BE1015847A3 - Vormen van ondansetron en processen voor het maken van deze. - Google Patents

Vormen van ondansetron en processen voor het maken van deze. Download PDF

Info

Publication number
BE1015847A3
BE1015847A3 BE2004/0007A BE200400007A BE1015847A3 BE 1015847 A3 BE1015847 A3 BE 1015847A3 BE 2004/0007 A BE2004/0007 A BE 2004/0007A BE 200400007 A BE200400007 A BE 200400007A BE 1015847 A3 BE1015847 A3 BE 1015847A3
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
ondansetron
sep
base
water
melting endothermic
Prior art date
Application number
BE2004/0007A
Other languages
English (en)
Inventor
Raymond Jozef Westheim
Frans Van Dalen
Original Assignee
Synthon Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Synthon Bv filed Critical Synthon Bv
Application granted granted Critical
Publication of BE1015847A3 publication Critical patent/BE1015847A3/nl

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09CRECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C1/00Reclamation of contaminated soil
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09CRECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C1/00Reclamation of contaminated soil
    • B09C1/005Extraction of vapours or gases using vacuum or venting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09CRECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C1/00Reclamation of contaminated soil
    • B09C1/02Extraction using liquids, e.g. washing, leaching, flotation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09CRECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C1/00Reclamation of contaminated soil
    • B09C1/06Reclamation of contaminated soil thermally
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09CRECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C1/00Reclamation of contaminated soil
    • B09C1/08Reclamation of contaminated soil chemically
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09CRECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C1/00Reclamation of contaminated soil
    • B09C1/10Reclamation of contaminated soil microbiologically, biologically or by using enzymes
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E02HYDRAULIC ENGINEERING; FOUNDATIONS; SOIL SHIFTING
    • E02DFOUNDATIONS; EXCAVATIONS; EMBANKMENTS; UNDERGROUND OR UNDERWATER STRUCTURES
    • E02D3/00Improving or preserving soil or rock, e.g. preserving permafrost soil
    • E02D3/11Improving or preserving soil or rock, e.g. preserving permafrost soil by thermal, electrical or electro-chemical means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Soil Sciences (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Mining & Mineral Resources (AREA)
  • Paleontology (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Agronomy & Crop Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Biotechnology (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Mycology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Processing Of Solid Wastes (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



   VORMEN VAN ONDANSETRON EN PROCESSEN VOOR HET MAKEN VAN DEZE Achtergrond van de uitvinding
De onderhavige uitvinding is gericht op vormen van ondansetron-base in een vaste staat en werkwijzen voor het maken van verscheidene vormen. 



   Ondansetron is een farmaceutisch actief middel dat algemeen wordt gebruikt voor de behandeling van misselijkheid en braken, in het bijzonder indien het met chemotherapie behandelingen bij kanker wordt geassocieerd. In samenstellingen die op de markt worden gebracht (verkocht onder de merknaam   ZOFRAN   door Glaxo), wordt ondansetron als een vrije base in snel oplosbare tabletten gebruikt en als een waterstofchloride-zout in injecties, tabletten voor orale toediening en orale oplossingen.

   Ondansetron wordt chemisch   1,2,3,9-tetrahydro-9-methyl-3-((2-methyl-1H-imidazool-1-   yl)methyl-4H-carbazol-4-on genoemd en heeft de volgende chemische structuur: 
 EMI1.1 
 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 
Omdat het ondansetron-molecuul één optisch actieve koolstof bezit, kan het als twee verschillende enantiomeren voorkomen of als een mengsel daarvan, d. w.z., een racemaat. 



  Beide enantiomeren zijn farmaceutisch actief, maar alleen het racemaat wordt, echter, tot dusver verhandeld. 



   DE 3502508 en overeenkomstig US 4,695,578 beschrijven ondansetron en verscheidene andere 3-imidazooltetrahydrocarbazolonen, als bruikbaar in de behandeling van migraine en psychotische stoornissen zoals schizofrenie. Het US 4,695,578 octrooi beschrijft verscheidene synthetische routes voor het maken van ondansetron. Eén voorbeeld maakt gebruik van een transaminatiereactie als hieronder getoond: 
 EMI2.1 
 waarin een waterige oplossing van 3-((dimethylamino)methyl)- 1,2,3,9-tetrahydro-9-methyl-4H-carbazol-4-on hydrochloride met 2-methylimidazool wordt behandeld en gedurende twintig uur tot reflux wordt verwarmd. Het ruwe ondansetron-base wordt vermeld (Voorbeeld 4) een maximaal smeltpunt van 224 C te bezitten, terwijl het uit methanol geherkristalliseerde product onder ontleding een smeltpunt van ongeveer 231-232 C (Voorbeeld 7) of 232-234 C (Voorbeeld 8) heeft.

   Ondansetronbase, verkregen na behandeling van het reactiemengsel met kolomchromatografie, resulteerde in een product met een smeltpunt van 228-229 C (Voorbeeld 18). Behalve de eigenschap 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 van het smeltpunt, die van voorbeeld tot voorbeeld verschilt, wordt weinig informatie gegeven met betrekking tot het materiaal in vaste staat. 



   Van ondanstron-base, dat door middel van andere werkwijzen is bereid, zijn verscheidene smeltpunten, van 215 C tot 228,5 C, vermeld. Bijvoorbeeld: 
 EMI3.1 
 
<tb> 
<tb> Octrooi <SEP> Smeltpunt <SEP> van <SEP> Ondansetron
<tb> (maximum <SEP> of <SEP> het <SEP> gebied)
<tb> EP <SEP> 595111/US <SEP> 5478949 <SEP> 225 C
<tb> EP <SEP> 221629/US <SEP> 4957609 <SEP> 215-216 C
<tb> EP <SEP> 219929/US <SEP> 4739072 <SEP> 227,5-228,5 C
<tb> 
 
In EP 595111/US 5478949 wordt de zuiverheid als 97,6% aangetekend. In EP 219929/US 4739072 werd vermeld dat de ondansetron-base 0,31 mol% water bevat, hetgeen met 1,87 gew% water overeenkomt. 



   Het is duidelijk dat de vermelde gegevens van de smeltpunten verschillend zijn en het is moeilijk de reden voor de variaties te beoordelen. Het is algemeen bekend dat het smeltpunt van een vaste stof door de zuiverheid van de stof kan worden beïnvloedt (de onzuiverheden hebben de neiging de smelttemperatuur te verlagen) en het is ook bekend dat de aanwezigheid van sporen verontreinigingen de vorming en eigenschappen van kristallijne netwerken van de vaste stof kunnen beïnvloeden, resulterend in veranderingen van kristallijne vormen en eigenschappen van de vaste staat (oplosbaarheid, kleur, enz. ).

   De thermodynamische en kinetische aspecten die met omstandigheden van de vorming van de vaste staat zijn geassocieerd (bijv., temperatuur van kristalvorming, snelheid van afkoeling, concentratie en soort oplosmiddel, enz. ), kunnen ook aan de verschillen bijdragen, daar men door middel van verschillende technieken twee 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 materialen in vaste staat kan isoleren, die chemisch identiek zijn maar verschillende kristallijne structuur bezitten. De kristalstructuur van de ondansetron-base wordt in een ieder van de hierboven genoemde octrooien niet uiteengezet en het is aldus onduidelijk of de variatie in smeltpunt aan onzuiverheden, meettechnieken, of polymorfe structuur te wijten is. 



   Het zou gewenst zijn om aanvullende vormen van ondansetron te identificeren en te isoleren. Verder zou het gewenst zijn betrouwbare processen te hebben voor het produceren van ondansetron in één of meer vormen. 



  Samenvatting van de uitvinding
De onderhavige uitvinding is gebaseerd op de ontdekking van verscheidene vormen van ondansetron en processen voor het maken van deze. Dienovereenkomstig heeft een eerste aspect van de uitvinding betrekking op een vast kristallijn ondansetron die ten minste één van de volgende karakteristieken bezit: een DSC-smeltende endotherme piek van hoger dan of gelijk aan 240 C; een spore-hoeveelheid van een base of residu daarvan, omvattend een alkali-metaal, een amine, een ammonium, of een ion daarvan ;   een watergehalte van 1,3 tot 1,5 gew%.   



  De vaste vorm van ondansetron die een smeltende endotherme piek van ten minste 240 C heeft, heeft kenmerkend een piek in het gebied van 240 C tot 255 C en bij voorkeur een eerste smeltende endotherme piek in het gebied van 240 C tot 249 C en heeft vaak een tweede, hogere smeltende endotherme piek, kenmerkend tussen 249 C en 255 C. Het ondansetron dat een spore-hoeveelheid van een base of redisu bezit, bevat bij voorkeur 1 ppm tot 1000 ppm van de base of residu. De base of residu wordt normaal in de kristalstructuur verschaft door 

 <Desc/Clms Page number 5> 

 middel van een neutralisatieproces, die hierna wordt beschreven, alhoewel iets dergelijks niet wordt vereist. Bij voorkeur omvat de base of residu natrium of een natrium-ion. 



  De ondansetron-vormen kunnen watervrij zijn of gehydrateerd. 



  Een vorm van voorkeur van de vaste kristallijne vorm van ondansetron bevat, echter, 1,3 tot 1,5 gew% water. In een nagenoeg zuivere stof komt dit overeen met een hemihemihydraatvorm. 



   Een ander aspect van de onderhavige uitvinding heeft betrekking op een kristallijne ondansetron-base die een zuiverheid heeft van ten minste 98% en die in de vorm voorkomt van deeltjes die een deeltjesgrootte van niet groter dan 200 micron hebben. Een dergelijke vorm is bruikbaar voor het maken van een verscheidenheid van farmaceutische doseringsvormen. Bij voorkeur hebben de ondansetron-deeltjes een grootte van binnen het gebied van 0,1 tot 100 micron, met meer voorkeur binnen het gebied van 0,1 tot 63 micron. 



   Een ander aspect van de onderhavige uitvinding heeft betrekking op een samenstelling die een ieder van vormen van hierboven van ondansetron omvat en een farmaceutisch aanvaardbare excipiënt. De samenstelling is bij voorkeur een eenheidsdoseringsvorm voor de behandeling van misselijkheid en/of braken. 



   Een ander aspect van de uitvinding heeft betrekking op een proces, hetgeen omvat het neutraliseren van een zuuradditiezout van ondansetron om de vrije-base van ondansetron   vrij te maken ; het precipiteren van de vrije-base van   ondansetron uit een vloeibaar medium. Bij voorkeur produceert dit proces vorm I ondansetron, zoals het hierna in meer detail wordt beschreven. 



   Een aanvullend aspect van de uitvinding heeft betrekking op een proces dat het oplossen van de vrije base van ondansetron in een oplosmiddel omvat en het precipiteren van de opgeloste vrije base van ondansetron ten einde ondansetron te vormen dat een smeltpunt bezit van hoger dan 240 C, op DSC 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 gemeten bij 5 C/min. Bij voorkeur produceert dit proces vorm II ondansetron, zoals hierna in meer detail wordt beschreven. 



  Korte beschrijving van de tekeningen
Fig. 1 toont een DSC-grafiek van het materiaal van Voorbeeld 1. 



   Fig. 2 toont een XRPD-patroon van het materiaal van Voorbeeld 1. 



   Fig. 3 toont een DSC-grafiek van het materiaal van Voorbeeld la. 



   Fig. 4 toont een XRPD-patroon van het materiaal van Voorbeeld la. 



   Fig. 5 toont een DSC-grafiek van het materiaal van Voorbeeld 2. 



   Fig. 6 toont een XRPD-patroon van het materiaal van Voorbeeld 2. 



   Fig. 7 toont een DSC-grafiek van het materiaal van Voorbeeld 3. 



   Fig. 8 toont een XRPD-patroon van het materiaal van Voorbeeld 3. 



  Gedetailleerde beschrijving van de uitvinding
De onderhavige uitvinding is gebaseerd op de ontdekking dat ondansetron-base in verscheidene vormen van vaste staat kan worden geïsoleerd. Deze vormen verschillen in één of meer opzichten van de vorm(en) die in de hierboven genoemde octrooien zijn opgenoemd. In het algemeen kunnen de vaste ondansetron vormen van de onderhavige uitvinding worden gekarakteriseerd door smeltpunt, spore-niveaus van base of residu en/of watergehalte. 



   Eén vorm van ondansetron heeft een smeltende endotherme piek, d. w.z. een smeltpunt van ten minste 240 C, bij voorkeur in de orde van grootte van 240 C tot 255 C. Voor doeleinden van de onderhavige uitvinding wordt een smeltende endotherme 

 <Desc/Clms Page number 7> 

 piek bepaald door gebruik van differentiële scanning calorimetrie (DSC) bij een verwarmingssnelheid van 5 C/min. 



  Bij voorkeur heeft de ondansetron twee smeltende endotherme pieken, waarbij de eerste smeltende endotherme piek voorkomt bij 240 C of hoger. In deze uitvoeringsvorm komen beide pieken in het algemeen voor in het temperatuursgebied van 240 C tot 255 C. Kenmerkend zijn de eerste en tweede smeltende endotherme pieken binnen de orde van grootte van respectievelijk 240-249 C en 249-255 C. In een uitvoeringsvorm van bijzondere voorkeur vertoont de vaste vorm van ondansetron smeltende endotherme pieken van ongeveer 244 C en 253 C. 



   Een andere ondansetron vorm kan worden gekarakteriseerd door de aanwezigheid van een spore-hoeveelheid base of residu daarvan, hetgeen een alkali-metaal, een amine, een ammonium of een ion daarvan omvat. De base of het residu daarvan wordt bij voorkeur in een vorm van kristal/vaste staat van het ondansetron verschaft, als een resultaat van het vormen van het vaste ondansetron door een neutralisatieproces dat een zuur-additiezout van ondansetron en een base behelst. Aldus is de base bij voorkeur één die voldoende sterk is om een zuur-additiezout van ondansetron te neutraliseren en daardoor de vrije-base van ondansetron vrij te maken. Het residu van de base verwijst naar een deel van een base, in het bijzonder het (de) post-neutralisatie product(en) daarvan.

   Ofwel de werkelijke base, zoals natriumhydroxide of een residu daarvan zoals een natrium-ion, bijvoorbeeld een natriumzout, kan in de vaste vorm van ondansetron van deze uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding aanwezig zijn. Bij voorkeur is de base een alkali-metaal bevattende base, in het bijzonder natriumof kaliumhydroxide, met meer voorkeur natriumhydroxide. 



  Kenmerkend is het residu het geheel dat is geïncorporeerd, d. w.z. een zout omvattend natrium-ion, kalium-ion, enz. Een "spore" hoeveelheid, zoals hierin wordt gebruikt, betekent 

 <Desc/Clms Page number 8> 

 tot 1 gew%, bij voorkeur van 0,1 ppm tot 1500 ppm en met meer voorkeur van 1 ppm tot 1000 ppm. De base of het residu wordt in het algemeen beschouwd een effect te hebben op de kristallijne matrix en aldus de kristalstructuur. 



  Dienovereenkomstig is een kristal-veranderende of kristalbeïnvloedende hoeveelheid van de base of het residu een uitvoeringsvorm van voorkeur. Verrassenderwijze hebben de vaste vormen van ondansetron die een spore-hoeveelheid van de hierboven genoemde base of residu bezitten in het algemeen een smeltende endotherm binnen het hierboven beschreven bekende gebied, d. w.z. rond 224 C tot 235 C. 



   Twee specifieke vormen van ondansetron zijn hierin, als vorm I en vorm II, ontworpen. Vorm I en vorm II bezitten vele verschillende fysische eigenschappen, zoals in differentiële scanning calorimetrie (DSC) of röntgenstraling poederdiffractie (XRPD)-analyse en kunnen aldus worden geïdentificeerd of van elkaar worden onderscheiden door één of meer eigenschappen. 



   Vorm I ondansetron vertoont een X-RPD piekpatroon die nagenoeg overeenkomt met Fig. 2. "Nagenoeg overeenkomt" wordt bedoeld variaties/verschillen in grafiek of patroon te dekken die door een deskundige uit het vakgebied niet wordt begrepen een verschil in kristalstructuur te vertegenwoordigen, maar eerder verschillen in techniek, bereiding van het monster, enz. Het XRPD-patroon in Fig. 4 komt, bijvoorbeeld, nagenoeg overeen met het patroon getoond in Fig. 2, alhoewel het niet identiek is. De DSC-grafiek vertoont een enkele scherpe smeltende/degradatie endotherm die een piek bezit van ongeveer 224 C - 234 C; waarbij er enige variatie is in de het begin van de temperatuur en de piektemperatuur. Een voorbeeld van een DSC-scan voor vorm I wordt getoond in Fig. 



  1. Thermogravimetrische analyse (TGA) onthult thermale degradatie boven 220 C - 230 C. 



   De vorm I ondansetron is gedurende de opslag bij 

 <Desc/Clms Page number 9> 

 omgevingstemperaturen en verhoogde temperaturen voldoende stabiel. Het is ook gevoelig voor een door oplosmiddelgeïnduceerde omzetting naar een vorm II, hieronder gedefinieerd, door het dispergeren in enige polaire oplosmiddelen, bijvoorbeeld, in methanol of water, terwijl het inert is voor hetzelfde dispergeren of behandeling met oplosmiddel in niet-polaire oplosmiddelen. 



   Vorm II ondansetron vertoont een X-RPD piekpatroon die nagenoeg overeenkomt met Fig. 6. Op overeenkomstige wijze komt de XRPD getoond in Fig. 8 nagenoeg overeen met het patroon getoond in Fig. 6. De DSC-grafiek vertoont een eerste smeltende endotherme piek bij 240 C of hoger en omvat kenmerkend twee, gebruikelijk overlappende, smeltende endothermen. Kenmerkend zijn deze endotherme pieken ongeveer 244 C en 253 C, maar kunnen ook naar lichtelijk lagere temperaturen zijn verschoven. Een voorbeeld van een DSCgrafiek voor vorm II ondansetron wordt in Fig. 3 getoond. TGA toont thermale degradatie boven 240-250 C. 



   Vorm II is stabiel bij kamertemperatuur indien het in een gesloten buisje wordt opgeslagen, een gedeeltelijke omzetting naar vorm I werd, echter, waargenomen gedurende een verlengde opslag bij   40 C/75%   relatieve vochtigheid (RH). 



  Vorm II is resistent tegen een door oplosmiddel geïnduceerde omzetting naar vorm I bij omgevingstemperatuur. 



   Vast ondansetron-base kan in verscheidene staten van hydratie voorkomen. Een watervrije vorm kan worden verkregen door het product voorzichtig te drogen, bij voorkeur onder vacuüm, bij een verhoogde temperatuur. Een dergelijke watervrije vorm omvat geen of verwaarloosbare hoeveelheden (minder dan 0,5%) water. 



   Na opslag van de watervrije vorm bij vochtigheid die hoger is dan 10% RH, kunnen hydraten worden gevormd. Een stabiele gehydrateerde vorm omvat 1,3-1,5% water, hetgeen overeenkomt met bij benadering 0,25 molaire equivalenten 

 <Desc/Clms Page number 10> 

 water (een hemi-hemihydraat). Dienovereenkomstig is een andere ondansetron vorm van de onderhavige uitvinding een ondansetron-hydraat dat ondansetron en water omvat, waarbij de hoeveelheid water ten opzichte van ondansetron in de orde van grootte van 0,23-0,27 mol ligt, met meer voorkeur 0,24- 0,26 mol per iedere één mol ondansetron. Blootstelling van dit of het watervrije product aan verhoogde vochtigheid (70% RH) resulteert in een product dat een watergehalte van ongeveer 3% bezit, hetgeen met een hemi-hydraat (0,5 molaire equivalenten water) overeenkomt.

   Blootstelling aan uitzonderlijke vochtigheid van ongeveer 90% of meer leidt tot een monohydraat vorm van ongeveer 5% water. De meest bruikbare gehydrateerde vorm van ondansetron-base is het hemi-hemihydraat, daar deze onder de meeste precipitatieomstandigheden wordt gevormd en stabiel is. De vormen I of II van hierboven zijn bij voorkeur hydraten die 1,3-1,5% water bevatten. 



   De vaste vormen van ondansetron van de onderhavige uitvinding kunnen door middel van precipitatie worden gevormd. Eén proces omvat het neutraliseren van een zuuradditiezout van ondansetron ten einde ondansetron vrije-base te vormen en het precipiteren van de vrije base, waarnaar hierin soms wordt verwezen als het "neutralisatie proces". 



  Dit proces is in het algemeen voordelig voor het vormen van vorm I van ondansetron. De zuur-additiezouten van ondansetron omvatten waterstofchloride, waterstofbromide, maleaat, tartraat, mesylaat en tosylaat, maar zijn daar niet tot beperkt. Een iedere geschikte base, bijvoorbeeld, NaOH, KOH, aminen, ammoniumhydroxide, enz., voor het omzetten van het zure-zout van ondansetron naar de vrije-base van ondansetron kan voor het uitvoeren van de neutralisatie worden gebruikt. 



   In een eerste neutralisatieproces is het oplosmiddelsysteem monofasisch, d. w.z. het omvat een enkel oplosmiddel of een mengsel van wederkerige vermengbare oplosmiddelen, waarin de resulterende ondansetron-base maar 

 <Desc/Clms Page number 11> 

 matig oplosbaar is en aldus kan precipiteren en van het overblijvende vloeistof kan worden gescheiden. Op voordelige wijze is het oplosmiddelsysteem zodanig gekozen dat het ondansetron-zout, waarmee gestart wordt, en de neutralisatiebase in het oplosmiddelsysteem oplosbaar zijn, ten minste bij een verhoogde temperatuur, maar dit wordt niet vereist; d. w.z. een slurrie van het zuur-additiezout van ondansetron kan in het monofasische oplosmiddelsysteem worden gebruikt. 



  Verder zou op voordelige wijze het oplosmiddelsysteem ook het co-product van de reactie oplossen, d. w.z. het zout van de neutraliserende base met het zure anion, zodanig, dat de ondansetron-base zonder dit co-product precipiteerd. Het oplosmiddel zou bij voorkeur ook de bijproducten en onzuiverheden, in het bijzonder gekleurde onzuiverheden, die eventueel voorkomen in het ondansetron-zout dat uitgangsmateriaal is, oplossen. 



   Geschikte oplosmiddelsystemen omvatten water en mengsels van water met water-vermengbare organische oplosmiddelen zoals lager alifatisch alcohol (methanol, ethanol), keton (aceton, methyl-isobutylketon) of cyclisch ether (dioxaan, tetrahydrofuran). In een wijze van voorkeur wordt het ondansetron-zout in één deel van het oplosmiddelsysteem opgelost of gesuspendeerd en een oplossing of suspensie van de neutraliserende base wordt in een ander deel van het oplosmiddelsysteem daaraan bij gedeelten toegevoegd totdat de reactie volledig is. De samenstelling van beide delen van het oplosmiddelsysteem kan overeenkomstig of verschillend zijn. 



  De volledigheid van de neutralisatiereactie kan worden gevolgd, bijvoorbeeld door de pH te meten, waarbij de optimale waarde van ongeveer 6 tot ongeveer 9 is, met meer voorkeur 8 - 9. 



   De precipitatie van de vrije-base vorm van ondansetron uit het monofasische oplosmiddelsysteem, d. w.z. een vloeibaar medium, kan spontaan zijn of kan worden geïnduceerd, bijvoorbeeld door de temperatuur van het oplosmiddel te 

 <Desc/Clms Page number 12> 

 verlagen of door het volume van de oplossing te verkleinen. 



  Dit is afhankelijk van de aard en hoeveelheid van het oplosmiddelsysteem en de juiste wijze van precipitatie kan eenvoudig door gewoonlijke series van experimenten worden gevonden. De temperatuur van het in contact brengen kan de omgevingstemperatuur zijn, maar op voordelige wijze kan het reactiemengsel ook worden verwarmd, eventueel tot reflux en vervolgens worden gekoeld nadat de reactie volledig is. Op deze wijze kan een precipitaat worden gevormd die meer eenvoudig is af te filtreren. In een andere variant wordt een aanvullend deel van het oplosmiddelsysteem, een tegenoplosmiddel, toegevoegd nadat de neutralisatiereactie volledig is. Het tegen-oplosmiddel, dat een oplosmiddel is waarin de ondansetron-base onoplosbaar is, helpt de precipitatie door de precipitatie te initiëren, de opbrengst van de precipitatie te verhogen of beide. 



   Bij de tweede wijze van het neutralisatieproces is het oplosmiddelsysteen bifasisch. De neutralisatiereactie verloopt in een eerste, in weze waterige fase en het product van de reactie wordt in de tweede fase, die niet-vermengbaar is met de eerste fase, geëxtraheerd terwijl de resterende reagens en het zout co-product in de eerste fase achterblijven. Na scheiding van de fasen wordt de ondansetron-base uit de oplossing van een tweede fase geprecipiteerd, als hierboven beschreven. 



   Aldus kunnen de "vloeibare media" waaruit de vrijgemaakte vrije base van ondansetron wordt geprecipiteerd, dezelfde vloeibare media zijn waarin de neutralisatiereactie plaats vond, een gemodificeerd oplosmiddelsysteen, zoals waarbij oplosmiddel(en) na neutralisatie worden verwijderd of contra-oplosmiddel(en) worden toegevoegd enz., of een geheel verschillend oplosmiddelsysteem, zoals in een bifasisch oplosmiddelsysteem als hierboven beschreven. 



   Het neutralisatieproces is geschikt voor het produceren van vast kristallijn ondansetron dat een spore-hoeveelheid 

 <Desc/Clms Page number 13> 

 van een base of residu bezit als hierboven beschreven en/of voor het produceren van vorm I ondansetron. Voor het produceren van vorm I ondansetron vertegenwoordigt een monofasisch systeem, dat een mengsel van water en ethanol omvat, waarbij ondansetron-waterstofchloride als het zuuradditiezout wordt gebruikt, een proces van voorkeur. 



   Vaste vormen van ondansetron kunnen ook worden gevormd door opgeloste ondansetron-base te precipiteren. In het bijzonder wordt ondansetron-base, zoals geïsoleerd ruw product, in een geschikt oplosmiddel opgelost, kenmerkend bij verhoogde temperaturen en vervolgens wordt het ondansetron als een vaste vorm van ondansetron met een smeltpunt van hoger dan 240 C, gemeten op DSC, uit de oplossing geprecipiteerd. Dit smeltpunt verwijst naar de eerste smeltende endotherm in de DSC-analyse. Het "oplossen" van ondansetron kan worden verkregen door een synthese van ondansetron te voltooien, hetgeen in de vorming van ondansetron opgelost in het oplosmiddel resulteerd, als ook door het oplossen van de vaste ondansetron-base in een oplosmiddel. Geschikte oplosmiddelen omvatten methanol, ethanol, chloroform of ethylacetaat/methanol mengsels.

   De oplossing van ondansetron kan eventueel met een geschikt adsorptie materiaal, zoals geactiveerd koolstof, worden behandeld of in contact worden gebracht, gefiltreerd en afgekoeld. De behandeling wordt bij voorkeur uitgevoerd terwijl de oplossing warm is, d. w.z. hoger dan 40 C. 



  Ondansetron-base precipiteerd na afkoeling en wordt door middel van gebruikelijke werkwijzen zoals filtratie of centrifugatie gescheiden en gedroogd. Kenmerkend is deze vorm de vorm II van ondansetron, in het bijzonder indien het kristallijne product bij verhoogde temperaturen van ongeveer 40 C en meer zich in de oplossing uitscheidt. Het wordt ook door een precipitatie verkregen, hetgeen het in contact brengen van een oplossing van ruwe ondansetron-base in een 

 <Desc/Clms Page number 14> 

 oplosmiddel, bijvoorbeeld in methanol, met een tegenoplosmiddel zoals n-heptaan of water bij omgevingstemperatuur of verlaagde temperatuur, omvat. Dit proces is ook bruikbaar voor het verwijderen van gekleurde onzuiverheden van geïsoleerd en/of ruw ondansetron, in het bijzonder indien het met geactiveerd koolstof in contact is gebracht. 



   Terwijl een ieder van de precipitatieprocessen van hierboven, eventueel één of meerdere keren herhaald, een gezuiverd of nagenoeg zuiver ondansetron-base kan verschaffen, is het ontdekt dat het proces van het omzetten van ondansetron-base naar een zout en omzetting van het zout terug naar de geprecipiteerde ondansetron-base (een "basezout-base" proces) een efficiënt werktuig is voor de zuivering van de originele ondansetron-base. In het bijzonder kunnen onzuiverheden die resistent zijn voor zuivering door middel van kristallisatie, bijvoorbeeld gekleurde onzuiverheden, op deze wijze worden verwijderd. Ruw of gezuiverd ondansetron-base kan voor omzetting in een geschikte zuur-additiezout worden gebruikt door middel van een proces waarbij gebruik wordt gemaakt van een contact van ondansetron-base met het overeenkomstige zuur in en geschikt oplosmiddel.

   Het zout kan in een vaste staat worden geïsoleerd. Een zout van voorkeur is ondansetronwatersofchloride. Indien het zout eenmaal is gevormd kan het hierboven besproken neutralisatieproces worden gebruikt om ondansetron-base in een vaste vorm om te vormen. 



   In alle van de precipitatieprocessen van hierboven kan het vaste precipitaat uit de oplossing worden gescheiden door middel van gebruikelijke technieken, zoals filtratie en wordt gewoonlijk gedroogd. 



   De precipitatieprocessen van hierboven zijn ook bruikbaar bij het produceren van nagenoeg zuiver ondansetron in vaste kristallijne vorm. Dat wil zeggen, dat ondansetron met een zuiverheid van ten minste 98%, bij voorkeur ten minste 99%, met meer voorkeur ten minste 99,5% en zelfs ten 

 <Desc/Clms Page number 15> 

 minste 99,9% zuiverheid door een ieder van de processen kan worden gevormd. Een dergelijk niveau van zuiverheid is op zichzelf van voorkeur daar ondansetron wordt bedoeld om als farmaceutisch middel te worden gebruikt. 



   Het is verder ontdekt dat ondansetron-base dat een deeltjesgrootte van kleiner dan 200 micron heeft ( hierna "microkristallijn ondansetron") meer geschikt is voor het maken van farnaceutische preparaten. Voor het maken van vloeibare samenstellingen lost microkristallijn ondansetron sneller op in het vloeibare medium. Voor het maken van vaste preparaten produceert microkristallijn ondansetron meer homogene samenstellingen, zelfs indien processen worden gebruikt die niet gebruik maken van oplosmiddelen voor homogenisatie. Bovendien komt het microkristallijne ondansetron sneller vrij van de tabletsamenstelling. 



   Deeltjesgrootten van voorkeur van microkristallijn ondansetron-base voor gebruik in farmaceutische uiteindelijke doseringsvormen is binnen de orde van grootte van 0,1 tot 200, met meer voorkeur 0,1 tot 100, met nog meer voorkeur 0,1 tot 63 micron. Ten minste 99% van de totale populatie ondansetron-deeltjes zouden binnen deze orde van grootte moeten vallen. In sommige uitvoeringsvormen zijn de deeltjes kleiner dan 20 micron, bij voorkeur minder dan 10 micron. 



  Bijvoorbeeld een populatie waarbij 90% van de deeltjes een grootte van 2 micron of minder bezitten. Een representatieve populatie van ondansetron-base voldoet aan het volgende criterium : 
 EMI15.1 
 
<tb> 
<tb> # <SEP> 250 <SEP>  m <SEP> # <SEP> 63 <SEP>  m <SEP> D <SEP> (10) <SEP> D <SEP> (50) <SEP> D <SEP> (90)
<tb> 10 <SEP> 0 <SEP> % <SEP> 10 <SEP> 0 <SEP> % <SEP> 0 <SEP> , <SEP> 5 <SEP>  m <SEP> 0 <SEP> , <SEP> 8 <SEP>  m <SEP> 1, <SEP> 6 <SEP>  m
<tb> 
 2 gemeten in lucht door middel van laser-diffractie. 



   Het is een voordeel van het neutralisatieproces van 

 <Desc/Clms Page number 16> 

 hierboven dat een dergelijk proces de productie van vaste ondansetron-base, met de deeltjes-grootte die hierboven als "microkristallijn" wordt gedefinieerd, mogelijk maakt. De deeltjesgrootte van het geprecipiteerde product kan worden gereguleerd, bijvoorbeeld door de temperatuurstrategie, aard van het oplosmiddel, concentratie van de oplossing, enz. 



  Juiste productie-omstandigheden kunnen in gewoonlijke series van experimenten worden gevonden. 



   Microkristallijn ondansetron-base kan ook door kristallisatie van een ruwe ondansetron-base uit een oplosmiddel worden gevormd. In het bijzonder kan het worden gevormd door een warme oplossing van ondansetron-base met een koud tegen-oplosmiddel te mengen, waarbij de temperatuur van contact 20 C of minder is, of door het snel afkoelen van een oververzadigde oplossing van ondansetron-base. 



   Bovendien kan het micro-kristallijne product worden gevormd door de precipitatie of kristallisatie in een ultrasonisch bad uit te voeren. Ondansetron-base van gewenste kleine deeltjesgrootte kan ook worden verkregen door het microniseren in een geschikte microniseerinrichting, die in het vakgebied bekend zijn, eventueel in combinatie met zeven. 



   Ondansetron-base, bij voorkeur microkristallijn ondansetron, kan in verscheidene farmaceutische samenstellingen worden geprepareerd. In het algemeen omvat een farmaceutische samenstelling, of een voorloper daarvan, een ieder van de hierboven genoemde ondansetron-base vormen waaronder de bekende ondansetron-base met de hierboven aangehaalde zuiverheid of deeltjesgrootte, met een farmaceutisch aanvaardbare excipiënt. De farmaceutische aanvaardbare excipiënt is niet in het bijzonder beperkt en omvat vaste als ook vloeibare excipiënten en omvat alle van de excipiënten (categorieën en soorten) die hierna met betrekking tot de verscheidene uitvoeringsvormen van de samenstelling worden genoemd. 



   De samenstelling kan voor parenterale toediening, orale 

 <Desc/Clms Page number 17> 

 toediening, rectale toediening, transdermale toediening en dergelijke, worden geprepareerd. De samenstellingen voor orale toediening kunnen vast of vloeibaar zijn. 



   Vloeibare samenstellingen voor parenterale toediening (injecteerbare preparaten) kunnen van de ondansetron-base worden bereid, in het bijzonder van microkristallijne base, door oplossing. Het oplossen kan op voordelige wijze worden uitgevoerd door de base in water te suspenderen en een geschikt farmaceutisch aanvaardbaar zuur toe te voegen hetgeen een oplosbaar zout vormt. Geschikt zuur is zoutzuur. 



  Het zuur wordt bij voorkeur in een equimolaire hoeveelheid gebruikt. De pH van de verkregen oplossing kan door een overmaat van een zuur of door een farmaceutisch aanvaardbare base worden aangepast. Het pH-gebied van voorkeur is ongeveer 3-5. Bovendien kan de samenstelling een geschikt buffersysteem omvatten om het gekozen pH-gebied te behouden. 



  Een voorbeeld van het buffersysteem is een citraatbuffer, d. w.z. een mengsel van citroenzuur en natriumcitraat. 



  Bovendien kan de oplossing een isotonisch middel en/of conserverend middel omvatten. Geschikte concentratie van ondansetron in de vloeibare oplossing is van 0,1 tot 10 mg/ml, bij voorkeur 2 - 4 mg/ml. 



   Vloeibare samenstellingen voor orale toediening kunnen bijvoorbeeld worden gemaakt als beschreven in WO 96/15786, onder het voorbehoud dat microkristallijne ondansetron-base het actieve ingrediënt is en de oplossing ook een molaire equivalent van een farmaceutisch aanvaardbaar zuur omvat. 



   Bij voorkeur omvatten de farmaceutische doseringsvormen die van de samenstellingen van de uitvinding worden geprepareerd een eenheidsdosering van ondansetron, d. w.z. de therapeutisch effectieve hoeveelheid van ondansetron voor een toediening van een enkele dosering. De hoeveelheid van voorkeur van de ondansetron-base in de eenheidsdosering is van 0,1 tot 150 mg, bij voorkeur 1, 2,4, 8,16 of 24 mg. De eenheidsdosering in een tabletvorm omvat op voordelige wijze 

 <Desc/Clms Page number 18> 

 één deel van het tablet, maar het kan ook verdeelde tabletten of één of meer kleinere tabletten (mini-tabletten) omvatten die op hetzelfde moment worden toegediend. In het laatste geval kunnen verscheidene kleinere tabletten op voordelige wijze in een gelatine capsule worden gevuld ten einde een eenheidsdosering te vormen.

   De eenheidsdosering van pillen in een capsule worden op voordelige wijze in een enkele capsule samengevat. De eenheidsdosering van de injectie-oplossing is op voordelige wijze één buisje. Oplossingen voor orale toediening zijn bij voorkeur in een multi-doseringsverpakking gepakt, waarbij de eenheidsdosering door middel van een gecalibreerd vat er wordt uitgenomen. 



   Vaste samenstellingen voor orale toediening kunnen snelle, normale of verlengde afgifte van de actieve stoffen van de samenstelling vertonen. De vaste farmaceutische samenstellingen die microkristallijn ondansetron-base omvatten, worden bij voorkeur in tabletten voor normale, directe, afgifte geprepareerd. Tabletvormen van voorkeur zijn uiteenvallende tabletten. De tabletten kunnen geschikte inactieve ingrediënten omvatten, d. w.z. excipiënten, zoals   vulstof(fen)/verdunningsmiddel(en),   bindmiddel (en) , ontbindende middel(en), oppervlakte actieve stof(fen), glijmiddelen, enz. Ze kunnen door middel van een iedere standaard tablet-vormende techniek worden geproduceerd, bijvoorbeeld door natte korrelvorming, droge korrelvorming of directe compressie. 



   De tabletvormende werkwijzen die niet gebruik maken van een oplosmiddel ("droge processen") verdienen de voorkeur en de microkristallijnheid van de actieve stof verzekert uitzonderlijke homogeniteit van het mengsel en goede fysische eigenschappen voor het vormen van tabletten. 



   De procedure van droge korrelvorming omvat het mengen van de vaste excipiënten (behalve glijmiddelen), het samenpakken van het mengsel in een samenpakkende inrichting (bijvoorbeeld een rollende samenpakkende inrichting), het 

 <Desc/Clms Page number 19> 

 malen van de samengepakte massa, het screenen van de gemalen korrels, het mengen met een glijmiddel en het samenpersen van het mengsel in tabletten. 



   De directe samenpersende procedure omvat het mengen van de vaste excipiënten en het samenpersen van het uniforme mengsel in tabletten. 



   Ondansetron-base kan ook worden geprepareerd door middel van smeltende korrelvorming, d. w.z. het combineren van de ondansetron met een smeltbare funcionele excipiënt (bijvoorbeeld glycerylbehenaat), waarbij tijdens verwarming in een geschikte inrichting een granulaat wordt gevormd. De korrels kunnen in tabletten worden samengeperst, eventueel met de toevoeging van andere excipiënten zoals een glijmiddel. 



   In het algemeen is de hoeveelheid ondansetron-base in een tablet van 1 tot 10%, bij voorkeur 2-5%, gebaseerd op het totale gewicht van het tablet. 



   Ondansetron-base kan ook in samenstellingen worden gemengd die geschikt zijn om in pillen te worden geprepareerd door middel van pil-vormende technieken die in het vakgebied bekend zijn. Meerdere pillen van ondansetron-base, die de enkele dosering van het ondansetron omvatten, kunnen in capsules, die van een farmaceutisch aanvaardbaar materiaal zijn gemaakt, zoals harde gelatine, worden ingekapseld. Op een andere wijze kunnen meerdere pillen, tezamen met geschikte bindmiddelen en uiteenvallende middelen, worden samengeperst tot een uiteenvallend tablet die, na inname, uiteenvalt en de pillen afgeeft. Op nog andere wijze kunnen meerdere pillen in een sachet worden gevuld. 



   Bij voorkeur hebben vaste orale samenstellingen die ondansetron-base omvatten het volgende afgifte-profiel: meer dan 80% van het actieve bestanddeel wordt in 30 minuten vrijgemaakt, met meeste voorkeur in 15 minuten, indien gemeten met een roer-werkwijze van Ph. Eur bij 50 rpm in 0,01 M HCl in een normaal vat. Op andere wijze worden dezelfde 

 <Desc/Clms Page number 20> 

 resultaten van afgifte verkregen indien gemeten in een piekvat volgens Van Kel. Voor dergelijke tabletten is het microkristallijne ondansetron, als hierboven gedefinieerd, in het bijzonder geschikt. 



   Tabletten of pillen kunnen door middel van een geschikte bekleding worden bekleed, hetgeen een filmbekleding (oplosbaar in de omgeving van de maag) of een bekleding met betrekking tot de ingewanden (niet oplosbaar in de omgeving van de maag) kan zijn. 



   In het bijzonder kan microkristallijn ondansetron in snel uiteenvallende tabletten worden geprepareerd, bijvoorbeeld, in tabletten als beschreven in USP 6063802. 



   De uitvinding zal verder door de volgende nietbeperkende voorbeelden worden uitgelegd. 



  Voorbeeld 1 Proces voor het vormen van ondansetron-base door middel van neutralisatie (Vorm I) 680 Gram ondansetron-waterstofchloride-dihydraat werd onder reflux in 4000 ml ethanol opgelost. Een oplossing van 82 g NaOH in 1000 ml water werd toegevoegd. Een vaste stof werd gevormd. 3000 ml water werd toegevoegd en het mengsel werd naar omgevingstemperatuur afgekoeld. De vaste stof werd afgefiltreerd en 2 keer met 500 ml water gewassen. De vaste stof werd gedurende 2 dagen onder vacuüm bij 50 C gedroogd. 



  Het product vertoonde de DSC-grafiek getoond in Fig. 1 en het XRPD-patroon van Fig. 2. 



   Opbrengst : 527 g (96%) Voorbeeld 1A Ondansetron-base door middel van neutralisatie 80 Gram ondansetron-waterstofchloride-dihydraat werd in 500 ml ethanol gesuspendeerd en verwarmd tot reflux totdat een heldere oplossing werd verkregen. Aan deze oplossing werd 250 ml van een 1 M NaOH-oplossing toegevoegd. Gedurende de 

 <Desc/Clms Page number 21> 

 toevoeging begon een vaste stof te vormen. 250 ml water werd toegevoegd en het mengsel werd langzaam naar kamertemperatuur afgekoeld. Het mengsel werd naar 10-15 C gekoeld en de vaste stof werd afgefiltreerd. De vaste stof werd met 2 x 200 ml water gewassen. Na het drogen gedurende 3 dagen in een vacuüm-oven bij 40 C, werd 53,3 g van een witte vaste stof verkregen. Het product vertoonde de DSC-grafiek als getoond in Fig. 3 en het XRPD-patroon van Fig.4. 



   Opbrengst : 59,3 g (92%) Voorbeeld 2 Ondansetron-base vorm II 3,3 Gram ondansetron-base en 60 ml methanol werden in een glazen 3-hals erlenmeyer van 100 ml overgebracht. De suspensie werd bij benadering 10 minuten onder reflux behandeld en vervolgens werd 20 ml methanol aan de suspensie toegevoegd. De suspensie werd weer onder reflux behandeld. Na toevoeging van de volgende 17 ml methanol werd reflux aangehouden totdat een heldere oplossing werd verkregen. De oplossing werd in het oliebad gehouden en toegestaan, onder roeren, af te koelen. Gedurende de afkoeling werd de temperatuur gemeten en een afkoelsnelheid van bij benadering   1 C/1,5   minuut werd waargenomen. Snelle kristallisatie van dunne naalden, gestapeld in vlokken vond plaats bij T = 53 C. 



  De afkoelprocedure werd tot bij benadering 31 C voortgezet. 



  De kristallen werden op een p3-glasfilter afgefiltreerd en met methanol gewassen. Het monster werd gedurende de nacht bij kamertemperatuur onder vacuüm gedroogd. De opbrengst was 2,41 g (bij benadering 73%) van ondansetron-base vorm II. Het product vertoonde de DSC-grafiek getoond in Fig. 5 en het XRPD-patroon van Fig. 6. 



  Voorbeeld 3 Ondansetron-base vorm II 

 <Desc/Clms Page number 22> 

 3,3 Gram ondansetron-base en 110 ml methanol werden naar een glazen 3-hals erlenmeyer van 250 ml overgebracht. De suspensie werd in een olie-bad langzaam tot reflux verwarmd en met een magnetische roerder en roerinrichting geroerd. De vaste stof loste binnen 30 minuten langzaam op. De oplossing werd vervolgens op een p3-glasfilter in een kolf met ronde bodem van 250 ml warm afgefiltreerd. Gedurende de filtratie verschenen er een paar kristallen van vaste stof. Aan de gefiltreerde oplossing werd 5 ml methanol toegevoegd om te compenseren voor mogelijke evaporatie van het oplosmiddel gedurende de filtratie. De oplossing werd geroerd en bij benadering 15 minuten onder reflux behandeld. Vervolgens werd de oplossing langzaam afgekoeld door stapsgewijze verlaging van de temperatuur van het olie-bad.

   Volledige kristallisatie had na 2,5 uur plaatsgevonden (witte gevormde koek). Aan de inhoud van de kolf werd 5 ml methanol toegevoegd. De suspensie werd geroerd en gedurende 30 minuten onder reflux behandeld. De verkregen heldere oplossing werd vervolgens langzaam afgekoeld door het olie-bad af te koelen. Op het moment dat de oplossing stopte met de reflux werd een paar mg ondansetron vorm II als initiator toegevoegd. De oplossing werd vervolgens nog een paar graden afgekoeld. Na ongeveer 10 minuten verschenen fijne deeltjes en de oplosing werd een paar graden meer afgekoeld. Na nog eens 10 minuten vond kristallisatie van fijne naalden plaats, die spoedig tot vlokken ophoopten. Verlengde kristallisatie vond binnen 40 minuten plaats. De kristallen werden vervolgens op een p3glasfilter afgefiltreerd en met methanol gewassen.

   Het monster werd gedurende de nacht bij kamertemperatuur onder vacuüm gedroogd. De opbrengst was 2,41 g (bij benadering 73%) van vorm II. Het product vertoonde de DSC-grafiek getoond in Fig. 7 en het XRPD-patroon van Fig. 8. 



  Piektabel van de meest uitgesproken signalen van de XRPDpatronen van hierboven 

 <Desc/Clms Page number 23> 

 
 EMI23.1 
 
<tb> 
<tb> Vb. <SEP> la:Vorm <SEP> I <SEP> Vb. <SEP> 1: <SEP> Vorm <SEP> I <SEP> Vb. <SEP> 3 <SEP> :
<tb> VormII
<tb> 5,57
<tb> 7,25 <SEP> 7,24 <SEP> 7,35
<tb> 10,90 <SEP> 10,92 <SEP> 10,83
<tb> 11,06
<tb> 11,21 <SEP> 11,26
<tb> 13,24 <SEP> 13,28 <SEP> 13,12
<tb> 13,36
<tb> 13,67
<tb> 14,73 <SEP> 14,72 <SEP> 14,83
<tb> 15,42 <SEP> 15,43 <SEP> 15,32
<tb> 16,46 <SEP> 16,47 <SEP> 16,55
<tb> 17,35 <SEP> 17,24 <SEP> 17,45
<tb> 24,65
<tb> 24,74 <SEP> 24,76 <SEP> 24,96
<tb> 25,37 <SEP> 25,35 <SEP> 25,86
<tb> 
 Voorbeeld 4 Injecteerbare oplossing van ondansetron-base (2 mg/ml injectie):

   Samenstelling van de injectie 
 EMI23.2 
 
<tb> 
<tb> per <SEP> ml
<tb> Actief <SEP> ingrediënt
<tb> Ondansetron-base <SEP> 2,00 <SEP> mg
<tb> Excipiënten
<tb> Citroenzuur-monohydraat <SEP> 0,5 <SEP> mg
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 24> 

 
 EMI24.1 
 
<tb> 
<tb> natriumcitraat- <SEP> 0,25 <SEP> mg
<tb> dihydraat
<tb> Natriumchloride <SEP> 9,0 <SEP> mg
<tb> Zoutzuur-oplossing <SEP> 1M <SEP> 6,8 <SEP>  l
<tb> Zoutzuuroplossing <SEP> 1 <SEP> M <SEP> q. <SEP> s. <SEP> ad <SEP> pH
<tb> 3-5
<tb> Natriumhydroxide- <SEP> q. <SEP> s. <SEP> ad <SEP> pH
<tb> oplossing <SEP> 1M <SEP> 3-5
<tb> Stikstof/Argon <SEP> q. <SEP> s.
<tb> 



  Water <SEP> voor <SEP> injecties <SEP> ad <SEP> 1,0 <SEP> ml
<tb> 
 Proces voor het maken van injecties Verscheidene volgorden voor het mengen van de bestanddelen bij het prepareren van de oplossing werdeb gebruikt. In de preparaten werd de pH aangepast het gewenste niveau aangepast door HC1 of NaOH voorafgaand aan de toevoeging van de laatste hoeveelheid water. 
 EMI24.2 
 
<tb> 
<tb> 



  Variant <SEP> Volgorde <SEP> van <SEP> mengen
<tb> A <SEP> a) <SEP> 80% <SEP> water, <SEP> citroenzuur,
<tb> citraat, <SEP> NaCl,
<tb> b) <SEP> ondansetron-base,
<tb> c) <SEP> HC1,
<tb> d) <SEP> 20% <SEP> water
<tb> B <SEP> a) <SEP> 80% <SEP> water, <SEP> HC1,
<tb> b) <SEP> ondansetron-base,
<tb> c) <SEP> citroenzuur, <SEP> citraat,
<tb> NaCl,
<tb> d) <SEP> 20% <SEP> water
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 25> 

 
 EMI25.1 
 
<tb> 
<tb> C <SEP> a) <SEP> 80% <SEP> water, <SEP> citroenzuur,
<tb> citraat, <SEP> water,
<tb> b) <SEP> HC1,
<tb> c) <SEP> ondansetron-base,
<tb> d) <SEP> water
<tb> D <SEP> a) <SEP> 80% <SEP> water, <SEP> HC1,
<tb> citroenzuur,
<tb> b) <SEP> ondansetron-base,
<tb> c) <SEP> citraat, <SEP> NaCl,
<tb> d) <SEP> water
<tb> 
 Voorbeeld 5 Tabletten van Ondansetron-base Samenstelling per 1 gram tabletkern:

   Ondansetron-base 32 mg Lactose, watervrij 665 mg Microkristallijn cellulose 250 mg Preg. Maïszetmeel 50 mg Magnesiumstearaat 5 mg Proces:
1. Zeef de ondansetron-base door een zeef van 500  m, zeef de excipiënten door een zeef van 850  m. 



   2. Meng gedurende 5 minuten de ondansetron-base met de helft van de hoeveelheid lactose in een vrije-val mixer. 



   3. Voeg het overblijvende deel van de lactose toe en meng voor nogmaals 5 minuten. 



   4. Voeg het MCC toe en de voor-gelatiniseerde maïszetmeel en meng gedurende 15 minuten. 



   5. Voeg het Mg-stearaat toe en meng gedurende 3 minuten. 



   6. Druk tabletten die 4 mg bevatten door gebruik vn een
Korsch EKO excentrische drukinrichting. 



  Voorbeeld 6 

 <Desc/Clms Page number 26> 

 Tabletten van Ondansetron-base Samenstelling per 1 gram tabletkern: Ondansetron-base 32 mg Lactose, watervrij 657 mg Microkristallijn cellulose 251 mg Preg. Maïszetmeel 50 mg Magnesiumstearaat 5 mg Talk 5 mg Proces:
1. Zeef de ondansetron-base door een zeef van 500   m,   zeef de excipiënten door een zeef van 850   m.   



   2. Meng gedurende 5 minuten de ondansetron-base met de helft van de hoeveelheid lactose in een vrije-val mixer. 



   3. Voeg het overblijvende deel van de lactose toe en meng nogmaals 5 minuten. 



   4. Voeg het MCC en de voor-gelatiniseerde maïszetmeel toe en meng gedurende 15 minuten. 



   5. Voeg het Mg-stearaat en de talk toe en meng gedurende
3 minuten. 



   6. Druk tabletten die 4 mg en 8 mg bevatten, door gebruik van een Korsch EKO excentrische drukinrichting. 



  Voorbeeld 7 Tabletten van Ondansetron Samenstelling per 1 gram tabletkern: Ondansetron-base 32 mg Lactose, watervrij 683 mg Microkristallijn cellulose 260 mg Natrium zetmeel glycolaat 20 mg Magnesiumstearaat 5 mg Proces:
1. Zeef de ondansetron-base door een zeef van 500   m,   

 <Desc/Clms Page number 27> 

 zeef de excipiënten door een zeef van 850   m.   



   2. Meng gedurende 5 minuten de ondansetron-base met de helft van de hoeveelheid lactose in een vrije-val mixer. 



   3. Voeg het overblijvende deel van de lactose toe en meng nogmaals 5 minuten. 



   4. Voeg het MCC en het natrium-zetmeelglycolaat toe en meng gedurende 15 minuten. 



   5. Voeg het Mg-stearaat toe en meng gedurende 3 minuten. 



   6. Druk tabletten die 4 mg en 8 mg bevatten, door gebruik van een Korsch EKO excentrische drukinrichting. 



  Voorbeeld 8 Tabletten van Ondansetron Samenstelling per 1 gram tabletkern: Ondansetron-base 32 mg Lactose, watervrij 683 mg Microkristallijn cellulose 250 mg Natrium-zetmeelglycolaat 20 mg Magnesiumstearaat 5 mg Talk 10 mg Proces:
1. Meng ondansetron-base en · van de hoeveelheid lactose gedurende 5 minuten in een turbula-mixer en zeef het voormengsel door een zeef van 500  m. 



   2. Breng het gezeefde voormengsel in de turbula. Zeef (500  m) en   voeg 1/4   van het lactose toe en meng gedurende 5 minuten. 



   3. Breng het mengsel over in een vrije-val mixer. Zeef (500  m) en voeg het overblijvende deel van het lactose toe en meng gedurende 5 minuten. 



   4. Zeef (500   m)   en voeg het MCC en het SSG toe en meng gedurende 15 minuten. 



   5. Zeef (500  m) voeg het magnesiumstearaat en talk toe 

 <Desc/Clms Page number 28> 

 en meng gedurende 3 minuten. 



   6. Druk tabletten die 8 mg bevatten door gebruik van een
Korsch EKO excentrische drukinrichting. 



   Nu de uitvinding is beschreven zal het voor de deskundige uit het vakgebied gelijk duidelijk zijn dat verdere veranderingen en modificaties van de werkelijke implementatie van de hierin beschreven begrippen en uitvoeringsvormen eenvoudig kunnen worden uitgevoerd of door het uitvoeren van de uitvinding kunnen worden geleerd, zonder van de aard en de beschermingsomvang van de uitvinding, als gedefinieerd door de volgende conclusies, af te wijken.

Claims (39)

  1. CONCLUSIES 1. Vast kristallijn ondansetron die ten minste één van de volgende karakteristieken bezit: een smeltende endotherme piek van hoger dan of gelijk aan 240 C; een spore hoeveelheid van een base of residu daarvan omvattend een alkali-metaal, een amine, een ammonium of een ion daarvan ; een watergehalte van 1,3 tot 1,5 gew%.
  2. 2. Ondansetron volgens conclusie 1, waarbij het ondansetron een eerste smeltende endotherme piek van hoger dan of gelijk aan 240 C heeft.
  3. 3. Ondansetron volgens conclusie 1 of 2, dat een eerste smeltende endotherme piek in het gebied van 240 C tot 249 C heeft.
  4. 4. Ondansetron volgens conclusies 1-3, dat twee smeltende endotherme pieken bezit.
  5. 5. Ondansetron volgens conclusie 4, waarbij beide van de smeltende endotherme pieken bij een temperatuur van hoger dan of gelijk aan 240 C voorkomen.
  6. 6. Ondansetron volgens conclusie 5, waarbij beide van de smeltende endotherme pieken plaatsvinden in het gebied van 240 C tot 255 C.
  7. 7. Ondansetron volgens conclusie 5, waarbij de tweede smeltende endotherme piek plaats vindt bij een temperatuur in het gebied van 249 C tot 255 C.
  8. 8. Ondansetron volgens conclusies 1-7, hetgeen vorm II ondansetron is.
  9. 9. Ondansetron volgens conclusies 1-8, dat verkrijgbaar is door het vaste kristallijne ondansetron bij een <Desc/Clms Page number 30> temperatuur hoger dan of gelijk aan 40 C uit een oplossing te precipiteren.
  10. 10. Ondansetron volgens conclusies 1-9, waarbij het ondansetron een poeder röntgen-straling diffractiepatroon heeft die nagenoeg overeenkomt met figuur 6.
  11. 11. Ondansetron volgens conclusie 1, waarbij het ondansetron een spore-hoeveelheid van een base of residu daarvan bezit, dat een alkalimetaal, een amine, een ammonium of een ion daarvan omvat.
  12. 12. Ondansetron volgens conclusie 11, waarbij de base of residu in een hoeveelheid van 1 ppm tot 1000 ppm aanwezig is.
  13. 13. Ondansetron volgens conclusie 11 of 12, waarbij de base of residu een ion van een alkali-metaal omvat.
  14. 14. Ondansetron volgens conclusie 11-13, waarbij het alkali-metaal natrium is.
  15. 15. Ondansetron volgens conclusies 1 of 11-14, hetgeen ondansetron vorm I is.
  16. 16. Ondansetron volgens conclusies 1 of 11-15, waarbij het ondansetron verkrijgbaar is door een zuur-additiezout van ondansetron met een base te neutraliseren en de vorm I ondansetron te precipiteren.
  17. 17. Ondansetron volgens conclusies 1 of 11-16, waarbij het ondansetron een poeder röntgen-straling diffractiepatroon heeft die nagenoeg met figuur 2 overeenkomt.
  18. 18. Ondansetron volgens conclusies 1-17, waarbij het ondansetron een hydraat is.
  19. 19. Ondansetron volgens conclusies 1-18, omvattend ondansetron en water, waarbij de hoeveelheid water ten opzichte van ondansetron in de orde van grootte van 0,23 - 0,27 mol per ieder één mol ondansetron is.
  20. 20. Ondansetron volgens conclusie 19, waarbij de hoeveelheid water in de orde van grootte van 0,24 tot 0,26 mol per ieder één mol ondansetron is.
  21. 21. Ondansetron volgens één van de conclusies 1-20, waarbij het ondansetron een watergehalte heeft van 1,3 tot <Desc/Clms Page number 31> 1,5 gew%.
  22. 22. Kristallijne ondansetron-base die een zuiverheid heeft van ten minste 98% en die in de vorm van deeltjes is met een deeltjesgrootte van niet groter dan 200 micron.
  23. 23. Ondansetron volgens conclusie 22, waarbij de deeltjes een grootte hebben van in de orde van grootte van 0,1 tot 100 micron.
  24. 24. Ondansetron volgens conclusie 23, waarbij de deeltjes een grootte hebben van in de orde van grootte van 0,1 tot 63 micron.
  25. 25. Samenstelling omvattend het ondansetron volgens één van de conclusies 1-24 en een farmaceutisch aanvaardbaar excipiënt.
  26. 26. Samenstelling volgens conclusie 25, waarbij de samenstelling een eenheidsdoseringsvorm is.
  27. 27. Samenstelling volgens conclusie 25 of 26, waarbij het ondansetron in een hoeveelheid van 0,1 tot 150 mg aanwezig is.
  28. 28. Samenstelling volgens conclusies 25-27, waarbij de hoeveelheid ondansetron 1, 2,4, 8,16 of 24 mg is.
  29. 29. Proces hetgeen omvat: het neutraliseren van een zuur-additiezout van ondansetron om de vrije-base van ondansetron vrij te maken; en het precipiteren van de vrije-base van ondansetron uit een vloeibaar medium.
  30. 30. Proces volgens conclusie 29, waarbij het geprecipiteerde ondansetron vorm I ondansetron is.
  31. 31. Proces volgens conclusie 29 of 30, waarbij de neutralisatie en precipitatie in één vloeibare fase wordt uitgevoerd.
  32. 32. Proces volgens conclusies 29-31, waarbij de vloeibare fase een oplosmiddel omvat die geselecteerd is uit de groep die uit een C1-C6 alifatisch alcohol, C1-C6 alifatisch keton, C3-C6 cyclisch ether, water of mengsels van <Desc/Clms Page number 32> twee of meer daarvan bestaat.
  33. 33. Proces volgens conclusies 29-32, waarbij een tegenoplosmiddel na de neutralisatiestap aan de vloeibare fase wordt toegevoegd ten einde de precipitatiestap te begeleiden.
  34. 34. Proces volgens conclusies 29-33, waarbij de neutralisatie in een eerste vloeibare fase wordt uitgevoerd en de precipitatie in een tweede vloeibare fase wordt uitgevoerd.
  35. 35. Proces volgens conclusies 29-34, waarbij het geprecipiteerde ondansetron een gemiddelde deeltjesgrootte van 200 micron of minder bezit.
  36. 36. Proces, hetgeen het oplossen van de vrije base van ondansetron in een oplosmiddel omvat en het precipiteren van de opgeloste vrije-base van ondansetron ten einde ondansetron te vormen dat een smeltende endotherme piek heeft van groter dan of gelijk aan 240 C, gemeten op DSC bij 5 C/min.
  37. 37. Proces volgens conclusie 36, waarbij het geprecipiteerde ondansetron vorm II ondansetron is.
  38. 38. Proces volgens conclusie 36 of 37, waarbij de precipitatie bij één of meer temperaturen hoger dan 40 C plaatsvindt.
  39. 39. Proces volgens conclusies 36-38, dat verder voorafgaand aan de precipitatiestap het in contact brengen van het oplosmiddel, dat het opgeloste ondansetron bevat, met geactiveerd houtskool omvat.
BE2004/0007A 2003-05-15 2004-01-08 Vormen van ondansetron en processen voor het maken van deze. BE1015847A3 (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/438,780 US7004678B2 (en) 2003-05-15 2003-05-15 Soil remediation with heated soil

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE1015847A3 true BE1015847A3 (nl) 2005-10-04

Family

ID=33417666

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE2004/0007A BE1015847A3 (nl) 2003-05-15 2004-01-08 Vormen van ondansetron en processen voor het maken van deze.

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7004678B2 (nl)
BE (1) BE1015847A3 (nl)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020003988A1 (en) * 1997-05-20 2002-01-10 Thomas Mikus Remediation method
DE60205038T2 (de) * 2001-10-24 2006-04-20 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. Thermisch verbessertes bodensanierungsverfahren
US7534926B2 (en) * 2003-05-15 2009-05-19 Board Of Regents, The University Of Texas System Soil remediation using heated vapors
JO2601B1 (en) * 2007-02-09 2011-11-01 ريد لييف ريسورسيز ، انك. Methods of extraction of hydrocarbons from hydrocarbons using existing infrastructure and accompanying systems
US7862706B2 (en) * 2007-02-09 2011-01-04 Red Leaf Resources, Inc. Methods of recovering hydrocarbons from water-containing hydrocarbonaceous material using a constructed infrastructure and associated systems
US8003844B2 (en) * 2008-02-08 2011-08-23 Red Leaf Resources, Inc. Methods of transporting heavy hydrocarbons
US8365478B2 (en) 2009-02-12 2013-02-05 Red Leaf Resources, Inc. Intermediate vapor collection within encapsulated control infrastructures
MA33112B1 (fr) * 2009-02-12 2012-03-01 Red Leaf Resources Inc Systemes de barriere et de collecte de vapeur pour infrastructures de commande encapsulees
US8490703B2 (en) * 2009-02-12 2013-07-23 Red Leaf Resources, Inc Corrugated heating conduit and method of using in thermal expansion and subsidence mitigation
US8323481B2 (en) * 2009-02-12 2012-12-04 Red Leaf Resources, Inc. Carbon management and sequestration from encapsulated control infrastructures
US8366917B2 (en) * 2009-02-12 2013-02-05 Red Leaf Resources, Inc Methods of recovering minerals from hydrocarbonaceous material using a constructed infrastructure and associated systems
MY152007A (en) * 2009-02-12 2014-08-15 Red Leaf Resources Inc Articulated conduit linkage system
UA104015C2 (ru) * 2009-02-12 2013-12-25 Ред Лиф Рисорсиз, Инк. Инфраструктура с контролированной проницаемостью и способ получения углеводородов из углеводородсодержащих материалов
US8349171B2 (en) * 2009-02-12 2013-01-08 Red Leaf Resources, Inc. Methods of recovering hydrocarbons from hydrocarbonaceous material using a constructed infrastructure and associated systems maintained under positive pressure
US8348551B2 (en) * 2009-07-29 2013-01-08 Terratherm, Inc. Method and system for treating contaminated materials
AP3601A (en) 2009-12-03 2016-02-24 Red Leaf Resources Inc Methods and systems for removing fines from hydrocarbon-containing fluids
BR112012014889A2 (pt) * 2009-12-16 2016-03-22 Red Leaf Resources Inc método para remoção e condensação de vapores
CN101836527B (zh) * 2010-04-13 2012-05-09 启东建筑集团山水园林建设有限公司 盐碱地园林绿化水土改良设施
AU2012367826A1 (en) 2012-01-23 2014-08-28 Genie Ip B.V. Heater pattern for in situ thermal processing of a subsurface hydrocarbon containing formation
US10047594B2 (en) 2012-01-23 2018-08-14 Genie Ip B.V. Heater pattern for in situ thermal processing of a subsurface hydrocarbon containing formation
CN102619237A (zh) * 2012-03-29 2012-08-01 刘萍 一种防止地下水硝酸盐污染的方法
DK3108760T3 (en) 2012-12-28 2018-03-05 Philip Morris Products Sa HEATER FOR AN AEROSOL GENERATING SYSTEM
US9370809B2 (en) * 2013-09-17 2016-06-21 Reterro Inc. In-situ thermal desorption processes
US10384246B2 (en) * 2014-10-16 2019-08-20 ARCADIS Corporate Services Inc. Thermal in-situ sustainable remediation system and method
EA037789B1 (ru) * 2016-04-19 2021-05-21 Джеосинтек Консалтантс, Инк. Способ производства или извлечения материалов путем неполного сжигания
CN107587498A (zh) * 2017-05-23 2018-01-16 温州大学 阳极增压联合电渗法加固软黏土***以及加固软黏土的方法
CN107190729A (zh) * 2017-06-20 2017-09-22 天津大学 一种地基加热装置及应用该装置进行地基加热联合真空预压处理软土地基的施工方法
WO2020005966A1 (en) * 2018-06-26 2020-01-02 Trs Group, Inc. Pfas remediation method and system
US10675664B2 (en) 2018-01-19 2020-06-09 Trs Group, Inc. PFAS remediation method and system
US10137486B1 (en) * 2018-02-27 2018-11-27 Chevron U.S.A. Inc. Systems and methods for thermal treatment of contaminated material
CN109351766B (zh) * 2018-11-30 2024-01-23 中冶南方都市环保工程技术股份有限公司 污染土壤燃气原位热脱附修复***
CN110090856A (zh) * 2019-03-26 2019-08-06 清华大学 土壤地下水联动处理装置及其处理方法
BE1027845B1 (fr) * 2019-12-27 2022-03-07 Haemers Tech Societe Anonyme Système de neutralisation in situ de vapeurs du sol
US11979950B2 (en) 2020-02-18 2024-05-07 Trs Group, Inc. Heater for contaminant remediation
CN111822496A (zh) * 2020-07-29 2020-10-27 广东佳德环保科技有限公司 一种基于燃气热脱附的原位土壤修复***及修复方法
CN112517622B (zh) * 2020-11-18 2022-01-28 吉林大学 一种污染土壤强化原位热脱附加热装置及方法
US11642709B1 (en) 2021-03-04 2023-05-09 Trs Group, Inc. Optimized flux ERH electrode

Family Cites Families (92)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2777679A (en) 1952-03-07 1957-01-15 Svenska Skifferolje Ab Recovering sub-surface bituminous deposits by creating a frozen barrier and heating in situ
US2902270A (en) 1953-07-17 1959-09-01 Svenska Skifferolje Ab Method of and means in heating of subsurface fuel-containing deposits "in situ"
US3181613A (en) 1959-07-20 1965-05-04 Union Oil Co Method and apparatus for subterranean heating
ZA715265B (en) 1970-08-21 1972-05-31 Schlumberger Overseas Neutron measuring technique for investigating earth formations
US3684037A (en) 1970-10-05 1972-08-15 Albert G Bodine Sonic drilling device
US4017309A (en) 1975-03-28 1977-04-12 Holmes & Narver, Inc. Thin layer leaching method
US4276164A (en) 1978-08-25 1981-06-30 Leonard P. Martone Effluent treatment system
US4380930A (en) 1981-05-01 1983-04-26 Mobil Oil Corporation System for transmitting ultrasonic energy through core samples
US4423323A (en) 1981-09-09 1983-12-27 Schlumberger Technology Corporation Neutron logging method and apparatus for determining a formation characteristic free of environmental effects
AU559284B2 (en) 1982-07-08 1987-03-05 Takeda Chemical Industries Ltd. Adsorption of mercury vapour
US4598392A (en) 1983-07-26 1986-07-01 Mobil Oil Corporation Vibratory signal sweep seismic prospecting method and apparatus
US4641028A (en) 1984-02-09 1987-02-03 Taylor James A Neutron logging tool
US4529497A (en) 1984-03-26 1985-07-16 Standard Oil Company (Indiana) Disposal of spent oil shale and other materials
US4577503A (en) 1984-09-04 1986-03-25 International Business Machines Corporation Method and device for detecting a specific acoustic spectral feature
US4704514A (en) 1985-01-11 1987-11-03 Egmond Cor F Van Heating rate variant elongated electrical resistance heater
US4670634A (en) 1985-04-05 1987-06-02 Iit Research Institute In situ decontamination of spills and landfills by radio frequency heating
DE3716275A1 (de) 1987-05-15 1988-11-24 Westfaelische Berggewerkschaft Verfahren und vorrichtung zur thermischen reinigung kontaminierter boeden
US4842448A (en) 1987-11-12 1989-06-27 Drexel University Method of removing contaminants from contaminated soil in situ
US4974425A (en) 1988-12-08 1990-12-04 Concept Rkk, Limited Closed cryogenic barrier for containment of hazardous material migration in the earth
US4860544A (en) 1988-12-08 1989-08-29 Concept R.K.K. Limited Closed cryogenic barrier for containment of hazardous material migration in the earth
EP0409771A3 (en) 1989-06-27 1991-06-12 Ciba-Geigy Ag Process of photochemical and thermal stabilization of polyamide fibres, dyeable by acid and basic dyes, and of their mixtures amongst themselves and with other fibres
US5305239A (en) 1989-10-04 1994-04-19 The Texas A&M University System Ultrasonic non-destructive evaluation of thin specimens
US5656239A (en) 1989-10-27 1997-08-12 Shell Oil Company Method for recovering contaminants from soil utilizing electrical heating
US4984594A (en) 1989-10-27 1991-01-15 Shell Oil Company Vacuum method for removing soil contamination utilizing surface electrical heating
US4973811A (en) 1989-11-30 1990-11-27 Shell Oil Company In situ decontamination of spills and landfills by radio frequency induction heating
US5232951A (en) 1990-01-26 1993-08-03 Exolon-Esk Company Method of converting environmentally pollutant waste gases to methanol
US5011329A (en) 1990-02-05 1991-04-30 Hrubetz Exploration Company In situ soil decontamination method and apparatus
US5251700A (en) * 1990-02-05 1993-10-12 Hrubetz Environmental Services, Inc. Well casing providing directional flow of injection fluids
US5325795A (en) * 1990-02-05 1994-07-05 Hrubetz Environmental Services, Inc. Mobile material decontamination apparatus
US5152341A (en) 1990-03-09 1992-10-06 Raymond S. Kasevich Electromagnetic method and apparatus for the decontamination of hazardous material-containing volumes
US5067852A (en) 1990-05-24 1991-11-26 J. B. Plunkett Associates, Inc. Method and apparatus for removing volatile contaminants from contaminated soil
US5076727A (en) 1990-07-30 1991-12-31 Shell Oil Company In situ decontamination of spills and landfills by focussed microwave/radio frequency heating and a closed-loop vapor flushing and vacuum recovery system
US5060287A (en) 1990-12-04 1991-10-22 Shell Oil Company Heater utilizing copper-nickel alloy core
US5190405A (en) 1990-12-14 1993-03-02 Shell Oil Company Vacuum method for removing soil contaminants utilizing thermal conduction heating
US5114497A (en) 1991-03-26 1992-05-19 Shell Oil Company Soil decontamination
US5209604A (en) 1991-04-09 1993-05-11 Shell Oil Company Soil decontamination
US5169263A (en) 1991-05-23 1992-12-08 Shell Oil Company In-situ soil decontamination process with sub-surface vapor recovery
US5193934A (en) 1991-05-23 1993-03-16 Shell Oil Company In-situ thermal desorption of contaminated surface soil
US5362397A (en) 1991-06-05 1994-11-08 Biogenie Inc. Method for the biodegradation of organic contaminants in a mass of particulate solids
US5213445A (en) 1991-09-26 1993-05-25 Ikenberry Maynard D System for heated air extraction of contaminants from soil stack
US5256208A (en) 1991-10-01 1993-10-26 Rafson Harold J Process for removing volatile contaminants from granular materials
US5244310A (en) 1991-10-04 1993-09-14 Shell Oil Company In-situ soil heating press/vapor extraction system
US5347070A (en) 1991-11-13 1994-09-13 Battelle Pacific Northwest Labs Treating of solid earthen material and a method for measuring moisture content and resistivity of solid earthen material
US5233164A (en) 1991-11-27 1993-08-03 Shell Oil Company Modified heater for in situ soil heating
US5249368A (en) 1991-12-23 1993-10-05 William Bertino Apparatus and method for isolated remediation of contaminated soil
CA2182668C (en) * 1992-01-07 2004-09-21 Joseph A. Pezzullo Process for soil decontamination by oxidation and vacuum extraction
US5221827A (en) 1992-02-12 1993-06-22 Shell Oil Company Heater blanket for in-situ soil heating
US5255742A (en) 1992-06-12 1993-10-26 Shell Oil Company Heat injection process
US5228804A (en) 1992-06-25 1993-07-20 Balch Thomas H Method and apparatus for hydrocarbon-contaminated soil remediation
US5229583A (en) 1992-09-28 1993-07-20 Shell Oil Company Surface heating blanket for soil remediation
US5539788A (en) 1992-10-08 1996-07-23 Westinghouse Electric Corporation Prompt gamma neutron activation analysis system
US5271693A (en) 1992-10-09 1993-12-21 Shell Oil Company Enhanced deep soil vapor extraction process and apparatus for removing contaminants trapped in or below the water table
US5403119A (en) 1993-01-19 1995-04-04 Four Seasons Environmental, Inc. Perforated piling for soil remediation
US5348422A (en) 1993-02-25 1994-09-20 Terranalysis Corporation Methods for the formation and operation of an in situ process reactor
CA2122224A1 (en) 1993-04-29 1994-10-30 Primo Marchesi Method and apparatus for soil remediation with superheated steam thermal desorption and recycle
US5360067A (en) 1993-05-17 1994-11-01 Meo Iii Dominic Vapor-extraction system for removing hydrocarbons from soil
US5547311A (en) 1993-10-01 1996-08-20 Kenda; William P. Cathodic protection, leak detection, and thermal remediation system
US5435666A (en) 1993-12-14 1995-07-25 Environmental Resources Management, Inc. Methods for isolating a water table and for soil remediation
US5829918A (en) 1994-03-24 1998-11-03 Chintis; Candice Method and apparatus for remediating contamination in soils
US5441365A (en) * 1994-04-29 1995-08-15 Xerox Corporation Apparatus and process for treating contaminated soil gases and liquids
US5553189A (en) 1994-10-18 1996-09-03 Shell Oil Company Radiant plate heater for treatment of contaminated surfaces
NZ295938A (en) 1994-10-25 1999-04-29 Geobiotics Inc Method for heap biooxidation of refractory sulphide ores
US5674424A (en) 1995-02-16 1997-10-07 General Electric Company Thermal heating blanket in-situ thermal desorption for remediation of hydrocarbon-contaminated soil
US5558463A (en) 1995-03-21 1996-09-24 Geisel; Donald J. Soil remediation apparatus and method
US5569154A (en) 1995-06-14 1996-10-29 Navetta; Michael S. Method and apparatus for removing mercury from mercury-contaminated soils
US5753494A (en) 1995-09-29 1998-05-19 Waste Management, Inc. Method and apparatus for treating contaminated soils with ozone
US5660500A (en) 1995-12-15 1997-08-26 Shell Oil Company Enhanced deep soil vapor extraction process and apparatus utilizing sheet metal pilings
US5813799A (en) * 1996-07-22 1998-09-29 Aerochem Research Laboratories, Inc. Combustion process and apparatus for removing volatile contaminants from groundwater or subsurface soil
US5788412A (en) 1996-11-15 1998-08-04 Jatkar; Jayant Method for in situ contaminant extraction from soil
DE19648928C2 (de) 1996-11-26 1998-09-10 Mut Mikrowellen Umwelt Technol Verfahren und Vorrichtung zur in-situ-Behandlung schadstoffbelasteter Böden
US5836718A (en) 1997-01-13 1998-11-17 Price; Philip A. Method and apparatus for ex situ cleaning of contaminated soil
AU8103998A (en) 1997-05-07 1998-11-27 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. Remediation method
US20020003988A1 (en) 1997-05-20 2002-01-10 Thomas Mikus Remediation method
DK1011882T3 (da) 1997-06-05 2002-12-16 Shell Int Research Remedieringsfremgangsmåde
US6039508A (en) 1997-07-25 2000-03-21 American Piledriving Equipment, Inc. Apparatus for inserting elongate members into the earth
DE19801321C2 (de) 1998-01-16 2003-07-03 Brz Bodenreinigungszentrum Her Verfahren zur Dekontaminierung von mit Quecksilber belasteten Feststoffen
DE19824930A1 (de) 1998-06-04 1999-12-09 Umwelttechnik Gmbh Verfahren zur in-situ-Erwärmung eines Stoffes sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US6419423B1 (en) 1998-10-08 2002-07-16 University Of Texas System Method for remediating near-surface contaminated soil
DE19927134A1 (de) 1999-06-14 2000-12-21 Josef Merai Verfahren und Anlage zur Reinigung von quecksilberkontaminierten Böden und Schlämmen
US6485232B1 (en) 2000-04-14 2002-11-26 Board Of Regents, The University Of Texas System Low cost, self regulating heater for use in an in situ thermal desorption soil remediation system
US6632047B2 (en) 2000-04-14 2003-10-14 Board Of Regents, The University Of Texas System Heater element for use in an in situ thermal desorption soil remediation system
US6824328B1 (en) 2000-04-14 2004-11-30 Board Of Regents, The University Of Texas System Vapor collection and treatment of off-gas from an in-situ thermal desorption soil remediation
US6910536B2 (en) 2000-04-24 2005-06-28 Shell Oil Company In situ thermal processing of a hydrocarbon containing formation using a natural distributed combustor
US6543539B1 (en) 2000-11-20 2003-04-08 Board Of Regents, The University Of Texas System Perforated casing method and system
CA2445415C (en) 2001-04-24 2011-08-30 Harold J. Vinegar In situ recovery from a oil shale formation
DE60227826D1 (de) 2001-10-24 2008-09-04 Shell Int Research Vereisung von böden als vorwegmassnahme zu deren thermischer behandlung
US20030110794A1 (en) 2001-10-24 2003-06-19 Stegemeier George L. Soil remediation well positioning in relation to curved obstructions
WO2003053603A2 (en) 2001-10-24 2003-07-03 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. Remediation of mercury contaminated soil
DE60205038T2 (de) 2001-10-24 2006-04-20 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. Thermisch verbessertes bodensanierungsverfahren
WO2003036024A2 (en) 2001-10-24 2003-05-01 Shell Internationale Research Maatschappij B.V. Method and system for in situ heating a hydrocarbon containing formation by a u-shaped opening
US7534926B2 (en) 2003-05-15 2009-05-19 Board Of Regents, The University Of Texas System Soil remediation using heated vapors
US6881009B2 (en) 2003-05-15 2005-04-19 Board Of Regents , The University Of Texas System Remediation of soil piles using central equipment

Also Published As

Publication number Publication date
US20040228689A1 (en) 2004-11-18
US7004678B2 (en) 2006-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE1015847A3 (nl) Vormen van ondansetron en processen voor het maken van deze.
CN101031548B (zh) N-(4-氟苄基)-n-(1-甲基哌啶-4-基)-n&#39;-(4-(2-甲基丙氧基)-苯基甲基)脲的盐及其制备
US8754104B2 (en) Crystalline salts of quinoline compounds and methods for preparing them
WO2011050962A1 (en) Acid addition salts of lenalidomide
AU2020276695A1 (en) New crystalline forms of N-(3-(2-(2-hydroxyethoxy)-6-morpholinopyridin-4-yl)-4-methvlphenyl)-2 (trifluoromethyl)isonicotinamide as Raf inhibitors for the treatment of cancer
RU2385325C2 (ru) Способ получения сульфата атазанавира
EP1988899A2 (en) Aripiprazole co-crystals
RU2613555C2 (ru) Моногидратный кристалл калиевой соли фимасартана, способ его получения и содержащая его фармакологическая композиция
JP7168447B2 (ja) ビラスチンの結晶形態及びそれらの調製方法
US20030191347A1 (en) Venlafaxine base
CA2433366C (en) Amlodipine free base
NL1022893C2 (nl) Vormen van ondansetron en processen voor het maken van deze.
AU2004238537A1 (en) Pioglitazone salts, such as pioglitazone sulfate, and pharmaceutical compositions and processes using the same
EP2032544A1 (en) Crystalline forms of letrozole and processes for making them
US10513500B2 (en) Crystalline forms of Lesinurad
US20050182066A1 (en) Methods for the production of sildenafil base and citrate salt
EP1499310A2 (en) Carvedilol monocitrate monohydrate
EP1318150A1 (en) Novel crystals of 1,3,4-oxadiazole derivative, process for producing the crystals and medicines containing the same as the active ingredient
AU2004299340B2 (en) Crystalline forms of (+)- and (-)-erythro-Mefloquine hydrochloride
WO2014111444A1 (en) Crystalline form ii of anagrelide hydrochloride monohydrate
CN113227059A (zh) 药物化合物、其制备方法和作为药剂的用途
EP1355632A1 (en) Amlodipine free base

Legal Events

Date Code Title Description
RE Patent lapsed

Effective date: 20070131