BR112015010747B1 - elemento de tratamento para o uso com uma peça de implante dentário e sistema de tratamento - Google Patents

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Abstract

ELEMENTO DE TRATAMENTO PARA O USO COM UMA PEÇA DE IMPLANTE DENTÁRIO, SISTEMA DE TRATAMENTO E MÉTODO PARA A LIMPEZA DE UMA PEÇA DE IMPLANTE DENTÁRIO. A presente invenção refere-se a um elemento de tratamento (30, 30, 30) para o uso com uma peça de implante dentário (2) introduzida no osso maxilar de um paciente e a um sistema de tratamento (90) com um tal elemento de tratamento (30, 30, 30), bem como um método, com o qual o elemento de tratamento (30, 30, 30?) pode ser inserido de forma particularmente favorável. De acordo com a invenção, é previsto que o corpo de base (40), para a conexão mecânica com a peça de implante dentário (2), apresenta um sistema de conexão ajustado a esse e que o mesmo é provido de pelo menos um canal central (56) para um líquido de limpeza.

Description

[0001] A presente invenção refere-se a um elemento de tratamento, particularmente para o uso com uma peça de implante dentário inserida no osso maxilar de um paciente. A mesma se refere, ainda, a um sistema de tratamento com um tal elemento de tratamento.
[0002] Um sistema de tratamento para limpeza de um implante nolocal, no qual um corpo de base para a ligação mecânica com uma peça de implante inserida apresenta um sistema de ligação adequado a essa, é conhecido, por exemplo, a partir do documento US 2012/028215 A1. Nesse sistema, é prevista uma limpeza por meio de pó de diamante, portanto, com base mecânica, em que restos que permanecem após a limpeza podem ser lavados por meio de um líquido de lavagem. O corpo de base é provido de canais adequados para a adução do líquido de lavagem (por exemplo, água). Os elementos de tratamento da técnica conhecida são conhecidos a partir dos documentos US 2010/291506 A1 e US 5.201.656 A.
[0003].Para compensar a perda de um dente, implantes dentáriospodem ser usados no âmbito da terapia reconstrutiva. Os mesmos são, em geral, inseridos no osso maxilar no lugar de um dente extraído ou que tenha caído, a fim de manter nesse local, após uma fase de cicatrização de cerca de quatro a doze semanas, uma peça protética que serve como dente substituto ou uma coroa. Para isso, um tal implante dentário é geralmente formado como corpo de metal moldado de forma adequada, que é inserido por meio de aparafusamento na posição prevista, no osso maxilar. O implante dentário apresenta, assim, via de regra, uma rosca de parafuso autoatarraxante na extremidade apical, na maioria das vezes, com a qual o implante dentário é inserido no leito de implante preparado de modo correspondente.
[0004] Entretanto, dado o número comparativamente elevado deimplantes inseridos no corpo humano, em particular, na área odontológica, bem como sua vida útil relativamente longa, foi constatado um aumento constante na ocorrência de condições inflamatórias do tecido peri-implantar associadas ao biofilme. Na superfície sólida do implante envolvida pelo tecido e fluido intersticial se forma um biofilme, que é colonizado por bactérias, que podem levar, ao final, a infecções crônicas e recorrentes. Esse quadro patológico é denominado de peri-implantite. Particularmente na área odontológica, de modo semelhante à parodontite, uma combinação de higiene bucal negligenciada, aderência de biofilme na superfície normalmente microrrugosa do pilar e outros fatores, é a causadora do quadro geral de peri-implantite, que se destaca por uma carga e destruição progressiva do tecido duro e mole. As áreas, nas quais os tecidos duros e/ou moles recuam, são revestidas, nesse caso, via de regra, com um biofilme.
[0005]Tanto tratada quanto não tratada, um progresso dainflamação peri-implantar conduziria à perda do implante e ao dano do tecido corporal e ósseo na área do ponto de introdução. É desejável, portanto, após a constatação de uma tal inflamação, introduzir medidas preventivas adequadas o mais cedo possível. Essas podem se estender de uma otimização da higiene bucal até às intervenções terapêuticas na forma de medidas cirúrgicas, ou seja, a retirada do implante atacado e nova introdução de um implante substituto. Particularmente, contudo, a última medida mencionada é muito desgastante para o tecido como um todo e ocorre frequentemente junto com uma degradação maciça de tecidos no ambiente do ponto de inserção. Medidas alternativas eficazes para combater uma peri- implantite iminente ou existente são, portanto, extremamente desejáveis.
[0006]A invenção, portanto, tem por objetivo, especificar umelemento de tratamento para o combate ou contenção de uma peri- implantite iminente, que pode ser inserido anteriormente às próprias medidas terapêuticas, tornando-as, possivelmente, desnecessárias. Além disso, devem ser especificados um sistema de tratamento com um tal elemento de tratamento e um método, com o qual o elemento de tratamento pode ser inserido de forma particularmente favorável.
[0007]A invenção parte do princípio de que, para um tratamentoeficiente e eficaz dos sintomas da inflamação justamente no ambiente de um implante dentário inserido, as medidas terapêuticas podem ser evitadas ou pelo menos sua extensão pode ser mantida a mais baixa possível pelo fato de que a colonização bacteriana do implante e de seu meio já é combatida precocemente de forma consistente. Essas já deveriam ocorrer, em particular, quando ainda não são necessárias quaisquer outras medidas terapêuticas. Um tal combate consistente da contaminação de bactérias deveria seguir dois pontos iniciais principais, a saber, por um lado, uma eliminação segura e tão ampla quanto possível das bactérias e, por outro lado, uma limpeza abrangente do material de implante, com a qual, restos orgânicos possivelmente aderidos ou similares, que poderiam favorecer uma nova colonização de bactérias são removidos em uma extensão mais abrangente.
[0008]Tal como foi surpreendentemente constatado, esses doisobjetivos podem ser seguidos com uma abordagem conjunta, na qual um líquido de limpeza adequado é aduzido de forma localizada e visada à área atacada, por exemplo, através do uso de um líquido biocida selecionado de forma adequada ou similar. Portanto, o corpo de base do elemento de tratamento é provido com um número decanais para meios para um líquido de limpeza.
[0009]Preferencialmente, nesse caso, esses canais sãoconduzidos e posicionados de tal modo a permitir uma admissão precisa da área a ser limpa na peça de implante dentário inserida. Para isso, o ou cada canal para meios apresenta, de forma vantajosa, uma abertura de saída que, no corpo de base colocado sobre a peça de implante dentário, está posicionado em uma distância de não mais que 10 mm, preferencialmente, não mais que 5 mm, de modo particularmente preferido, não mais que 3 mm, da peça de implante dentário. Em um aperfeiçoamento vantajoso adicional ou alternativo, o canal para meios ou os canais para meios está/estão disposto(s) do tipo de estrutura integrada diretamente dentro do ou no corpo de base.
[0010]Tal como foi surpreendentemente constatado, além disso,uma ação de limpeza particularmente elevada pode ser obtida na peça de implante inserida, em que vários líquidos de limpeza são combinados entre si ou podem ser administrados sequencialmente uns depois dos outros. A fim de permitir isso de forma seletiva e conforme necessário, os canais para meios previstos dentro do ou no corpo de base do elemento de tratamento, de forma vantajosa, um sistema de canais que pode ser aplicado com pelo menos dois canais parciais independentes um do outro com líquido. Em uma outra modalidade mais vantajosa é previsto, além disso, pelo menos um canal de refluxo para recondução ou sucção do líquido de limpeza consumido na área da posição de inserção.
[0013]Adicionalmente é previsto usar uma corrente elétricaespecificamente como meio para eliminar as bactérias e/ou para limpar a peça de implante atacada. Particularmente, através da admissão da peça de implante com corrente elétrica pode ser obtida uma remoção segura do material orgânico possivelmente aderente. Para permitir isso evitando intervenções terapêuticas, ou seja, particularmente sem remoção cirúrgica do implante inserido, é previsto alimentar a corrente elétrica diretamente à peça de implante atacada ainda no estado inserido, isto é, sem remoção anterior do tecido ósseo.
[0014]Para esse fim, é disponibilizado o elemento de tratamentopreferido que, condicionalmente projetado, é previsto para uma fixação na peça de implante dentário inserida e, por conseguinte, apresenta um meio de ligação ajustado de forma adequada à peça de implante dentário inserida. Nesse caso, o elemento de tratamento é adaptado de forma vantajosa para poder aplicar o fluxo de corrente previsto para fins de limpeza da peça de implante inserida localizada de forma seletiva diretamente na área adjacente. Particularmente, nesse caso, é previsto, como princípio de projeto para o elemento de tratamento, disponibilizar meios para conduzir um fluxo de corrente, com o qual a corrente elétrica é alimentada à peça de implante inserida e cuja área inserida, particularmente, a área de inserção provida com uma rosca no tecido ósseo pode ser usada como eletrodo. Para formar um antipolo e um contraeletrodo é previsto, além disso, o posicionamento adequado de uma superfície de contato ou um ponto de contato elétrico na proximidade imediata. Os componentes denominados devem ser, assim, de tal modo posicionados e, se for o caso, adequados com uma fonte de corrente, que a corrente elétrica aplicada para fins de tratamento e limpeza, possa fluir de forma abrangente e direta ao longo de e a partir das zonas da superfície da peça de implante infectadas por bactérias ou seja, particularmente, sem „desvios" sobre outro tecido corporal ou similar, para a superfície de contato ou para o ponto de contato.
[0015]Para isso, o elemento de tratamento compreende, deacordo com a invenção, elementos de condução posicionados e selecionados de forma adequada, que, por sua vez, podem ser conectados a uma fonte de corrente ou tensão selecionada. Assim, condicionalmente projetada, entre outras, é prevista uma ligação eletricamente condutora para se produzir a peça de implante por meio de um dos elementos de condução, de modo que o fluxo de corrente desejado possa ocorrer através da peça de implante inserida e esse possa formar o um dos eletrodos.
[0016]O segundo elemento condutor que forma a outra superfíciede contato, previsto no modo de um contraeletrodo deve, assim, ser posicionado espacialmente na proximidade imediata da peça de implante. O objetivo, nesse caso, é que o fluxo de corrente ocorra, através da área de contato da peça de implante inserida, para o tecido ósseo ou mole circundante e, a partir do mesmo, para superfície de contato, sem que seja necessário um fluxo de corrente sobre áreas maiores do tecido corporal. Para isso, o segundo elemento condutor é projetado preferencialmente de tal modo geométrico, que uma zona "eletricamente ativa" localizada nas proximidades da posição de inserção resulta, por exemplo, na forma de um formato de tipo de filamento ou agulha. Em um aperfeiçoamento vantajoso adicional ou alternativo, o segundo elemento condutor é disposto, por exemplo, na forma de um corpo de eletrodo, no modo de uma concretização integrada em ou no corpo de base do elemento de tratamento.
[0017]Os elementos condutores podem, nesse caso, no modo deeletrodos "convencionais", ser concretizados como eletrodos adequadamente selecionados e configurados geometricamente, por exemplo, à base de metal, na forma de arames metálicos, ou similares. Nesse caso, o eletrodo que forma o segundo elemento condutor é equipado preferencialmente com um isolamento elétrico, por exemplo, como arame revestido de plástico, sendo que, para a formação do contato ou da superfície de contato, por exemplo, na extremidade, uma área de metal puro, não mais isolada pode ser prevista. De forma alternativa também é possível fornecer, pelo menos a um dos elementos condutores, preferencialmente, o segundo elemento condutor com base no uso de condutividade elétrica de líquidos, por exemplo, de solução aquosa de sais ou similares. Em tais casos, o respectivo elemento condutor também pode ser formado através de um número de canais adequadamente direcionados dentro do ou no elemento de tratamento, que pode ser aplicado em aplicação com um líquido de condutividade elétrica selecionado de forma adequada que, por sua vez, então novamente adequado, é conectado eletricamente com a fonte de corrente ou tensão por um eletrodo adequadamente posicionado. O contato ou a superfície de contato para o fluxo de corrente elétrica é formada, nesse caso, através pela extremidade da superfície de saída do respectivo canal, pela qual o líquido conduzido no canal pode passar eletricamente com o ambiente do canal em contato. Essa superfície de saída deve, com isso, adequada no sentido indicado acima, ser posicionada no ambiente próximo da peça de implante inserida.
[0018]Os implantes dentários podem ser executados como osdenominados implantes individuais, que apresentam uma construção de seu corpo de base essencialmente em uma só peça. Contudo, para permitir uma introdução simplificada na boca do paciente e, particularmente, uma preparação particularmente ampla da própria prótese pela fixação no implante já antes do tratamento do paciente, por exemplo, em um laboratório de técnicas odontológicas, os implantes dentários também podem ser executados em várias partes. Particularmente, nesse caso, uma construção basicamente em duas partes pode ser prevista, em que o sistema de implante dentário compreende uma primeira peça de implante prevista para introdução no osso maxilar, também denominada como o próprio implante ou pilar e uma segunda peça de implante atribuída adicionalmente a essa, também denominada como segundo componente de construção ou suporte, na qual a peça de substituição do dente, prevista como prótese ou similar, pode ser novamente montada. A primeira peça de implante ou pilar é provida, em seu lado externo, geralmente com uma rosca que pode ser executada como uma rosca automática ou não automática. Geralmente, nesse caso, a área que deve ser implantada nos ossos ou no tecido ósseo, é superficialmente enrugada ou revestida.
[0019]Nesse caso, o componente de construção ou suporte égeralmente aparafusado com um pilar por meio de um parafuso de ligação adequadamente selecionado.Na introdução, nesse caso, a rosca do parafuso de ligação é aparafusada no pilar, em uma rosca fêmea atribuída. A cabeça de parafuso do parafuso de ligação, nesse caso, pelo aparafusamento através de um escareamento do componente de construção, pressiona o mesmo sobre o pilar. Em uma modalidade particularmente vantajosa, o elemento de tratamento é previsto para o uso para um tal tipo de implante dentário de duas ou mais partes. Para isso, seu sistema de conexão compreende oportunamente um parafuso de ligação para a introdução, no canal de parafuso do pilar, de um sistema de implante dentário executado em uma ou mais peças. Nessa forma de concretização, o elemento de tratamento pode, com isso, ser denominado como „suporte de tratamento" que, em vez do próprio suporte previsto de um sistema de implante dentário de várias partes ser colocado no pilar do mesmo, é com esse, conectado.
[0020]Para produzir em uma tal construção um acesso ou contatoelétrico particularmente seguro e eficaz para a área de inserção do pilar inserido, portanto, particularmente, de seu corpo de base metálico, o elemento de tratamento é de tal modo executado em outras modalidades vantajosas que o parafuso de ligação é conectadode modo eletricamente condutor com o primeiro elemento condutor.
[0021]Vantajosamente, o corpo de base do elemento detratamento é executado eletricamente isolado em sua superfície de contato para a peça de implante dentário. Com isso, é assegurado que a condução de corrente ou de potencial pode ocorrer no modo desejado - a saber, com a integração seletiva da área inserida da peça de implante dentário na condução de corrente. O corpo de base pode, assim, ser executado por si com base em um material eletricamente isolante, por exemplo, como corpos de cerâmica ou corpos de material plástico, em que, nesse caso, os eletrodos podem ser conduzidos através de componentes de metal adequadamente posicionados ou canais de líquido adequadamente conduzidos. De forma alternativa, o corpo de base também pode ser executado como corpo de metal, por exemplo, de titânio. Nesse caso, o efeito de isolamento em relação à peça de implante dentário pode ser obtido por fixação de um elemento isolante adequado, particularmente, de um componente independente ou também de um revestimento da superfície.
[0022]Para favorecer particularmente a condução de corrente oupotencial em proximidade espacial imediata para a posição de inserção da peça de implante, em um aperfeiçoamento vantajoso, o segundo elemento condutor do elemento de tratamento está apoiado no mesmo de forma deslocável em uma direção longitudinal de modo essencialmente paralelo em relação ao eixo central do corpo de base. Em uma modalidadecomo eletrodo, o mesmopode ser, assim,particularmente, executado comoelemento detipo agulha, porexemplo, na forma deum pino finoou similar, quepode ser inseridoapós a montagem doelemento detratamento napeça de implantedentário para a área de inserção. Em uma modalidade, como um canal que conduz líquido de condutibilidade, é possível prever, em vez disso, por exemplo, um tubo fino, uma cânula ou similar em que os mesmos podem ser inseridos, ou do mesmo modo, após a montagem do elemento de tratamento na peça de implante dentário para a área de inserção, de modo que sua superfície de saída seja posicionada suficientemente próxima à área que requer tratamento da peça de implante inserida.
[0023]Em um aperfeiçoamento vantajoso adicional ou alternativo,o segundo elemento condutor é fixado de tal modo no corpo de base que seu contato disposto na extremidade, visto em sua direção lateral, pode ser posicionado em uma distância de no máximo 10 mm, preferencialmente de no máximo 5 mm, do eixo longitudinal central da peça de implante dentário e uma modalidade adicional ou uma outra modalidade vantajosa, visto em sua direção lateral, pode ser posicionado em uma distância de no máximo 1 mm, preferencialmente de no máximo 1,5 mm, do eixo longitudinal central da peça de implante dentário. Com isso, a produção ambicionada comparativamente maior das densidades de corrente elétrica é imediata na posição de inserção da peça de implante, que pode ser obtida de forma especialmente favorável em cargas de baixa conservação do outro tecido corporal.
[0024]Tal como já foi exposto, os elementos condutores no modode eletrodos "convencionais" podem ser executados como eletrodos adequadamente selecionados e geometricamente configurados, por exemplo, à base de metal. A modalidade alternativa com base na utilização da condutividade elétrica de líquidos é vista, contudo, como especialmente vantajosa, visto que, com isso, por um lado, uma flexibilidade comparativamente elevada na condução dos canais e, com isso também, na condução de corrente ou de potencial é obtida.
[0025]Em relação ao sistema de tratamento para uma peça deimplante dentário, o objetivo denominado é solucionado com um elemento de tratamento da técnica anterior cujos elementos condutores são conectados eletricamente com uma fonte de correnteou tensão.
[0026]Tal como surpreendentemente constatado, nesse caso,uma aplicação do implante infectado por bactérias com pulsos de corrente ou tensão é especialmente altamente eficaz, particularmente, no que se refere à remoção de restos orgânicos que ainda se aderem no material após a eliminação das bactérias. Portanto, a fonte de corrente ou tensão do sistema de tratamento na modalidade especialmente vantajosa para uma, se necessário, aplicação pulsada dos elementos condutores é disposta com corrente ou tensão. Especialmente preferencial é prevista, nesse caso, uma tensão operacional nos eletrodos de até 30 V.
[0027]Para permitir a combinação vista como especialmentevantajosa de um tratamento elétrico da peça de implante dentário com um tratamento à base de líquido, um sistema de entrada para um líquido de limpeza ou uma combinação de vários líquidos de limpeza é vantajosamente conectado no elemento de tratamento do sistema de tratamento. Especialmente preferencial, é com isso previsto, como líquido de limpeza, água misturada com pelo menos um ácido e/ou com pelo menos um sal. Especialmente preferencial é com isso previsto como ácido, ácido fosfórico, ácido cítrico, ácido acético, ácido lático, ácido carbônico ou uma combinação dos mesmos. Nesse caso, de forma alternativa ou particularmente adicional, é previsto, como sal, o iodeto, cloreto, nitrato, carbonato ou bicarbonato de sódio, cálcio, alumínio, magnésio, estanho ou potássio e/ou o clorito, nitrato ou iodeto de amônio ou uma combinação dos mesmos.
[0028]Em relação ao método para a limpeza de uma peça deimplante dentário, o propósito denominado é solucionado, no qual uma tensão elétrica é aplicada na peça de implante dentário e no qual essa peça é lavada com um líquido de limpeza. De forma vantajosa, a tensão elétrica é, com isso, aplicada de forma pulsada. Em umaperfeiçoamento vantajoso adicional ou alternativo é, com isso, utilizado como líquido de limpeza do modo anteriormente denominado.
[0029]As vantagens obtidas com a invenção consistemparticularmente em que, através da modalidade do elemento de tratamento com os elementos condutores, particularmente e especialmente preferencial, em combinação com canais adequadamente conduzidos para adução de um líquido de limpeza, pode ocorrer uma aplicação seletiva e localizada da peça de implante dentário com pulsos adequados de corrente ou tensão, sem que, para isso, seja necessária a retirada da mesma da boca do paciente ou, caso contrário, uma intervenção terapêutica. Com isso, é possível um combate precoce da colonização de bactérias sobre a peça de implante inserida por meio de medidas de prevenção de contenção, pelas quais, a surpreendente eficácia constatada na eliminação de bactérias por correntes elétricas e também pela remoção do material orgânico possivelmente ainda aderente no corpo de implante inserido torna-se utilizável.
[0030]Um exemplo de concretização da invenção é esclarecidoem detalhes com base em um desenho. No mesmo, mostra-se:
[0031]Figuras 1, 2 respectivamente um sistema de implantedentário,
[0032]Figuras 3, 4 respectivamente uma peça de implante ou pilardo sistema de implante dentário,
[0033]Figura 5 um elemento de tratamento para uma peça deimplante dentário inserida no osso maxilar um paciente em vista em perspectiva,
[0034]Figuras 6, 7 respectivamente uma variante do elemento detratamento segundo a Figura 5 em corte longitudinal,
[0035]Figuras 8, 9 respectivamente uma outra variante de umelemento de tratamento em vista em perspectiva,
[0036]Figura 10 o elemento de tratamento segundo a Figura 9 emcorte longitudinal e
[0037]Figura 11 sistematicamente um sistema de tratamento parauso do elemento de tratamento disposto.
[0038]Peças iguais são providas com as mesmas referênciasnuméricas, em todas as Figuras.
[0039]O sistema de implante dentário 1, de acordo com a Figura1, é previsto para o uso no osso maxilar no lugar de um dente extraído ou faltante, a fim de manter nesse local uma peça protética que serve como dente substituto ou uma coroa. O sistema de implante dentário 1 é, com isso, executado em várias partes e compreende uma primeira peça de implante 2 executada como, então denominado, pilar e uma segunda peça de implante 4 atribuídas a esse denominada como componente de construção ou suporte, para fixação de uma peça de substituição do dente prevista. A primeira peça de implante 2 ou pilar é, assim, prevista externamente com uma rosca externa 6 que é projetada particularmente na extremidade apical 8 como rosca de parafuso automática. Com isso, a primeira peça de implante 2 ou pilar pode ser inserida na posição prevista no osso maxilar por meio de aparafusamento.
[0040]Para permitir, após a fixação da peça de substituição dodente ou da prótese no componente de construção ou na segunda peça de implante 4, uma introdução no pilar ou na primeira peça de implante 2 com estabilidade mecânica elevada, um pivô de ligação 10 é formado da segunda peça de implante 4 que pode ser aparafusado no canal de admissão 12 previsto atribuído na primeira peça de implante 2. Através da introdução do pivô de ligação 10 no canal de admissão 12 resulta uma conexão mecânica das peças de implante 2, 4 entre si. Para uma maior estabilidade mecânica, o pivô de ligação 10 é, com isso, ajustado em seu contorno externo no contorno interno do canal de admissão 12 em que ambos podem ser formados conicamente, vistos na direção longitudinal (exemplo de concretização segundo a Figura 2). Além disso, como é previsto particularmente no exemplo de concretização segundo a Figura 3, o contorno externo do pivô de ligação 10 - e o contorno interno do canal de admissão 12 correspondentemente ajustado - pode ser projetado em corte transversal com uma simetria múltipla (no exemplo de concretização, sêxtupla) de modo que, na união dos componentes denominados, resulte um bloqueio rotatório e, com isso, uma orientação rotatória segura do componente de construção relativa ao pilar possa ser empregada. No exemplo de concretização segundo as Figuras 3, 4, para esse fim, uma indicação ou um elemento de indicação 14 com, por seu lado, um corte transversal com simetrias múltiplas disposto na extremidade do pivô de ligação 10 para a formação de um bloqueio rotatório, que, no estado montado, engata em uma peça de canal de extremidade 16 correspondente atribuída no canal de admissão 12.
[0041]O sistema de implante dentário 1, no exemplo deconcretização para uma ligação aparafusada das peças de implante 2, 4, é executado entre si. Para isso, é previsto respectivamente um parafuso de ligação 18 que engata na rosca de parafuso 20 respectivamente prevista dentro da primeira peça de implantes 2. Em relação à seleção de material, as peças de implante 2, 4 são ajustadas adequando-se ao propósito de uso e são, a princípio, finalizadas em material cerâmico, como, por exemplo, óxido de zircônio ou óxido de alumínio ou ainda em metal adequadamente selecionado, como, por exemplo, titânio.
[0042]Geralmente, nos sistemas de implante dentário,particularmente também em sistemas de implante de duas peças da técnica acima descrita, há o problema que, através de uma infiltração de bactérias ou germes na área do tecido próxima da posição de inserção, particularmente na área da rosca externa 6 inserida no maxilar, inflamações ou focos de inflamação podem surgir. Tais inflamações existentes, particularmente, também por conta de uma assim denominada peri-implantite, especialmente quando as mesmas podem se desenvolver e se intensificar em um longo espaço de tempo, podem levar a um grave dano dos tecidos e dos ossos na área da posição de inserção. Sem medidas preventivas adequadas, esses danos podem, com isso, levar ao fato de que todo o sistema de implante, portanto, particularmente também o pilar ou segunda peça de implante 4 já implantados, precise ser novamente removido do osso e ser substituído por outra prótese. Esse efeito indesejado expresso causado pela peri-implantite pode, com isso, levar a uma perda total do sistema de implante, de modo que, medidas cirúrgicas possam novamente ser necessárias, como, por exemplo, uma raspagem da área afetada no osso maxilar e a nova restauração com um sistema de implante. Por meio de uma tal retirada, a mesma pode resultar, além disso, em perda óssea ou outras perdas de substâncias de tecido, que, em casos extremos pode até levar à situação de que uma nova restauração com um outro implante não seja mais possível. Uma tal necessidade de uma nova restauração, causada pela peri-implantite, também pode ocorrer após um período de tempo comparativamente longo, após a primeira inserção do sistema de implante de, por exemplo, até alguns anos ou mesmo, décadas.
[0043]As bactérias ou germes observados em conjunto com umaperi-implantite podem, com isso, a princípio, colonizar o interior do pilar 2, aderindo, contudo, em geral, preferencialmente diretamente na superfície do pilar 2 inserido no osso maxilar na área de contato com um tecido adjacente ou material ósseo, portanto, particularmente, na área da rosca externa 6. Nessa área, a superfície do pilar 2 pode ser prevista com uma rugosidade ou similar, para favorecer especialmente a implantação no tecido ou nos ossos e para sustentar a cicatrização do pilar 2 após a inserção. Precisamente na área de uma tal rugosidade da superfície vista, propriamente, como especialmente favorável para o sistema de implante, a colonização dos germes ou bactérias pode presenciar uma multiplicação, em que a aspereza ainda dificulta adicionalmente uma remoção seletiva dos germes ou bactérias existentes.
[0044]Por conseguinte, há, portanto, o desejo urgente pormedidas preventivas adequadas, para, no caso de uma peri-implantite já existente ou iminente sob manutenção do sistema de implante já implantado, portanto, do pilar 2 já inserido, eliminar os germes infiltrados e combater os focos de inflamação de forma eficaz, de modo que o tecido saudável ou substâncias ósseas saudáveis possam posteriormente se formar novamente na área em torno da rosca externa 6. Para isso, é altamente desejável, adicionalmente à eliminação seletiva dos germes ou bactérias na área afetada, também remover de forma segura da área afetada os restos de material e fragmentos dos mesmos, de modo que, posteriormente, a área afetada possa ser novamente preenchida com tecido saudável ou material ósseo e uma conexão interna entre a superfície externa do pilar 2 e do tecido ou material ósseo circundante possa novamente se formar. Além disso, o biofilme formado pelo revestimento de bactérias, inclusive os restos orgânicos de bactérias eliminadas, são eliminados de forma segura.
[0045]Para esse fim, portanto, para eliminar os germes ebactérias na área de inserção do pilar 2 e particularmente também para a subsequente lavagem, remoção e descarga de restos de tecido e de material das bactérias eliminadas, é previsto um elemento de tratamento 30, 30' que é mostrado em vista em perspectiva na Figura 5. Uma variante preferencial do sistema de tratamento 30 é, assim, mostrada em corte longitudinal na Figura 6 e uma segunda variante preferencial do sistema de tratamento 30' é mostrada em corte longitudinal na Figura 7.
[0046]O elemento de tratamento 30, 30' é, nesse caso, noexemplo de concretização, devido à execução em si, em duas partes, do sistema de implante 1, executado no modo de um suporte de tratamento e é previsto para a condução do tratamento denominado para o sistema de implante 1 representado, executado em duas partes, em que um assentamento temporário do suporte de tratamentos 30,30' deve ocorrer sobre o suporte 2 em vez do próprio suporte ou da segunda peça de implante 4. As concretizações a seguir referem-se, portanto, nesse caso, a um sistema de implante de duas peças 1; evidentemente que em modalidade análoga, um uso correspondente para um implante de apenas uma peça pode ser previsto; para esse propósito, a conexão mecânica do elemento de tratamento 30, 30' deve ser projetada, adequada à peça do sistema de implante restante no osso maxilar também durante o tratamento, por exemplo, por meio de uma superfície de contato adequada, com a qual, o elemento de tratamento 30, 30' pode ser colocado no lugar de uma prótese, sobre o suporte de implante. Do mesmo modo, o elemento de tratamento 30, 30' pode ser colocado em cima, sobre o próprio suporte 4 do sistema de implante 1, de modo que um uso, por exemplo, para combate de uma inflamação do tecido mole (mucosite) por meio da eliminação de bactérias e limpeza da superfície, possa ser previsto sem que, para isso, seja necessária a remoção do próprio suporte 4.
[0047]Na concretização do sistema de implante 1 de duas peçasprevisto no exemplo de concretização, para a condução do tratamento descrito em detalhes a seguir - se for o caso, após a remoção da prótese fixada no próprio suporte ou na segunda peça de implante 4 -, a conexão aparafusada entre a primeira e a segunda peça de implante 2, 4 é solta e a segunda peça de implante 4 é removida. A primeira peça de implante ou pilar 2 permanece, assim, no osso maxilar.Posteriormente, o suporte de tratamento 30, 30' é colocado no lugar do próprio suporte 4, sobre o pilar 2.
[0048]Representadas nas Figuras 6 e 7, as variantes do elementode tratamento 30,30' são construídas de maneira essencialmente igual, mas diferenciam-se entre si no tipo e modo em como, durante o próprio tratamento, a fixação no pilar 2 deve ser realizada. Na variação conforme a Figura 6, é prevista uma fixação sob utilização da conexão aparafusada, enquanto que na variante segundo a Figura 7, apenas um encaixe sobre o pilar 2 é previsto.
[0049]O elemento de tratamento 30 representado na Figura 6,após o assentamento sobre o pilar 2, é, com isso, conectado com o mesmo por meio da ligação aparafusada, enquanto que o elemento de tratamento 30' representado na Figura 7 é inserido no mesmo por assentamento sobre o pilar 2. O elemento de tratamento 30, 30' apresenta, para isso, em ambas as variantes, uma superfície de contato 32 de modo essencialmente plano, com a qual o mesmo pode ser colocado sobre o canto frontal 34 do pilar 2. A superfície de contato 32, sob circunstâncias, também pode preencher a função de uma superfície de vedação e ser projetada de forma correspondente; particularmente, a mesma pode, aqui, ser executada de forma cônica.
[0050]O suporte de tratamento 30, 30' baseia-se, com respeito àsua modalidade e concretizações iniciais, em dois pontos básicos vistos respectivamente como independentes e inventivos: por um lado, o mesmo é, portanto, projetado para seletivamente eliminar bactérias ou germes existentes na área de inserção do pilar 2 por meio da adução seletiva de um bactericida, mas sendo também compatível com o meio de desinfecção ou limpeza de organismos humanos. Por outro lado, o mesmo é, portanto, disposto para separar restos ou fragmentos de germes ou bactérias ainda aderidos eventualmente na superfície do pilar, particularmente, na área da rosca externa 6, por meio de aplicação pulsada com choques elétricos a partir da superfície externa do pilar 2, de modo que as mesmas possam ser posteriormente lavadas.
[0051]Em um primeiro aspecto visto de forma independente comoinventivo, tanto com relação à modalidade do sistema quanto com relação às etapas de método do método de tratamento, o elemento de tratamento 30, 30' é disposto, portanto, tanto estruturalmente quanto funcional/conceitualmente, para alimentar um líquido de tratamento para eliminação de germes ou bactérias e/ou para limpeza da peça de implante inserida 2 de forma seletiva na área de inserção do pilar 2, particularmente, na área de sua rosca externa 6. Especialmente preferencial, nesse caso, água misturada com pelo menos um ácido e/ou com pelo menos um sal é prevista como líquido de tratamento. Especialmente preferencial é com isso previsto como ácido, ácido fosfórico, ácido cítrico, ácido acético, ácido lático, ácido carbônico ou uma combinação dos mesmos. Nesse caso, de forma alternativa ou particularmente adicional, é previsto, como sal, o iodeto, cloreto, nitrato, carbonato ou bicarbonato de sódio, cálcio, alumínio, magnésio, estanho ou potássio e/ou o clorito, nitrato ou iodeto de amônio ou uma combinação dos mesmos. A alimentação do líquido de limpeza deve, nesse caso, ocorrer próxima ao elemento de tratamento 30, 30' e, com isso, em proximidade direta à área afetada, portanto, à área de inserção do pilar 2.
[0052]Em um segundo aspecto independente inventivo, tanto com relação à modalidade do sistema quanto com relação às etapas de método vistas do método de tratamento, o elemento de tratamento 30, 30' é disposto, portanto, para separar de forma segura as bactérias ou germes eliminados ou seus restos ou fragmentos, da superfície externa do pilar 2, de modo que os mesmos possam ser limpos e, posteriormente, o tecido ou material ósseo saudável possa se aderir na superfície do pilar 2 e esse possa ser implantado integralmente novamente em tecido ou material ósseo saudável. Para a separação das bactérias ou germes ou seus restos ou fragmentos, da superfície, é prevista sua utilização com um líquido de condutividade elétrica sob aplicação com choques elétricos pulsados. Como do mesmo modo, a saber, surpreendentemente constatado, essa aplicação pulsada com choques elétricos parece já causar, de forma particularmente segura, a dissolução das bactérias ou germes ou de seus fragmentos ou restos, na superfície subjacente, mesmo quando essa é raspada e, de fato, a aderência de materiais orgânicos é particularmente favorecida por conta de sua estrutura de superfície.
[0053]Nesse caso, a constatação surpreendente tem porpropósito que a aplicação do próprio pilar 2 com choques elétricos pulsados na área de sua superfície externa, portanto, particularmente na área da rosca externa 6, leve a uma dissolução de fragmentos de material do próprio material de pilar, portanto, por exemplo, titânio, da superfície. Particularmente, nesse caso, executa-se a aplicação com os choques elétricos, já no caso de líquido de condutibilidade selecionado de forma adequada, por exemplo, com componentes de ácido ou íons, para a formação de áreas de TiO2, que posteriormente se dissolvem a partir da superfície de Ti. Através dessa dissolução de componentes da superfície do pilar 2, componentes ou fragmentos dos germes ou bactérias aderidos superficialmente são completamente removidos com separação, de modo que os mesmos não possam formar qualquer base e qualquer substrato nutritivo para uma nova colonização de germes nessas áreas. De forma reversa, permanece uma superfície do pilar 2 porosa e rugosa, livre de germes, bactérias ou seus componentes ou restos, que pode servir bem como uma base para uma integração futura no tecido ósseo renovado. A superfície que permanece pode, nesse caso, ser formada por meio de uma camada de óxido de titânio, que também surgiria por uma anodização da superfície.
[0054]Um outro aspecto favorável dessa separação desejada doscomponentes da superfície do pilar 2 inserido, no sentido de uma limpeza segura da superfície, é obtido por meio de uma execução vantajosa, particularmente adequada pela aplicação com corrente. Essa pode ser de tal modo realizada que, como consequência do fluxo de corrente, ocorre uma formação de bolhas de gás eletrolítica na área da superfície inserida. Nessa ocasião, o pilar 2 pode ser conectado anodicamente ou catodicamente.Particularmente, em uma conexão catódica pelo menos temporária do pilar 2 surgem eletroliticamente induzidos, os gases de hidrogênio, oxigênio, nitrogênio e dióxido de carbono.As bolhas de gás assim formadas sobem no líquido circundante e criam, assim, pesos mortos sobre os quais os componentes da superfície denominados com desgaste podem ser transportados externamente. Por exemplo, foi surpreendentemente observado que, pelo uso de uma solução que contém íons positivos, por exemplo, uma solução aquosa de sal, esses íons, em uma conexão catódica do pilar 2, se precipitam no mesmo e, com isso, fortalecem significativamente a formação de bolhas de gás. Por exemplo, a presença de íons de Na+ no revestimento catódico do pilar 2 leva a uma formação substancial de bolhas de gás visto que Na leva diretamente à oxidação.
[0055]Em um terceiro aspecto independente e inventivo, domesmo modo, tanto com relação à modalidade do sistema quanto com relação às etapas de método vistas do método de tratamento, o elemento de tratamento 30, 30' é projetado para uma combinação mantida eficiente dos aspectos denominados. Nesse caso, o conceito tem por propósito que, tanto a adução do líquido de limpeza quanto a remoção seletiva de restos e fragmentos de bactérias e germes por meio de uma aplicação dos denominados pulsos de corrente em um sistema conjunto podem ser assim obtidas com meios de manutenção particularmente simples.
[0056]Com respeito a esses objetivos de projeto, o elemento detratamento 30,30' apresenta uma montagem construtiva, como amesma pode ser deduzida, segundo a representação na vista em perspectiva da Figura 5 e no corte longitudinal segundo a Figura 6, respectivamente, a Figura 7. Nessas Figuras, o elemento de tratamento 30,30' é representado respectivamente em estado montado sobre o pilar 2. Do mesmo modo, é representada uma área 36 em forma de anel que circunda o pilar 2 na área de sua rosca externa 6 no osso maxilar 38, que está infectada pela peri-implantite e, correspondentemente, sobrecarregada com bactérias.
[0057]O elemento de tratamento 30, 30' apresenta um corpo debase 40 executado essencialmente como corpo de revestimento do cilindro que, com sua superfície frontal 42 formada pela superfície de contato 32 é colocado sobre a superfície frontal ou canto superior 34 do pilar 2. Para uma estabilidade mecânica elevada, além disso, um pivô de ligação 43 é formado no corpo de base 40 que, com relação ao contorno e parâmetros geométricos, é ajustado no canal de admissão 12 no pilar 2 e pode ser aparafusado nesse, de modo que seja possível um posicionamento seguro e fixação temporária no pivô de ligação aparafusado.
[0058]No espaço interno do corpo de base 40 e de forma coaxiala esse, é previsto um canal interno central 44. O elemento de tratamento 30 na variante segundo a Figura 6 é disposto para o uso da conexão aparafusada durante a fase de tratamento vista, e correspondentemente, um parafuso de ligação 46 no canal interno 44 é executado nessa variante. O parafuso de ligação 46 engata com sua rosca de parafuso 48 na rosca de parafuso 20 prevista no interior do pilar 2. Diferentemente do parafuso de ligação 18 previsto para a conexão do próprio suporte 4 com o pilar 2, o parafuso de ligação 46 não é disposto para uma capacidade de carga mecânica e longevidade elevadas da conexão aparafusada produzida; outros critérios de disposição, pelo contrário, fundamentam o parafuso de ligação 46. Assim, é particularmente considerado o decurso do tratamento esclarecido a seguir, no qual o parafuso de ligação 46 e o pilar 2, com o mesmo, devem servir como eletrodo para os pulsos de corrente. Consequentemente, o parafuso de ligação 46 é finalizado a partir de um material de condutibilidade elétrica, particularmente a partir de um metal, por exemplo, titânio.
[0059]Nas variantes - senão de construção de modoessencialmente igual - segundo a Figura 7, o elemento de tratamento 30', em contrapartida, é disposto para uma conexão de encaixe com o pilar 2. Para isso, nessa variante, um elemento de contato elétrico 49 é conduzido no canal interno 44 e preferencialmente apoiado de forma deslocável em sua direção longitudinal. Para a disposição do elemento de contato elétrico 49 e sua configuração espacial é, do mesmo modo, considerado o decurso do tratamento esclarecido a seguir, pelo qual o elemento de contato elétrico 49 e o pilar 2, com o mesmo, devem servir de eletrodo para os pulsos de corrente. Consequentemente, nessa variante, o elemento de contato elétrico 49 é finalizado a partir de material condutor de eletricidade adequado, particularmente, de um metal, como, por exemplo, titânio e de tal modo que seja apoiado e conduzido no canal interno 44, que o mesmo, no estado integralmente aparafusado no canal interno 44, se choca com sua ponta de agulha 50 na base 52 ou em uma outra área do canal interno 44 e, com isso, produz um contato elétrico seguro com o pilar 2. De forma alternativa, o elemento de contato elétrico 49 pode ser executado em sua área de extremidade também como elemento de expansão elástica, que produz um contato elétrico seguro nas superfícies internas laterais do canal interno 44.
[0060]O elemento de tratamento 30, 30' é disposto para a aduçãodo líquido de limpeza na área 36, que, dentre outros, também pode agir na eliminação de germes ou bactérias. Para isso, o corpo de base 40 é provido de um número de canais para meios 56 que são conectados no lado de entrada com um sistema de fornecimento ou alimentação para o líquido de tratamento. Em um exemplo de concretização, os canais para meios 56, nesse caso, são formados através de ranhuras 59 inseridas no corpo anular 58 circundante em um dos corpos de base 40. O corpo anular 58 é, assim, empurrado no corpo de base 40, de modo que as ranhuras 59 sejam fechadas para dentro, através do revestimento externo do corpo de base 40 e formem, com isso, um sistema de canal a partir dos canais para meios 56. De forma alternativa, os canais para meios poderiam, evidentemente, também ser inseridos de outro modo, diretamente no corpo de base 40.
[0061]Na proximidade imediata a uma área de contato dasuperfície frontal 42 do corpo de base 40 com o canto frontal 34 do pilar 2, o sistema de canal formado pelos canais para meios 56 apresenta um número de aberturas de saída 60, das quais, por razões de clareza, nas Figuras 6,7 respectivamente, apenas duas são mostradas. Cada canal para meios 56, no exemplo de concretização, é provido com uma abertura de saída 60. As aberturas de saída 60 podem ser ajustadas em corte transversal e em número, mas também, em especificações individuais. Por exemplo, uma abertura de saída individual poderia ser prevista, que formasse, por exemplo, um espaço anelar completamente circunferencial entre a superfície frontal 42 e o canto frontal 34. De forma alternativa, um maior número de aberturas de saída 60 pode ser previsto, que, particularmente vistos na direção de extensão do corpo de base 40, podem ser uniformemente dispostos em torno dessa extensão. De forma alternativa, também pode ser previsto somente um canal para meios 56 individual com uma abertura de saída 60 individual atribuída, que preferencialmente pode ser posicionada individualmente e, com isso, pode ser projetada para a produção localizada de líquido de tratamento em uma área limitada.
[0062]O sistema de canais formado através do ou dos canais parameios 56 desemboca, com suas aberturas de saída 60, imediatamente adjacente à superfície frontal 42 e, com isso, imediatamente acima da área 36, de modo que o meio que flui das aberturas de saída 60 chegue mais ou menos diretamente na área subjacente 36. Por meio disso, como modalidade vista inventiva e individual do corpo de base 40, o elemento de tratamento 30, 30' forma, com isso, um sistema de canal, com o qual um líquido de tratamento pode ser inserido de forma seletiva e eficiente, diretamente na área 36 que requer tratamento.
[0063]Adicionalmente, o elemento de tratamento 30, 30' é aindaespecificamente projetado como sistema elétrico. Assim, é particularmente prevista como princípio de disposição, uma aplicação pulsada do meio conduzido nos canais para meios 56, particularmente, que permita a condução da solução salina com pulsos de corrente. O elemento de tratamento é, assim, disposto, para fins de limpeza da peça de implante inserida, para poder aplicar o fluxo de corrente previsto de forma seletiva e localizada na área 36 que requer tratamento. O elemento de tratamento 30,30' é, assim, formado segundo o princípio de projeto que a corrente elétrica aduz à peça de implante 2 inserida e a mesma pode ser usada como eletrodo. Para isso, o elemento de tratamento 30,30' compreende um primeiro elemento de condução eletricamente 62 conectado com a peça de implante 2 que forma um circuito de corrente elétrica e por meio do parafuso de ligação 46 ou do elemento de contato elétrico 49 que, por sua vez, é conectável a uma fonte de corrente ou tensão adequadamente selecionada.
[0064]Para formar um antipolo ou do contraeletrodo, é prevista a utilização de condutividade elétrica do líquido de limpeza conduzido nos canais para meios 56. Para isso, o espaço interno dos canais para meios 56 é, por sua vez, eletricamente conectado com outros polos da fonte de corrente ou tensão. Com isso, do ponto de vista elétrico, as aberturas de saída 60 dos canais para meios 56 formam um contato 64 ou um ponto de contato elétrico, por meio do qual o fluxo de corrente ocorre na peça de implante 2 ou a partir da peça de implante 2. Por meio dessa utilização, as aberturas de saída 60 posicionadas em proximidade imediata à área que requer tratamento são obtidas como contatos elétricos 64, de modo que a corrente elétrica aplicada para fins de tratamento e limpeza possa fluir de forma abrangente e direta ao longo de e a partir das zonas de superfície da peça de implante infectadas por bactérias ou seja, particularmente, sem „desvios" sobre outro tecido corporal ou similar, para a superfície de contato ou para o ponto de contato. Os canais para meios 56, inclusive o líquido de limpeza de condutividade elétrica para lá conduzido e os elementos de conexão correspondente formam, com isso, em um exemplo de concretização, um segundo elemento condutor 66 que forma um circuito de corrente elétrica à extremidade atribuída ao contato 64.
[0065]De forma alternativa, o elemento condutor 66 poderia ser executado, contudo, também no modo de um eletrodo "convencional", portanto, particularmente, como elemento de tipo agulha de condutividade elétrica feito de metal. Poderia ser apoiado particularmente em uma direção longitudinal de modo essencialmente paralelo ao eixo central do corpo de base 40, deslocável no mesmo. Para formação desse eletrodo ou também de um terceiro eletrodo previsto adicionalmente, se necessário, que, por exemplo, pode ser previsto para a produção local de um campo elétrico, por exemplo, para o fortalecimento do campo, pode ser previsto ainda, se for o caso, um outro corpo de metal 68 adequadamente formado. Assim, o elemento de tratamento 30, 30' também pode ser executado sem os canais para meios, em que o contraeletrodo e, com isso, o segundo circuito de corrente elétrica, podem ser formados posteriormente por meio do corpo de metal 68. Nesse caso, o contato 64 é formado sobre a superfície de extremidade livre do respectivo corpo de eletrodo.
[0066]Através do posicionamento das aberturas de saída 60 e/ou da superfície de contato de extremidade 69 do corpo de metal 68 é, além disso, assegurado que a superfície de contato 64 do segundo elemento condutor 66 formada através das mesmas, vista em direção lateral, seja posicionada em uma distância de pelo menos 1 mm e de no máximo 10 mm do eixo longitudinal central da peça de implante dental 2.
[0067]O corpo de base 40 do elemento de tratamento 30, 30' poderia ser formado por material isolante, como por exemplo, uma cerâmica ou um material plástico. No exemplo de concretização o mesmo é, contudo, finalizado em metal, a saber, em titânio. Para garantir um isolamento elétrico seguro dos componentes entre si, o mesmo é previsto em sua superfície frontal 42, que forma a superfície de contato em relação à peça de implante dentário 2, com um revestimento isolante 70, sendo, com isso, eletricamente isolado. Além disso, o corpo anular 58 é executado a partir de materiais isolantes, como, por exemplo, uma cerâmica.
[0068]Em uma forma de concretização alternativa não representada, uma conexão não densa no assentamento do corpo de base 40 também pode ser prevista sobre a superfície frontal 34 do pilar 2. Isso permite, durante a fase de tratamento, uma infiltração do líquido de limpeza ou de tratamento previsto no espaço interno do pilar 2, para que o mesmo possa, do mesmo modo, ser submetido a uma limpeza.
[0069]Em uma forma de concretização alternativa, o elemento de tratamento 30", tal como mostrado em vista em perspectiva na Figura 8, previsto com um outro sistema de canal, pode ser fornecido, por exemplo, como canal de refluxo para o líquido de limpeza, como condutor de alimentação separado para a introdução uma mistura de meios ou também como canal de sucção. Para isso, nessa forma de concretização, o corpo anular 58 é envolvido por um outro corpo anular 71 no qual ranhuras 74 são inseridas no lado interno, do mesmo modo, para a formação de outros canais para meios 72.
[0070]Nas formas de concretização esclarecidas acima, os canais para meios 56 e/ou os elementos condutores 60, 66 são executados em uma forma de construção essencialmente integrada e conduzidos dentro do corpo de base 40 ou esse último conectado aos corpos anulares 58, 71. De forma alternativa ou adicional, um ou todos os canais para meios 56 e/ou os elementos condutores 60, 66 podem ser dispostos no lado externo do corpo de base 40 e ser conectados com esse por meio de sistemas de retenção adequados. Essa forma de concretização é mostrada no exemplo de concretização em vista em perspectiva, segundo a Figura 9 e no corte longitudinal, segundo a Figura 10.Adicionalmente aos componentes já esclarecidos, o elemento de tratamento 30" ' anteriormente mostrado é previsto com elementos de canal 80 deslocáveis na direção longitudinal dispostos externamente no corpo anular 58. Esses podem, de forma análoga aos canais para meios 56, ser executados na forma de cânulas ou similar e receber a aplicação do líquido de limpeza e, adicionalmente, servir como elemento condutor 66. De forma alternativa, entretanto, os mesmos também podem ser de metal e ser executados na forma de eletrodos e são conectados eletricamente de forma adequada com a fonte de corrente ou tensão. Adicionalmente, no exemplo de concretização segundo a Figura 9 é mostrada ainda uma variante, na qual, adicionalmente aos canais para meios formados pelos elementos de canal 80 atribuídos externamente, também são previstos ainda canais para meios 56 integrados através das ranhuras 59 formadas no corpo anular 58.
[0071]O elemento de tratamento 30,30',30",30"' é preferencialmente usado em um sistema de tratamento 90, como mostrado na Figura 10. O sistema de tratamento 90 é previsto para uma peça de implante dentário ou pilar 2 inserida e compreende o elemento de tratamento 30, 30', 30", 30"' e adicionalmente a esse, um elemento de ligação 92 entre esse e um pacote de mangueiras 94, uma conexão de encaixe 96 entre essa e uma unidade de controle e alimentação 98 disposta externamente à boca do paciente. Essa unidade de controle e alimentação 98 contém uma alimentação elétrica que, entre o eletrodo no pilar 2 e um outro eletrodo, que pode se encontrar no elemento de tratamento 30,30',30",30"', nas conexões de encaixe 96, no pacote de mangueira 94 e/ou na unidade de controle e alimentação 98, pode aplicar uma tensão e/ou deixar fluir uma corrente. Esse eletrodo apresenta uma posição de contato eletricamente condutiva aos meios/eletrólitos.
[0072]Essa tensão ou essa corrente pode ser aplicada como corrente/tensão contínua, a partir da polaridade em ambas as direções ou como tensão alternada em ambos os eletrodos. Tratando-se de uma tensão alternada, a mesma pode ser senoidal, triangular, retangular ou qualquer superposição imaginável de uma dessas frequências.Além disso, essa tensão alternada pode ser sobreposta por uma tensão contínua.Há também a possibilidade de se utilizar uma tensão contínua pulsada.Para a criação de um campo elétrico, um terceiro eletrodo eletricamente isolado pode ser fixado preferencialmente no elemento de tratamento 30, 30', 30", 30"'.
[0073]Além disso, a unidade de controle e alimentação 98 contém reservatórios para pelo menos dois líquidos ou eletrólitos. Esses podem ser conduzidos, simultaneamente (mesclados) ou em sequência, através de bombas e por uma ou mais válvulas ou unidades de válvula, através do pacote de mangueiras 94, no elemento de tratamento 30, 30', 30". Em um caso particular, a unidade de controle e alimentação 98 contém também uma sucção, que pode sugar novamente, por meio do elemento de tratamento 30, 30', 30", 30"' líquidos ou eletrólitos aduzidos após o uso dos mesmos. A unidade de controle e alimentação 98 contém, em uma concretização especialmente favorável, além disso, um processo de recuperação de CO2 para água ou outros líquidos/eletrólitos. Para otimização do processo, uma temperagem de meios também pode ser integrada na unidade de controle e alimentação 98.
[0074]O pacote de mangueiras 94 e as conexões de encaixe 96 são de tal forma dispostas que as mesmas podem assegurar o fluxo de corrente e o fluxo de meios. Em um equipamento completo, comporiam, particularmente, três condutores elétricos e dois condutores de eletrólito/líquido.
[0075]O material de eletrodo pode ser composto do mesmo material do pilar 2. Visto que os pilares 2 são preferencialmente produzidos a partir de titânio ou de uma liga de titânio, é preferencial conduzir os outros eletrodos a partir de um outro metal. Titânio e metais semelhantes ao titânio formam, por energização anódica, na maioria das vezes, uma camada protetora de óxido que age como isolante. Para não limitar, por energização catódica do pilar 2, o fluxo de corrente por meio de uma tal camada de óxido, é vantajoso utilizar como contraeletrodo um metal ou qualquer metal que não forme uma camada de óxido. Em um caso especialmente favorável, esses eletrodos corroem seja por contato com os meios/eletrólitos ou pela aplicação com uma tensão ou uma corrente.Preferencialmente esses eletrodos são conduzidos a partir de ouro, platina, paládio.
[0076]Caso o interior do implante/pilar 2 inserido esteja contaminado e, em seguida, limpo, há a possibilidade de se lavar o interior de forma separada ou conjunta com um meio e aplicá-lo por corrente.
[0077]Os elementos condutores também podem ser projetados na forma de uma membrana rígida ou flexível que não permite a passagem de qualquer líquido, mas apenas íons existentes nos eletrólitos. Em tal modalidade, um dos circuitos de corrente elétrica desemboca preferencialmente no interior do pilar 2 e passa, nesse caso parcialmente ou nem passa, nas superfícies de contato 32 vedadas, até a parte externa da superfície do pilar 2.
[0078]O líquido de tratamento previsto para a execução do método é, em uma modalidade especialmente vantajosa, em vista do aspecto anteriormente mencionado, composto e selecionado de forma adequada. A seleção e composição dos componentes de base do líquido de tratamento são, assim, realizadas, particularmente em vista da ação proposta, ou seja, a aplicação de uma corrente elétrica na área da superfície que requer tratamento, em que é particularmente assegurado que há, para esse fim, uma condutividade elétrica elevada suficiente no líquido de tratamento. Essa deve ser assegurada particularmente através de uma densidade de íons suficientemente elevada selecionada no líquido de tratamento. Para isso, um sal de metal é previsto como constituinte de base do líquido de tratamento, preferencialmente em solução aquosa. Esse fornece os íons para o transporte de corrente e, além disso, os produtos reacionais resultantes após a respectiva reação dos eletrodos, podem apresentar ainda efeitos bioquímicos adequados. Através da escolha seletiva de uma condutibilidade elétrica suficientemente elevada, deve ser assegurado, através da execução de um método de limpeza no implante inserido, que o fluxo de corrente ocorre através do líquido de tratamento e com isso através das peças e componentes que requerem tratamento e não através do tecido corporal do paciente, de modo que um risco ao paciente por meio de um fluxo de corrente indesejado no tecido mole, ósseo, sanguíneo e/ou em outros materiais corporais possa ser minimizado. A condutividade elétrica do líquido de tratamento deve apresentar, nesse caso, possivelmente um múltiplo da condutividade elétrica do sangue, dos ossos, tecido mole, tecido adiposo ou outros materiais corporais.
[0079]Consequentemente, pela seleção e composição dos componentes de base para o líquido de tratamento, são particularmente considerados os seguintes valores de condutividade (a condutividade elétrica a é, nesse caso, apresentada na unidade convencional mS/cm):
[0080]Pele: 0,03 a 0,1 mS/cm
[0081]Ossos: 0,06 a 0,2 mS/cm
[0082]Tecido adiposo: 0,20 a 1 ,0 mS/cm
[0083]Tecido muscular: 0,80 a 2,5 mS/cm
[0084]Sangue: cerca de 6,7 mS/cm
[0085]Outros fluidos corporais: cerca de 15 mS/cm
[0086]Para manter o potencial de risco ao paciente adequado e limitar o fluxo de corrente sobre as regiões desejadas, a condutividade elétrica deve, portanto, comportar pelo menos o dobro, preferencialmente, o quíntuplo, de forma particular, preferencialmente, dez vezes a condutividade de tais fluidos corporais. Portanto, a condutividade elétrica do líquido de tratamento deve apresentar um valor de pelo menos 30 mS/cm, preferencialmente pelo menos 75 mS/cm e de forma particular, preferencialmente, pelo menos 150 mS/cm. Em comparação ao sangue, isso significa que a condutividade elétrica do líquido de tratamento compreende preferencialmente pelo menos cerca do quíntuplo, preferencialmente pelo menos cerca de dez vezes e , de forma particular, preferencialmente pelo menos cerca de vinte vezes da condutividade do sangue. Medições constataram que, pelo uso de um líquido de tratamento assim selecionado, a tensão elétrica a que são expostos o tecido corporal, o sangue, os fluidos corporais etc., é menor que 6 V, preferencialmente menor que 3 V, de forma particular, preferencialmente menor que 1,5 V. Com isso, danos ao paciente em virtude de mantidas em um valor baixo podem ser descartados com segurança. Para o cumprimento de tal condutividade, a concentração de íons no líquido de tratamento e nos componentes formados nos mesmos é selecionada suficientemente alta; para isso, álcalis, ácidos, sais e outras substâncias que formam íons podem ser utilizadas.
[0087]Pela seleção e composição dos componentes de base do líquido de tratamento, é considerado em particular medida que o efeito do tratamento com eletrólitos de limpeza e separação do biofilme de uma superfície de implante contaminada se baseia em uma combinação de diversas razões que devem ser disponibilizadas entre si de forma complementar. Primeiramente, gases ou bolhas de gás podem se formar pelo fluxo de corrente através dos eletrólitos preferencialmente na área dos eletrodos, que têm um efeito de suspensão (mecânica) sobre o biofilme. A formação desses gases ocorre diretamente na superfície de implante que serve como eletrodo e, com isso, entre essa e o biofilme. As bolhas de gás resultantes, portanto, influenciam com sua velocidade de crescimento e seu tamanho máximo o processo de separação.
[0088]Como segunda razão para o efeito do processo eletrolítico que limpa o implante ou que separa o biofilme, indica-se o efeito corrosivo, destruidor e separador da substância eletrolítica resultante ou das conexões da substância sobre a própria aderência do biofilme na superfície de implante, portanto, sobre o mecanismo de ancoragem ou aderência.
[0089]A terceira razão para o efeito de limpeza ou separação do processo eletrolítico se baseia nos efeitos de desgaste de material do material de implante, em que componentes ou partículas do próprio implante podem ser dissolvidas a partir da área de superfície do mesmo.
[0090]A quarta razão para o efeito de limpeza e separação do processo eletrolítico se baseia na formação de uma camada de óxido do implante metálico, que permite a mesma. Nessa ocasião, átomos de metal do material de base metálico atravessam a camada de óxido eventualmente já existente sobre a tensão elétrica criada e reagem com a substância do eletrólito (na maioria das vezes oxigênio => formação de óxido de metal). Em metais, nos quais não se forma qualquer camada de óxido ou qualquer camada de óxido mecanicamente estável, podem resultar conexões de substâncias não- óxidas (na maioria das vezes, sais), que se encontram na solução.
[0091]Os componentes de base previstos para a formação do líquido de tratamento são, em vista desses efeitos, adequadamente selecionados e combinados entre si. Além disso, é considerado como objetivo de disposição básico, que não devem aparecer quaisquer efeitos tóxicos ou de outro modo danosos para um paciente ou desagradáveis para o mesmo, de modo que o líquido de tratamento seja adequado para um uso no implante dentário inserido, portanto, na boca do paciente. No exemplo de concretização são previstos como componentes de base, nesse caso, pelo menos um sal, por um lado, e um ácido, por outro lado, preferencialmente diluídos com água, cuja seleção e composição se orientam preferencialmente segundo os critérios mencionados. Especialmente preferencial é com isso previsto como ácido, ácido fosfórico, ácido cítrico, ácido málico, ácido acético, ácido lático, ácido carbônico ou uma combinação dos mesmos. Nesse caso, de forma alternativa ou particularmente adicional, é previsto, como sal, o iodeto, cloreto, nitrato, carbonato ou bicarbonato de sódio, cálcio, alumínio, magnésio ou potássio e/ou o clorito, nitrato ou iodeto de amônio ou uma combinação dos mesmos.
[0092]Além disso, é considerado, nesse caso, que o processo eletrolítico previsto pode opcionalmente ser conduzido com o circuito anódico ou catódico do pilar. Consequentemente, a seguir, o mesmo será dividido em uma reação anódica e uma reação catódica.
[0093]Em uma reação anódica, portanto, em um circuito anódico do pilar 2, os ânions existentes no líquido de tratamento são geralmente oxidados pela retirada de eletrodos no ânodo. Nesse caso, pode haver uma reação imediata com o material, particularmente, para a formação de uma camada de óxido e/ou um sal com o material de implante. Implantes ósseos e correspondentemente também o pilar 2 consistem, na maioria das vezes, de titânio, zircônio, tântalo ou de ligas desses metais. Além disso, ainda outros metais são ligados. Esses metais ou ligas metálicas apresentam, na maioria das vezes, um grau elevado em formação de camada de óxido. Essa formação de camada de óxido tem um efeito passivador sobre a superfície.A consequência disso é a prevenção ou pelo menos uma redução bastante forte da reação anódica desses metais ou ligas de metais. Visto que, na maioria das vezes, encontram-se conexões de substância com oxigênio no biofilme, na maioria das vezes, não é possível uma prevenção dessa passivação. Se um pilar for conectado anodicamente, então o efeito de limpeza e separação é, com isso, na maioria das vezes, limitado sobre a formação de camada de óxido. Em tensões de rede elevadas de, por exemplo, mais que 10 V, pode ser demonstrado por extensivas investigações que é possível um processo de remoção de material em que o mesmo, contudo, é conectado a uma forte geração de calor. Essa geração de calor pode levar a uma indesejada necrose dos ossos. Além disso, a remoção de material acompanhada também altera de forma indesejada as características da superfície original do implante.
[0094]Como exceção, foi aqui surpreendente demonstrado que, em um material de base do pilar 2, no qual há alumínio como constituinte de liga (por exemplo, em titânio de grau 5, que apresenta cerca de 6% de parte de alumínio e 4% de parte de vanádio), também é possível uma energização anódica do pilar 2, sem que a formação de uma camada de óxido prejudique muito o processo. Por esse meio, conforme a composição do líquido de tratamento, gás de cloro ou gás de iodo ou ainda CO2 pode ser diretamente produzida na superfície do pilar 2 e, com isso, pode ser utilizada imediatamente para a almejada separação do biofilme. Para uma tal execução do método, o elemento de tratamento 30 é previsto de forma especialmente vantajosa com um revestimento da superfície condutivo, por exemplo, de DLC ("carbono de tipo diamante"), de um metal, material plástico condutivo ou cerâmica eletricamente condutiva.
[0095]Como especialmente vantajoso, demonstrou-se, com isso, que, em um material de titânio de grau IV ou titânio de grau V do pilar por meio da adição de CO2 no líquido de tratamento, apesar da camada de óxido formada por energização anódica, uma formação de CO2, formação de Cl e/ou formação de I é possível, que permite um fluxo de corrente maior e contínuo.
[0096]Devido às razões mencionadas, o pilar 2, no tratamento com o líquido de tratamento é preferencialmente, contudo, de forma geral, conectado catodicamente. Nesse caso, os íons positivamente carregados (cátions) se deslocam para a superfície do pilar 2. Esses podem ser, particularmente íons H+, íons metálicos ou íons de hidrocarbonetos de cadeia longa, por exemplo, de líquidos iônicos. O sal previsto como constituinte de base para o líquido de tratamento é, com isso, particularmente selecionado de forma seletiva em vista das características dos cátions, que devem favorecer ou permitir o processo mencionado. Para a produção de uma condutividade elétrica possivelmente elevada, qualificam-se, particularmente, íons pequenos (íons de H+ ou íons metálicos), que, além disso, na forma de um outro efeito particularmente favorável, podem, se for o caso, atravessar o biofilme existente de forma comparativamente simples. Os íons de H+ são reduzidos ao hidrogênio elementar H no cátodo formado pelo pilar 2.Isso produz uma formação de bolhas.Uma outra reação catódica é a precipitação de metais elementares. A maioria dos metais se precipitariam, contudo, como precipitação metálica de superfície coberta. Isso seria um efeito indesejado, visto que o revestimento teria propriedades de aderência desfavoráveis e propriedades químicas (eletroquímicas e bioquímicas) desfavoráveis.
[0097]Pelas razões mencionadas, metais são preferencialmente previstos para a reação catódica na superfície do implante, cujos cátions não representam qualquer potencial de risco para os pacientes e os mesmos, em estado elementar, desempenham uma provável forte reação química com água nos eletrólitos. Metais álcali, metais terrosos e alumínio reagem imediatamente com a redução eletrolítica no cátodo com a água circundante ao hidrogênio elementar e seus cátions de metal e íons de OH- Isso significa que se formam bolhas de hidrogênio e o hidróxido dos íons de metal utilizados. Através da combinação desses componentes, é com isso obtido, afora o efeito de separação do hidrogênio existente, que o hidróxido de metal age de forma antibactericida e desempenha um efeito de afinamento ou separação sobre o biofilme ou o mecanismo de aderência.
[0098]Para evitar intolerâncias com o tecido corporal, cátions de metal, em particular, os endógenos (por exemplo, íons de potássio e/ou sódio) são especialmente preferenciais. Além disso, qualificam-se também, íons de cálcio, magnésio e/ou alumínio. O sal previsto como constituinte base para o líquido de tratamento é, portanto, particularmente preferencial, um sal desses metais, particularmente, visto que esses cátions de metal podem ser disponibilizados, de qualquer maneira, apenas na forma de um sal, por exemplo, diluído em água.
[0099]Esses sais de metal podem ser ligações dos metais mencionados com um formador de sal adequado, por exemplo, com enxofre, fósforo, nitrogênio, flúor, cloro, iodo, bromo, hidrocarboneto, oxigênio, boro ou outros elementos não metálicos. O formador de sal é vantajosamente selecionado de forma adequada, considerando-se o princípio „quanto maior o ânion, menor a condutividade elétrica" e em vista da condutividade elétrica elevada a princípio desejada. Como ânion são preferencialmente consideradas substâncias que não afetem nem a saúde nem o tecido peri-implante.Além disso, é importante notar que odores ou conexões de sabor desagradáveis são indesejados. Por essas razões, ânions de enxofre ou ânions que contém enxofre em combinação com oxigênio ou outros elementos são vistos como verdadeiramente inadequados. Isso também é válido para íons de flúor, bromo, enxofre e boro, conforme o caso, também em combinação com outros elementos.
[00100] Contrário aos mesmos, os fosfatos, íons de fosfato e íons de hidrogenofosfato não têm, na maioria das vezes, qualquer ou nenhum efeito prejudicial. Íons de cloro ou íons que contêm cloro têm, na maioria das vezes, um efeito antibacteriano. Caso o íon de cloro, no entanto, seja oxidado eletroliticamente e seja existente de forma elementar em água, forma-se, então, com isso, ácido clorídrico e ácido hipocloroso. Isso levaria, de fato, em combinação com o hidróxido catódico existente, a uma neutralização. Contudo, demonstrou-se em análises que o cloro, que resulta no contraeletrodo ao implante (ânodo), em grande medida, escapa do eletrólito como gás. Caso o cloro não puder ser removido completamente pelo tratamento, o mesmo pode causar queimaduras graves nos pulmões e / ou as membranas mucosas. Aqui, é válido pesar se os benefícios para os pacientes são maiores que os riscos para os mesmos.
[00101]Entre os fosfatos do alumínio, do potássio, de sódio, do cálcio ou do magnésio, deve-se notar, além disso, que a solubilidade em água é tão baixa que uma condutividade elétrica suficiente do eletrólito não pode ser garantida (esses fosfatos qualificam-se, no entanto, muito bem como substância complementar do eletrólito para tamponar o valor do pH). Embora o cloreto dos quatro metais já mencionados tivesse solubilidade suficiente em água e um bom efeito de limpeza e eliminação sobre o biofilme, os mesmos não poderiam ser considerados como o ideal. Quando nitratos e/ou nitritos são utilizados, a risco ao paciente por meio da formação de gases de NOx pode ser esperada. Por essa razão, desaconselha-se a utilização de nitritos ou nitratos.
[00102] Com respeito aos objetivos de disposição acima mencionados, em particular, para uma tolerabilidade particularmente boa para o paciente, o iodo é fornecido como formador de sal, na modalidade preferencial. É particularmente vantajoso que os sais de iodo de potássio e de sódio também estão presentes no corpo humano naturalmente. Na oxidação de íons de iodo no ânodo, obtém-se, primeiramente, iodo elementar, que pode ser dissolvido em uma solução de iodeto de sódio/iodeto de potássio.Com isso, obtém-se uma solução de iodo-iodeto de potássio ou uma solução de iodo- iodeto de sódio. Ambas as soluções são meios desinfetantes fortes que provaram ser eficazes na medicina humana.
[00103] Soluções puras de iodeto de sódio ou de potássio ou uma mistura de ambos têm, contudo, como uma possível desvantagem, a formação de hidróxido de sódio e/ou de potássio e têm como resultado o aumento associado do valor pH. Em geral, a já anteriormente descrita formação de hidróxido de metal poderia ser classificada como problemática, visto que um hidróxido de metal aumenta o pH do eletrólito. Um valor de pH elevado em tal medida e a solução alcalina que se forma ou base do hidróxido de metal poderiam ter um efeito indesejado sobre o tecido circundante na boca do paciente e, particularmente nos ossos. Também dentes circundantes poderiam ser prejudicados. Além disso, a formação de hidróxidos poderia levar, com isso, que esses, em função de sua baixa solubilidade em água se precipitassem sobre o pilar 2 ou, de forma geral, sobre o componente que requer tratamento e, com isso, prejudicar o fluxo de corrente contínuo e, portanto, o processo como um todo. Na melhor das hipóteses, pelo uso de um sal de cálcio no líquido de tratamento, o hidróxido de cálcio resultante, que aparece como constituinte do material ósseo, poderia ser integrado nos ossos; o cálcio é, com isso, particularmente preferencial ao constituinte do sal. Para compensar esse efeito indesejado, o líquido de tratamento apresenta um tampão do pH ou redução do ácido na forma de como outro constituinte de base.
[00104] O ácido é, nesse caso, por sua vez, especificamente selecionado no tipo de um critério de disposição, a fim de que o mesmo, se possível, não ameace o paciente ou o tecido peri- implantar, mas que, primeiramente, neutralize o hidróxido (e também, se possível, não permita o valor do pH subir acima de 7), em que, em segundo lugar, os produtos de reação devem servir ao próprio objetivo da limpeza do corpo de implante e da eliminação do biofilme. Como ácidos minerais, são preferenciais ácidos fosfóricos e/ou ácidos de fosfato. Esses devem ser limitados, por razões de riscos à saúde e/ou riscos aostecidos/osso,ao valor máximo de 30% ou preferencialmente, de 10 a 20%. Um ácido preferencial, em particular, que é visto como sal mineral e tem um efeito especialmente positivo sobre o objetivo geral da eliminação e limpeza, é, contudo, o ácido carbônico. Esse é, no entanto, limitado em sua quantidade aplicável, por conta do poder de dissolução em água comparativamente baixo.
[00105] Ácidos orgânicos disponibilizam, em contrapartida, de modo similar tais ácidos minerais, íons de H+ que neutralizam o hidróxido com valor de pH reduzido. Visto que os mesmos, além disso, não produz qualquer dano ou, na melhor das hipóteses, causa danos mínimos ao tecido ou ao paciente, em geral, tais ácidos orgânicos são particularmente preferenciais como componentes de base para o líquido de tratamento. Ácidos orgânicos seriam, por exemplo, ácidos alcanoicos,ácidos de frutos, ácidos carboxílicos e ácidos hidroxicarboxílicos. Ácidos a-hidroxicarboxílicos demonstraram ser ácidos especialmente adequados. Particularmente, os ácidos particularmente preferidos de ácido lático, cítrico e ácido málico não mostram quaisquer efeitos adversos para a saúde do paciente em geral ou do tecido periimplantar. Especialmente em implantes fortemente contaminados com biofilme, sobre os quais foi formado o cálculo dental, doses menores de ácido acético demostraram ser um bom agente de limpeza. Outros ácidos, os quais apresentam a limpeza assim como o efeito de eliminação das bactérias, mas, por razões de saúde, não são imagináveis, seriam os ácidos fumárico, ácido glucônico, ácido glicólico, ácido salicílico, ácido mandélico, ácido tartárico, ácido oxálico e ácido fórmico.
[00106] Na neutralização do íon de hidróxido OH- com o íon H+ correspondente de um ácido, obtém-se adicionalmente o sal de metal do ácido utilizado do hidróxido de metal correspondente. O uso previsto do ácido é, com isso, vantajoso, não somente para tamponagem do valor de pH, mas também contribui mesmo para a conversão do hidróxido de dissolução relativamente ruim em água em um sal que de dissolução relativamente boa em água e impede, com isso, a deposição indesejada e precipitação prejudicial ao processo sobre o componente que requer tratamento. Os sais mencionados são utilizados particularmente pela combinação das camadas de matéria, entre outros, na medicina. Pela neutralização do hidróxido de potássio, sódio e/ou de cálcio com ácido lático, forma-se o lactato de potássio (que possui um efeito antimicróbico de larga escala), lactato de sódio ou lactato de cálcio. Caso os hidróxidos formados sejam neutralizados com ácido cítrico, forma-se citrato de potássio, de sódio ou de cálcio. O citrato de sódio é justamente particularmente vantajoso, visto que o mesmo impede a coagulação do sangue. Isso é particularmente vantajoso porque, durante o processo de vazamento, de coagulação do sangue da superfície do implante, a migração de íons para a superfície do implante poderia, com isso, causar o impedimento da continuação do processo de tratamento e prejudicá-lo como um todo.
[00107] Na neutralização dos hidróxidos com ácido málico, surgem, em contrapartida, malatos do respectivo cátion, que, do mesmo modo têm efeitos favoráveis sobre o processo. Pela neutralização dos hidróxidos com ácido acético surge acetato de potássio, sódio e/ou cálcio que, do mesmo modo, têm um efeito favorável sobre o processo.
[00108] Os lactatos, citratos, malatos e/ou acetatos do potássio, do sódio e/ou do cálcio possuem todos um efeito de regulação de ácido e são, portanto, compatíveis de tal modo que os mesmos atendam aos regulamentos da UE para aditivos alimentares em seu uso de qualquer limitação de quantidade.
[00109] Ao usar ácidos nos eletrólitos em combinação com iodetos e/ou cloretos do potássio, de cálcio, do magnésio, do alumínio e/ou do cálcio, comprovou-se surpreendentemente pela utilização eletrolítica que, através da redução direta dos íons H+, a formação de bolhas é influenciada de modo positivo, de modo que o biofilme se separe melhor de forma mais rápida. Com isso, obtém-se, com taxa de produção elevada, uma pluralidade de bolinhas comparativamente pequenas, que devido ao seu tamanho comparativamente menor, não conseguem soltar o biofilme da superfície subjacente, nem como um todo e nem de forma localizada. Assim, o biofilme é levantado preferencialmente como um todo ou em partes coesas de tamanho comparativamente maior e vez de uma pluralidade de pequenos fragmentos, o que condiciona um melhor efeito de limpeza.
[00110]Em vez de cátions de metal, cátions de amônio podem ser utilizados. Com isso, entretanto, há o risco de que, pelo processo eletrolítico, outras conexões de amônio (por exemplo, amoníaco) podem ser formadas.Isso representa um risco ao paciente e mostra- se também por meio de um gosto e cheiro desagradáveis.
[00111] Foi observado por tentativa que, o biofilme se solta parcialmente em pequenos fragmentos ou em partes coesas maiores.Esse último é preferência, visto que, com isso, superfícies comparativamente maiores podem produzir resultados de limpeza bastante favoráveis. Análises mostraram ainda que a retirada do biofilme solto e/ou de seus fragmentos por meio de uma formação de espuma na superfície do implante é favorecida. Comprovou-se que é favorável, que, após o uso de um eletrólito dos sais de metal, ácidos e água descritos, que são particularmente competentes para eliminação e separação, um segundo eletrólito seja utilizado que apresenta adicionalmente uma formação de espuma na área do cátodo. Uma tal formação de espuma pode ser obtida, na qual uma substância é admitida preferencialmente de forma adicional ao eletrólito, que apresenta pelo menos três elos de cadeia de CH2 ou pelo menos um elo de cadeia de CH2 e pelo menos uma conexão de anel de carbono. Aqui, óleo ou clorexidina pode ser usado.Além disso, líquidos iônicos também podem ser utilizados, os quais apresentam preferencialmente um íon de CI- e/ou íons de OH. Visto que a porção orgânica de cátions de um líquido iônico é reduzida sob circunstâncias da superfície do implante e desaparece na mesma, é possível em uma execução particularmente favorável, anexar fatores de crescimento ósseo nessa porção de cátions.
[00112] Caso os cloretos e iodetos sejam misturados em proporção correta, a formação incômoda de gás de cloro pode ser evitada. No ânodo resulta: 2J + 5CI + 6H2O -> 10HCI + 2HIO3
[00113] Isso significa, que tanto ácido clorídrico quanto ácido iodídrico são formados no ânodo.Os mesmos têm certamente um forte efeito antimicróbico e são novamente neutralizados também em conjunto com o hidróxido catódico formado.
[00114] Uma composição particularmente preferida do líquido de tratamento, que se mostrou em pesquisas de laboratório de propriedades de limpeza particularmente favoráveis, compreende uma solução aquosa de iodeto de sódio (Nal) ou iodeto de potássio (Kl) em uma proporção de mistura de pelo menos 5, preferencialmente, de pelo menos 10, em particular, de forma preferencial de pelo menos 20 g do sal por 30 ml de líquido (ou seja, água, H2O, se for o caso, enriquecida com CO2), por meio de adição de ácido lático sobre um valor de pH de cerca de 2,7 a 2,9.
[00115] Na execução do processo, está prevista uma densidade média de corrente no pilar 2, ou no componente que requer tratamento, de pelo menos 50 mA/cm2, vantajosamente de pelo menos 100 mA/cm2, em particular, preferencialmente de pelo menos 250 mA/cm2, em que essa densidade de corrente é aplicada sobre a superfície externa do pilar 2 (portanto sem considerar as propriedades da superfície, como, rugosidade ou estrutura de superfície). Para a separação do biofilme, comprovou-se como particularmente favorável uma densidade média de corrente de 50 mA/cm2 a 300 mA/cm2, vantajosamente de 100 mA/cm2 a 200 mA/cm2. Para a retirada dos fragmentos de biofilme, a densidade média de corrente teve de ser elevada preferencialmente na faixa de 300 mA/cm2 a 5.000 mA/cm2 ou, particularmente vantajosa, de 1.000 mA/cm2 a 2.000 mA/cm2.
[00116] Com a adição de H2O2 o efeito de efervescência no cátodo é fortemente reduzido ou evitado. Isso resulta em uma forte formação de H2O, que pode ser utilizada para a limpeza da superfície.LISTA DAS CARACTERÍSTICAS DE REFERÊNCIA LISTA DAS CARACTERÍSTICAS DE REFERÊNCIA 1 sistema de implante dentário 2 primeira peça de implante/pilar 4 segunda peça de implante 6 rosca externa 8 extremidade apical 10 pivô de ligação 12 canal de admissão 14 elemento de indicação 16 peça de canal de extremidade 18 parafuso de ligação 20 rosca de parafuso 30,30’,30”, 30’’’ elemento de tratamento/suporte de tratamento 32 superfície de contato 34 canto frontal 36 área 40 corpo de base 42 superfície frontal 43 pivô de ligação 44 canal interno 45 peças de afastamento 46 parafuso de ligação 48 rosca de parafuso 49 elemento de contato elétrico 50 ponta de agulha 52 base 56 canal/canal para meios 58 corpo anelar 59 ranhuras 60 abertura de saída 62 elemento de condução 64 contato 66 elemento condutor 68 corpo de metal 69 superfície de contato 70 revestimento isolante 71 corpo anelar 72 canal para meios 74 ranhura 90 sistema de tratamento 92 elemento de ligação 94 pacote de mangueiras 96, 98 unidade de controle e alimentação

Claims (12)

1.Elemento de tratamento (30, 30’, 30”, 30’’’) para o uso com uma peça de implante dentário (2) introduzida no osso maxilar de um paciente, que tem um corpo de base (40) provido para a ligação mecânica com a peça de implante dentário (2), o corpo de base (40) sendo provido de pelo menos um canal para meios (56) para um líquido de limpeza, sendo que o corpo de base (40) porta um primeiro elemento condutor (62), que forma um circuito de corrente elétrica e que pode ser conectado com a peça de implante dentário (2), e um segundo elemento condutor (66), que é eletricamente isolado do primeiro elemento condutor (62) e que forma um circuito de corrente elétrica para um contato (64) disposto na extremidade, e cujo contato (64) pode ser posicionado em uma área (36) próxima da peça de implante dentário (2), caracterizado pelo fato de que o segundo elemento condutor (66) é formado por um ou alguns dos canais para meios (56).
2.Elemento de tratamento (30, 30’, 30”), de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o corpo de base (40) inclui um sistema de conexão adaptado à peça de implante dentário (2), para conexão mecânica na mesma.
3.Elemento de tratamento (30, 30’, 30”), de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que seu segundo elemento condutor (66) é executado como eletrodo ou elemento de canal (80) que está ou que estão apoiados nesse de forma deslocável em uma direção longitudinal de modo essencialmente paralelo em relação ao eixo central do corpo de base (40).
4.Elemento de tratamento (30, 30’, 30”), de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que o segundo elemento condutor (66) é fixado de tal modo no corpo de base (40), que seu contato (64) disposto na extremidade, visto em sua direção lateral, pode ser posicionado em uma distância de no máximo 10 mm, preferencialmente de no máximo 5 mm, do eixo longitudinal central da peça de implante dentário (2).
5.Elemento de tratamento (30, 30’, 30”), de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que seu corpo de base (40) é executado eletricamente isolado em sua superfície de contato (42) em relação à peça de implante dentário (2).
6.Elemento de tratamento (30, 30’, 30”), de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que seu sistema de ligação compreende um parafuso de ligação (46) para a introdução no canal de parafuso do pilar (2) de um sistema de implante dentário (1) executado em uma ou mais peças.
7.Elemento de tratamento (30, 30’, 30”), de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato de que o parafuso de ligação (46) está conectado de modo eletricamente condutor com o primeiro elemento condutor (62).
8.Sistema de tratamento (90) para uma peça de implante dentário (2) com um elemento de tratamento (30, 30’, 30”), conforme definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que seus elementos condutores (62, 66) estão conectados eletricamente com uma fonte de corrente ou tensão.
9.Sistema de tratamento (90), de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de que sua fonte de corrente ou tensão para uma aplicação, se necessário, pulsante dos eletrodos é projetada com corrente ou tensão.
10.Sistema de tratamento (90), de acordo com qualquer uma das reivindicações 8 ou 9, caracterizado pelo fato de que é projetado para uma tensão operacional nos eletrodos de até 30 V.
11.Sistema de tratamento (90), de acordo com qualquer uma das reivindicações 8 a 10, caracterizado pelo fato de que em seu elemento de tratamento (30, 30’,30”) está ligado um sistema de entrada para um líquido de limpeza.
12.Sistema de tratamento (90), de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que nesse é prevista, como líquido de limpeza, água misturada com pelo menos um ácido e/ou com pelo menos um sal.
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