lissotschenko Patentverwaltungs GmbH and Co KG
Original Assignee
Hentze Lissotschenko Patentverwaltungs GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hentze Lissotschenko Patentverwaltungs GmbH and Co KG filed Critical Hentze Lissotschenko Patentverwaltungs GmbH and Co KG
Publication of CN1997928A publication Critical patent/CN1997928A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100427995C publication Critical patent/CN100427995C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
    • G02B19/0057—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode in the form of a laser diode array, e.g. laser diode bar
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0009—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
    • G02B19/0014—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements
    • G02B27/0955—Lenses
    • G02B27/0961—Lens arrays
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4012—Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

用于使光均匀化的装置，包括至少一个具有用于要被均匀化的光线的一个入射面(7)和一个出射面(8)的均匀化元件(5，6)以及分别位于至少一个均匀化元件(5，6)的入射面(7)上和出射面(8)上的柱状透镜(9)的阵列，其中至少一个均匀化元件(5，6)的柱状透镜(9)的圆柱轴相互平行。本发明还涉及用于照明一个面的结构和用于将激光源的光线聚焦到一个直线状聚焦区中的结构。

Description

用于使光均匀化的装置和用这种装置进行照明的结构
技术领域
本发明涉及一种用于使光均匀化的装置和用于照明一个面的结构.
背景技术
一种上述类型的装置已由美国专利4733944公开.其中所描述的使光均匀化的装置包括两个相互有间距的均匀化元件，并且每个均匀化元件包括两个光学功能边界面，要被均匀化的光穿过这些边界面.在这四个对均匀化有贡献的边界面的每一个面上分别排列着一个柱状透镜阵列.这两个相互有间距的均匀元件中的每一个均具有两个相互交叉的柱状透镜阵列.例如在一个均匀化元件中入射面上的柱状透镜阵列具有竖直方向上的圆柱轴，而出射面上的柱状透镜具有水平方向上的圆柱轴.
借助于这种使光均匀化的装置可以使激光射线，例如由受激准分子激光器发出的射线或由激光二极管条射出的激光射线束，不仅在第一方向上，而且在与此方向垂直的第二方向上都被均匀化.例如在激光二极管条的情况下，通过这种使光均匀化的装置可以不仅在所谓的快轴上，而且也在所谓的慢轴上实现均匀化.此外由上述现有技术已知的装置被构造成所谓的两级均匀化装置，因为要被均匀化的射线在每一个均匀化元件中经历一次均匀化.通过这种装置的两级设备，实现了比单级均匀化装置明显改善的均匀性.
作为现有技术中已知的这种两级均匀化装置的缺点，两个均匀化元件难以进行调节.这些均匀化元件必须相互很严格地定位，其中每个均匀化元件必须对总共六个轴进行精确调节.此外阵列的柱状透镜的焦距不能自由选择，因为对于两个相互独立的均匀化方向，例如慢轴和快轴中的每一个给出一个最佳的柱状透镜相互间距.尤其是在两个相互独立的方向上工作的两级均匀化装置，它们对柱状透镜的焦距误差非常敏感，因为通常这两个方向不是相互独立的.
发明内容
基于上述问题，本发明的目的在于给出本说明书开始处所述类型的装置，它可以简单地被调节.此外还在给出了照明一个面的结构和将激光源的光线聚焦到一个线状聚焦区的结构.
本发明关于装置的任务由开始所述类型的装置完成，关于照明一个面的结构的任务由开始所述类型的结构完成.
按照本发明提供了一种用于使光均匀化的装置，它包括：具有用于要被均匀化的光线的一个入射面和一个出射面的第一均匀化元件；所述第一均匀化元件分别具有一个在入射面上或入射面附近的柱状透镜的阵列和一个在出射面上或出射面附近的柱状透镜的阵列；具有用于要被均匀化的光线的一个入射面和一个出射面的第二均匀化元件；所述第二均匀化元件具有一个在入射面上或入射面附近的柱状透镜的阵列和/或一个在出射面上或出射面附近的柱状透镜的阵列，其中第一均匀化元件的柱状透镜的圆柱轴垂直于第二均匀化元件的柱状透镜的圆柱轴；其中在这两个均匀化元件中，位于入射面上或入射面附近的柱状透镜的圆柱轴分别平行于位于出射面上或出射面附近的柱状透镜的圆柱轴，并且其中所述第一均匀化元件中的阵列形成在一个基片上，所述第二均匀化元件中的阵列也形成在一个基片上.
所述例如构造成基片的均匀化元件完成一个两级均匀化装置的功能.例如在均匀化一个由激光二极管条射出的激光时，一个均匀化元件作用于一个轴或一个方向上，例如仅作用在慢轴或仅作用在快轴上.
通过这种方式，激光的两个方向或两个轴相互分开地在两个相互有间距的均匀化元件中被均匀化.这两个均匀化元件不必再相互间被调节，因为例如作用在两个轴之一上的柱状透镜的调节通过现在处于允差内的均匀化元件的可再现生产而实现.通过这种方式，射线性能总是在规定上述制造允差的范围内.此外这两个轴，例如在一个半导体激光器条情况下的慢轴和快轴，分别不受另一个射线轴的焦距允差的影响.还存在以下可能性：在两个轴上对激光均匀化时用于每个轴的柱状透镜的焦距可以自由地且与另一个轴无关地被选择.
还存在以下可能：设置在出射面上或出射面附近的柱状透镜的聚焦面位于入射面或入射面附近.通过这种方式，要被均匀化的光线的均匀化得以优化.
柱状透镜可以被构造成凹透镜和/或凸透镜，或者被构造成GRIN透镜(梯度指数透镜).
本发明还提供了一种用于照明一个面的结构，它包括：至少一个具有多个发射器的半导体激光器条，这些发射器在第一个方向上相邻且相互有间距地排列，其中由各个发射器射出的激光在第一个方向上的发散度小于此激光在与第一个方向垂直的第二个方向上的发散度；用于至少部分地准直由发射器射出的激光的准直仪；用于变换由发射器射出的激光的射线变换元件，它被如此构造并设置在由发射器射出的激光光线的射线路径中，使得激光在第一个方向上的发散度可以与在第二个方向上的发散度互换；用于使由发射器射出的激光光线均匀化的装置；其中，用于使由发射器射出的激光光线均匀化的装置是上述装置.
附图说明
下面参考附图所示优选实施例进一步说明本发明的其它特征和优点.附图中：
图1a是本发明所述用于照明的结构的顶视图；
图1b是图1a所示结构的侧视图；
图2a是本发明所述用于聚焦的结构的顶视图；
图2b是图2a所示结构的侧视图；
图3是本发明所述装置的透视图.
在某些图中为了更清晰地表示，示出了直角坐标系.
具体实施方式
如图1a和图1b所示，根据本发明的一种结构包括一个半导体激光器条1，它具有多个相邻并且相互间隔地排列在X方向上的发射器.在图1a、图1b、图2a和图2b中半导体激光器条1只是示意性地由一个矩形块表示.在半导体激光器条的情况下，在所谓快轴中、即在Y方向或垂直于发射器相邻排列的方向上的发散度明显比在所谓慢轴中、即X方向上的发散度更大.
由图1a和图1b可见，在从半导体激光器条1的各个发射器射出的激光的传播方向Z上快轴准直仪2连接在半导体激光器条1上.快轴准直仪2被构造成例如平凸柱状透镜，其圆柱轴在X方向上延伸.通过这种柱状透镜，由各个激光器射出的激光在Y方向或快轴上被限制其偏转地准直.为了完成准直，用作快轴准直仪2的柱状透镜可具有一个非球面的表面.代替仅在其出射面具有一个凸曲率的柱状透镜，也可采用一个具有凸弯曲的入射面的柱状透镜.作为替代，不仅是入射面而且出射面都可以是凸和/或凹弯曲的.
在传播方向Z上，射线变换元件3连接到快轴准直仪2上.入射的光线在射线变换元件3中旋转90°的角度，即快轴(Y方向)的发散度与慢轴(X方向)的发散度互换，从而在从射线变换元件3出射后在Y方向上的发散度比在X方向上的发散度更大.
射线变换元件3可以是一个基本上呈矩形六面体形状的、由透明材料构成的块，在其上不仅在入射面而且也在出射面上相互平行地排列有多个用作射线变换单元的柱状透镜段.射线变换单元的轴这里可以与矩形六面体形射线变换元件3的沿X方向前进的基面以45°的夹角α连接.
在激光传播方向Z上，另一个准直仪4连接在射线变换元件3后面，从而可以得到例如10mm×10mm的射线，它在Y方向上有约11mrad(毫弧度)的发散度，在X方向上有约3mrad的发散度.发散度的数值和射线直径与半最大强度(FWHM)的射线宽度有关.准直仪4被构造成具有在X方向上延伸的圆柱轴的平凸柱状透镜.由于激光在射线变换元件3中的偏转，准直仪4有与快轴准直仪2相同的定向.与快轴准直仪2一样，准直仪4也可有其它的结构.尤其是不仅入射面、而且出射面都可以具有凸和/或凹曲率.
在传播方向Z上，第一均匀化元件5连接在准直仪4后面，第一均匀化元件5后面连接有第二均匀化元件6.均匀化元件5在其入射面7上具有柱状透镜9的阵列，这些透镜的圆柱轴在X方向上延伸(参见图3).此外第一均匀化元件5在其出射面8上具有柱状透镜9的阵列，这些透镜的圆柱轴在X方向上延伸.通过第一均匀化元件的入射面和反射面7，8上的柱状透镜，穿过第一均匀化元件5的激光非常有效地在Y方向上相互叠加.通过这种有效的叠加，由图1b中第一均匀化元件5后面所示聚焦区可以看出，可以实现激光在Y方向上的均匀化.
在传播方向Z上，所述结构在第一均匀化元件5后面包括第二均匀化元件6.这个第二均匀化元件6在其入射面7和其出射面8上分别具有一个由柱状透镜9组成的柱状透镜阵列，柱状透镜9在Y方向上延伸(参见图3).通过第二均匀化元件6的入射面和出射面7，8上的柱状透镜阵列，穿过第二均匀化元件6的激光非常有效地在X方向上相互叠加.通过这种有效的叠加，由图1a中第二均匀化元件6后面所示聚焦区可以看出，可以实现激光在X方向上的均匀化.
这里用于均匀化的装置包括第一和第二均匀化元件5，6。从而在本发明所述装置中激光整体上在两个方向或轴上被均匀化，其中第二级只在X方向上起作用，第一级只在Y方向上起作用.
均匀化元件5，6的柱状透镜9可以构造成凸(例如参见图3)和/或凹的柱状透镜.作为替代，柱状透镜也可构造成GRIN透镜(梯度指数透镜).在这种情况下，柱状透镜不是安放在入射面或出射面上，而是通过一个变化的基片折射率形成在分别形成均匀化元件5，6的基片内部，位于入射面或出射面附近.
激光均匀地从第二均匀化元件6继续射出，并可用于远离此装置的一个面的照明.
图2a和图2b所示根据本发明的结构的实施方式同样包括一个具有多个发射器的半导体激光器条1.
这种结构还包括快轴准直仪2，它可以像图1a和1b的快轴准直仪2一样设计.这里半导体激光器与快轴准直仪2之间的距离可以选择得比较大，使得激光在Y方向上穿过快轴准直仪2之后具有相对较大的延展.
本发明所述结构在射线方向上在快轴准直仪2之后包括慢轴准直仪10，它在所示实施例中被构造成慢轴准直仪10的入射面和出射面上的柱状透镜.慢轴准直仪10的柱状透镜的圆柱轴这里在Y方向上延伸.尤其是慢轴准直仪可以如此被设置，使得从每个发射器分别射出的激光子射线射入到入射面上每个相应的柱状透镜中.每个子射线被相应的柱状透镜在慢轴上或在X方向上进行准直.
图2a和2b所示慢轴准直仪10的实施方式是一个望远镜结构.然而也存在以下可能性：慢轴准直仪10被构造成一个仅设置在一个面上、例如入射面或出射面上的柱状透镜阵列.此外还可以利用多于两个的光学功能的、特别是弯曲的类似柱状透镜的面用作慢轴准直仪10.
图2a和2b所示本发明所述结构的实施方式还包括在传播方向上位于慢轴准直仪10之后的均匀化元件6.此均匀化元件6在其结构上与图1a和图1b所示结构中的第二均匀化元件6完全一致.在入射面7和出射面8上的柱状透镜9的轴这里在Y方向上延伸，从而使激光射线3仅在慢轴方向上受柱状透镜9影响.
通过穿过均匀化元件6的柱状透镜9，激光光线的各个子射线非常有效地在慢轴方向上或在X方向上相互叠加.从均匀化元件6射出的激光可以被设置在传播方向Z上均匀化元件6后面的聚焦元件11聚焦.在所示实施例中聚焦元件11被构造成旋转对称的平凸透镜.聚焦元件11也可以有另外的结构，例如是一个双凸透镜或是多个共同起作用的透镜.该透镜可将激光射线10在快轴上或在Y方向上聚焦，并且同时作为场透镜用于仅在慢轴上或在X方向上起作用的均匀化元件6.这里用作聚焦元件11的透镜的焦点可实际上位于一个平面上，在此平面上激光的场在慢轴方向上被用作场透镜的透镜均匀化.
图2a和图2b中穿过均匀化元件10的激光射线只是示意性地被示出.然而通过每个柱状透镜9，穿过它的光线在多个不同方向上被中断.通过用作聚焦元件11或场透镜的平凸球面透镜，在一个直线状聚焦区中的每个以相同角度射到场透镜上的子射线被偏转到相同的位置上，从而使得在聚焦区中的来自原始激光射线的各个子射线的激光光线部分在X方向上或在慢轴方向上被均匀分配到其宽度上.
聚焦元件11将激光聚焦到一个直线状的聚焦区中，此聚焦区在X方向上延伸，并在Y方向上具有非常小的延展.例如存在以下可能性：聚焦区在Y方向上或在快轴方向上的延展小于1mm或小于0.5mm.此外还存在以下可能性：直线状聚焦区在X方向上或在慢轴方向上的宽度大于5mm或大于20mm.聚焦元件11的出射面与直线状聚焦区之间的距离d可以相当大，例如大于50mm，尤其是大于200mm.

Claims (6)

1.用于使光均匀化的装置，它包括：
具有用于要被均匀化的光线的一个入射面(7)和一个出射面(8)的第一均匀化元件(5)；
所述第一均匀化元件(5)分别具有一个在入射面(7)上或入射面(7)附近的柱状透镜(9)的阵列和一个在出射面(8)上或出射面(8)附近的柱状透镜(9)的阵列；
具有用于要被均匀化的光线的一个入射面(7)和一个出射面(8)的第二均匀化元件(6)；
所述第二均匀化元件(6)具有一个在入射面(7)上或入射面(7)附近的柱状透镜(9)的阵列和/或一个在出射面(8)上或出射面(8)附近的柱状透镜(9)的阵列，其中第一均匀化元件(5)的柱状透镜(9)的圆柱轴垂直于第二均匀化元件(6)的柱状透镜(9)的圆柱轴；
其特征在于，在这两个均匀化元件(5，6)中，位于入射面(7)上或入射面(7)附近的柱状透镜(9)的圆柱轴分别平行于位于出射面(8)上或出射面(8)附近的柱状透镜(9)的圆柱轴，并且
其中所述第一均匀化元件(5)中的阵列形成在一个基片上，所述第二均匀化元件(6)中的阵列也形成在一个基片上。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，设置在出射面(8)上或出射面(8)附近的柱状透镜(9)的焦平面被设置在入射面(7)中或入射面(7)附近。
3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，柱状透镜被构造成凹和/或凸透镜，或者被构造成梯度指数透镜。
4.用于照明一个面的结构，它包括：
-至少一个具有多个发射器的半导体激光器条(1)，这些发射器在第一个方向(X)上相邻且相互有间距地排列，其中由各个发射器射出的激光在第一个方向(X)上的发散度小于此激光(9)在与第一个方向(X)垂直的第二个方向(Y)上的发散度；
-用于至少部分地准直由发射器射出的激光的准直仪(2，4)；
-用于变换由发射器射出的激光的射线变换元件(3)，它被如此构造并设置在由发射器射出的激光光线的射线路径中，使得激光在第一个方向(X)上的发散度可以与在第二个方向上的发散度互换；
-用于使由发射器射出的激光光线均匀化的装置；
其特征在于，用于使由发射器射出的激光光线均匀化的装置是如权利要求1所述的装置。
5.如权利要求4所述的用于照明一个面的结构，其特征在于，准直仪(2，4)包括快轴准直仪(2)，它用于由发射器射出的激光在第二个方向(Y)上的准直。
6.如权利要求4或5所述的用于照明一个面的结构，其特征在于，准直仪(2，4)包括用于对发射器射出的激光光线在第一个方向(X)上进行准直的准直仪(4)。
CNB2004800423354A 2004-03-06 2004-08-20 用于使光均匀化的装置和用这种装置进行照明的结构 Expired - Fee Related CN100427995C (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004011074.3 2004-03-06
DE102004011074 2004-03-06
DE102004034253.9 2004-07-14
EPPCT/EP2004/008944 2004-08-10

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1997928A CN1997928A (zh) 2007-07-11
CN100427995C true CN100427995C (zh) 2008-10-22

Family

ID=34917081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004800423354A Expired - Fee Related CN100427995C (zh) 2004-03-06 2004-08-20 用于使光均匀化的装置和用这种装置进行照明的结构

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN100427995C (zh)
WO (1) WO2005085934A1 (zh)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007061358B4 (de) 2007-12-19 2012-02-16 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Formung von Laserstrahlung
US9001426B2 (en) 2009-01-23 2015-04-07 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Beam forming device for laser diode arrays
US8596823B2 (en) 2010-09-07 2013-12-03 Coherent, Inc. Line-projection apparatus for arrays of diode-laser bar stacks
DE102010045620B4 (de) 2010-09-17 2016-09-01 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einer Arbeitsebene
US8602592B2 (en) * 2011-04-07 2013-12-10 Coherent, Inc. Diode-laser illuminator with interchangeable modules for changing irradiance and beam dimensions
US8946594B2 (en) * 2011-11-04 2015-02-03 Applied Materials, Inc. Optical design for line generation using microlens array
US10019897B2 (en) 2012-02-22 2018-07-10 Koninklijke Philips N.C. Lighting apparatus for infrared camera system comprising array of vertical-cavity surface-emitting lasers
DE102013104986A1 (de) * 2013-05-15 2014-12-04 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Beaufschlagung der Außenseite eines rotationssymmetrischen Bauteils mit Laserstrahlung
US9462253B2 (en) 2013-09-23 2016-10-04 Microsoft Technology Licensing, Llc Optical modules that reduce speckle contrast and diffraction artifacts
US9443310B2 (en) * 2013-10-09 2016-09-13 Microsoft Technology Licensing, Llc Illumination modules that emit structured light
CN104763963A (zh) * 2014-01-03 2015-07-08 深圳市海洋王照明工程有限公司 安全出口指示灯
EP3059630A1 (de) * 2015-02-19 2016-08-24 VITRONIC Dr.-Ing. Stein Bildverarbeitungssysteme GmbH Beleuchtungseinheit für Codelesegeräte
EP3491450B1 (en) 2016-07-27 2024-02-28 TRUMPF Laser GmbH Laser line illumination
DE102017131000A1 (de) * 2017-12-21 2019-06-27 LIMO GmbH Kollimationsvorrichtung für einen Nanostack
CN110554508B (zh) * 2018-05-30 2022-02-11 宁波舜宇车载光学技术有限公司 光束整形装置及其光束整形方法
CN109444825B (zh) * 2018-11-15 2024-06-07 深圳市速腾聚创科技有限公司 激光发射设备
CN112260044B (zh) * 2020-10-23 2022-06-10 青岛镭创光电技术有限公司 一种能量均匀的激光装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4733944A (en) * 1986-01-24 1988-03-29 Xmr, Inc. Optical beam integration system
US5687146A (en) * 1991-11-15 1997-11-11 Pioneer Electronic Corporation Focus control device for use with an optical pickup comprising a refracting means
US6212011B1 (en) * 1996-09-05 2001-04-03 Vitaly Lissotschenko Optical beam-shaping system
US6384981B1 (en) * 1998-04-30 2002-05-07 Joachim Hentze Optical emitter array with collimating optics unit
US6471372B1 (en) * 1998-10-30 2002-10-29 Vitalij Lissotschenko Assembly and device for optical beam transformation
CN2566291Y (zh) * 2002-09-16 2003-08-13 上海光通激光光电子技术创新中心有限公司 半导体激光器光束整形装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5745153A (en) * 1992-12-07 1998-04-28 Eastman Kodak Company Optical means for using diode laser arrays in laser multibeam printers and recorders
US5517359A (en) * 1995-01-23 1996-05-14 Gelbart; Daniel Apparatus for imaging light from a laser diode onto a multi-channel linear light valve
US6084626A (en) * 1998-04-29 2000-07-04 Eastman Kodak Company Grating modulator array
JP2002072132A (ja) * 2000-08-30 2002-03-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 照明装置
DE10049557B4 (de) * 2000-10-06 2004-09-02 Microlas Lasersystem Gmbh Vorrichtung zum Umwandeln der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls
US6773142B2 (en) * 2002-01-07 2004-08-10 Coherent, Inc. Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4733944A (en) * 1986-01-24 1988-03-29 Xmr, Inc. Optical beam integration system
US5687146A (en) * 1991-11-15 1997-11-11 Pioneer Electronic Corporation Focus control device for use with an optical pickup comprising a refracting means
US6212011B1 (en) * 1996-09-05 2001-04-03 Vitaly Lissotschenko Optical beam-shaping system
US6384981B1 (en) * 1998-04-30 2002-05-07 Joachim Hentze Optical emitter array with collimating optics unit
US6471372B1 (en) * 1998-10-30 2002-10-29 Vitalij Lissotschenko Assembly and device for optical beam transformation
CN2566291Y (zh) * 2002-09-16 2003-08-13 上海光通激光光电子技术创新中心有限公司 半导体激光器光束整形装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN1997928A (zh) 2007-07-11
WO2005085934A1 (de) 2005-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100427995C (zh) 用于使光均匀化的装置和用这种装置进行照明的结构
US6407870B1 (en) Optical beam shaper and method for spatial redistribution of inhomogeneous beam
US7110183B2 (en) Device for the optical beam transformation of a linear arrangement of several light sources
US20070053066A1 (en) Device for homogenizing light and configuration for illuminating or focusing with such a device
CN104704410B (zh) 光束组合器、光束组合方法以及激光二极管模块
US6680800B1 (en) Device for symmetrizing the radiation emitted by linear optical transmitters
CA2165262C (en) Multiple emitters laser diode assembly with graded-index fiber microlens
US7355800B2 (en) Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array
US8270084B2 (en) Device for beam shaping
US7016393B2 (en) Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array
US7859758B2 (en) Device for homogenizing light
US8662761B2 (en) Laser optical system using optical fiber transmission
US20080084612A1 (en) Apparatus for generating a homogeneous angular distribution of laser irradiation
US20070268794A1 (en) Beam splitter configuration
JP2000137139A (ja) 光学的光束変換装置
US8085468B2 (en) Line generator
US9513483B2 (en) Beam shaper system for laser diode array
US8395844B2 (en) Apparatus for homogenizing light and laser apparatus for producing a linear intensity distribution in a work plane
US9746615B2 (en) Light-synthesizing laser device
US7035014B2 (en) Device for collimating light emanating from a laser light source and beam transformer for said arrangement
US9625727B2 (en) Device for homogenizing a laser beam
JP2004525418A (ja) レーザ光源から出るレーザ光線を修正するための装置ならびに該装置の製造方法
US20220382028A1 (en) Variable magnification afocal telescope element
KR20220027876A (ko) 레이저 방사선용 변환 기기
US10295831B2 (en) Light-conducting device, device having a light-conducting device, and means for emitting linear parallel light beams

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20081022

Termination date: 20100820