WO2021161879A1 - ガラス板構造体および車載表示装置 - Google Patents

ガラス板構造体および車載表示装置 Download PDF

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WO2021161879A1
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layer
antireflection film
main surface
surface region
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至弘 岩田
正文 伊藤
伊藤　淳
彰久 石野
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Ａｇｃ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a glass plate structure and an in-vehicle display device.
  • a glass plate structure having a glass plate, an antireflection film arranged on the first main surface of the glass plate, and a printing portion (frame portion) arranged on the second main surface of the glass plate has been used. It is used as a cover glass in a display device such as an in-vehicle display device (Patent Document 1).
  • Test Example 2 of Patent Document 2 discloses a 19-layer antireflection film (total film thickness: 621.3 nm). As a result of examination by the present inventors, when such an antireflection film is used, the effect of suppressing edge redness is recognized to some extent. However, since the number of layers of the antireflection film is excessively large, the manufacturing process becomes very complicated.
  • an object of the present invention is to provide a glass plate structure in which the number of layers of the antireflection film is small and the reddening at the edges is suppressed.
  • the present invention provides the following [1] to [7].
  • a glass plate having a first main surface and a second main surface, an antireflection film arranged on the first main surface, and a printing portion arranged on the second main surface are provided.
  • the first main surface is a region at the end of the glass plate, which is a curved surface region which is curved in a convex shape and has a radius of curvature r of 50% or more of the plate thickness t of the glass plate, and the curved surface.
  • the antireflection film has a flat surface region connected to the region, and the antireflection film is a laminated body in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately repeated, and the number of layers of the antireflection film is 12 or less.
  • the present invention it is possible to provide a glass plate structure in which the number of layers of the antireflection film is small and the reddening at the edges is suppressed.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a glass plate structure.
  • FIG. 2 is a schematic view showing how to obtain the radius of curvature of the curved surface region.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing an in-vehicle display device.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing the positional relationship between the light source and the detector.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a glass plate structure 1.
  • the glass plate structure 1 has a glass plate 2, an antireflection film 3, and a printing unit 4.
  • the glass plate 2 has a central portion 2a including the center of the glass plate 2 and an end portion 2b connected to the central portion 2a.
  • the glass plate 2 has a first main surface 21 which is one main surface and a second main surface 22 which is the other main surface.
  • the first main surface 21 has a flat surface region 21a which is a region of the central portion 2a of the glass plate 2.
  • the flat surface region 21a is a region of a flat surface in a cross section perpendicular to the first main surface 21. It can also be said that the portion of the glass plate 2 having the flat surface region 21a is the central portion 2a.
  • the first main surface 21 further has a curved surface region 21b which is a region of the end portion 2b of the glass plate 2.
  • the curved surface region 21b and the flat surface region 21a are connected to each other.
  • the curved surface region 21b is convexly curved (bent in a bow shape) in a cross section perpendicular to the first main surface 21.
  • Chamfering may be performed on the end portion of the first main surface 21 extending from the curved surface region 21b to the second main surface 22.
  • this end portion is also referred to as an "end chamfered portion" for convenience.
  • the distance L (the distance from the outermost end 2c of the glass plate 2 to the central portion 2a) defining the end portion 2b of the glass plate 2 is the flatness of the first main surface 21. It is a distance in a direction parallel to the plane direction of the plane region 21a.
  • the distance L is, for example, 0.5 mm or more and 5 mm or less, preferably 1 mm or more and 4 mm or less.
  • Such a distance L is obtained by measuring with a contour measuring device (for example, a contour record manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) at a magnification of 100 to 200 times.
  • the second main surface 22 is a surface facing the display panel 103 (see FIG. 3), which will be described later, and is a flat surface.
  • the plate thickness t of the glass plate 2 is the plate thickness t at the central portion 2a of the glass plate 2.
  • the plate thickness t of the glass plate 2 is, for example, 0.5 mm or more, preferably 0.7 mm or more, from the viewpoint of durability and the like.
  • the plate thickness t of the glass plate 2 is preferably 3.0 mm or less, more preferably 2.5 mm or less, and even more preferably 2.0 mm or less.
  • the plate thickness t of the glass plate 2 is determined by measuring at a magnification of 100 to 200 times using a contour measuring device (for example, a contour record manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.).
  • the radius of curvature r (see FIG. 2) of the curved surface region 21b is 50% or more, preferably 60% or more, of the plate thickness t of the glass plate 2.
  • the radius of curvature r of the curved surface region 21b is preferably 200% or less, more preferably 150% or less.
  • the radius of curvature r of the curved surface region 21b is determined by measuring with a contour measuring device (for example, a contour record manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) at a magnification of 100 to 200 times.
  • FIG. 2 is a schematic view showing how to obtain the radius of curvature r of the curved surface region 21b. As shown in FIG. 2, a tangent line 52 is drawn at an arbitrary point 51 in the curved surface region 21b, and the radius of the arc 53 passing through the tangent line 52 is the radius of curvature r. The radius of curvature r is obtained in the same manner over the entire curved surface region 21b. The radius of curvature r over the entire curved surface region 21b satisfies the above range.
  • the size of the glass plate 2 when viewed in a plan view is not particularly limited, and is appropriately determined according to, for example, the size of the display panel 103 described later.
  • the printing unit 4 is arranged on the second main surface 22.
  • the printing unit 4 is arranged at the end portion 2b of the glass plate 2.
  • the printing portion 4 may be arranged continuously from the end portion 2b of the glass plate 2 and also in a part of the central portion 2a of the glass plate 2.
  • the printing unit 4 may cover a part or all of the above-mentioned end chamfered portion.
  • the antireflection film 3 is a laminated body in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately repeated.
  • the number of layers of the antireflection film 3 is 12 or less.
  • the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 is a low refractive index layer or a high refractive index layer.
  • the antireflection film 3 is arranged on the first main surface 21. More specifically, the antireflection film 3 is continuously arranged in the flat surface region 21a and the curved surface region 21b of the first main surface 21.
  • end red discoloration may be visually recognized.
  • the region where the x value of the Yxy color system is 0.33 or more continues for 0.1 mm or more, reddish edge occurs. It can be said that (see [Example]).
  • the total film thickness td of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is 400 nm or less, and the film thickness ta of the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is 400 nm or less. It is 90 nm or more. As a result, even when the number of layers of the antireflection film 3 is as small as 12 or less, reddening at the edges is suppressed. It is presumed that the antireflection film 3 can reduce the reflectance of light including the red wavelength.
  • Glass plate examples of the glass type of the glass plate 2 include soda lime glass and aluminosilicate glass (SiO 2- Al 2 O 3- Na 2 O-based glass).
  • a chemical strengthening glass based on aluminosilicate glass for example, "Dragon Trail (registered trademark)" is also preferably used.
  • the end portion 2b of the glass plate 2 is provided with a curved surface region 21b in which the first main surface 21 is curved.
  • the curved surface region 21b is formed by, for example, using a rotary grindstone to grind the base plate (original) to be the glass plate 2.
  • the conditions for grinding using a rotary grindstone are appropriately selected according to the desired radius of curvature r of the curved surface region 21b and the like. At this time, as long as the number of steps is not excessively increased and the work is not complicated, the rough processing may be performed first using a grindstone having a coarse particle size, and then the finishing process may be performed using a grindstone having a fine particle size.
  • the antiglare layer 5 is a layer including the first main surface 21.
  • the antiglare layer 5 is formed by subjecting a base plate (original) to be a glass plate 2 to an antiglare treatment.
  • the antiglare treatment method is not particularly limited, and for example, a method of etching the surface layer of the base plate to be the glass plate 2; a coating liquid containing fine particles and a matrix is applied to the surface of the base plate to be the glass plate 2. , A method of curing the matrix; etc.
  • the antiglare layer 5 is, for example, a layer corresponding to the “underlayer” described in paragraphs [0023] to [0036] of International Publication No. 2017/0388868 (hereinafter, also referred to as “Reference 1” for convenience). It may be.
  • the antiglare layer 5 is formed by applying a predetermined coating composition to a base plate to be a glass plate 2 to form a coating film, and firing the coating film. More specifically, it is formed by the method described in paragraphs [0047] to [0124] of Reference 1.
  • the glass plate 2 is preferably chemically strengthened.
  • chemically strengthening glass is used as the glass type.
  • a method of chemical strengthening treatment typically, a method of immersing glass in a molten salt of KNO 3 , performing an ion exchange treatment, and then cooling to around room temperature can be mentioned.
  • the treatment conditions such as the temperature of the KNO 3 molten salt and the immersion time may be set so that the surface compressive stress (CS) of the compressive stress layer and the thickness (DOL) of the compressive stress layer become desired values.
  • the surface compressive stress (CS) of the compressive stress layer is preferably 500 MPa or more, more preferably 600 MPa or more, and even more preferably 700 MPa or more.
  • the surface compressive stress (CS) of the compressive stress layer is preferably 1300 MPa or less.
  • the thickness (DOL) of the compressive stress layer is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more, further preferably 20 ⁇ m or more, and particularly preferably 25 ⁇ m or more.
  • An antireflection film 3 is provided on the first main surface 21 of the glass plate 2. As a result, the reflection of light can be suppressed, and the display image of the display panel 103, which will be described later, can be made clear.
  • the antireflection film 3 is a laminated body in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately repeated.
  • the number of layers of the antireflection film 3 is 12 layers or less, preferably 9 layers or less, more preferably 4 layers or more, and further preferably 4 layers, 6 layers or 8 layers.
  • the high refractive index layer is a layer having a refractive index of 1.9 or more at a wavelength of 550 nm.
  • the low refractive index layer is a layer having a refractive index of 1.6 or less at a wavelength of 550 nm.
  • the materials of the high refractive index layer and the low refractive index layer are not particularly limited and can be selected in consideration of the required degree of antireflection, productivity and the like.
  • a material containing at least one selected from the group consisting of niobium, titanium, zirconium, tantalum and silicon is preferably mentioned. Specific examples thereof include niobium oxide (Nb 2 O 5 ), titanium oxide (TIO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), silicon nitride and the like.
  • Examples of the material constituting the low refractive index layer include a material containing silicon. Specific examples thereof include silicon oxide (SiO 2 ), a material containing a mixed oxide of Si and Sn, a material containing a mixed oxide of Si and Zr, and a material containing a mixed oxide of Si and Al. Be done.
  • the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 is preferably a low refractive index layer, and more preferably a low refractive index layer containing silicon oxide.
  • the total film thickness td of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is 400 nm or less, and the film thickness ta of the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is 90 nm or more. be. As a result, reddening at the edges is suppressed.
  • the total film thickness td of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is preferably 380 nm or less because red discoloration at the edges can be further suppressed. More preferably, it is 340 nm or less. On the other hand, the total film thickness td is preferably 200 nm or more, more preferably 220 nm or more.
  • the film thickness ta of the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is preferably 95 nm or more, more preferably 100 nm or more, because the reddening of the end portion can be further suppressed.
  • the film thickness ta is preferably 135 nm or less, more preferably 130 nm or less, and further preferably 125 nm or less.
  • the total film thickness td of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is preferably 285 nm or less, preferably 265 nm or less. More preferred. On the other hand, the total film thickness td is preferably 245 nm or more, more preferably 250 nm or more. In this case, the film thickness ta of the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is preferably 95 nm or more, more preferably 100 nm or more.
  • the film thickness ta is preferably 130 nm or less, more preferably 110 nm or less, and further preferably 102.5 nm or less.
  • the tint of the end portion 2b of the glass plate 2 can be set to an appropriate range, and the tint and reflectance of the central portion 2a of the glass plate 2 can be set to an appropriate range. Can be done.
  • the total film thickness td of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is preferably 290 nm or less, more preferably 285 nm or less.
  • the total film thickness td is preferably 250 nm or more, more preferably 255 nm or more.
  • the film thickness ta of the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is preferably 95 nm or more, more preferably 100 nm or more.
  • the film thickness ta is preferably 130 nm or less, more preferably 120 nm or less.
  • the total film thickness td of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is preferably 350 nm or less, more preferably 340 nm or less.
  • the total film thickness td is preferably 280 nm or more, more preferably 300 nm or more.
  • the film thickness ta of the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is preferably 95 nm or more, more preferably 100 nm or more.
  • the film thickness ta is preferably 140 nm or less, more preferably 130 nm or less.
  • each layer of the antireflection film 3 except for the outermost layer 31 is appropriately adjusted in consideration of a color other than red, a reflectance, and the like.
  • the method for forming the antireflection film 3 is not particularly limited, and for example, deposition by sputtering such as pulse sputtering, AC sputtering, digital sputtering; CVD (chemical vapor deposition); ALD (atomic layer deposition); vapor deposition; etc.
  • sputtering such as pulse sputtering, AC sputtering, digital sputtering; CVD (chemical vapor deposition); ALD (atomic layer deposition); vapor deposition; etc.
  • CVD chemical vapor deposition
  • ALD atomic layer deposition
  • vapor deposition etc.
  • a glass plate 2 is arranged in a chamber having a mixed gas atmosphere of an inert gas and an oxygen gas, and a target is selected so as to have a desired composition.
  • a target is selected so as to have a desired composition.
  • each layer of the antireflection film 3 is less likely to be deposited in the curved surface region 21b that is curved in a convex shape than in the flat flat surface region 21a. Therefore, the film thickness of each layer in the curved surface region 21b is thinner than the film thickness of each layer in the flat surface region 21a.
  • the ratio (tb / ta) of the film thickness tb in the curved surface region 21b to the film thickness ta in the flat surface region 21a is 100% or less.
  • the ratio (tb / ta) is 95% or less, preferably 85% or less.
  • the ratio (tb / ta) is preferably 60% or more, more preferably 70% or more.
  • the antireflection film 3 assumes that the ratio of the film thickness in the curved surface region 21b to the film thickness in the flat surface region 21a satisfies the ratio of the outermost layer 31 (tb / ta) even for the layers other than the outermost layer 31. Will be done.
  • the film thickness of each layer of the antireflection film is determined by measuring at a magnification of 50,000 times using a scanning electron microscope (SEM). Examples of the SEM include "SU-70" manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. However, since the film thickness of each layer in the curved surface region 21b of the antireflection film 3 is thicker as it is closer to the central portion 2a of the glass plate 2 and thinner as it is closer to the outermost end 2c of the glass plate 2, the above-mentioned distance L The film thickness at the intermediate point.
  • the printing portion 4 is formed in a frame shape, for example, at the end portion 2b of the glass plate 2. As a result, the printing unit 4 hides the wiring (not shown) connected to the display panel 103, which will be described later, so that it cannot be seen from the side of the first main surface 21 of the glass plate 2.
  • the printing unit 4 is formed by printing colored ink on the glass plate 2.
  • a method for printing the colored ink on the glass plate 2 for example, a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, a screen method, a photolithography method, a film / PAD / roll, or the like was used. Examples thereof include an offset printing method, an inkjet printing method, and a spray printing method. Among them, the screen method is preferable because it can be printed easily.
  • the color of the coloring ink is often black or white, but is not particularly limited.
  • This colored ink is not limited to the purpose of decoration, and may have a function such as transmitting a specific wavelength.
  • the coloring ink is not particularly limited, and for example, an inorganic ink containing ceramics (ceramic fired body) or the like; an organic ink containing a colorant such as a dye or pigment and an organic resin; or the like can be used.
  • the ceramics contained in the inorganic ink include oxides such as chromium oxide and iron oxide; carbides such as chromium carbide and tungsten carbide; carbon black; mica; and the like.
  • the colorant (dye or pigment) contained in the organic ink is not particularly limited and can be used.
  • Examples of the organic resin contained in the organic ink include epoxy resin, acrylic resin, polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polyarylate, polycarbonate, phenol resin, acrylonitrile-butadiene-styrene resin, polyurethane, and polymethacrylic acid. Homopolymers such as methyl, polyvinyl, polyvinylbutyral, polyether ether ketone, polyethylene, polyester, polypropylene, polyamide, and polyimide; copolymers of the monomers of these resins with copolymerizable monomers; and the like.
  • the organic ink is preferable because the firing temperature is low, and the organic ink containing a pigment is more preferable from the viewpoint of chemical resistance.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing the vehicle-mounted display device 101.
  • the in-vehicle display device 101 is, for example, a car navigation device or a rear seat entertainment (RSE) device for a rear seat occupant to view an image or the like.
  • RSE rear seat entertainment
  • the in-vehicle display device 101 has a housing 102 for accommodating each part.
  • a display panel 103 is arranged inside the housing 102.
  • the display panel 103 is, for example, a liquid crystal panel, an organic EL (electroluminescence) panel, an electronic ink type panel, and may have a touch panel or the like.
  • the glass plate structure 1 is attached to the display panel 103 by the adhesive layer 104. In this way, the glass plate structure 1 functions as a cover glass for the display panel 103.
  • the adhesive layer 104 include a layer made of a transparent resin obtained by curing a liquid curable resin composition.
  • the adhesive layer 104 may be an OCA (Optical Clear Adaptive) film or tape.
  • the thickness of the adhesive layer 104 is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 50 ⁇ m or more. On the other hand, the thickness of the adhesive layer 104 is preferably 400 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less.
  • Example 1 Example 3 and Example 5 are examples
  • Example 2 Example 4, Example 6 and Example 7 are comparative examples.
  • Example 1 The glass plate structure 1 of Example 1 was produced as follows.
  • a base plate to be the glass plate 2 a chemically strengthened glass (“Dragon Trail” manufactured by AGC Inc.) was prepared.
  • the prepared base plate is subjected to grinding, antiglare treatment and chemical strengthening treatment described below in this order, and a rectangular glass plate 2 having an antiglare layer 5 (plate thickness t: 1.3 mm, size: 250 mm). ⁇ 145 mm) was obtained.
  • the prepared base plate was ground using a rotary grindstone.
  • the distance L of the end portion 2b was set to 2 mm, and the maximum value was set to 5 mm and the minimum value was set to 0.7 mm for the radius of curvature r of the curved surface region 21b.
  • the antiglare layer 5 was formed by preparing, applying and firing the coating liquid in the same manner as in Example 3 of Reference Document 1 (International Publication No. 2017/0388868). More specifically, first, the coating liquid (C) described in paragraphs [0165] to [0167] of Reference Document 1 was prepared. Next, the temperature inside the coating booth of the electrostatic coating device was adjusted within the range of 25 ° C. ⁇ 1 ° C., and the humidity was adjusted within the range of 50% ⁇ 10%. The ground plate was preheated to 30 ° C. ⁇ 3 ° C. and placed on a chain conveyor of an electrostatic coating device via a conductive substrate. The coating liquid (C) having a temperature within the range of 25 ° C.
  • ⁇ 1 ° C. was applied to the surface of the glass plate 2 to be the first main surface 21 while being conveyed at a constant speed by a chain conveyor by an electrostatic coating method.
  • the conditions of the electrostatic coating method were the coating conditions of Example 3 (coating liquid amount, cup rotation speed, nozzle height, cup diameter, voltage, number of coatings) described in Table 1 of Reference Document 1. Then, it was calcined in the air at 450 ° C. for 30 minutes.
  • the base plate that had been ground and anti-glare treated was chemically strengthened.
  • the chemical strengthening treatment was carried out by immersing the entire glass plate in KNO 3 molten salt so that the thickness of the compressive stress layer (DOL) was 35 ⁇ m and the surface compressive stress (CS) in the compressive stress layer was 750 MPa. ..
  • the glass plate 2 was fixed to a rotating jig in the chamber of a load lock type sputtering film forming apparatus (RAS) manufactured by Syncron Co., Ltd.
  • Nb was used as a sputtering source to form an Nb thin film.
  • oxygen gas was introduced into the radical source to oxidize the Nb thin film.
  • a high refractive index layer made of niobium oxide (Nb 2 O 5) was formed.
  • a film was formed on the first layer using Si as a sputtering source and oxygen gas as a radical source.
  • Si as a sputtering source
  • oxygen gas as a radical source.
  • a Si thin film was first formed on the first layer and then oxidized with oxygen gas. These two operations were repeated and repeated for a period of time according to the film thickness while rotating.
  • As the sputtering target a 705 mm ⁇ 147 mm Si target was used.
  • the sputtering conditions were a pressure of 0.2 Pa, a drum rotation speed of 100 rpm, and an output of 7.5 kW.
  • a low refractive index layer (second layer) made of silicon oxide (SiO 2) was formed on the first layer.
  • a high refractive index layer (fifth layer) made of niobium oxide (Nb 2 O 5 ) was formed on the fourth layer in the same manner as the first layer.
  • a low refractive index layer (sixth layer) made of silicon oxide (SiO 2 ) was formed on the fifth layer in the same manner as the second layer.
  • This sixth layer is the outermost layer 31 of the antireflection film 3.
  • each layer of the antireflection film 3 is less likely to be deposited than in the flat flat surface region 21a. Therefore, the film thickness of each layer in the curved surface region 21b is thinner than the film thickness of each layer in the flat surface region 21a.
  • the ratio (tb / ta) of the outermost layer 31 is shown in Table 1 below. Regarding the layers other than the outermost layer 31, the ratio of the film thickness in the curved surface region 21b to the film thickness in the flat surface region 21a was the same as the ratio of the outermost layer 31 (tb / ta).
  • a frame-shaped printing portion 4 having a width of 10 mm was formed on the second main surface 22 of the glass plate 2. More specifically, first, a black ink was applied to a thickness of 5 ⁇ m using a screen printing machine, and then held at 150 ° C. for 10 minutes to be dried to form a first printing layer. Next, a black ink was applied to a thickness of 5 ⁇ m on the first print layer in the same procedure, and then held at 150 ° C. for 40 minutes to dry to form a second print layer. In this way, the printing unit 4 in which the first printing layer and the second printing layer are laminated is formed. As the black ink, HFGV3RX01 (trade name, manufactured by Seiko Co., Ltd.) was used.
  • Example 2 For the first to sixth layers of the antireflection film 3, the film thickness of each layer in the flat surface region 21a was changed to a value different from that of Example 1 by changing the film formation time of each layer. A glass plate structure 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above. In Example 2, the shape (distance L and radius of curvature r) of the curved surface region 21b is the same as in Example 1. Therefore, the ratio (tb / ta) became the same value as in Example 1, and the film thickness tb changed accordingly (the same applies to the following examples).
  • Example 3 and Example 4 A four-layer antireflection film 3 was formed in which a high refractive index layer (niobium oxide layer) and a low refractive index layer (silicon oxide layer) were alternately repeated.
  • the film thickness of each layer in the flat surface region 21a is shown in Table 1 below.
  • a glass plate structure 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • Example 5 and Example 6 An eight-layer antireflection film 3 was formed in which a high refractive index layer (niobium oxide layer) and a low refractive index layer (silicon oxide layer) were alternately repeated.
  • the film thickness of each layer in the flat surface region 21a is shown in Table 1 below.
  • a glass plate structure 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • Example 7 A seven-layer antireflection film 3 was formed in which a high refractive index layer (niobium oxide layer) and a low refractive index layer (silicon oxide layer) were alternately repeated. However, the first layer was a low refractive index layer (silicon oxide layer), and the seventh layer, which is the outermost layer 31, was also a low refractive index layer (silicon oxide layer).
  • the film thickness of each layer in the flat surface region 21a is shown in Table 1 below.
  • a glass plate structure 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • the x value of the Yxy color system was determined for the curved surface region 21b in which the antireflection film 3 of the glass plate structure 1 was arranged.
  • the arrangement is such that the angle ⁇ 2 is the same as the angle ⁇ 2.
  • the angle ⁇ 1 and the angle ⁇ 2 were set to 10 to 80 degrees.
  • the light source 201 illumination having sensitivity in the visible light region was used. Specifically, white LED lighting (OPF-S100X100W-PS manufactured by OPTEX FA) was used.
  • a white calibration plate is used to obtain spectral data to create a correction value, and by using the correction value, the Yxy value in the Yxy color system can be obtained.
  • a spectroradiometer (“SR-5000” manufactured by Topcon Techno House Co., Ltd.) was used. If the region with an x value of 0.33 or more does not continue for 0.1 mm or more, "A” is displayed, and if the region with an x value of 0.33 or more continues for 0.1 mm or more, "B” is displayed below. It is described in Table 1. If it is "A”, it can be evaluated that the reddish edge is suppressed.
  • the antireflection characteristics of the antireflection film 3 arranged in the curved surface region 21b were evaluated. Specifically, with respect to the end portion 2b of the glass plate 2 on which the printing portion 4 and the antireflection film 3 are formed, a spectrophotometer (CM-2600D) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. is used to Y in the Yxy color system. The value (SCI) was measured. When the Y value is 2.0 or less, “A” is shown, and when the Y value is larger than 2.0, “B” is shown in Table 1 below. If it is "A", it can be evaluated as having excellent antireflection characteristics.
  • C-2600D spectrophotometer manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.
  • the total film thickness td of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is 400 nm or less, and the film thickness ta of the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 in the flat surface region 21a is 400 nm or less.
  • examples 1, 3 and 5 having a film thickness of 90 nm or more, reddening at the edges was suppressed.
  • Example 2 Example 4, Example 6 and Example 7 in which the film thickness ta in the flat surface region 21a of the outermost surface layer 31 of the antireflection film 3 is not 90 nm or more, the suppression of reddish edge is insufficient.
  • Glass plate structure 2 Glass plate 2a: Central portion of the glass plate 2b: Edge portion of the glass plate 2c: End of the glass plate 21: First main surface of the glass plate 21a: Flat surface region of the first main surface 21b: Curved surface region of the first main surface 22: Second main surface of the glass plate 3: Antireflection film 31: Outer surface layer of the antireflection film 4: Printed portion 51: Point 52: tangent line 53: Arc 101: In-vehicle display device 102: Housing 103: Display panel 104: Adhesive layer r: Radius of curvature in curved surface region t: Thickness of glass plate ta: Film thickness in flat surface region of outermost layer of antireflection film tb: Maximum of antireflection film Film thickness in the curved surface region of the surface layer td: Total film thickness in the flat surface region of the antireflection film L: Distance between ends

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Abstract

本発明は、第一主面および第二主面を有するガラス板と、上記第一主面上に配置された反射防止膜と、上記第二主面上に配置された印刷部と、を備え、上記第一主面は、上記ガラス板の端部の領域であって、凸状に湾曲し、上記ガラス板の板厚ｔの５０％以上の曲率半径ｒを有する湾曲面領域と、上記湾曲面領域に接続する平坦面領域と、を有し、上記反射防止膜は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に繰り返す積層体であり、上記反射防止膜の層数が、１２層以下であり、上記反射防止膜の上記平坦面領域での総膜厚が、４００ｎｍ以下であり、上記反射防止膜の最表層の上記平坦面領域での膜厚が、９０ｎｍ以上である、ガラス板構造体に関する。

Description

ガラス板構造体および車載表示装置
　本発明は、ガラス板構造体および車載表示装置に関する。
　従来、ガラス板と、ガラス板の第一主面上に配置された反射防止膜と、ガラス板の第二主面上に配置された印刷部（額縁部）とを有するガラス板構造体が、車載表示装置などの表示装置において、カバーガラスとして使用されている（特許文献１）。
日本国特開２０１８－１９７１７６号公報 国際公開第２０１８／１１０４９９号
　近年、第一主面の端部が凸状に湾曲したガラス板構造体がある。
　本発明者らは、このようなガラス板構造体を、第一主面側から見たときに、端部が赤色に見える現象（以下、「端部赤変」ともいう）が生じる場合があることを発見した。
　このようなガラス板構造体を、その端部を露出させた状態で表示装置のカバーガラスとして用いた場合、表示装置のユーザに端部赤変が視認される。
　赤色はいわゆる警戒色であるため、端部赤変は、表示装置のユーザに好まれない可能性がある。また、表示装置のユーザは、端部赤変を、例えば表示装置の異常や故障と誤認する可能性もある。
　特許文献２の試験例２には、１９層の反射防止膜（総膜厚：６２１．３ｎｍ）が開示されている。本発明者らが検討したところ、このような反射防止膜を用いた場合、端部赤変を抑制する効果は、ある程度、認められた。しかし、反射防止膜の層数が過剰に多いため、製造工程が非常に煩雑となる。
　そこで、本発明は、反射防止膜の層数が少なく、かつ、端部赤変が抑制されたガラス板構造体の提供を目的とする。
　本発明者らは、鋭意検討した結果、下記構成を採用することにより、上記目的が達成されることを見出した。
　すなわち、本発明は、以下の［１］～［７］を提供する。
　［１］第一主面および第二主面を有するガラス板と、上記第一主面上に配置された反射防止膜と、上記第二主面上に配置された印刷部と、を備え、上記第一主面は、上記ガラス板の端部の領域であって、凸状に湾曲し、上記ガラス板の板厚ｔの５０％以上の曲率半径ｒを有する湾曲面領域と、上記湾曲面領域に接続する平坦面領域と、を有し、上記反射防止膜は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に繰り返す積層体であり、上記反射防止膜の層数が、１２層以下であり、上記反射防止膜の上記平坦面領域での総膜厚が、４００ｎｍ以下であり、上記反射防止膜の最表層の上記平坦面領域での膜厚が、９０ｎｍ以上である、ガラス板構造体。
　［２］上記ガラス板は、化学強化処理が施されている、上記［１］に記載のガラス板構造体。
　［３］更に、上記第一主面に設けられた防眩層を有する、上記［１］または［２］に記載のガラス板構造体。
　［４］上記反射防止膜の上記最表層が、酸化ケイ素を含有する上記低屈折率層である、上記［１］～［３］のいずれかに記載のガラス板構造体。
　［５］上記反射防止膜の層数が、９層以下である、上記［１］～［４］のいずれかに記載のガラス板構造体。
　［６］上記反射防止膜の層数が、４層以上である、上記［１］～［５］のいずれかに記載のガラス板構造体。
　［７］表示パネルと、上記表示パネルをカバーする上記［１］～［６］のいずれかに記載のガラス板構造体と、を備える車載表示装置。
　本発明によれば、反射防止膜の層数が少なく、かつ、端部赤変が抑制されたガラス板構造体を提供できる。
図１はガラス板構造体を示す断面図である。 図２は湾曲面領域の曲率半径の求め方を示す模式図である。 図３は車載表示装置を示す断面図である。 図４は光源と検出器との位置関係を示す模式図である。
　以下、本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態に限定されない。本発明の範囲を逸脱しない範囲で、以下の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
　ガラス板の板厚ｔ、湾曲面領域の曲率半径ｒ、および、反射防止膜の膜厚の求め方は、後述する。
［ガラス板構造体］
　図１は、ガラス板構造体１を示す断面図である。ガラス板構造体１は、ガラス板２、反射防止膜３、および、印刷部４を有する。
　ガラス板２は、ガラス板２の中心を含む中央部２ａと、中央部２ａに接続した端部２ｂとを有する。
　ガラス板２は、一方の主面である第一主面２１と、他方の主面である第二主面２２とを有する。
　第一主面２１は、ガラス板２の中央部２ａの領域である平坦面領域２１ａを有する。平坦面領域２１ａは、第一主面２１に対して垂直な断面において、平坦な面の領域である。
　なお、平坦面領域２１ａがあるガラス板２の部分が中央部２ａである、と言うこともできる。
　第一主面２１は、更に、ガラス板２の端部２ｂの領域である湾曲面領域２１ｂを有する。湾曲面領域２１ｂと平坦面領域２１ａとは接続している。湾曲面領域２１ｂは、第一主面２１に対して垂直な断面において、凸状に湾曲している（弓なりに曲がっている）。
　第一主面２１の湾曲面領域２１ｂから第二主面２２に跨る端部に、面取りが実施されていてもよい。以下、この端部を、便宜的に「端部面取り部」ともいう。
　第一主面２１に対して垂直な断面において、ガラス板２の端部２ｂを規定する距離Ｌ（ガラス板２の最端２ｃから中央部２ａまでの距離）は、第一主面２１の平坦面領域２１ａの面方向と平行な方向の距離である。距離Ｌは、例えば、０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下であり、１ｍｍ以上４ｍｍ以下が好ましい。
　このような距離Ｌは、輪郭測定装置（例えば、東京精密社製のコンターレコード）を用いて、１００～２００倍の倍率で計測することにより求める。
　第二主面２２は、後述する表示パネル１０３（図３参照）と対向する面であり、平坦な面である。
　ガラス板２の板厚ｔは、ガラス板２の中央部２ａにおける板厚ｔである。
　ガラス板２の板厚ｔは、耐久性等の観点から、例えば、０．５ｍｍ以上であり、０．７ｍｍ以上が好ましい。一方、ガラス板２の板厚ｔは、３．０ｍｍ以下が好ましく、２．５ｍｍ以下がより好ましく、２．０ｍｍ以下が更に好ましい。
　ガラス板２の板厚ｔは、輪郭測定装置（例えば、東京精密社製のコンターレコード）を用いて、１００～２００倍の倍率で計測することにより求める。
　湾曲面領域２１ｂの曲率半径ｒ（図２参照）は、ガラス板２の板厚ｔの５０％以上であり、６０％以上が好ましい。一方、湾曲面領域２１ｂの曲率半径ｒは、２００％以下が好ましく、１５０％以下がより好ましい。
　湾曲面領域２１ｂの曲率半径ｒは、輪郭測定装置（例えば、東京精密社製のコンターレコード）を用いて、１００～２００倍の倍率で計測することにより求める。
　図２は、湾曲面領域２１ｂの曲率半径ｒの求め方を示す模式図である。図２に示すように、湾曲面領域２１ｂの任意の点５１に接線５２を引き、接線５２を通る円弧５３の半径が、曲率半径ｒである。湾曲面領域２１ｂの全域に渡って、同様にして、曲率半径ｒを求める。湾曲面領域２１ｂの全域に渡る曲率半径ｒが、上記範囲を満たす。
　再び図１の説明に戻る。
　ガラス板２を平面視した（第一主面２１の側から見た）ときの大きさ等は、特に限定されず、例えば、後述する表示パネル１０３の大きさ等に応じて適宜決定される。
　印刷部４は、第二主面２２の上に配置されている。印刷部４は、ガラス板２の端部２ｂに配置されている。印刷部４は、ガラス板２の端部２ｂから連続して、ガラス板２の中央部２ａの一部にも配置されていてもよい。印刷部４は、上述した端部面取り部の一部または全部を覆っていてもよい。
　反射防止膜３は、低屈折率層と高屈折率層とを交互に繰り返す積層体である。反射防止膜３の層数は、１２層以下である。反射防止膜３の最表層３１は、低屈折率層または高屈折率層である。
　反射防止膜３は、第一主面２１の上に配置されている。より詳細には、反射防止膜３は、第一主面２１の平坦面領域２１ａおよび湾曲面領域２１ｂに連続的に配置されている。
　このようなガラス板構造体１を、第一主面２１の側から見たときに、端部赤変が視認される場合がある。
　具体的には、例えば、反射防止膜３が配置された湾曲面領域２１ｂにおいて、Ｙｘｙ表色系のｘ値が０．３３以上である領域が０．１ｍｍ以上続く場合、端部赤変が生じていると言える（［実施例］参照）。
　しかし、本実施形態においては、反射防止膜３の平坦面領域２１ａでの総膜厚ｔｄが４００ｎｍ以下であり、かつ、反射防止膜３の最表層３１の平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａが９０ｎｍ以上である。これにより、反射防止膜３の層数が１２層以下と少ない場合であっても、端部赤変が抑制される。
　このような反射防止膜３とすることにより、赤色の波長を含む光の反射率を低減できるためと推測される。
　以下、ガラス板構造体１の各部を、より詳細に説明する。
 〈ガラス板〉
　ガラス板２のガラス種としては、例えば、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス（ＳｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３－Ｎａ２Ｏ系ガラス）等が挙げられる。
　後述する化学強化処理を施す場合は、アルミノシリケートガラスをベースとする化学強化用ガラス（例えば「ドラゴントレイル（登録商標）」）も好適に用いられる。
 《研削》
　上述したように、ガラス板２の端部２ｂには、第一主面２１が湾曲した湾曲面領域２１ｂが設けられている。湾曲面領域２１ｂは、例えば、回転砥石を用いて、ガラス板２となる素板（もといた）を研削することにより形成する。
　回転砥石を用いた研削の条件（砥石番手、加工速度、研削量など）は、所望する湾曲面領域２１ｂの曲率半径ｒなどに応じて、適宜選択される。このとき、工程数が過剰に増えて作業が煩雑にならない範囲で、まず粒度が粗い砥石を用いて粗加工し、その後、粒度が細かい砥石を用いて仕上げ加工してもよい。
 《防眩処理》
　ガラス板２の第一主面２１には、防眩層５が設けられていることが好ましい。
　防眩層５は、第一主面２１を含む層である。ガラス板２に防眩層５が設けられている場合、第一主面２１は、凹凸構造を有する。
　防眩層５は、ガラス板２となる素板（もといた）に対して、防眩処理を施すことにより形成される。
　防眩処理の方法としては、特に限定されず、例えば、ガラス板２となる素板の表層をエッチングする方法；ガラス板２となる素板の表面に微粒子とマトリックスとを含むコーティング液を塗布し、マトリックスを硬化する方法；等が挙げられる。
　防眩層５は、例えば、国際公開第２０１７／０３８８６８号（以下、便宜的に「参照文献１」ともいう）の段落［００２３］～［００３６］に記載された「下地層」に相当する層であってもよい。
　この場合、防眩層５は、ガラス板２となる素板に所定の塗料組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を焼成することにより、形成される。より詳細には、参照文献１の段落［００４７］～［０１２４］に記載された方法によって形成される。
 《化学強化処理》
　ガラス板２は、化学強化処理が施されていることが好ましい。
　化学強化処理を施す場合、ガラス種として、化学強化用ガラスを用いる。
　化学強化処理の方法としては、典型的には、ガラスをＫＮＯ３溶融塩に浸漬し、イオン交換処理した後、室温付近まで冷却する方法が挙げられる。ＫＮＯ３溶融塩の温度や浸漬時間などの処理条件は、圧縮応力層の表面圧縮応力（ＣＳ）および圧縮応力層の厚さ（ＤＯＬ）が所望の値となるように設定すればよい。
　圧縮応力層の表面圧縮応力（ＣＳ）は、５００ＭＰａ以上が好ましく、６００ＭＰａ以上がより好ましく、７００ＭＰａ以上が更に好ましい。一方、圧縮応力層の表面圧縮応力（ＣＳ）は、１３００ＭＰａ以下が好ましい。
　圧縮応力層の厚さ（ＤＯＬ）は、１０μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上が更に好ましく、２５μｍ以上が特に好ましい。
 〈反射防止膜〉
　ガラス板２の第一主面２１の上には、反射防止膜３を設ける。これにより光の反射を抑制し、後述する表示パネル１０３の表示画像を鮮明にできる。
　反射防止膜３は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に繰り返す積層体である。反射防止膜３の層数は、１２層以下であり、９層以下が好ましく、４層以上がより好ましく、４層、６層または８層が更に好ましい。
　高屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．９以上の層である。低屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．６以下の層である。
　高屈折率層および低屈折率層の材料は、特に限定されず、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。
　高屈折率層を構成する材料としては、例えば、ニオブ、チタン、ジルコニウム、タンタルおよびシリコンからなる群から選択される少なくとも１種を含む材料が好適に挙げられる。具体的には、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、窒化シリコン等が挙げられる。
　低屈折率層を構成する材料としては、例えば、ケイ素を含有する材料が挙げられる。具体的には、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、ＳｉとＳｎとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＺｒとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＡｌとの混合酸化物を含む材料等が挙げられる。
　反射防止膜３の最表層３１は、低屈折率層であることが好ましく、酸化ケイ素を含有する低屈折率層であることがより好ましい。
　上述したように、反射防止膜３の平坦面領域２１ａでの総膜厚ｔｄが４００ｎｍ以下であり、かつ、反射防止膜３の最表層３１の平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａが９０ｎｍ以上である。これにより、端部赤変が抑制される。
　後述するように反射防止膜３の層数にもよるが、端部赤変をより抑制できるという理由から、反射防止膜３の平坦面領域２１ａでの総膜厚ｔｄは、３８０ｎｍ以下が好ましく、３４０ｎｍ以下がより好ましい。一方、総膜厚ｔｄは、２００ｎｍ以上が好ましく、２２０ｎｍ以上がより好ましい。
　同様に、端部赤変をより抑制できるという理由から、反射防止膜３の最表層３１の平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａは、９５ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。一方、反射防止膜３の反射防止特性を良好にする観点からは、膜厚ｔａは、１３５ｎｍ以下が好ましく、１３０ｎｍ以下がより好ましく、１２５ｎｍ以下が更に好ましい。
　より具体的には、例えば、反射防止膜３の層数が４層または５層である場合、反射防止膜３の平坦面領域２１ａでの総膜厚ｔｄは、２８５ｎｍ以下が好ましく、２６５ｎｍ以下がより好ましい。一方、総膜厚ｔｄは、２４５ｎｍ以上が好ましく、２５０ｎｍ以上がより好ましい。
　この場合、反射防止膜３の最表層３１の平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａは、９５ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。一方、膜厚ｔａは、１３０ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、１０２．５ｎｍ以下が更に好ましい。
　反射防止膜３の膜厚がこの範囲であれば、ガラス板２の端部２ｂの色味を適切な範囲にでき、かつ、ガラス板２の中央部２ａの色味および反射率を適切な範囲にできる。
　同様の理由から、反射防止膜３の層数が６層または７層である場合、反射防止膜３の平坦面領域２１ａでの総膜厚ｔｄは、２９０ｎｍ以下が好ましく、２８５ｎｍ以下がより好ましい。一方、総膜厚ｔｄは、２５０ｎｍ以上が好ましく、２５５ｎｍ以上がより好ましい。
　この場合、反射防止膜３の最表層３１の平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａは、９５ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。一方、膜厚ｔａは、１３０ｎｍ以下が好ましく、１２０ｎｍ以下がより好ましい。
　同様の理由から、反射防止膜３の層数が８層または９層である場合、反射防止膜３の平坦面領域２１ａでの総膜厚ｔｄは、３５０ｎｍ以下が好ましく、３４０ｎｍ以下がより好ましい。一方、総膜厚ｔｄは、２８０ｎｍ以上が好ましく、３００ｎｍ以上がより好ましい。
　この場合、反射防止膜３の最表層３１の平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａは、９５ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。一方、膜厚ｔａは、１４０ｎｍ以下が好ましく、１３０ｎｍ以下がより好ましい。
　反射防止膜３の最表層３１を除く各層の膜厚は、赤色以外の色味および反射率などを考慮して、適宜調整される。
　反射防止膜３を形成する方法は、特に限定されず、例えば、パルススパッタ、ＡＣスパッタ、デジタルスパッタなどのスパッタ；ＣＶＤ（化学気相成長）；ＡＬＤ（原子層堆積）；蒸着；等により成膜する方法が挙げられる。
　例えば、パルススパッタにより成膜する場合、不活性ガスと酸素ガスとの混合ガス雰囲気のチャンバ内にガラス板２を配置し、これに対して、所望の組成となるようにターゲットを選択し、成膜する。
　ところで、例えば反射防止膜３をスパッタにより形成する場合、凸状に湾曲している湾曲面領域２１ｂにおいては、平坦な平坦面領域２１ａよりも、反射防止膜３の各層が堆積しにくい。
　そのため、湾曲面領域２１ｂでの各層の膜厚は、平坦面領域２１ａでの各層の膜厚よりも薄くなる。
　その結果、反射防止膜３の最表層３１について、平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａに対する湾曲面領域２１ｂでの膜厚ｔｂの割合（ｔｂ／ｔａ）は、１００％以下になる。例えば、割合（ｔｂ／ｔａ）は、９５％以下であり、８５％以下が好ましい。一方、割合（ｔｂ／ｔａ）は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
　反射防止膜３は、最表層３１を除く層についても、平坦面領域２１ａでの膜厚に対する湾曲面領域２１ｂでの膜厚の割合は、最表層３１の割合（ｔｂ／ｔａ）を満たすと想定される。
　反射防止膜の各層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、５０，０００倍の倍率で計測することにより求める。ＳＥＭとしては、例えば、日立ハイテクノロジーズ社製の「ＳＵ－７０」が挙げられる。
　ただし、反射防止膜３の湾曲面領域２１ｂでの各層の膜厚は、ガラス板２の中央部２ａに近いほど厚く、ガラス板２の最端２ｃに近いほど薄いことから、上述した距離Ｌの中間地点での膜厚とする。
 〈印刷部〉
　印刷部４は、例えば、ガラス板２の端部２ｂにおいて、枠状に形成される。これにより、印刷部４は、後述する表示パネル１０３に接続された配線（図示せず）などを、ガラス板２の第一主面２１の側から視認できないように隠蔽する。
　印刷部４は、着色インクをガラス板２に印刷して形成される。
　着色インクをガラス板２に印刷する方法としては、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、スクリーン法、フォトリソグラフィ法、フィルム・ＰＡＤ・ロール等を用いたオフセット印刷法、インクジェット印刷法、スプレー印刷法などが挙げられ、なかでも、簡便に印刷できる等の理由から、スクリーン法が好ましい。
　着色インクの色は、黒色または白色が多いが、特に限定されない。この着色インクは、加飾目的に限定されず、特定の波長を透過するなどの機能が付加されていてもよい。
　着色インクとしては、特に限定されず、例えば、セラミックス（セラミックス焼成体）などを含有する無機系インク；染料または顔料などの色料と有機樹脂とを含有する有機系インク；等が使用できる。
　無機系インクに含有されるセラミックスとしては、例えば、酸化クロム、酸化鉄などの酸化物；炭化クロム、炭化タングステンなどの炭化物；カーボンブラック；雲母；等が挙げられる。
　有機系インクに含有される色料（染料または顔料）としては、特に限定されず使用できる。
　有機系インクに含有される有機樹脂としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリカーボネート、フェノール樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂、ポリウレタン、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニル、ポリビニルブチラール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミドなどのホモポリマー；これらの樹脂のモノマーと共重合可能なモノマーとのコポリマー；等が挙げられる。
　無機系インクと有機系インクとでは、焼成温度が低いことから、有機系インクが好ましく、耐薬品性の観点から、顔料を含む有機系インクがより好ましい。
［車載表示装置］
　次に、図３に基づいて、ガラス板構造体１を用いた表示装置として、車両に搭載されて使用される車載表示装置１０１を説明する。
　図３は、車載表示装置１０１を示す断面図である。車載表示装置１０１は、例えば、カーナビゲーション装置、または、リアシートの乗員が映像等を視聴するためのリアシートエンタテインメント（ＲＳＥ）装置である。
　車載表示装置１０１は、各部を収納する筐体１０２を有する。筐体１０２の内部には、表示パネル１０３が配置されている。表示パネル１０３は、例えば、液晶パネル、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）パネル、電子インク型パネルであり、タッチパネル等を有していてもよい。
　ガラス板構造体１が、粘着層１０４によって、表示パネル１０３に貼合されている。こうして、ガラス板構造体１は、表示パネル１０３のカバーガラスとして機能する。
　粘着層１０４としては、例えば、液状の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる透明樹脂からなる層が挙げられる。粘着層１０４は、ＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）フィルムまたはテープであってもよい。粘着層１０４の厚さは、５μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましい。一方、粘着層１０４の厚さは、４００μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましい。
　以下に、実施例により本発明を具体的に説明する。ただし、本発明は、以下の実施例に限定されない。例１、例３および例５は実施例であり、例２、例４、例６および例７は比較例である。
［例１］
　以下のようにして、例１のガラス板構造体１を作製した。
 〈ガラス板の準備〉
　まず、ガラス板２となる素板として、化学強化用ガラス（ＡＧＣ社製「ドラゴントレイル」）を準備した。準備した素板に対して、以下に説明する研削、防眩処理および化学強化処理を、この順に施し、防眩層５を有する矩形のガラス板２（板厚ｔ：１．３ｍｍ、サイズ：２５０ｍｍ×１４５ｍｍ）を得た。
 《研削》
　準備した素板を、回転砥石を用いて研削した。これにより、得られるガラス板２について、端部２ｂの距離Ｌを２ｍｍとし、かつ、湾曲面領域２１ｂの曲率半径ｒについて、最大値を５ｍｍ、最小値を０．７ｍｍとした。
 《防眩処理》
　参照文献１（国際公開第２０１７／０３８８６８号）の例３と同様にして、塗布液の調製および塗布ならびに焼成を行ない、防眩層５を形成した。
　より詳細には、まず、参照文献１の段落［０１６５］～［０１６７］に記載された塗布液（Ｃ）を調製した。
　次に、静電塗装装置のコーティングブース内の温度を２５℃±１℃の範囲内、湿度を５０％±１０％の範囲内に調節した。
　研削した素板を、あらかじめ３０℃±３℃に加熱しておき、静電塗装装置のチェーンコンベア上に、導電性基板を介して置いた。チェーンコンベアで等速搬送しながら、ガラス板２の第一主面２１となる面に、静電塗装法によって、２５℃±１℃の範囲内の温度の塗布液（Ｃ）を塗布した。静電塗装法の条件は、参照文献１の表１に記載された例３の塗布条件（コート液量、カップ回転数、ノズル高さ、カップ径、電圧、塗布回数）とした。その後、大気中、４５０℃で３０分間焼成した。
 《化学強化処理》
　研削および防眩処理を施した素板に、化学強化処理を施した。化学強化処理は、圧縮応力層の厚さ（ＤＯＬ）：３５μｍ、圧縮応力層における表面圧縮応力（ＣＳ）：７５０ＭＰａとなるように、ガラス板全体をＫＮＯ３溶融塩中に浸漬することにより行なった。
 〈反射防止膜の形成〉
　得られたガラス板２の第一主面２１の上に、以下の方法に従って、高屈折率層（酸化ニオブ層）と低屈折率層（酸化ケイ素層）とを交互に繰り返す６層の反射防止膜３を形成した。各層の平坦面領域２１ａでの膜厚は、下記表１に示す。
　シンクロン社製ロードロック式スパッタリング成膜装置（ＲＡＳ）のチャンバ内回転治具に、ガラス板２を固定した。
　スパッタソースにＮｂを使用して、Ｎｂ薄膜を成膜した。続けて、ラジカルソースに酸素ガスを導入して、Ｎｂ薄膜を酸化した。この２つの操作を、回転しながら、膜厚に応じた時間のあいだ、反復して繰り返した。スパッタリングターゲットとしては、７０５ｍｍ×１４７ｍｍのＮｂターゲットを用いた。スパッタリングの条件は、圧力０．２Ｐａ、ドラム回転数１００ｒｐｍ、出力５．５ｋＷとした。こうして、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）からなる高屈折率層（第１層）を形成した。
　次いで、第１層の上に、スパッタソースにＳｉ、ラジカルソースに酸素ガスを用いて、成膜した。このとき、第１層の上に、まずＳｉ薄膜を成膜し、それを酸素ガスで酸化した。この２つの操作を、回転しながら、膜厚に応じた時間のあいだ、反復して繰り返した。スパッタリングターゲットとしては、７０５ｍｍ×１４７ｍｍのＳｉターゲットを用いた。スパッタリングの条件は、圧力０．２Ｐａ、ドラム回転数１００ｒｐｍ、出力７．５ｋＷとした。こうして、第１層の上に、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなる低屈折率層（第２層）を形成した。
　次いで、第２層の上に、第１層と同様にして、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）からなる高屈折率層（第３層）を形成した。
　次いで、第３層の上に、第２層と同様にして、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなる低屈折率層（第４層）を形成した。
　次いで、第４層の上に、第１層と同様にして、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）からなる高屈折率層（第５層）を形成した。
　次いで、第５層の上に、第２層と同様にして、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）からなる低屈折率層（第６層）を形成した。この第６層が、反射防止膜３の最表層３１である。
　上述したように、凸状に湾曲している湾曲面領域２１ｂにおいては、平坦な平坦面領域２１ａよりも、反射防止膜３の各層が堆積しにくい。このため、湾曲面領域２１ｂでの各層の膜厚は、平坦面領域２１ａでの各層の膜厚よりも薄くなる。
　最表層３１の割合（ｔｂ／ｔａ）を、下記表１に示す。なお、最表層３１を除く層についても、平坦面領域２１ａでの膜厚に対する湾曲面領域２１ｂでの膜厚の割合は、最表層３１の割合（ｔｂ／ｔａ）と同様であった。
 〈印刷部の形成〉
　ガラス板２の第二主面２２の上に、１０ｍｍ幅の枠状の印刷部４を形成した。
　より詳細には、まず、スクリーン印刷機を用いて、黒色インクを５μｍの厚さに塗布した後、１５０℃で１０分間保持して乾燥させ、第１の印刷層を形成した。次いで、第１の印刷層の上に、同様の手順で、黒色インクを５μｍの厚さに塗布した後、１５０℃で４０分間保持して乾燥させ、第２の印刷層を形成した。こうして、第１の印刷層と第２の印刷層とが積層された印刷部４を形成した。黒色インクとしては、ＨＦＧＶ３ＲＸ０１（商品名、セイコー社製）を用いた。
［例２］
　反射防止膜３の第１層～第６層について、各層の成膜時間を変更することにより、各層の平坦面領域２１ａでの膜厚を、例１とは異なる値に変更した。それ以外は例１と同様にして、ガラス板構造体１を得た。
　なお、例２において、湾曲面領域２１ｂの形状（距離Ｌおよび曲率半径ｒ）は、例１と同じである。このため、割合（ｔｂ／ｔａ）は例１と同じ値となり、これに応じて膜厚ｔｂも変化した（以下の例においても同様）。
［例３および例４］
　高屈折率層（酸化ニオブ層）と低屈折率層（酸化ケイ素層）とを交互に繰り返す４層の反射防止膜３を形成した。各層の平坦面領域２１ａでの膜厚は、下記表１に示す。
　それ以外は、例１と同様にして、ガラス板構造体１を得た。
［例５および例６］
　高屈折率層（酸化ニオブ層）と低屈折率層（酸化ケイ素層）とを交互に繰り返す８層の反射防止膜３を形成した。各層の平坦面領域２１ａでの膜厚は、下記表１に示す。
　それ以外は、例１と同様にして、ガラス板構造体１を得た。
［例７］
　高屈折率層（酸化ニオブ層）と低屈折率層（酸化ケイ素層）とを交互に繰り返す７層の反射防止膜３を形成した。ただし、第１層を低屈折率層（酸化ケイ素層）とし、最表層３１である第７層も低屈折率層（酸化ケイ素層）とした。各層の平坦面領域２１ａでの膜厚は、下記表１に示す。
　それ以外は、例１と同様にして、ガラス板構造体１を得た。
［評価］
　例１～例７のガラス板構造体１について、以下の評価を行なった。評価結果を下記表１に示す。
 〈端部赤変の抑制〉
　ガラス板構造体１の反射防止膜３が配置された湾曲面領域２１ｂについて、Ｙｘｙ表色系のｘ値を求めた。
　このとき、図４に示すように、光源２０１からガラス板構造体１に入射される光２０３の角度θ１と、ガラス板構造体１で反射して検出器２０２にて検出される光２０４の角度θ２とが同じ角度になる配置とした。角度θ１および角度θ２は１０～８０度にした。
　光源２０１としては、可視光領域に感度がある照明を用いた。具体的には、白色ＬＥＤ照明（オプテックスＦＡ社製、ＯＰＦ－Ｓ１００Ｘ１００Ｗ－ＰＳ）を用いた。白色ＬＥＤは、可視領域の各波長強度が一定ではないため、白色校正板を用いてスペクトルデータを得て補正値を作成し、その補正値を用いることによって、Ｙｘｙ表色系でのＹｘｙ値を算出した。
　検出器２０２としては、分光放射計（トプコンテクノハウス社製「ＳＲ－５０００」）を用いた。
　ｘ値が０．３３以上である領域が０．１ｍｍ以上続かなかった場合は「Ａ」を、ｘ値が０．３３以上である領域が０．１ｍｍ以上続いた場合は「Ｂ」を、下記表１に記載した。「Ａ」であれば端部赤変が抑制できていると評価できる。
 〈反射防止〉
　湾曲面領域２１ｂに配置された反射防止膜３について、反射防止特性を評価した。
　具体的には、印刷部４および反射防止膜３が形成されたガラス板２の端部２ｂについて、コニカミノルタ社製の分光測色計（ＣＭ－２６００Ｄ）を用いて、Ｙｘｙ表色系におけるＹ値（ＳＣＩ）を測定した。
　Ｙ値が２．０以下である場合は「Ａ」を、Ｙ値が２．０よりも大きい場合は「Ｂ」を、下記表１に記載した。「Ａ」であれば反射防止特性に優れると評価できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
［評価結果のまとめ］
　上記表１に示すように、反射防止膜３の平坦面領域２１ａでの総膜厚ｔｄが４００ｎｍ以下であり、かつ、反射防止膜３の最表層３１の平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａが９０ｎｍ以上である例１、例３および例５は、端部赤変が抑制されていた。
　これに対して、反射防止膜３の最表層３１の平坦面領域２１ａでの膜厚ｔａが９０ｎｍ以上ではない例２、例４、例６および例７は、端部赤変の抑制が不十分であった。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０２０年２月１３日出願の日本特許出願２０２０－０２２１６９に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
１：ガラス板構造体
２：ガラス板
２ａ：ガラス板の中央部
２ｂ：ガラス板の端部
２ｃ：ガラス板の最端
２１：ガラス板の第一主面
２１ａ：第一主面の平坦面領域
２１ｂ：第一主面の湾曲面領域
２２：ガラス板の第二主面
３：反射防止膜
３１：反射防止膜の最表層
４：印刷部
５１：点
５２：接線
５３：円弧
１０１：車載表示装置
１０２：筐体
１０３：表示パネル
１０４：粘着層
ｒ：湾曲面領域の曲率半径
ｔ：ガラス板の板厚
ｔａ：反射防止膜の最表層の平坦面領域での膜厚
ｔｂ：反射防止膜の最表層の湾曲面領域での膜厚
ｔｄ：反射防止膜の平坦面領域での総膜厚
Ｌ：端部の距離

Claims (7)

  1. 　第一主面および第二主面を有するガラス板と、
    　前記第一主面上に配置された反射防止膜と、
    　前記第二主面上に配置された印刷部と、を備え、
    　前記第一主面は、
    　前記ガラス板の端部の領域であって、凸状に湾曲し、前記ガラス板の板厚ｔの５０％以上の曲率半径ｒを有する湾曲面領域と、
    　前記湾曲面領域に接続する平坦面領域と、を有し、
    　前記反射防止膜は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に繰り返す積層体であり、
    　前記反射防止膜の層数が、１２層以下であり、
    　前記反射防止膜の前記平坦面領域での総膜厚が、４００ｎｍ以下であり、
    　前記反射防止膜の最表層の前記平坦面領域での膜厚が、９０ｎｍ以上である、ガラス板構造体。
  2. 　前記ガラス板は、化学強化処理が施されている、請求項１に記載のガラス板構造体。
  3. 　更に、前記第一主面に設けられた防眩層を有する、請求項１または２に記載のガラス板構造体。
  4. 　前記反射防止膜の前記最表層が、酸化ケイ素を含有する前記低屈折率層である、請求項１～３のいずれか１項に記載のガラス板構造体。
  5. 　前記反射防止膜の層数が、９層以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載のガラス板構造体。
  6. 　前記反射防止膜の層数が、４層以上である、請求項１～５のいずれか１項に記載のガラス板構造体。
  7. 　表示パネルと、前記表示パネルをカバーする請求項１～６のいずれか１項に記載のガラス板構造体と、を備える車載表示装置。
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