WO2019207970A1 - ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法 - Google Patents

ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法 Download PDF

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WO2019207970A1
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peripheral wall
space
partition
glass
panel unit
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PCT/JP2019/009227
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将 石橋
瓜生　英一
長谷川　和也
阿部　裕之
野中　正貴
清水　丈司
治彦 石川
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パナソニックＩｐマネジメント株式会社
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    • Y02B80/22—Glazing, e.g. vaccum glazing

Definitions

  • the present disclosure relates to a glass panel unit assembly and a method for manufacturing the glass panel unit.
  • the present disclosure particularly relates to an assembly of an insulating glass panel unit having a space between a pair of glass panels, and a method of manufacturing a glass pal unit.
  • Patent Document 1 discloses a method of manufacturing a glass panel unit in which a vacuum space is formed between a pair of glass panels.
  • a 1st glass substrate and a 2nd glass substrate are arrange
  • the first glass substrate and the second glass substrate are joined in an airtight manner.
  • the internal space surrounded by the first and second glass substrates and the frame is partitioned into a first space and a second space. Then, the first space is exhausted through the second space to be a vacuum space, and then the vacuum space is sealed to obtain an assembly. And a glass panel unit is obtained by cutting out a part of this assembly.
  • the first glass substrate and the second glass substrate are joined by a frame.
  • the distance between the first and second glass substrates may be changed between the central portion and the peripheral portion of the first and second glass substrates.
  • the frame severeal walls
  • the frame cannot contact the periphery of the first and second glass substrates due to the presence of the partition. There is. This can cause poor bonding between the first and second glass substrates.
  • the problem is to provide a glass panel unit assembly and a method for manufacturing the glass panel unit, which can improve the yield.
  • An assembly of a glass panel unit includes a pair of glass substrates facing each other, a frame-shaped peripheral wall between the pair of glass substrates, a partition, an air passage, and an exhaust port. .
  • the partition partitions an internal space surrounded by the pair of glass substrates and the peripheral wall into a first space and a second space.
  • the air passage connects the first space and the second space.
  • the exhaust port connects the second space and the external space.
  • the partition is lower than the peripheral wall.
  • the method for manufacturing a glass panel unit includes an assembly process, an exhaust process, and a sealing process.
  • the assembly step is a step of preparing an assembly of the glass panel unit.
  • the exhaust step is a step of exhausting the first space through the ventilation path, the second space, and the exhaust port.
  • the sealing step is a step of closing the air passage by deforming the partition.
  • FIG. 1 is a plan view of an assembly of a glass panel unit according to an embodiment.
  • 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
  • FIG. 3 is a plan view of a work in progress of the glass panel unit of the above embodiment.
  • 4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the method for manufacturing the glass panel unit of the embodiment.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 1 is a plan view of an assembly of a glass panel unit according to an embodiment.
  • 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
  • FIG. 3 is a plan view of a work in progress of the glass panel unit of the above embodiment.
  • 4 is
  • FIG. 8 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 11 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 13 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
  • FIG. 15 is an explanatory diagram of the removal process of the manufacturing method.
  • FIG. 16 is an explanatory diagram of the removal process of the manufacturing method.
  • FIG. 17 is a partial cross-sectional view of the glass panel unit manufactured by the above manufacturing method.
  • FIG. 18 is a partial cross-sectional view of the glass panel unit manufactured by the above manufacturing method.
  • FIG. 19 is a partial cross-sectional view of the glass panel unit manufactured by the above manufacturing method.
  • FIGS. 1 and 2 show an assembly 100 (hereinafter, also simply referred to as “assembly”) 100 of a glass panel unit according to an embodiment.
  • the assembly 100 is used to manufacture one or more glass panel units (in this embodiment, the glass panel units 10A to 10G shown in FIG. 15).
  • the assembly 100 includes a pair of glass substrates 200 and 300 facing each other, a frame-shaped peripheral wall 410, partitions 420a to 420p, an air passage 600, and an exhaust port 700.
  • the peripheral wall 410 is between the pair of glass substrates 200 and 300.
  • the partitions 420a to 420p partition the internal space 500 surrounded by the pair of glass substrates 200 and 300 and the peripheral wall 410 into first spaces 510a to 510g and second spaces 520a and 520b.
  • the ventilation path 600 connects (directly or indirectly) the first spaces 510a to 510g and the second spaces 520a and 520b.
  • the exhaust port 700 connects the second spaces 520a and 520b and the external space.
  • the partitions 420a to 420p are lower than the peripheral wall 410 as shown in FIG.
  • the partitions 420a to 420p are in a region surrounded by the peripheral wall 410 and are lower than the peripheral wall 410. Therefore, even when the glass substrates 200 and 300 are warped and the distance between the pair of glass substrates 200 and 300 is narrower at the center than at the periphery, the partitions 420a to 420p are provided on both the pair of glass substrates 200 and 300. Hard to touch. Therefore, the possibility that the peripheral wall 410 is in contact with both the pair of glass substrates 200 and 300 by the partitions 420a to 420p can be reduced. This leads to a reduction in the occurrence of poor bonding between the pair of glass substrates 200 and 300. Therefore, the yield can be improved.
  • the assembly 100 is used to manufacture a plurality (here, seven) of glass panel units 10 (10A to 10G) shown in FIG.
  • the glass panel unit 10 (10A to 10G) is a vacuum heat insulating glass unit.
  • the vacuum heat insulating glass unit is a kind of multilayer glass panel including at least a pair of glass panels, and has a vacuum space between the pair of glass panels.
  • Each of the glass panel units 10A to 10G includes a pair of glass panels (first and second glass panels) 20 and 30 and a frame body 40 as shown in FIG.
  • Each glass panel unit 10A to 10G has a space (vacuum space) 50 (50a to 50g (see FIG. 3)) surrounded by the pair of glass panels 20 and 30 and the frame body 40.
  • each of the glass panel units 10A to 10G includes a gas adsorber 60 and a plurality of pillars (spacers) 70 in the vacuum space 50.
  • the glass panel units 10A to 10G are all rectangular in plan view, but the size and shape are not necessarily the same.
  • the pair of glass panels 20 and 30 have the same shape. Each of the pair of glass panels 20 and 30 has a rectangular flat plate shape.
  • the material of the pair of glass panels 20 and 30 is, for example, soda lime glass, high strain point glass, chemically tempered glass, alkali-free glass, quartz glass, neoceram, and physically tempered glass.
  • a coating may be provided on the surfaces of the pair of glass panels 20 and 30.
  • An example of the coating is a transparent infrared reflective film.
  • the coating is not limited to the infrared reflective film, and may be a film having desired physical characteristics.
  • the frame body 40 is between the pair of glass panels 20 and 30 and joins the pair of glass panels 20 and 30 in an airtight manner. Thereby, a space surrounded by the pair of glass panels 20 and 30 and the frame body 40 is formed. A space surrounded by the pair of glass panels 20 and 30 and the frame body 40 is a vacuum space 50.
  • the frame body 40 is formed of a thermal adhesive (sealing material). In other words, the frame 40 is a cured thermal adhesive.
  • the thermal adhesive is, for example, a glass frit. Examples of the glass frit include a low melting point glass frit. Examples of the low melting point glass frit include a bismuth glass frit, a lead glass frit, and a vanadium glass frit.
  • the frame body 40 has a polygonal (quadrangle in this embodiment) frame shape similar to the pair of glass panels 20 and 30.
  • the frame body 40 is formed along the outer periphery of the pair of glass panels 20 and 30.
  • the thermal adhesive is not limited to glass frit, and may be, for example, a low melting point metal or a hot melt adhesive.
  • the gas adsorber 60 is disposed in the vacuum space 50. Specifically, the gas adsorber 60 has a long flat plate shape and is disposed on the glass panel 30.
  • the gas adsorber 60 is used to adsorb unnecessary gas (residual gas or the like).
  • the unnecessary gas is, for example, a gas released from the thermal adhesive when the thermal adhesive forming the frame body 40 is heated.
  • the gas adsorber 60 has a getter.
  • a getter is a material that has the property of adsorbing molecules smaller than a predetermined size.
  • the getter is, for example, an evaporation type getter.
  • the evaporable getter has a property of releasing adsorbed molecules when the temperature is higher than a predetermined temperature (activation temperature).
  • the evaporative getter is, for example, a zeolite or an ion exchanged zeolite (for example, a copper ion exchanged zeolite).
  • the gas adsorber 60 includes the getter powder. Specifically, the gas adsorber 60 is obtained by a liquid containing getter powder (for example, a dispersion obtained by dispersing getter powder in the liquid, or by dissolving the getter powder in the liquid. It is formed by applying and solidifying a solution. In this case, the gas adsorber 60 can be made small. Therefore, the gas adsorber 60 can be disposed even if the vacuum space 50 is narrow.
  • the plurality of pillars 70 are arranged in the vacuum space 50.
  • the plurality of pillars 70 are used to maintain a distance between the pair of glass panels 20 and 30 at a predetermined distance. That is, the plurality of pillars 70 are used to maintain the distance between the pair of glass panels 20 and 30 at a desired value.
  • the size of the pillars 70, the number of pillars 70, the interval between the pillars 70, and the arrangement pattern of the pillars 70 can be selected as appropriate.
  • Each pillar 70 has a cylindrical shape having a height substantially equal to the predetermined interval.
  • the pillar 70 has a diameter of 1 mm and a height of 100 ⁇ m.
  • Each pillar 70 may have a desired shape such as a prismatic shape or a spherical shape.
  • the assembly 100 includes a pair of glass substrates (first and second glass substrates) 200 and 300 facing each other, a peripheral wall 410, partitions 420a to 420p, and a plurality of ventilation paths. 600 and an exhaust port 700.
  • the assembly 100 includes a plurality of gas adsorbers 60 and a plurality of pillars (spacers) 70.
  • the first glass substrate 200 is a member that is the basis of the first glass panel 20 and is formed of the same material as the first glass panel 20.
  • the second glass substrate 300 is a member that is the basis of the second glass panel 30 and is formed of the same material as the second glass panel 30.
  • the first and second glass substrates 200 and 300 have the same shape. Both the first and second glass substrates 200 and 300 are polygonal (rectangular in the present embodiment) plate shapes.
  • the first glass substrate 200 has a size capable of forming the first glass panel 20 of the glass panel units 10A to 10G
  • the second glass substrate 300 is the second glass of the glass panel units 10A to 10G.
  • the panel 30 can be formed.
  • the peripheral wall 410 is formed of a sealing material (first sealing material).
  • the first sealing material includes, for example, a thermal adhesive.
  • the thermal adhesive is, for example, a glass frit.
  • the glass frit is, for example, a low melting point glass frit. Examples of the low melting point glass frit include a bismuth glass frit, a lead glass frit, and a vanadium glass frit.
  • the first sealing material includes a core material.
  • the core material is used to define the height of the frame body 40.
  • the core material is, for example, a spherical glass bead.
  • the diameter of the glass beads is selected according to the height of the frame body 40.
  • Such a core material is dispersed in the thermal adhesive at a predetermined ratio. As an example, glass beads having a diameter of 50 to 300 ⁇ m are contained at 0.01 to 1 wt% (0.03 to 3% by volume) with respect to the thermal adhesive.
  • the peripheral wall 410 is between the pair of glass substrates 200 and 300. As shown in FIG. 1, the peripheral wall 410 has a frame shape. In particular, the peripheral wall 410 has a rectangular frame shape. The peripheral wall 410 is formed along the outer periphery of the first and second glass substrates 200 and 300. The peripheral wall 410 has first to fourth sides 410a and 410b. The first and second sides 410a and 410b extend along the width direction (vertical direction in FIG. 1) of the first and second glass substrates 200 and 300. The third and fourth sides 410c and 410d extend along the length direction of the first and second glass substrates 200 and 300 (left and right direction in FIG. 1). The peripheral wall 410 is for airtightly bonding the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300. Thereby, in the assembled product 100, an internal space 500 surrounded by the peripheral wall 410, the first glass substrate 200, and the second glass substrate 300 is formed.
  • the partitions 420a to 420p are all formed of a sealing material (second sealing material).
  • the second sealing material includes, for example, a thermal adhesive.
  • the thermal adhesive is, for example, a glass frit.
  • the glass frit is, for example, a low melting point glass frit. Examples of the low melting point glass frit include a bismuth glass frit, a lead glass frit, and a vanadium glass frit.
  • the thermal adhesive of the partitions 420a to 420p is the same thermal adhesive as that of the peripheral wall 410. Therefore, the partitions 420a to 420p and the peripheral wall 410 have the same softening point.
  • the second sealing material includes the same core material as the first sealing material.
  • the core material is dispersed at a predetermined ratio in the thermal adhesive.
  • glass beads having a diameter of 50 to 300 ⁇ m are contained at 0.01 to 1 wt% (0.03 to 3% by volume) with respect to the thermal adhesive.
  • the partitions 420a to 420p partition the internal space 500 surrounded by the pair of glass substrates 200 and 300 and the peripheral wall 410 into first spaces 510a to 510g and second spaces 520a and 520b.
  • the first spaces 510a to 510g are spaces (exhaust spaces) to be exhausted later
  • the second spaces 520a and 520b are spaces used for exhausting the first space 510.
  • the partitions 420a to 420p are in a region surrounded by the peripheral wall 410.
  • the partitions 420a to 420p are all lower than the peripheral wall 410. Therefore, as shown in FIG. 2, the peripheral wall 410 contacts both the first and second glass substrates 200 and 300 before the partitions 420a to 420p.
  • the partitions 420a to 420p are formed on the second glass substrate 300, they are separated from the first glass substrate 200. Therefore, even when at least one of the first and second glass substrates 200 and 300 is warped and the distance between the pair of glass substrates 200 and 300 is narrower at the center than at the periphery, the partitions 420a to 420p are paired with each other.
  • the partitions 420a, 420b, and 420c have a long shape extending along the width direction (vertical direction in FIG. 1) of the pair of glass substrates 200 and 300, and are spaced along the width direction. It is in a line.
  • the partitions 420a, 420b, and 420c are located on the first end side (right side in FIG. 1) in the length direction (left and right direction in FIG. 1) of the pair of glass substrates 200 and 300, and the first side 410a of the peripheral wall 410. Are spaced from each other.
  • the partitions 420d, 420e, and 420f have a long shape extending along the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and are arranged in a line at intervals along the width direction. Further, the partitions 420d, 420e, and 420f are located on the second end side (left side in FIG. 1) in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300 with respect to the partitions 420a, 420b, and 420c. Moreover, the partitions 420d, 420e, and 420f are opposed to the partitions 420a, 420b, and 420c in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, respectively.
  • the partitions 420g and 420h have an elongated shape extending along the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and are arranged at intervals along the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300. Moreover, the partitions 420g and 420h are located on the second end side (left side in FIG. 1) in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300 with respect to the partition 420e.
  • the partitions 420i, 420j, 420k, 420l have a long shape extending along the length direction of the pair of glass substrates 200, 300, and are arranged in a line at intervals along the length direction.
  • the partition 420i is between the first end (the upper end in FIG. 1) of the partition 420h and the second side 410b of the peripheral wall 410.
  • the partition 420j is between the first ends (upper ends in FIG. 1) of the partitions 420h and 420g.
  • the partition 420k has a first end (the right end in FIG. 1) between the partitions 420d and 420e, and a second end (the left end in FIG. 1) faces the first end (the upper end in FIG. 1) of the partition 420g.
  • the partition 420l has a first end (the right end in FIG. 1) between the partitions 420a and 420b, and a second end (the left end in FIG. 1) between the partitions 420d and 420e.
  • the partitions 420m, 420n, and 420o have a long shape extending along the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and are arranged in a line at intervals along the length direction.
  • the partitions 420m, 420n, and 420o face the partitions 420i, 420j, and 420k in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300, respectively.
  • the partition 420m is between the second end (the lower end in FIG. 1) of the partition 420h and the second side 410b of the peripheral wall 410.
  • the partition 420n is between the second ends (lower ends in FIG. 1) of the partitions 420h and 420g.
  • the partition 420o has a first end (the right end in FIG. 1) opposed to an end on the fourth side 410d side of the peripheral wall 410 of the partition 420e, and a second end (the left end in FIG. 1) is a second end (the left end in FIG. 1). It faces the lower end of FIG
  • the partition 420 p has a long shape extending along the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300.
  • the partition 420p has a first end (right end in FIG. 1) between the partitions 420b and 420c, and a second end (left end in FIG. 1) between the partitions 420e and 420f.
  • the first space 510a is a space surrounded by the second and third sides 410b and 410c of the peripheral wall 410 and the partitions 420d, 420i, 420j, 420k, 420h, and 420g.
  • the first space 510b is a space surrounded by the second side 410b of the peripheral wall 410 and the partitions 420h, 420i, and 420m.
  • the first space 510c is a space surrounded by the partitions 420g, 420h, 420j, and 420n.
  • the first space 510d is a space surrounded by the partitions 420e, 420g, 420k, and 420o.
  • the first space 510e is a space surrounded by the second and fourth sides 410b and 410d of the peripheral wall 410 and the partitions 420e, 420f, 420g, 420h, 420m, 420n, 420o, and 420p.
  • the first space 510f is a space surrounded by the third side 410c of the peripheral wall 410 and the partitions 420a, 420d, and 420l.
  • the first space 510g is a space surrounded by the partitions 420b, 420e, 420l, and 420p.
  • the second space 520a is a space surrounded by the first, third and fourth sides 410a, 410c, 410d of the peripheral wall 410 and the partitions 420a, 420b, 420c, 420l, 420p.
  • the second space 520b is a space surrounded by the fourth side 410d of the peripheral wall 410 and the partitions 420c, 420f, 420p.
  • the gas adsorber 60 is arranged in each of the first spaces 510a to 510g as shown in FIG.
  • the plurality of pillars 70 are arranged in the entire internal space 500 (the first spaces 510a to 510g and the second spaces 520a and 520b).
  • the plurality of ventilation paths 600 are used for exhausting the first spaces (exhaust spaces) 510a to 510g through the exhaust port 700.
  • the first spaces 510a to 510g are connected to the second spaces 520a and 520b (directly or indirectly) through the plurality of ventilation paths 600.
  • the partitions 420a to 420p are arranged so as not to contact each other.
  • Each of the gaps between the partitions 420a to 420p constitutes the ventilation path 600.
  • Each ventilation path 600 is closed by once melting and deforming the partitions 420a to 420p. Accordingly, at least the first spaces 510a to 510g are separated (airtight) from each other, and the first spaces 510a to 510g are separated (airtight) from the second spaces 520a and 520b (see FIG. 3).
  • the exhaust port 700 connects the second spaces 520a and 520b and the external space.
  • the exhaust port 700 is a hole that connects the second space 520a and the external space.
  • the exhaust port 700 is used to exhaust the first spaces 510a to 510g using the second spaces 520a and 520b and the ventilation path 600. Therefore, the ventilation path 600, the second spaces 520a and 520b, and the exhaust port 700 constitute an exhaust path for exhausting the first spaces 510a to 510g.
  • the exhaust port 700 is formed in the second glass substrate 300 so as to connect the second space 520a and the external space. Specifically, the exhaust port 700 is in a corner portion of the second glass substrate 300.
  • the second space 520a is a ventilation space directly connected to the exhaust port 700.
  • the second space 520b is not directly connected to the exhaust port 700, but constitutes a connection space that connects the first space 510e and the second space 520a.
  • the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of ventilation paths (two first ventilation paths 611 and 612) that connect the first space (exhaust space) 510e and the second space (connection space) 520b. )including.
  • the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of ventilation paths (two second ventilation paths 621 and 622) that connect the second space (venting space) 520a and the second space (connected space) 520b.
  • the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of ventilation paths 630 that connect the first spaces 510f and 510g and the second space 520a, and a plurality of ventilation paths 640 that connect the first spaces 510a to 510g.
  • the first air passage 611 is an air passage between the first end (upper end in FIG. 1) of the partition 420f and the second end (left end in FIG. 1) of the partition 420p.
  • the first air passage 612 is an air passage between the second end (the lower end in FIG. 1) of the partition 420 f and the fourth side 410 d of the peripheral wall 410.
  • the second ventilation path 621 is a ventilation path between the first end (upper end in FIG. 1) of the partition 420c and the first end (right end in FIG. 1) of the partition 420p.
  • the second ventilation path 622 is a ventilation path between the second end (the lower end in FIG. 1) of the partition 420 c and the fourth side 410 d of the peripheral wall 410.
  • the 2nd ventilation path 622 is larger than each of the 1st ventilation path 611,612. That is, the one or more second ventilation paths 621 and 622 include a specific ventilation path 622 that is larger than each of the one or more first ventilation paths 611 and 612.
  • the connection space 520b can be used as a part of the exhaust path. Therefore, exhaust can be performed efficiently.
  • the air passage 600 is closed by deforming the partitions 420a to 420p in the second melting step (sealing step) described later, the second air passages 621 and 622 are closed before the first air passages 611 and 612 are all closed. Can reduce the possibility of closing all. Therefore, the possibility that the exhaust space 510e is separated from the ventilation space 520a before the exhaust space 510e is sufficiently exhausted can be reduced. Therefore, the yield can be improved.
  • the manufacturing method of the glass panel unit 10 includes a preparation process and a removal process.
  • the preparation step is a step of preparing a work-in-process product (hereinafter simply referred to as “work-in-process product”) 110 of the glass panel unit shown in FIGS. 3 and 4.
  • the work-in-process 110 is formed from the assembly 100 of the glass panel unit.
  • the work-in-process 110 includes a pair of glass substrates (first and second glass substrates) 200 and 300, a peripheral wall 41, and partition walls 42a to 42h.
  • the work-in-progress 110 has vacuum spaces 50a to 50g and second spaces 520a and 520b.
  • the work-in-process 110 includes a gas adsorber 60 and a plurality of pillars (spacers) 70 in each of the vacuum spaces 50a to 50g.
  • the work-in-process 110 includes an exhaust port 700.
  • the peripheral wall 41 is between the pair of glass substrates 200 and 300, and joins the pair of glass substrates 200 and 300 in an airtight manner.
  • the peripheral wall 41 is formed by once melting the peripheral wall 410 of the assembly 100 and solidifying it again.
  • the peripheral wall 41 of the work-in-progress item 110 has a frame shape like the peripheral wall 410 of the assembly product 100.
  • the peripheral wall 41 has first to fourth sides 41a, 41b, 41c, 41d.
  • the first and second sides 41a and 41b extend along the width direction (vertical direction in FIG. 3) of the first and second glass substrates 200 and 300.
  • the third and fourth sides 41c and 41d extend along the length direction of the first and second glass substrates 200 and 300 (left and right direction in FIG. 3).
  • the partition walls 42a to 42h separate (spatially) the vacuum spaces 50a to 50g and the second spaces 520a and 520b.
  • the partition walls 42a to 42h are formed from partitions 420a to 420p. More specifically, the partition wall 42a has a linear shape extending in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connects the third and fourth sides 41c and 41d of the peripheral wall 41.
  • the partition wall 42a is formed by deformation of the partitions 420a, 420b, 420c, 420l, and 420p.
  • the partition wall 42b has a long shape extending in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connects the third and fourth sides 41c and 41d of the peripheral wall 41.
  • the partition wall 42 b is between the partition wall 42 a and the second side 41 b of the peripheral wall 41.
  • the partition wall 42b is formed by deformation of the partitions 420d, 420e, 420f, 420k, 420l, and 420p.
  • the partition wall 42c has a linear shape extending in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and is integrally connected to the second side 41b of the peripheral wall 41 and the partition wall 42b.
  • the partition wall 42c is formed by deformation of the partitions 420i, 420j, 420k, 420g, 420h.
  • the partition wall 42d has a linear shape extending in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and is integrally connected to the second side 41b of the peripheral wall 41 and the partition wall 42b.
  • the partition wall 42 d is between the partition wall 42 c and the fourth side 41 d of the peripheral wall 41.
  • the partition wall 42d is formed by deformation of the partitions 420m, 420n, 420o, 420g, and 420h.
  • the partition walls 42e and 42f are linear extending in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connect the partition walls 42c and 42d.
  • the partition walls 42e and 42f are formed by deformation of the partitions 420h and 420g.
  • the partition walls 42g and 42h are linear extending in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connect the partition walls 42a and 42b.
  • the partition walls 42g and 42h are formed by deformation of the partitions 420l and 420p.
  • the vacuum spaces 50a to 50g are formed by exhausting the first spaces 510a to 510g through the second spaces 520a and 520b and the exhaust port 700.
  • the vacuum spaces 50a to 50g are the first spaces 510a to 510g whose degree of vacuum is a predetermined value or less.
  • the predetermined value is, for example, 0.1 Pa. Since the vacuum spaces 50a to 50g are completely sealed by the first glass substrate 200, the second glass substrate 300, the peripheral wall 41, and the partition walls 42a to 42h, they are separated from the second spaces 520a and 520b and the exhaust port 700. Yes.
  • the vacuum space 50a (first space 510a) is a space surrounded by the second and third sides 410b and 410c of the peripheral wall 410 and the partition walls 42b and 42c.
  • the vacuum space 50b (first space 510b) is a space surrounded by the second side 410b of the peripheral wall 410 and the partition walls 42c, 42d, and 42e.
  • the vacuum space 50c (first space 510c) is a space surrounded by the partition walls 42c, 42d, 42e, and 42f.
  • the vacuum space 50d (first space 510d) is a space surrounded by the partition walls 42b, 42c, 42d, and 42f.
  • the vacuum space 50e (first space 510e) is a space surrounded by the second and fourth sides 410b and 410d of the peripheral wall 410 and the partition walls 42b and 42d.
  • the vacuum space 50f (first space 510f) is a space surrounded by the third side 410c of the peripheral wall 410 and the partition walls 42a, 42b, and 42g.
  • the vacuum space 50g (first space 510g) is a space surrounded by the partition walls 42a, 42b, 42g, and 42h.
  • the peripheral wall 410 and the partition walls 42a to 42h integrally include a plurality of frames 40 that respectively surround the vacuum spaces 50a to 50g. That is, the portion surrounding the vacuum spaces 50a to 50g in the peripheral wall 410 and the partition walls 42a to 42h constitutes the frame body 40.
  • the preparation process is a process for preparing the work-in-process 110 described above, and includes an assembly process, a first melting process, an exhaust process, and a second melting process.
  • the assembly process is a process for preparing the assembly product 100. That is, in the assembly process, in order to obtain the assembly 100, the first glass substrate 200, the second glass substrate 300, the peripheral wall 410, the partitions 420a to 420p, the internal space 500, the air passage 600, the exhaust port 700, and a plurality of gas adsorptions. This is a process of forming the body 60 and the plurality of pillars 70.
  • the assembly process includes first to sixth processes. Note that the order of the second to fifth steps may be changed as appropriate.
  • the first step is a step of forming the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 (substrate forming step). For example, in the first step, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are produced. In the first step, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are cleaned as necessary.
  • the second step is a step of forming the exhaust port 700.
  • an exhaust port 700 is formed in the second glass substrate 300 as shown in FIG.
  • the second glass substrate 300 is cleaned as necessary.
  • the third step is a step of arranging the peripheral wall 410 and the partitions 420a to 420p (sealing material arrangement step).
  • the third step includes a peripheral wall forming step and a partition forming step.
  • the peripheral wall forming step is a step of forming the peripheral wall 410. More specifically, in the peripheral wall forming step, as shown in FIG. 6, a material (first sealing material) 411 of the peripheral wall 410 is transferred to one of the pair of glass substrates 200 and 300 (here, the second glass substrate 300) by a dispenser 810. ) To form the peripheral wall 410. In the peripheral wall forming step, as shown in FIG. 6, when the material 411 of the peripheral wall 410 is applied to the second glass substrate 300, the material 411 of the peripheral wall 410 discharged from the nozzle 811 of the dispenser 810 is not pressed by the nozzle 811. I have to.
  • the dispenser 810 is moved along the periphery of the second glass substrate 300 as shown by an arrow 412 in FIG. 5 while discharging the material 411 from the nozzle 811. Thereafter, the material 411 is dried to form the peripheral wall 410.
  • a peripheral wall 410 having first to fourth sides 410a to 410d having a height H1 and a width W1 is obtained.
  • the height of the peripheral wall 410 is the dimension of the peripheral wall 410 in the direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
  • the height of the peripheral wall 410 is the height H1 at the first to fourth sides 410a to 410d.
  • the height H1 and the width W1 can be adjusted by the moving speed of the dispenser 810, the discharge amount of the material 411, and the like.
  • the partition forming step is a step of forming the partitions 420a to 420p.
  • the partitions 420a to 420p are collectively referred to as a partition 420.
  • a material (second sealing material) 421 of the partition 420 is applied to one of the pair of glass substrates 200 and 300 (here, the second glass substrate 300) by a dispenser 820. This is a step of forming the partition 420.
  • the partition formation step as shown in FIG.
  • the material 421 of the partition 420 when the material 421 of the partition 420 is applied to the second glass substrate 300, the material 421 of the partition 420 discharged from the nozzle 821 of the dispenser 820 is pressed by the nozzle 821. Yes.
  • This is for adjusting the height of the partition 420.
  • a partition 420 having a height H2 lower than the height H1 of the peripheral wall 410 is obtained.
  • the height of the partition 420 is a dimension of the partition 420 in a direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
  • the width W2 of the partition 420 can be adjusted by the moving speed of the dispenser 820, the discharge amount of the material 421, and the like.
  • the material 421 of the partition 420 is changed in the width direction of the partition 420.
  • the number of times of application is increased in the adjacent direction. That is, the number of times that the material 421 is applied in the direction that becomes the width direction of the partition 420 is the number of times that the material 411 is applied in the direction that becomes the width direction of the peripheral wall 410 (the width direction of each side 410a to 410d). More than. In other words, when the partition 420 is formed, the number of application rows is larger than when the peripheral wall 410 is formed.
  • the material 421 of the partition 420 is applied twice along the direction that becomes the length direction of the partition 420, adjacent to the direction that becomes the width direction of the partition 420, Two application rows 4211 and 4212 are formed.
  • the dispenser 820 is moved along a square side as indicated by arrows 422a to 422p in FIG. 5 while discharging the material 421 from the nozzle 821.
  • the arrows 422a to 422p correspond to the partitions 420a to 420p, respectively.
  • the distance D1 between the adjacent application rows 4211 and 4212 is set so that the surfaces of the adjacent application rows 4211 and 4212 are connected flatly (located on the same plane).
  • applying adjacently means that the application rows are adjacent.
  • the application rows 4211 and 4212 may be adjacent to each other so as to partially overlap.
  • partitions 420 (420a to 420p) having a height of H2 and a width of W2 are obtained.
  • the material 421 of the partition 420 discharged from the nozzle 821 of the dispenser 820 is pressed by the nozzle 821 of the dispenser 820.
  • the partition 420 is made lower than the peripheral wall 410.
  • the material 421 in the direction of the width of the partition 420 is larger than the number of times the material 411 is applied adjacently in the direction of the width direction of each side 410a to 410d of the peripheral wall 410. The number of times of coating is increased.
  • the partition 420 is wider than the peripheral wall 410.
  • the fourth step is a step of forming the pillar 70 (pillar forming step).
  • a plurality of pillars 70 are formed in advance, and the plurality of pillars 70 are arranged at predetermined positions on the second glass substrate 300 using a chip mounter or the like.
  • the pillar 70 is lower than the partitions 420a to 420p.
  • the plurality of pillars 70 may be formed using a photolithography technique and an etching technique. In this case, the plurality of pillars 70 are formed using a photocurable material or the like. Alternatively, the plurality of pillars 70 may be formed using a known thin film forming technique.
  • the fifth step is a step of forming the gas adsorbent 60 (gas adsorbent forming step).
  • the gas adsorber 60 is formed by applying a solution in which getter powder is dispersed to a predetermined position of the second glass substrate 300 using a dispenser and drying the solution.
  • the peripheral wall 410, the partitions 420a to 420p, the ventilation path 600, the exhaust port 700, the plurality of gas adsorbers 60, and the second glass substrate 300 are provided.
  • a plurality of pillars 70 are formed.
  • the sixth step is a step of arranging the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 (arrangement step).
  • the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are arranged so as to be parallel and opposed to each other.
  • the assembly 100 is obtained by the assembly process described above. Then, after the assembly process, a first melting process (joining process), an exhaust process, and a second melting process (sealing process) are performed.
  • the first melting step is a step in which the peripheral wall 410 is once melted and the pair of glass substrates 200 and 300 are hermetically bonded together by the peripheral wall 410.
  • the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are placed in a melting furnace and heated at a first melting temperature for a predetermined time (first melting time).
  • first melting time a predetermined time for a predetermined time.
  • first melting temperature and the first melting time the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are hermetically bonded by the peripheral wall 410, but the air passage 600 is not blocked by the partitions 420a to 420p. To be set.
  • the lower limit of the first melting temperature is the softening point of the peripheral wall 410, but the upper limit of the first melting temperature is set so that the ventilation path 600 is not blocked by the partitions 420a to 420p.
  • the first melting temperature is set to 440 ° C.
  • the first melting time is, for example, 10 minutes.
  • the peripheral wall 410 softens, so the peripheral wall 410 itself does not support the first glass substrate 200, and the first glass substrate 200 is supported by the partitions 420a to 420p.
  • the first spaces (exhaust spaces) 510a to 510g are exhausted through the vent passage 600, the second spaces (venting spaces and connection spaces) 520a and 520b, and the exhaust port 700, and the first spaces 510a to 510g are exhausted.
  • This is a step of forming a vacuum space 50 (50a to 50g).
  • the vacuum spaces 50a to 50g are the first spaces 510a to 510g that are in a vacuum state, respectively.
  • Exhaust is performed using, for example, a vacuum pump. As shown in FIG. 13, the vacuum pump is connected to the assembly 100 by an exhaust pipe 830 and a seal head 840.
  • the exhaust pipe 830 is joined to the second glass substrate 300 so that the inside of the exhaust pipe 830 and the exhaust port 700 communicate with each other. Then, a seal head 840 is attached to the exhaust pipe 830, whereby the suction port of the vacuum pump is connected to the exhaust port 700.
  • the first melting process, the exhaust process, and the second melting process are performed while the assembly 100 is placed in the melting furnace. Therefore, the exhaust pipe 830 is joined to the second glass substrate 300 at least before the first melting step.
  • a predetermined time (exhaust time) above the exhaust temperature is maintained for a predetermined time (exhaust time) via the air passage 600, the second spaces 520a and 520b, and the exhaust port 700.
  • Exhaust. The exhaust temperature is set higher than the activation temperature of the getter of the gas adsorber 60 (for example, 350 ° C.) and lower than the softening point (for example, 434 ° C.) of the partitions 420a to 420p.
  • the exhaust temperature is 390 ° C. In this way, the partitions 420a to 420p are not deformed.
  • the getter of the gas adsorber 60 is activated, and molecules (gas) adsorbed by the getter are released from the getter. Then, the molecules (that is, gas) released from the getter are discharged through the first spaces 510a to 510g, the ventilation path 600, the second spaces 520a and 520b, and the exhaust port 700. Therefore, in the exhaust process, the adsorption capacity of the gas adsorber 60 is recovered.
  • the evacuation time is set so that vacuum spaces 50a to 50g having a desired degree of vacuum (for example, a degree of vacuum of 0.1 Pa or less) are obtained. For example, the exhaust time is set to 120 minutes.
  • the second melting step is a step of obtaining the in-process product 110 by forming the partition walls 42a to 42h by deforming the partitions 420a to 420p and closing the air passage 600. Further, in the second melting step, the air passage 600 is closed, so that a plurality of frames 40 that respectively surround the vacuum spaces 50a to 50g are formed. As a result, as shown in FIGS. 3, 4 and 12, the partition walls 42a to 42h for separating the internal space 500 into the first spaces 510a to 510g (vacuum spaces 50a to 50g) and the second spaces 520a and 520b in an airtight manner. Is formed.
  • the partitions 42a to 420p are deformed to block the air passage 600 and the inner space 500 is hermetically separated into the first spaces 510a to 510g and the second spaces 520a and 520b.
  • the partitions 420a to 420p are softened, the partitions 420a to 420p themselves do not support the first glass substrate 200, and the first glass substrate 200 is supported by the pillars 70.
  • the partitions 420a to 420p are once melted at a predetermined temperature (second melting temperature) equal to or higher than the softening point of the partitions 420a to 420p, thereby deforming the partitions 420a to 420p.
  • first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are heated for a predetermined time (second melting time) at the second melting temperature in the melting furnace.
  • the second melting temperature and the second melting time are set so that the partitions 420a to 420p are softened and the air passage 600 is blocked.
  • the lower limit of the second melting temperature is the softening point (eg, 434 ° C.) of the partitions 420a to 420p.
  • the second melting temperature is set to 460 ° C.
  • the second melting time is, for example, 30 minutes.
  • the exhaust of the internal space 500 is continued in the second melting process. That is, in the second melting step, the partitions 420a to 420p are deformed at the second melting temperature while exhausting the first spaces 510a to 510g through the air passage 600, the second spaces 520a and 520b, and the exhaust port 700. Thus, partition walls 42a to 42h that block the ventilation path 600 are formed. This further prevents the vacuum degree of the vacuum spaces 50a to 50g from being deteriorated during the second melting step. However, it is not always necessary to continue exhausting the internal space 500 in the second melting step.
  • the second melting step may be a step of deforming the partitions 420a to 420p to block at least the air passages 600 other than the second air passages 621 and 622 among the plurality of air passages 600. That is, the second ventilation paths 621 and 622 do not necessarily need to be blocked. However, the second ventilation paths 621 and 622 may be closed together with the other ventilation paths 600.
  • the in-process product 110 shown in FIGS. 3, 4 and 14 is obtained by the above-described preparation process.
  • the peripheral wall 410 and the partitions 420a to 420p are once melted in the first melting step and the second melting step. Therefore, the interval between the pair of glass substrates 200 and 300 is defined not by the peripheral wall 410 but by the pillar 70. That is, the peripheral wall 410 is compressed between the first and second glass substrates 200 and 300 at the time of melting, and the peripheral wall 41 that is lower and wider than the peripheral wall 410 is formed. That is, the peripheral wall 41 is the peripheral wall 410 deformed by the sealing process (second melting process).
  • the sides 41 a to 41 d of the peripheral wall 41 are lower than the sides 410 a to 410 d of the peripheral wall 410, and the sides 41 a to 41 d of the peripheral wall 41 are wider than the sides 410 a to 410 d of the peripheral wall 410.
  • the partitions 420a to 420p are compressed between the first and second glass substrates 200 and 300 during melting to form partition walls 42a to 42h. That is, the partition wall 42 (42a to 42h) is a partition 420 (420a to 420p) deformed by the sealing process (second melting process).
  • the partition walls 42a to 42h are lower than the partitions 420a to 420p, and the partition walls 42a to 42h are wider than the partitions 420a to 420p.
  • the height H1 and width W1 of each side 410a to 410d of the peripheral wall 410 and the height H2 and width W2 of the partitions 420a to 420p are the widths of the partition walls 42a to 42h and the widths of the respective sides 41a to 41d of the peripheral wall 41. Is selected to be twice as large. That is, the partitions 420a to 420p are formed such that the widths of the partition walls 42a to 42h are larger than the peripheral wall 410 (that is, the peripheral wall 41) after the sealing process.
  • the partitions 420a to 420p and the peripheral wall 410 have different heights, but the same core material is dispersed in the first sealing material and the second sealing material. Therefore, the peripheral wall 41 formed by the partitions 420a to 420p and the peripheral wall 410 and the partition walls 42a to 42h have the same height. As a result, a frame 40 having a uniform height is obtained.
  • the removal process is executed after the preparation process.
  • the removing step is a step of obtaining the glass panel units 10A to 10G from the work-in-process 110.
  • the removal step is a portion having the first spaces (exhaust spaces) 510a to 510g by removing the portion 11A having the second space (venting space) 520a and the portion 11B having the second space (connected space) 520b.
  • This is a step of obtaining the glass panel units 10A to 10G. That is, in the removing step, the work-in-process 110 is cut and separated into glass panel units 10A to 10G. In the work-in-process 110, the glass panel units 10A to 10G are integrally formed. Therefore, by cutting the work-in-process 110, the glass panel units 10A to 10G are separated from each other.
  • the work-in-progress item 110 (particularly, the glass substrates 200 and 300) is cut along cutting lines 910, 920, 930, 940, 950, 960, 970, along the partition walls 42a to 42h, respectively. Cut along 980.
  • the cutting lines 910, 920, 930, 940, 950, 960, 970, and 980 pass through the center lines of the partition walls 42a to 42h. That is, each of the partition walls 42a to 42h is divided into two in the width direction.
  • the partition walls 42a to 42h are formed by partitions 420a to 420p, and the partitions 420a to 420p are wider than the sides 410a to 410d of the peripheral wall 410.
  • the partition walls 42a to 42h are also wider than the sides 410a to 410d of the peripheral wall 410. Accordingly, the work of cutting the work-in-process 110 along the partition walls 42a to 42h can be easily performed. In particular, it is possible to reduce the possibility that the partition walls 42a to 42h are damaged when the partition walls 42a to 42h are cut and the first spaces 510a to 510g are connected to the external space and the degree of vacuum is deteriorated. As a result, the yield can be improved. Further, the width of the partition walls 42a to 42h is twice the width of each side 41a to 41d of the peripheral wall 41. Therefore, even when the frame 40 includes a part of the peripheral wall 41, the width of each side of the frame 40 is equal. Therefore, the strength of the entire frame 40 can be improved.
  • the plurality of spacers 70 are disposed in the entire internal space 500 (the first spaces 510a to 510g and the second spaces 520a and 520b). Therefore, the stress applied to the pair of glass substrates 200 and 300 when the work-in-process 110 is cut can be dispersed and made uniform by the plurality of spacers, and the breakage of the pair of glass substrates 200 and 300 and the occurrence of defective cutting can be reduced.
  • FIG. 16 shows an example in which the work-in-process 110 is cut along the cutting line 910.
  • the rib mark 860 is confirmed on the cut surface.
  • a rib mark is placed on the opposite side of the first glass substrate 200 from the second glass substrate 300 on the cut surface of the work-in-process 110. 860 results.
  • the rib mark 860 is provided on the side of the cut surface of the work-in-process 110 opposite to the first glass substrate 200 in the second glass substrate 300.
  • the glass panel unit 10 is a work-in-process product. It can be said that it is separated from 110.
  • whether or not the side surface of the glass panel unit 10 is a cut surface can be determined by confirming the shape of the outer surface of the frame body 40.
  • the outer surface of the frame body 40 is a flat surface as shown in FIG. In particular, this flat surface appears to be coplanar with the side surfaces of the pair of glass panels 20, 30.
  • the outer surface of the frame body 40 is likely to be a convex surface as shown in FIGS. 18 and 19.
  • the outer surface of the frame body 40 may be recessed from the side surfaces of the pair of glass panels 20 and 30 to the inside of the glass panel unit 10.
  • the outer surface of the frame 40 may protrude from the side surfaces of the pair of glass panels 20 and 30 to the outside of the glass panel unit 10 as shown in FIG. Accordingly, the glass panel unit 10 obtained by the above manufacturing method is between the pair of glass panels 20 and 30 facing each other and the pair of glass panels 20 and 30, and the pair of glass panels 20 and 30 are joined to each other in an airtight manner.
  • the frame body 40 includes a first part 40a (see FIGS. 18 and 19) having a convex outer surface and a second part having a flat outer surface. 40b (see FIG. 17).
  • the first part 40 a is a part corresponding to the peripheral wall 41.
  • part 40b is a site
  • the widths of the first part 40a and the second part 40b are equal. However, the widths of the first part 40a and the second part 40b do not have to coincide with each other in a strict sense, and may be such that they can be recognized as matching with human eyes.
  • the glass panel units 10A to 10G are obtained from the work-in-process 110 as shown in FIG. At this time, the portion 11 (11A, 11B) including the second spaces 520a, 520b is obtained, but these are not used.
  • Embodiments of the present disclosure are not limited to the above-described embodiments.
  • the above embodiment can be variously modified according to the design and the like as long as the object of the present disclosure can be achieved.
  • the modification of the said embodiment is enumerated.
  • the glass panel unit 10 has a rectangular shape, but the glass panel unit 10 may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape. That is, the first glass panel 20, the second glass panel 30, and the frame body 40 may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape instead of a rectangular shape.
  • each shape of the 1st glass substrate 200, the 2nd glass substrate 300, the surrounding wall 410, the partition 420, and the reinforcement wall 430 is not limited to the shape of the said embodiment,
  • the glass panel unit 10 of desired shape is obtained. Any shape can be used.
  • the shape and size of the glass panel unit 10 are determined according to the application of the glass panel unit 10.
  • the pair of glass panels 20 and 30 may not have the same planar shape and planar size, and may not have the same thickness.
  • the pair of glass panels 20 and 30 may not be formed of the same material. These points are the same for the pair of glass substrates 200 and 300.
  • the frame body 40 may not have the same planar shape as the pair of glass panels 20 and 30.
  • the peripheral walls 41 and 410 may not have the same planar shape as the pair of glass substrates 200 and 300.
  • the first sealing material of the peripheral wall 410 (peripheral wall 41) and the second sealing material of the partitions 420a to 420p (partition walls 42a to 42h) do not necessarily include the same core material, and include different core materials. May be. Moreover, the 1st sealing material may contain only the heat adhesive agent, and the 2nd sealing material may also contain only the heat adhesive agent.
  • the partitions 420a to 420p do not necessarily need to be wider than the peripheral wall 410. Further, the width of the partitions 420a to 420p may be equal to or greater than the width of the peripheral wall 410 (the width of the first sides 410a to 410d). Further, the partition walls 42a to 42h are not necessarily larger in width than the peripheral wall 41. Further, the width of the partition walls 42a to 42h may be equal to or greater than the width of the peripheral wall 41 (the width of the first sides 41a to 41d).
  • the peripheral wall 410 is only between the pair of glass substrates 200 and 300, and these are not joined. However, at the stage of the assembly 100, the peripheral wall 410 may join the pair of glass substrates 200 and 300 together. In short, in the assembly 100, the peripheral wall 410 may be between the pair of glass substrates 200 and 300, and it is not essential to join them.
  • the one or more second air passages 621 and 622 include a specific air passage 622 that is larger than each of the one or more first air passages 611 and 612.
  • the size of each of the one or more second ventilation paths 621 and 622 may be equal to or larger than each of the one or more first ventilation paths 611 and 612, or may be the following. That is, the specific ventilation path 622 is not essential.
  • the partition 420p partitions the second spaces 520a and 520b, and this is not essential.
  • the connecting space is not essential, and at least an exhaust space (first spaces 510a to 510g) and a ventilation space (second space 520a) may be provided.
  • the air passage 600 is a gap between the partitions 420a to 420p or a gap between the partitions 420a to 420p and the peripheral wall 410, but may be a through hole formed in the partitions 420a to 420p. .
  • the air flow path 600 may be a gap between the partitions 420a to 420p and the first glass substrate 200.
  • the internal space 500 is partitioned into a plurality of first spaces 510a to 510g and a plurality of second spaces 520a and 520b.
  • the internal space 500 may be partitioned into one or more first spaces and one or more second spaces by a partition.
  • a melting furnace is used to heat the peripheral wall 410, the gas adsorber 60, and the partitions 420a to 420p.
  • the heating can be performed by an appropriate heating means.
  • the heating means is, for example, a laser or a heat transfer plate connected to a heat source.
  • the assembly 100 has a plurality of air passages 600, but the number of air passages 600 may be one or more. Moreover, the shape of the ventilation path 600 is not specifically limited.
  • the exhaust port 700 is formed in the second glass substrate 300.
  • the exhaust port 700 may be formed in the first glass substrate 200 or may be formed in the peripheral wall 410 (peripheral wall 41).
  • the exhaust port 700 may be formed so as to connect the second spaces 520a and 520b and the external space.
  • the getter of the gas adsorber 60 is an evaporable getter, but the getter may be a non-evaporable getter.
  • the gas adsorber 60 has a long flat plate shape, but may have other shapes. Further, the gas adsorber 60 does not necessarily have to be at the end of the vacuum space 50.
  • the gas adsorbent 60 is obtained by a liquid containing getter powder (for example, a dispersion obtained by dispersing getter powder in the liquid or by dissolving the getter powder in the liquid. Formed solution).
  • the gas adsorber 60 may include a substrate and a getter fixed to the substrate. Such a gas adsorber 60 can be obtained by immersing the substrate in a liquid containing getter powder and drying it.
  • the substrate may have a desired shape, for example, a long rectangular shape.
  • the gas adsorber 60 may be a film formed entirely or partially on the surface of the second glass substrate 300. Such a gas adsorber 60 can be obtained by coating the surface of the second glass substrate 300 with a liquid containing getter powder.
  • the gas adsorber 60 may be included in the pillar 70.
  • the pillar 70 is formed of a material including a getter, the pillar 70 including the gas adsorber 60 can be obtained.
  • the gas adsorber 60 may be a solid formed by a getter.
  • the plurality of spacers 70 are disposed in the entire internal space 500 (each of the first spaces 510a to 510g and the second spaces 520a and 520b). It is not essential to place it.
  • the glass panel unit 10 includes a plurality of pillars 70, but the glass panel unit 10 may include one pillar 70. Alternatively, the glass panel unit 10 may not include the pillar 70.
  • the first space (510a to 510g) is a vacuum space (50a to 50g), but a reduced pressure space may be used instead of the vacuum space (50a to 50g).
  • the decompression space is the first space (510a to 510g) in a decompressed state.
  • the depressurized state may be a state where the pressure is lower than the atmospheric pressure.
  • the assembly (100) of the glass panel unit of the first aspect includes a pair of glass substrates (200, 300) facing each other, a peripheral wall (410), partitions (420a to 420p), an air passage (600), And an exhaust port (700).
  • the peripheral wall (410) is between the pair of glass substrates (200, 300).
  • the peripheral wall (410) has a frame shape.
  • the partitions (420a to 420p) form an internal space (500) surrounded by the pair of glass substrates (200, 300) and the peripheral wall (410) as a first space (510a to 510g) and a second space (520a, 520b).
  • the ventilation path (600) connects the first space (510a to 510g) and the second space (520a, 520b).
  • the exhaust port (700) connects the second space (520a, 520b) and the external space.
  • the partitions (420a to 420p) are lower than the peripheral wall (410). According to the first aspect, the yield can be improved.
  • the assembly (100) of the glass panel unit of the second aspect can be realized by a combination with the first aspect.
  • the assembly (100) of the glass panel unit is further arranged in the internal space (500) to maintain at least one gap between the pair of glass substrates (200, 300).
  • a pillar (70) is provided.
  • the one or more pillars (70) are lower than the partitions (420a-420p). According to the second aspect, the yield can be improved.
  • the assembly (100) of the glass panel unit of the third aspect can be realized by a combination with the first or second aspect.
  • the partition (420a-420p) is wider than the peripheral wall (410). According to the third aspect, the yield can be improved.
  • the assembly (100) of the glass panel unit of the fourth aspect can be realized by a combination with any one of the first to third aspects.
  • the partition (420a to 420p) and the peripheral wall (410) have the same softening point. According to the fourth aspect, the yield can be improved.
  • the assembly (100) of the glass panel unit of the fifth aspect can be realized by a combination with the fourth aspect.
  • the material of the partition (420a to 420p) and the material of the peripheral wall (410) are the same. According to the fifth aspect, the yield can be improved.
  • the assembly (100) of the glass panel unit of the sixth aspect can be realized by a combination with any one of the first to fifth aspects.
  • the same core material is dispersed in the material of the partition (420a to 420p) and the material of the peripheral wall (410). According to the sixth aspect, the yield can be improved.
  • the manufacturing method of the glass panel unit according to the seventh aspect includes an assembly process, an exhaust process, and a sealing process.
  • the assembling step is a step of preparing an assembly (100) of the glass panel unit according to any one of the first to sixth aspects.
  • the exhausting step is a step of exhausting the first space (510a to 510g) through the ventilation path (600), the second space (520a, 520b), and the exhaust port (700).
  • the sealing step is a step of closing the air passage (600) by deforming the partition (420a to 420p). According to the seventh aspect, the yield can be improved.
  • the manufacturing method of the glass panel unit of the eighth aspect can be realized by a combination with the seventh aspect.
  • the partition (420a to 420p) in the assembling step, is applied to one of the pair of glass substrates (200, 300) by a dispenser to form the partition (420a to 420p).
  • Forming step in the partition forming step, the material of the partition (420a to 420p) discharged from the nozzle (821) of the dispenser (820) is pressed by the nozzle (821) to increase the height of the partition (420a to 420p).
  • the height is smaller than the height of the peripheral wall (410). According to the 8th aspect, the height of a partition can be adjusted easily.
  • the manufacturing method of the glass panel unit of the ninth aspect can be realized by a combination with the seventh or eighth aspect.
  • the assembling step includes a peripheral wall forming step of forming the peripheral wall (410) by applying a material of the peripheral wall (410) to one of the pair of glass substrates (200, 300) by a dispenser. .
  • the material of the peripheral wall (410) discharged from the nozzle of the dispenser is not pressed by the nozzle. According to the ninth aspect, the yield can be improved.
  • the manufacturing method of the glass panel unit of the tenth aspect can be realized by a combination with any one of the seventh to ninth aspects.
  • the method for manufacturing the glass panel unit further includes a removing step.
  • the glass panel units (10A to 10G) that are the portions having the first spaces (510a to 510g) are removed by removing the portions (11A and 11B) having the second spaces (520a and 520b). It is the process of obtaining.
  • the yield can be improved.

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Abstract

課題は、歩留まりの向上が図れる、ガラスパネルユニットの組立て品、及び、ガラスパネルユニットの製造方法を提供することである。ガラスパネルユニットの組立て品（１００）は、互いに対向する一対のガラス基板（２００，３００）と、周壁（４１０）と、仕切り（４２０ｂ，４２０ｅ，４２０ｇ，４２０ｈ）と、通気路と、排気口と、を備える。周壁（４１０）は、枠状であり、一対のガラス基板（２００，３００）間にある。仕切り（４２０ｂ，４２０ｅ，４２０ｇ，４２０ｈ）は、一対のガラス基板（２００，３００）及び周壁（４１０）で囲まれた内部空間（５００）を第１空間（５１０ｂ，５１０ｃ，５１０ｄ，５１０ｇ）と第２空間（５２０ａ）とに仕切る。通気路は、第１空間（５１０ｂ，５１０ｃ，５１０ｄ，５１０ｇ）と第２空間（５２０ａ）とをつなぐ。排気口は、第２空間（５２０ａ）と外部空間とをつなぐ。仕切り（４２０ｂ，４２０ｅ，４２０ｇ，４２０ｈ）は、周壁（４１０）より低い。

Description

ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法
　本開示は、ガラスパネルユニットの組立て品、及び、ガラスパネルユニットの製造方法に関する。本開示は、特に、一対のガラスパネルの間に空間がある断熱用のガラスパネルユニットの組立て品、及び、ガラスパルユニットの製造方法に関する。
　特許文献１は、一対のガラスパネルの間に真空空間が形成されたガラスパネルユニットを製造する方法を開示する。この製造方法では、第１ガラス基板と第２ガラス基板（一対のガラス基板）とが枠体（周壁）を介して対向するように配置され、この後、枠体が加熱されて溶融することで、第１ガラス基板と第２ガラス基板とが気密に接合される。このとき、第１及び第２ガラス基板と枠体とで囲まれた内部空間が仕切りで第１空間と第２空間とに仕切られている。そして、第１空間が第２空間を通じて排気されて真空空間とされ、この後、真空空間が密閉されて組立て品が得られる。そして、この組立て品の一部が切り出されることで、ガラスパネルユニットが得られる。
　特許文献１のガラスパネルユニットでは、第１ガラス基板及び第２ガラス基板を枠体により接合している。ここで、第１及び第２ガラス基板に反りがある場合、第１及び第２ガラス基板の中央部と周辺部とで第１及び第２ガラス基板間の距離が変わり得る。特に、第１及び第２ガラス基板間の距離が周辺部よりも中央部で狭くなると、仕切りの存在によって、枠体（数壁）が第１及び第２ガラス基板の周辺部同士に接触できない場合がある。これは、第１及び第２ガラス基板間の接合不良の原因となり得る。
特開２０１６－１０８７９９号公報
　課題は、歩留まりの向上が図れる、ガラスパネルユニットの組立て品、及び、ガラスパネルユニットの製造方法を提供することである。
　本開示の一態様のガラスパネルユニットの組立て品は、互いに対向する一対のガラス基板と、前記一対のガラス基板間にある枠状の周壁と、仕切りと、通気路と、排気口と、を備える。前記仕切りは、前記一対のガラス基板及び前記周壁で囲まれた内部空間を第１空間と第２空間とに仕切る。前記通気路は、前記第１空間と前記第２空間とをつなぐ。前記排気口は、前記第２空間と外部空間とをつなぐ。前記仕切りは、前記周壁より低い。
　本開示の一態様のガラスパネルユニットの製造方法は、組立工程と、排気工程と、封止工程とを含む。前記組立工程は、前記ガラスパネルユニットの組立て品を用意する工程である。前記排気工程は、前記通気路と前記第２空間と前記排気口とを介して前記第１空間を排気する工程である。前記封止工程は、前記仕切りを変形させて前記通気路を塞ぐ工程である。
図１は、一実施形態のガラスパネルユニットの組立て品の平面図である。 図２は、図１のＡ－Ａ線断面図である。 図３は、上記実施形態のガラスパネルユニットの仕掛り品の平面図である。 図４は、図３のＢ－Ｂ線断面図である。 図５は、上記実施形態のガラスパネルユニットの製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図６は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図７は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図８は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図９は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図１０は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図１１は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図１２は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図１３は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図１４は、上記製造方法の準備工程（組立工程）の説明図である。 図１５は、上記製造方法の除去工程の説明図である。 図１６は、上記製造方法の除去工程の説明図である。 図１７は、上記製造方法で製造されたガラスパネルユニットの部分断面図である。 図１８は、上記製造方法で製造されたガラスパネルユニットの部分断面図である。 図１９は、上記製造方法で製造されたガラスパネルユニットの部分断面図である。
　１．実施形態
　１．１　概要
　図１及び図２は、一実施形態のガラスパネルユニットの組立て品（以下、単に「組立て品」ともいう）１００を示す。組立て品１００は、１以上のガラスパネルユニット（本実施形態では、図１５に示すガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇ）を製造するために利用される。組立て品１００は、互いに対向する一対のガラス基板２００，３００と、枠状の周壁４１０と、仕切り４２０ａ～４２０ｐと、通気路６００と、排気口７００と、を備える。周壁４１０は、一対のガラス基板２００，３００間にある。仕切り４２０ａ～４２０ｐは、一対のガラス基板２００，３００及び周壁４１０で囲まれた内部空間５００を第１空間５１０ａ～５１０ｇと第２空間５２０ａ，５２０ｂとに仕切る。通気路６００は、第１空間５１０ａ～５１０ｇと第２空間５２０ａ，５２０ｂとを（直接的又は間接的に）つなぐ。排気口７００は、第２空間５２０ａ，５２０ｂと外部空間とをつなぐ。仕切り４２０ａ～４２０ｐは、図２に示すように、周壁４１０より低い。
　この組立て品１００では、仕切り４２０ａ～４２０ｐは周壁４１０で囲まれた領域内にあり、周壁４１０より低い。そのため、ガラス基板２００，３００に反りがあって一対のガラス基板２００，３００の間隔が周辺部よりも中央部で狭くなった場合でも、仕切り４２０ａ～４２０ｐが一対のガラス基板２００，３００の両方に接触しにくい。したがって、周壁４１０が一対のガラス基板２００，３００の両方と接触することが仕切り４２０ａ～４２０ｐによって阻害される可能性を低減できる。これは、一対のガラス基板２００，３００間の接合不良の発生の低減につながる。したがって、歩留まりの向上が図れる。
　１．２　構成
　以下、本実施形態のガラスパネルユニットの組立て品１００について詳細に説明する。組立て品１００は、図１５に示す複数（ここでは７つ）のガラスパネルユニット１０（１０Ａ～１０Ｇ）を製造するために利用される。
　ガラスパネルユニット１０（１０Ａ～１０Ｇ）は、真空断熱ガラスユニットである。真空断熱ガラスユニットは、少なくとも一対のガラスパネルを備える複層ガラスパネルの一種であって、一対のガラスパネル間に真空空間を有している。各ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇは、図１５に示すように、一対のガラスパネル（第１及び第２ガラスパネル）２０，３０と、枠体４０と、を備える。また、各ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇは、一対のガラスパネル２０，３０と枠体４０とで囲まれた空間（真空空間）５０（５０ａ～５０ｇ（図３参照））を有する。更に、各ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇは、真空空間５０内に、ガス吸着体６０と、複数のピラー（スペーサ）７０と、を備える。なお、図１５から明らかなように、ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇはいずれも平面視において四角形状であるが、大きさ及び形状が必ずしも同じではない。
　一対のガラスパネル２０，３０は、同形状である。一対のガラスパネル２０，３０はいずれも矩形の平板状である。一対のガラスパネル２０，３０の材料は、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。なお、一対のガラスパネル２０，３０の表面には、コーティングが設けられていてもよい。コーティングの例としては、透明な赤外線反射膜が挙げられる。なお、コーティングは、赤外線反射膜に限定されず、所望の物理特性を有する膜であってもよい。
　枠体４０は、一対のガラスパネル２０，３０間にあり、一対のガラスパネル２０，３０を互いに気密に接合する。これによって、一対のガラスパネル２０，３０と枠体４０とで囲まれた空間が形成される。そして、一対のガラスパネル２０，３０と枠体４０とで囲まれた空間は真空空間５０となっている。枠体４０は、熱接着剤（封着材）で形成されている。言い換えれば、枠体４０は、硬化した熱接着剤である。熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットの例としては、低融点ガラスフリットが挙げられる。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。枠体４０は、一対のガラスパネル２０，３０と同様の多角形（本実施形態では四角形）の枠状である。枠体４０は、一対のガラスパネル２０，３０の外周に沿って形成されている。また、熱接着剤は、ガラスフリットに限定されず、例えば、低融点金属や、ホットメルト接着材などであってもよい。
　ガス吸着体６０は、真空空間５０内に配置される。具体的には、ガス吸着体６０は、長尺の平板状であり、ガラスパネル３０に配置されている。ガス吸着体６０は、不要なガス（残留ガス等）を吸着するために用いられる。不要なガスは、例えば、枠体４０を形成する熱接着剤が加熱された際に、熱接着剤から放出されるガスである。ガス吸着体６０は、ゲッタを有する。ゲッタは、所定の大きさより小さい分子を吸着する性質を有する材料である。ゲッタは、例えば、蒸発型ゲッタである。蒸発型ゲッタは、所定温度（活性化温度）以上になると、吸着された分子を放出する性質を有している。そのため、蒸発型ゲッタの吸着能力が低下しても、蒸発型ゲッタを活性化温度以上に加熱することで、蒸発型ゲッタの吸着能力を回復させることができる。蒸発型ゲッタは、例えば、ゼオライトまたはイオン交換されたゼオライト（例えば、銅イオン交換されたゼオライト）である。ガス吸着体６０は、このゲッタの粉体を備えている。具体的には、ガス吸着体６０は、ゲッタの粉体を含む液体（例えばゲッタの粉体を液体に分散して得られた分散液や、ゲッタの粉体を液体に溶解させて得られた溶液）を塗布して固形化することにより形成される。この場合、ガス吸着体６０を小さくできる。したがって、真空空間５０が狭くてもガス吸着体６０を配置できる。
　複数のピラー７０は、真空空間５０内に配置されている。複数のピラー７０は、一対のガラスパネル２０，３０間の間隔を所定間隔に維持するために用いられる。つまり、複数のピラー７０は、一対のガラスパネル２０，３０間の距離を所望の値に維持するために使用される。なお、ピラー７０の大きさ、ピラー７０の数、ピラー７０の間隔、ピラー７０の配置パターンは、適宜選択することができる。各ピラー７０は、上記所定間隔とほぼ等しい高さを有する円柱状である。例えば、ピラー７０は、直径が１ｍｍ、高さが１００μｍである。なお、各ピラー７０は、角柱状や球状などの所望の形状であってもよい。
　組立て品１００は、図１及び図２に示すように、互いに対向する一対のガラス基板（第１及び第２ガラス基板）２００，３００と、周壁４１０と、仕切り４２０ａ～４２０ｐと、複数の通気路６００と、排気口７００と、を備える。また、組立て品１００は、複数のガス吸着体６０と、複数のピラー（スペーサ）７０と、を備える。
　第１ガラス基板２００は、第１ガラスパネル２０の基礎となる部材であり、第１ガラスパネル２０と同じ材料で形成されている。第２ガラス基板３００は、第２ガラスパネル３０の基礎となる部材であり、第２ガラスパネル３０と同じ材料で形成されている。第１及び第２ガラス基板２００，３００は同形状である。第１及び第２ガラス基板２００，３００はいずれも多角形（本実施形態では長方形）の板状である。本実施形態では、第１ガラス基板２００は、ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇの第１ガラスパネル２０を形成可能な大きさであり、第２ガラス基板３００は、ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇの第２ガラスパネル３０を形成可能な大きさである。
　周壁４１０は、封着材（第１封着材）で形成されている。第１封着材は、例えば、熱接着剤を含む。熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットは、例えば、低融点ガラスフリットである。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。また、第１封着材は、芯材を含む。芯材は、枠体４０の高さを規定するために用いられる。芯材は、例えば、球状のガラスビーズである。ガラスビーズの径は、枠体４０の高さに応じて選択される。このような芯材は、熱接着剤に所定の割合で分散される。一例としては、直径５０～３００μｍのガラスビーズが、熱接着剤に対して０．０１～１ｗｔ％（体積比で０．０３～３％）で含まれている。
　周壁４１０は、一対のガラス基板２００，３００間にある。周壁４１０は、図１に示すように、枠状である。特に、周壁４１０は、矩形の枠状である。周壁４１０は、第１及び第２ガラス基板２００，３００の外周に沿って形成されている。周壁４１０は、第１～第４辺４１０ａ，４１０ｂを有する。第１及び第２辺４１０ａ，４１０ｂは、第１及び第２ガラス基板２００，３００の幅方向（図１の上下方向）に沿って伸びる。第３及び第４辺４１０ｃ，４１０ｄは、第１及び第２ガラス基板２００，３００の長さ方向（図１の左右方向）に沿って伸びる。周壁４１０は、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを気密に接合するためのものである。これにより、組立て品１００では、周壁４１０と第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とで囲まれた内部空間５００が形成される。
　仕切り４２０ａ～４２０ｐは、いずれも封着材（第２封着材）で形成されている。第２封着材は、例えば、熱接着剤を含む。熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットは、例えば、低融点ガラスフリットである。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。本実施形態では、仕切り４２０ａ～４２０ｐの熱接着剤は、周壁４１０と同じ熱接着剤である。よって、仕切り４２０ａ～４２０ｐと周壁４１０とは同じ軟化点を有している。また、第２封着材は、第１封着材と同じ芯材を含む。第２封着材においても、芯材は、熱接着剤に所定の割合で分散される。一例としては、直径５０～３００μｍのガラスビーズが、熱接着剤に対して０．０１～１ｗｔ％（体積比で０．０３～３％）で含まれている。
　仕切り４２０ａ～４２０ｐは、一対のガラス基板２００，３００及び周壁４１０で囲まれた内部空間５００を第１空間５１０ａ～５１０ｇと第２空間５２０ａ，５２０ｂとに仕切る。組立て品１００では、第１空間５１０ａ～５１０ｇは後に排気される空間（排気空間）であり、第２空間５２０ａ，５２０ｂは、第１空間５１０の排気に使用される空間である。
　図１に示すように、仕切り４２０ａ～４２０ｐは周壁４１０で囲まれた領域内にある。そして、仕切り４２０ａ～４２０ｐは、いずれも周壁４１０より低い。そのため、図２に示すように、仕切り４２０ａ～４２０ｐよりも周壁４１０が先に第１及び第２ガラス基板２００，３００の両方に接する。図２の例では、仕切り４２０ａ～４２０ｐが第２ガラス基板３００に形成されているから、第１ガラス基板２００とは離間している。そのため、第１及び第２ガラス基板２００，３００の少なくとも一方に反りがあって一対のガラス基板２００，３００の間隔が周辺部よりも中央部で狭くなった場合でも、仕切り４２０ａ～４２０ｐが一対のガラス基板２００，３００の両方に接触しにくい。したがって、周壁４１０が一対のガラス基板２００，３００の両方と接触することが仕切り４２０ａ～４２０ｐによって阻害される可能性を低減できる。これは、一対のガラス基板２００，３００間の接合不良の発生の低減につながる。したがって、歩留まりの向上が図れる。
　より詳細には、仕切り４２０ａ，４２０ｂ，４２０ｃは、一対のガラス基板２００，３００の幅方向（図１の上下方向）に沿って延びる長尺状であり、当該幅方向に沿って間隔を空けて一列に並んでいる。また、仕切り４２０ａ，４２０ｂ，４２０ｃは、一対のガラス基板２００，３００の長さ方向（図１の左右方向）の第１端側（図１の右側）に位置し、周壁４１０の第１辺４１０ａから間隔を空けて配置されている。
　仕切り４２０ｄ，４２０ｅ，４２０ｆは、一対のガラス基板２００，３００の幅方向に沿って延びる長尺状であり、当該幅方向に沿って間隔を空けて一列に並んでいる。また、仕切り４２０ｄ，４２０ｅ，４２０ｆは、仕切り４２０ａ，４２０ｂ，４２０ｃよりも一対のガラス基板２００，３００の長さ方向の第２端側（図１の左側）に位置する。また、仕切り４２０ｄ，４２０ｅ，４２０ｆは、それぞれ、仕切り４２０ａ，４２０ｂ，４２０ｃと一対のガラス基板２００，３００の長さ方向において対向する。
　仕切り４２０ｇ，４２０ｈは、一対のガラス基板２００，３００の幅方向に沿って延びる長尺状であり、一対のガラス基板２００，３００の長さ方向に沿って間隔を空けて並んでいる。また、仕切り４２０ｇ，４２０ｈは、仕切り４２０ｅよりも一対のガラス基板２００，３００の長さ方向の第２端側（図１の左側）に位置する。
　仕切り４２０ｉ，４２０ｊ，４２０ｋ，４２０ｌは、一対のガラス基板２００，３００の長さ方向に沿って延びる長尺状であり、当該長さ方向に沿って間隔を空けて一列に並んでいる。特に、仕切り４２０ｉは、仕切り４２０ｈの第１端（図１の上端）と、周壁４１０の第２辺４１０ｂとの間にある。仕切り４２０ｊは、仕切り４２０ｈ，４２０ｇの第１端（図１の上端）間にある。仕切り４２０ｋは、その第１端（図１の右端）が仕切り４２０ｄ，４２０ｅ間にあり、その第２端（図１の左端）が仕切り４２０ｇの第１端（図１の上端）に対向する。仕切り４２０ｌは、その第１端（図１の右端）が仕切り４２０ａ，４２０ｂ間にあり、その第２端（図１の左端）が仕切り４２０ｄ，４２０ｅ間にある。
　仕切り４２０ｍ，４２０ｎ，４２０ｏは、一対のガラス基板２００，３００の長さ方向に沿って延びる長尺状であり、当該長さ方向に沿って間隔を空けて一列に並んでいる。また、仕切り４２０ｍ，４２０ｎ，４２０ｏは、それぞれ、仕切り４２０ｉ，４２０ｊ，４２０ｋと一対のガラス基板２００，３００の幅方向において対向する。特に、仕切り４２０ｍは、仕切り４２０ｈの第２端（図１の下端）と、周壁４１０の第２辺４１０ｂとの間にある。仕切り４２０ｎは、仕切り４２０ｈ，４２０ｇの第２端（図１の下端）間にある。仕切り４２０ｏは、その第１端（図１の右端）が仕切り４２０ｅの周壁４１０の第４辺４１０ｄ側の端と対向し、その第２端（図１の左端）が仕切り４２０ｇの第２端（図１の下端）に対向する。
　仕切り４２０ｐは、一対のガラス基板２００，３００の長さ方向に沿って延びる長尺状である。特に、仕切り４２０ｐは、その第１端（図１の右端）が仕切り４２０ｂ，４２０ｃ間にあり、その第２端（図１の左端）が仕切り４２０ｅ，４２０ｆ間にある。
　組立て品１００では、第１空間５１０ａは、周壁４１０の第２及び第３辺４１０ｂ，４１０ｃと仕切り４２０ｄ，４２０ｉ，４２０ｊ，４２０ｋ，４２０ｈ，４２０ｇとで囲まれる空間である。第１空間５１０ｂは、周壁４１０の第２辺４１０ｂと仕切り４２０ｈ，４２０ｉ，４２０ｍとで囲まれる空間である。第１空間５１０ｃは、仕切り４２０ｇ，４２０ｈ，４２０ｊ，４２０ｎで囲まれる空間である。第１空間５１０ｄは、仕切り４２０ｅ，４２０ｇ，４２０ｋ，４２０ｏで囲まれる空間である。第１空間５１０ｅは、周壁４１０の第２及び第４辺４１０ｂ，４１０ｄと仕切り４２０ｅ，４２０ｆ，４２０ｇ，４２０ｈ，４２０ｍ，４２０ｎ，４２０ｏ，４２０ｐとで囲まれる空間である。第１空間５１０ｆは、周壁４１０の第３辺４１０ｃと仕切り４２０ａ，４２０ｄ，４２０ｌとで囲まれる空間である。第１空間５１０ｇは、仕切り４２０ｂ，４２０ｅ，４２０ｌ，４２０ｐで囲まれる空間である。第２空間５２０ａは、周壁４１０の第１、第３及び第４辺４１０ａ，４１０ｃ，４１０ｄと仕切り４２０ａ，４２０ｂ，４２０ｃ，４２０ｌ，４２０ｐで囲まれる空間である。第２空間５２０ｂは、周壁４１０の第４辺４１０ｄと仕切り４２０ｃ，４２０ｆ，４２０ｐで囲まれる空間である。
　ここで、ガス吸着体６０は、図１に示すように、第１空間５１０ａ～５１０ｇの各々に配置されている。一方、複数のピラー７０は、図１に示すように、内部空間５００の全体（第１空間５１０ａ～５１０ｇ及び第２空間５２０ａ，５２０ｂの各々）に配置されている。
　複数の通気路６００は、排気口７００を介して第１空間（排気空間）５１０ａ～５１０ｇを排気するために用いられる。複数の通気路６００を介して、第１空間５１０ａ～５１０ｇは、第２空間５２０ａ，５２０ｂに（直接的又は間接的に）つながれる。本実施形態では、仕切り４２０ａ～４２０ｐは、互いに接触しないように配置されている。そして、仕切り４２０ａ～４２０ｐ間の隙間の各々が、通気路６００を構成している。各通気路６００は、仕切り４２０ａ～４２０ｐを一旦溶融させて変形させることで閉塞される。これによって、少なくとも第１空間５１０ａ～５１０ｇ同士を互いに（気密に）分離するとともに、第１空間５１０ａ～５１０ｇを第２空間５２０ａ，５２０ｂから（気密に）分離する（図３参照）。
　排気口７００は、第２空間５２０ａ，５２０ｂと外部空間とをつなぐ。特に、排気口７００は、第２空間５２０ａと外部空間とをつなぐ孔である。排気口７００は、第２空間５２０ａ，５２０ｂ及び通気路６００を利用して第１空間５１０ａ～５１０ｇを排気するために用いられる。したがって、通気路６００と第２空間５２０ａ，５２０ｂと排気口７００とは、第１空間５１０ａ～５１０ｇを排気するための排気路を構成する。排気口７００は、第２空間５２０ａと外部空間とをつなぐように第２ガラス基板３００に形成されている。具体的には、排気口７００は、第２ガラス基板３００の角部分にある。
　本実施形態では、第２空間５２０ａは、排気口７００に直接的につながった通気空間である。第２空間５２０ｂは、排気口７００には直接的にはつながっていないが、第１空間５１０ｅと第２空間５２０ａとをつなぐ連結空間を構成する。そして、複数の通気路６００は、図１に示すように、第１空間（排気空間）５１０ｅと第２空間（連結空間）５２０ｂとをつなぐ複数の通気路（２つの第１通気路６１１，６１２）を含む。また、複数の通気路６００は、第２空間（通気空間）５２０ａと第２空間（連結空間）５２０ｂとをつなぐ複数の通気路（２つの第２通気路６２１，６２２）を含む。また、複数の通気路６００は、第１空間５１０ｆ，５１０ｇと第２空間５２０ａとをつなぐ複数の通気路６３０と、第１空間５１０ａ～５１０ｇ同士をつなぐ複数の通気路６４０とを含む。
　より詳細には、第１通気路６１１は、仕切り４２０ｆの第１端（図１の上端）と仕切り４２０ｐの第２端（図１の左端）との間の通気路である。第１通気路６１２は、仕切り４２０ｆの第２端（図１の下端）と周壁４１０の第４辺４１０ｄとの間の通気路である。一方、第２通気路６２１は、仕切り４２０ｃの第１端（図１の上端）と仕切り４２０ｐの第１端（図１の右端）との間の通気路である。第２通気路６２２は、仕切り４２０ｃの第２端（図１の下端）と周壁４１０の第４辺４１０ｄとの間の通気路である。ここで、第２通気路６２２は、第１通気路６１１，６１２の各々より大きい。つまり、１以上の第２通気路６２１，６２２は、１以上の第１通気路６１１，６１２の各々よりも大きい特定の通気路６２２を含む。これによって、排気口７００を介して排気空間５１０ｅを排気する際に、連結空間５２０ｂを、排気路の一部として利用できる。そのため、排気を効率よく行える。特に、後述する第２溶融工程（封止工程）にて仕切り４２０ａ～４２０ｐを変形させて通気路６００を閉じる際に、第１通気路６１１，６１２が全て閉じる前に第２通気路６２１，６２２が全て閉じてしまう可能性を低減できる。そのため、排気空間５１０ｅが十分に排気される前に、排気空間５１０ｅが通気空間５２０ａから分離されてしまう可能性を低減できる。したがって、歩留まりの向上が図れる。
　１．３　製造方法
　次に、組立て品１００を用いた、ガラスパネルユニット１０（１０Ａ～１０Ｇ）の製造方法について図３～図１６を参照して説明する。ガラスパネルユニット１０の製造方法は、準備工程と、除去工程とを含む。
　準備工程は、図３及び図４に示すガラスパネルユニットの仕掛り品（以下、単に「仕掛り品」ともいう）１１０を用意する工程である。仕掛り品１１０は、ガラスパネルユニットの組立て品１００から形成される。
　仕掛り品１１０は、図３及び図４に示されるように、一対のガラス基板（第１及び第２ガラス基板）２００，３００と、周壁４１と、隔壁４２ａ～４２ｈと、を備える。また、仕掛り品１１０は、真空空間５０ａ～５０ｇと、第２空間５２０ａ，５２０ｂとを有する。更に、仕掛り品１１０は、各真空空間５０ａ～５０ｇ内に、ガス吸着体６０と、複数のピラー（スペーサ）７０と、を備える。更に、仕掛り品１１０は、排気口７００を備える。
　周壁４１は、一対のガラス基板２００，３００間にあり、一対のガラス基板２００，３００同士を気密に接合する。周壁４１は、組立て品１００の周壁４１０を一旦溶融し再度固化することで形成されている。仕掛り品１１０の周壁４１は、組立て品１００の周壁４１０と同様に、枠状である。特に、周壁４１は、第１～第４辺４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄを有する。第１及び第２辺４１ａ，４１ｂは、第１及び第２ガラス基板２００，３００の幅方向（図３の上下方向）に沿って伸びる。第３及び第４辺４１ｃ，４１ｄは、第１及び第２ガラス基板２００，３００の長さ方向（図３の左右方向）に沿って伸びる。
　隔壁４２ａ～４２ｈは、真空空間５０ａ～５０ｇ及び第２空間５２０ａ，５２０ｂを相互に（空間的に）分離する。隔壁４２ａ～４２ｈは、仕切り４２０ａ～４２０ｐから形成される。より詳細には、隔壁４２ａは、一対のガラス基板２００，３００の幅方向に延びる直線状であり、周壁４１の第３及び第４辺４１ｃ，４１ｄ同士を一体に連結する。
　隔壁４２ａは、仕切り４２０ａ，４２０ｂ，４２０ｃ，４２０ｌ，４２０ｐの変形により形成される。隔壁４２ｂは、一対のガラス基板２００，３００の幅方向に延びる長尺状であり、周壁４１の第３及び第４辺４１ｃ，４１ｄ同士を一体に連結する。隔壁４２ｂは、隔壁４２ａと周壁４１の第２辺４１ｂとの間にある。隔壁４２ｂは、仕切り４２０ｄ，４２０ｅ，４２０ｆ，４２０ｋ，４２０ｌ，４２０ｐの変形により形成される。隔壁４２ｃは、一対のガラス基板２００，３００の長さ方向に延びる直線状であり、周壁４１の第２辺４１ｂと隔壁４２ｂと一体に連結する。隔壁４２ｃは、仕切り４２０ｉ，４２０ｊ，４２０ｋ，４２０ｇ，４２０ｈの変形により形成される。隔壁４２ｄは、一対のガラス基板２００，３００の長さ方向に延びる直線状であり、周壁４１の第２辺４１ｂと隔壁４２ｂと一体に連結する。隔壁４２ｄは、隔壁４２ｃと周壁４１の第４辺４１ｄとの間にある。隔壁４２ｄは、仕切り４２０ｍ，４２０ｎ，４２０ｏ，４２０ｇ，４２０ｈの変形により形成される。隔壁４２ｅ，４２ｆは、一対のガラス基板２００，３００の幅方向に延びる直線状であり、隔壁４２ｃ，４２ｄ同士を一体に連結する。隔壁４２ｅ，４２ｆは、仕切り４２０ｈ，４２０ｇの変形により形成される。隔壁４２ｇ，４２ｈは、一対のガラス基板２００，３００の長さ方向に延びる直線状であり、隔壁４２ａ，４２ｂ同士を一体に連結する。隔壁４２ｇ，４２ｈは、仕切り４２０ｌ，４２０ｐの変形により形成される。
　真空空間５０ａ～５０ｇは、第２空間５２０ａ，５２０ｂ及び排気口７００を介して第１空間５１０ａ～５１０ｇを排気することで形成される。換言すれば、真空空間５０ａ～５０ｇは、真空度が所定値以下の第１空間５１０ａ～５１０ｇである。所定値は、例えば、０．１Ｐａである。真空空間５０ａ～５０ｇは、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００と周壁４１と隔壁４２ａ～４２ｈとで完全に密閉されているから、第２空間５２０ａ，５２０ｂ及び排気口７００から分離されている。
　仕掛り品１１０では、真空空間５０ａ（第１空間５１０ａ）は、周壁４１０の第２及び第３辺４１０ｂ，４１０ｃと隔壁４２ｂ，４２ｃとで囲まれる空間である。真空空間５０ｂ（第１空間５１０ｂ）は、周壁４１０の第２辺４１０ｂと隔壁４２ｃ，４２ｄ，４２ｅとで囲まれる空間である。真空空間５０ｃ（第１空間５１０ｃ）は、隔壁４２ｃ，４２ｄ，４２ｅ，４２ｆで囲まれる空間である。真空空間５０ｄ（第１空間５１０ｄ）は、隔壁４２ｂ，４２ｃ，４２ｄ，４２ｆで囲まれる空間である。真空空間５０ｅ（第１空間５１０ｅ）は、周壁４１０の第２及び第４辺４１０ｂ，４１０ｄと隔壁４２ｂ，４２ｄとで囲まれる空間である。真空空間５０ｆ（第１空間５１０ｆ）は、周壁４１０の第３辺４１０ｃと隔壁４２ａ，４２ｂ，４２ｇとで囲まれる空間である。真空空間５０ｇ（第１空間５１０ｇ）は、隔壁４２ａ，４２ｂ，４２ｇ，４２ｈで囲まれる空間である。
　このように、周壁４１０及び隔壁４２ａ～４２ｈは、真空空間５０ａ～５０ｇをそれぞれ囲う複数の枠体４０を一体に含んでいる。つまり、周壁４１０及び隔壁４２ａ～４２ｈにおいて各真空空間５０ａ～５０ｇを囲う部分が枠体４０を構成する。
　準備工程は、上述した仕掛り品１１０を用意するための工程であり、組立工程と、第１溶融工程と、排気工程と、第２溶融工程とを含む。
　組立工程は、組立て品１００を用意する工程である。つまり、組立工程は、組立て品１００を得るために、第１ガラス基板２００、第２ガラス基板３００、周壁４１０、仕切り４２０ａ～４２０ｐ、内部空間５００、通気路６００、排気口７００、複数のガス吸着体６０、及び複数のピラー７０を形成する工程である。組立工程は、第１～第６工程を有する。なお、第２～第５工程の順番は、適宜変更してもよい。
　第１工程は、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００を形成する工程（基板形成工程）である。例えば、第１工程では、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００を作製する。また、第１工程では、必要に応じて、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００を洗浄する。
　第２工程は、排気口７００を形成する工程である。第２工程では、図５に示すように、第２ガラス基板３００に、排気口７００を形成する。また、第２工程では、必要に応じて、第２ガラス基板３００を洗浄する。
　第３工程は、周壁４１０及び仕切り４２０ａ～４２０ｐを配置する工程（封着材配置工程）である。第３工程は、周壁形成工程及び仕切り形成工程を含む。
　周壁形成工程は、周壁４１０を形成する工程である。より詳細には、周壁形成工程は、図６に示すように、ディスペンサ８１０により周壁４１０の材料（第１封着材）４１１を一対のガラス基板２００，３００の一方（ここでは第２ガラス基板３００）に塗布して周壁４１０を形成する工程である。周壁形成工程では、図６に示すように、周壁４１０の材料４１１を第２ガラス基板３００に塗布する際に、ディスペンサ８１０のノズル８１１から吐出された周壁４１０の材料４１１をノズル８１１で押圧しないようにしている。そして、ディスペンサ８１０を、ノズル８１１から材料４１１を吐出しながら、図５に矢印４１２で示すように、第２ガラス基板３００の周縁に沿って移動させる。その後、材料４１１を乾燥させて周壁４１０を形成する。これにより、図７に示すように、第１～第４辺４１０ａ～４１０ｄが高さＨ１と幅Ｗ１を持つ周壁４１０が得られる。周壁４１０の高さは、一対のガラス基板２００，３００が対向する方向における周壁４１０の寸法である。本実施形態では、周壁４１０の高さは、第１～第４辺４１０ａ～４１０ｄが高さＨ１である。高さＨ１及び幅Ｗ１は、ディスペンサ８１０の移動速度及び材料４１１の吐出量等により調整され得る。
　仕切り形成工程は、仕切り４２０ａ～４２０ｐを形成する工程である。仕切り形成工程の説明において、仕切り４２０ａ～４２０ｐを区別する必要がない場合には、仕切り４２０ａ～４２０ｐを一括して仕切り４２０という。この仕切り形成工程は、図８に示すように、ディスペンサ８２０により仕切り４２０の材料（第２封着材）４２１を一対のガラス基板２００，３００の一方（ここでは第２ガラス基板３００）に塗布して仕切り４２０を形成する工程である。仕切り形成工程では、図８に示すように、仕切り４２０の材料４２１を第２ガラス基板３００に塗布する際に、ディスペンサ８２０のノズル８２１から吐出された仕切り４２０の材料４２１をノズル８２１で押圧している。これは、仕切り４２０の高さを調整するためである。このようにすれば、図９に示すように、周壁４１０の高さＨ１より低い高さＨ２を持つ仕切り４２０が得られる。仕切り４２０の高さは、一対のガラス基板２００，３００が対向する方向における仕切り４２０の寸法である。仕切り４２０の幅Ｗ２は、ディスペンサ８２０の移動速度及び材料４２１の吐出量等により調整され得る。しかしながら、ディスペンサ８２０の移動速度及び材料４２１の吐出量等により調整できる範囲には限界がある。そこで、本実施形態では、仕切り４２０の幅Ｗ２を周壁４１０の幅（つまり、第１～第４辺４１０ａ～４１０ｄの幅Ｗ１）より大きくするために、仕切り４２０の材料４２１を仕切り４２０の幅方向となる方向に隣接させて塗布する回数を増やしている。つまり、仕切り４２０の幅方向となる方向に材料４２１を隣接させて塗布する回数は、周壁４１０の幅方向（各辺４１０ａ～４１０ｄの幅方向）となる方向に材料４１１を隣接させて塗布する回数よりも多い。言い換えれば、仕切り４２０を形成する場合に、周壁４１０を形成する場合よりも、塗布列を多くしている。
　本実施形態では、図１０に示すように、仕切り４２０の材料４２１を、仕切り４２０の幅方向となる方向に隣接させて、仕切り４２０の長さ方向となる方向に沿って２回塗布して、２つの塗布列４２１１，４２１２を形成している。具体的には、ディスペンサ８２０を、ノズル８２１から材料４２１を吐出しながら、図５に矢印４２２ａ～４２２ｐで示すように、四角形の辺に沿って移動させる。なお、矢印４２２ａ～４２２ｐは、それぞれ仕切り４２０ａ～４２０ｐに対応する。ここで、隣接する塗布列４２１１，４２１２間の間隔Ｄ１は、隣接する塗布列４２１１，４２１２の表面が平坦につながる（同一平面上に位置する）ように設定されている。これによって、隣接する塗布列４２１１，４２１２の表面間の窪みが生じないようにしている。このようにすれば、図１１に示すように、表面が平坦な仕切り４２０が得られる。なお、「隣接させて塗布する」とは、塗布列を隣接させることを意味する。この場合において、図１０に示すように、塗布列４２１１，４２１２同士を部分的に重複させるように隣接させてもよい。
　その後、材料４２１を乾燥させて仕切り４２０を形成する。これにより、図１１に示すように、Ｈ２の高さとＷ２の幅を持つ仕切り４２０（４２０ａ～４２０ｐ）が得られる。このように、仕切り形成工程では、ディスペンサ８２０のノズル８２１から吐出された仕切り４２０の材料４２１をディスペンサ８２０のノズル８２１で押圧している。これによって、仕切り４２０が周壁４１０より低くなるようにしている。また、仕切り形成工程では、上述したように、周壁４１０の各辺４１０ａ～４１０ｄの幅方向となる方向に材料４１１を隣接させて塗布する回数よりも、仕切り４２０の幅向となる方向に材料４２１を隣接させて塗布する回数を多くしている。これによって、仕切り４２０が周壁４１０よりも幅が広くなるようにしている。
　第４工程は、ピラー７０を形成する工程（ピラー形成工程）である。第４工程では、複数のピラー７０を予め形成しておき、チップマウンタなどを利用して、複数のピラー７０を、第２ガラス基板３００の所定位置に配置する。ここで、ピラー７０は、仕切り４２０ａ～４２０ｐより低くしている。なお、複数のピラー７０は、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して形成されていてもよい。この場合、複数のピラー７０は、光硬化性材料などを用いて形成される。あるいは、複数のピラー７０は、周知の薄膜形成技術を利用して形成されていてもよい。
　第５工程は、ガス吸着体６０を形成する工程（ガス吸着体形成工程）である。第５工程では、ディスペンサなどを利用して、ゲッタの粉体が分散された溶液を第２ガラス基板３００の所定位置に塗布し、乾燥させることで、ガス吸着体６０を形成する。
　第１工程から第５工程が終了することで、図１２に示すように、第２ガラス基板３００に、周壁４１０、仕切り４２０ａ～４２０ｐ、通気路６００、排気口７００、複数のガス吸着体６０及び複数のピラー７０が形成される。
　第６工程は、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを配置する工程（配置工程）である。第６工程では、図１２に示すように、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とは、互いに平行かつ対向するように配置される。
　上述した組立工程によって、組立て品１００が得られる。そして、組立工程の後には、第１溶融工程（接合工程）と、排気工程と、第２溶融工程（封止工程）とが実行される。
　第１溶融工程は、周壁４１０を一旦溶融させて周壁４１０で一対のガラス基板２００，３００同士を気密に接合する工程である。具体的には、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００は、溶融炉内に配置され、第１溶融温度で所定時間（第１溶融時間）だけ加熱される。第１溶融温度及び第１溶融時間は、周壁４１０によって第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とが気密に接合されるが、仕切り４２０ａ～４２０ｐによって通気路６００が塞がれることがないように、設定される。つまり、第１溶融温度の下限は、周壁４１０の軟化点であるが、第１溶融温度の上限は、仕切り４２０ａ～４２０ｐによって通気路６００が塞がれることがないように設定される。例えば、周壁４１０及び仕切り４２０ａ～４２０ｐの軟化点が４３４℃である場合、第１溶融温度は、４４０℃に設定される。また、第１溶融時間は、例えば、１０分である。また、第１溶融工程では、周壁４１０が軟化するため、周壁４１０自体は第１ガラス基板２００を支えなくなり、第１ガラス基板２００は仕切り４２０ａ～４２０ｐで支持される。
　排気工程は、通気路６００と第２空間（通気空間及び連結空間）５２０ａ，５２０ｂと排気口７００とを介して第１空間（排気空間）５１０ａ～５１０ｇを排気して第１空間５１０ａ～５１０ｇを真空空間５０（５０ａ～５０ｇ）とする工程である。換言すれば、真空空間５０ａ～５０ｇは、それぞれ、真空状態となった第１空間５１０ａ～５１０ｇである。排気は、例えば、真空ポンプを用いて行われる。真空ポンプは、図１３に示されるように、排気管８３０と、シールヘッド８４０と、により組立て品１００に接続される。排気管８３０は、例えば、排気管８３０の内部と排気口７００とが連通するように第２ガラス基板３００に接合される。そして、排気管８３０にシールヘッド８４０が取り付けられ、これによって、真空ポンプの吸気口が排気口７００に接続される。第１溶融工程と排気工程と第２溶融工程とは、組立て品１００を溶融炉内に配置したまま行われる。そのため、排気管８３０は、少なくとも第１溶融工程の前に、第２ガラス基板３００に接合される。
　排気工程では、第２溶融工程の開始前までに、排気温度以上で所定時間（排気時間）は、通気路６００と第２空間５２０ａ，５２０ｂと排気口７００とを介して第１空間５１０ａ～５１０ｇを排気する。排気温度は、ガス吸着体６０のゲッタの活性化温度（例えば、３５０℃）より高く、かつ、仕切り４２０ａ～４２０ｐの軟化点（例えば４３４℃）より低く設定される。例えば、排気温度は、３９０℃である。このようにすれば、仕切り４２０ａ～４２０ｐは変形しない。また、ガス吸着体６０のゲッタが活性化し、ゲッタが吸着していた分子（ガス）がゲッタから放出される。そして、ゲッタから放出された分子（つまりガス）は、第１空間５１０ａ～５１０ｇ、通気路６００、第２空間５２０ａ，５２０ｂ、及び、排気口７００を通じて排出される。したがって、排気工程では、ガス吸着体６０の吸着能力が回復する。排気時間は、所望の真空度（例えば、０．１Ｐａ以下の真空度）の真空空間５０ａ～５０ｇが得られるように設定される。例えば、排気時間は、１２０分に設定される。
　第２溶融工程は、仕切り４２０ａ～４２０ｐを変形させて通気路６００を塞ぐことで隔壁４２ａ～４２ｈを形成して仕掛り品１１０を得る工程である。また、第２溶融工程では、通気路６００が塞がれることで、真空空間５０ａ～５０ｇをそれぞれ囲む複数の枠体４０が形成される。これによって、図３、図４及び図１２に示すように、内部空間５００を第１空間５１０ａ～５１０ｇ（真空空間５０ａ～５０ｇ）と第２空間５２０ａ，５２０ｂとに気密に分離する隔壁４２ａ～４２ｈが形成される。換言すれば、第２溶融工程は、仕切り４２０ａ～４２０ｐを変形させて通気路６００を塞いで内部空間５００を第１空間５１０ａ～５１０ｇと第２空間５２０ａ，５２０ｂとに気密に分離する隔壁４２ａ～４２ｈを形成する工程である。なお、第２溶融工程では、仕切り４２０ａ～４２０ｐが軟化するため、仕切り４２０ａ～４２０ｐ自体は第１ガラス基板２００を支えなくなり、第１ガラス基板２００はピラー７０で支持される。
　より詳細には、仕切り４２０ａ～４２０ｐの軟化点以上の所定温度（第２溶融温度）で仕切り４２０ａ～４２０ｐを一旦溶融させることで、仕切り４２０ａ～４２０ｐを変形させる。具体的には、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００は、溶融炉内で、第２溶融温度で所定時間（第２溶融時間）だけ加熱される。第２溶融温度及び第２溶融時間は、仕切り４２０ａ～４２０ｐが軟化し、通気路６００が塞がれるように設定される。第２溶融温度の下限は、仕切り４２０ａ～４２０ｐの軟化点（例えば４３４℃）である。例えば、第２溶融温度は、４６０℃に設定される。また、第２溶融時間は、例えば、３０分である。
　第２溶融工程でも、内部空間５００の排気を継続している。つまり、第２溶融工程では、第２溶融温度で、通気路６００と第２空間５２０ａ，５２０ｂと排気口７００とを介して第１空間５１０ａ～５１０ｇを排気しながら、仕切り４２０ａ～４２０ｐを変形させて通気路６００を塞ぐ隔壁４２ａ～４２ｈを形成する。これによって、第２溶融工程中に、真空空間５０ａ～５０ｇの真空度が悪化することがさらに防止される。ただし、第２溶融工程では、必ずしも、内部空間５００の排気を継続する必要はない。また、第２溶融工程は、仕切り４２０ａ～４２０ｐを変形させて、少なくとも、複数の通気路６００のうち第２通気路６２１，６２２以外の通気路６００を塞ぐ工程であってよい。つまり、第２通気路６２１，６２２は必ずしも塞がれる必要はない。ただし、第２通気路６２１，６２２も他の通気路６００とともに塞いでよい。
　上述した準備工程によって、図３、図４及び図１４に示す仕掛り品１１０が得られる。仕掛り品１１０では、第１溶融工程及び第２溶融工程で周壁４１０及び仕切り４２０ａ～４２０ｐが一旦溶融される。そのため、一対のガラス基板２００，３００間の間隔は、周壁４１０ではなく、ピラー７０によって規定される。つまり、周壁４１０は溶融時に第１及び第２ガラス基板２００，３００間で圧縮されて、周壁４１０よりも低く幅が広い周壁４１が形成される。すなわち、周壁４１は、封止工程（第２溶融工程）によって変形された周壁４１０である。この周壁４１の各辺４１ａ～４１ｄは、周壁４１０の各辺４１０ａ～４１０ｄより低く、周壁４１の各辺４１ａ～４１ｄは、周壁４１０の各辺４１０ａ～４１０ｄより幅が広い。同様に、仕切り４２０ａ～４２０ｐは溶融時に第１及び第２ガラス基板２００，３００間で圧縮されて、隔壁４２ａ～４２ｈが形成される。すなわち、隔壁４２（４２ａ～４２ｈ）は、封止工程（第２溶融工程）によって変形された仕切り４２０（４２０ａ～４２０ｐ）である。この隔壁４２ａ～４２ｈは、仕切り４２０ａ～４２０ｐより低く、隔壁４２ａ～４２ｈは、仕切り４２０ａ～４２０ｐより幅が広い。ここで、周壁４１０の各辺４１０ａ～４１０ｄの高さＨ１及び幅Ｗ１並びに仕切り４２０ａ～４２０ｐの高さＨ２及び幅Ｗ２は、隔壁４２ａ～４２ｈの幅が、周壁４１の各辺４１ａ～４１ｄの幅の２倍になるように、選択されている。つまり、仕切り４２０ａ～４２０ｐは、封止工程後の周壁４１０（つまり、周壁４１）よりも隔壁４２ａ～４２ｈの幅が大きくなるように形成される。また、仕切り４２０ａ～４２０ｐと周壁４１０とは高さが異なっているが、第１封着材及び第２封着材には同じ芯材を分散させている。そのため、仕切り４２０ａ～４２０ｐと周壁４１０から形成される周壁４１と隔壁４２ａ～４２ｈとは同じ高さを有することになる。これによって、均一な高さの枠体４０が得られる。
　除去工程は、準備工程の後に実行される。除去工程は、仕掛り品１１０からガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇを得る工程である。除去工程は、第２空間（通気空間）５２０ａを有する部分１１Ａ及び第２空間（連結空間）５２０ｂを有する部分１１Ｂを除去することで、第１空間（排気空間）５１０ａ～５１０ｇを有する部分であるガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇを得る工程である。つまり、除去工程では、仕掛り品１１０を切断してガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇに分離する。仕掛り品１１０では、ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇが一体に形成されているから、仕掛り品１１０を切断することによって、ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇを相互に分離する。
　一例としては、図３に示すように、仕掛り品１１０（特に、ガラス基板２００，３００）を、隔壁４２ａ～４２ｈにそれぞれ沿った切断線９１０，９２０，９３０，９４０，９５０，９６０，９７０，９８０に沿って切断する。なお、切断線９１０，９２０，９３０，９４０，９５０，９６０，９７０，９８０は、隔壁４２ａ～４２ｈの中心線を通る。つまり、隔壁４２ａ～４２ｈの各々は、幅方向において２分される。ここで、隔壁４２ａ～４２ｈは、仕切り４２０ａ～４２０ｐにより形成されており、仕切り４２０ａ～４２０ｐは、周壁４１０の各辺４１０ａ～４１０ｄよりも幅が広い。したがって、隔壁４２ａ～４２ｈも、周壁４１０の各辺４１０ａ～４１０ｄよりも幅が広い。したがって、仕掛り品１１０を隔壁４２ａ～４２ｈに沿って切断する作業が容易に行えるようになる。特に、隔壁４２ａ～４２ｈの切断時に隔壁４２ａ～４２ｈが破損して、第１空間５１０ａ～５１０ｇが外部空間とつながって真空度が悪化する可能性を低減できる。これによって、歩留まりの向上が図れる。また、隔壁４２ａ～４２ｈの幅が、周壁４１の各辺４１ａ～４１ｄの幅の２倍になっている。そのため、枠体４０が周壁４１の一部を含む場合でも、枠体４０の各辺の幅が等しくなる。そのため、枠体４０全体としての強度の向上が図れる。
　また、本実施形態では、複数のスペーサ７０が、内部空間５００の全体（第１空間５１０ａ～５１０ｇ及び第２空間５２０ａ，５２０ｂの各々）に配置されている。そのため、仕掛り品１１０の切断時に一対のガラス基板２００，３００にかかる応力を複数のスペーサで分散して均一にでき、一対のガラス基板２００，３００の破損や切断不良の発生を低減できる。
　仕掛り品１１０の切断には、図１６に示すように、カッターホイール８５０が用いられる。図１６は、切断線９１０に沿って仕掛り品１１０を切断する例を示している。カッターホイール８５０を用いて切断を行った場合には、切断面に、リブマーク８６０が確認される。図１６では、第１ガラス基板２００側から仕掛り品１１０の切断を行っているため、仕掛り品１１０の切断面において、第１ガラス基板２００における第２ガラス基板３００とは反対側に、リブマーク８６０が生じる。逆に、第２ガラス基板３００側から仕掛り品１１０の切断を行った場合は、仕掛り品１１０の切断面において、第２ガラス基板３００における第１ガラス基板２００とは反対側に、リブマーク８６０が生じる。つまり、ガラスパネルユニット１０の複数の側面の少なくとも一つが切断面であって、一対のガラスパネル２０，３０の一方における他方とは反対側にリブマーク８６０があれば、ガラスパネルユニット１０が仕掛り品１１０から分離されたものであるといってよい。ここで、ガラスパネルユニット１０の側面が切断面かどうかは、枠体４０の外側面の形状を確認することで判断でき得る。ガラスパネルユニット１０の側面が切断面である場合には、図１７に示すように、枠体４０の外側面が平坦な面となっている。特に、この平坦な面は、一対のガラスパネル２０，３０の側面と同一平面上にあるように見える。一方、ガラスパネルユニット１０の側面が切断面ではない場合には、図１８及び図１９に示すように、枠体４０の外側面は凸面となっている可能性が高い。この場合には、枠体４０の外側面は、図１８に示すように、一対のガラスパネル２０，３０の側面からガラスパネルユニット１０の内側に凹んでいることがある。逆に、枠体４０の外側面は、図１９に示すように、一対のガラスパネル２０，３０の側面からガラスパネルユニット１０の外側に突出していることもある。したがって、上記製造方法により得られたガラスパネルユニット１０は、互いに対向する一対のガラスパネル２０，３０と、一対のガラスパネル２０，３０間にあり一対のガラスパネル２０，３０を互いに気密に接合する枠体４０とを備える。そして、枠体４０の外側面の少なくとも一部が平坦な面となっている。特に、ガラスパネルユニット１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｅ，１０Ｇでは、枠体４０は、外側面が凸面である第１部位４０ａ（図１８及び図１９参照）と、外側面が平坦な面である第２部位４０ｂ（図１７参照）とを含む。ここで、第１部位４０ａは、周壁４１に対応する部位である。第２部位４０ｂは、隔壁４２に対応する部位である（図１５参照）。第１部位４０ａと第２部位４０ｂとの幅は等しい。ただし、第１部位４０ａと第２部位４０ｂとの幅は厳密な意味で一致している必要はなく、人の目で見て一致していると認識できる程度であってよい。
　上述した除去工程によって、図１５に示すように、仕掛り品１１０から、ガラスパネルユニット１０Ａ～１０Ｇが得られる。このとき、第２空間５２０ａ，５２０ｂを含む部分１１（１１Ａ，１１Ｂ）が得られるが、これらは使用されない。
　２．変形例
　本開示の実施形態は、上記実施形態に限定されない。上記実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下に、上記実施形態の変形例を列挙する。
　上記実施形態では、ガラスパネルユニット１０は矩形状であるが、ガラスパネルユニット１０は、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。つまり、第１ガラスパネル２０、第２ガラスパネル３０、及び枠体４０は、矩形状ではなく、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。なお、第１ガラス基板２００、第２ガラス基板３００、周壁４１０、仕切り４２０、及び補強壁４３０のそれぞれの形状は、上記実施形態の形状に限定されず、所望の形状のガラスパネルユニット１０が得られるような形状であればよい。なお、ガラスパネルユニット１０の形状や大きさは、ガラスパネルユニット１０の用途に応じて決定される。
　一対のガラスパネル２０，３０は同じ平面形状及び平面サイズを有していなくてもよいし、同じ厚みを有していなくてもよい。また、一対のガラスパネル２０，３０は同じ材料で形成されていなくてもよい。これらの点は、一対のガラス基板２００，３００についても同様である。
　枠体４０は、一対のガラスパネル２０，３０と同じ平面形状を有していなくてもよい。同様に、周壁４１，４１０は、一対のガラス基板２００，３００と同じ平面形状を有していなくてもよい。
　周壁４１０（周壁４１）の第１封着材と仕切り４２０ａ～４２０ｐ（隔壁４２ａ～４２ｈ）の第２封着材とは、必ずしも同じ芯材を含んでいる必要はなく、異なる芯材を含んでいてもよい。また、第１封着材は、熱接着剤のみを含んでいてもよいし、第２封着材も、熱接着剤のみを含んでいてもよい。
　仕切り４２０ａ～４２０ｐは、周壁４１０より必ずしも幅が大きい必要はない。また、仕切り４２０ａ～４２０ｐの幅が、周壁４１０の幅（第１辺４１０ａ～４１０ｄの幅）以上であってもよいし、以下でもよい。また、隔壁４２ａ～４２ｈは、周壁４１より必ずしも幅が大きい必要はない。また、隔壁４２ａ～４２ｈの幅が、周壁４１の幅（第１辺４１ａ～４１ｄの幅）以上であってもよいし、以下でもよい。
　また、組立て品１００では、周壁４１０は一対のガラス基板２００，３００間にあるだけでこれらを接合していない。しかしながら、組立て品１００の段階で、周壁４１０が一対のガラス基板２００，３００同士を接合していてもよい。要するに、組立て品１００では、周壁４１０は一対のガラス基板２００，３００間にあればよく、これらを接合していることは必須ではない。
　上記実施形態では、１以上の第２通気路６２１，６２２は、１以上の第１通気路６１１，６１２の各々よりも大きい特定の通気路６２２を含む。しかしながら、１以上の第２通気路６２１，６２２はいずれも、大きさが、１以上の第１通気路６１１，６１２の各々以上であってもよいし、以下であってもよい。つまり、特定の通気路６２２は必須ではない。また、仕切り４２０ｐは、第２空間５２０ａ，５２０ｂ間を仕切っており、これは必須ではない。要するに、連結空間は必須ではなく、少なくとも、排気空間（第１空間５１０ａ～５１０ｇ）と通気空間（第２空間５２０ａ）とがあればよい。
　また、上記実施形態では、通気路６００は、仕切り４２０ａ～４２０ｐ間の隙間や、仕切り４２０ａ～４２０ｐと周壁４１０との隙間であるが、仕切り４２０ａ～４２０ｐに形成された貫通孔であってもよい。あるいは、通気路６００は、仕切り４２０ａ～４２０ｐと第１ガラス基板２００との隙間であってもよい。
　また、上記実施形態では、内部空間５００は、複数の第１空間５１０ａ～５１０ｇと複数の第２空間５２０ａ，５２０ｂとに仕切られている。ただし、内部空間５００は、仕切りによって、１以上の第１空間と１以上の第２空間とに仕切られていてもよい。
　上記実施形態では、周壁４１０、ガス吸着体６０、及び仕切り４２０ａ～４２０ｐの加熱に溶融炉を利用している。しかしながら、加熱は、適宜の加熱手段で行うことができる。加熱手段は、例えば、レーザや、熱源に接続された伝熱板などである。
　上記実施形態では、組立て品１００は複数の通気路６００を有しているが、通気路６００の数は１以上であってよい。また、通気路６００の形状は、特に限定されない。
　上記実施形態では、排気口７００は、第２ガラス基板３００に形成されている。しかし、排気口７００は、第１ガラス基板２００に形成されていてもよいし、周壁４１０（周壁４１）に形成されていてもよい。要するに、排気口７００は、第２空間５２０ａ，５２０ｂと外部空間とをつなぐように形成されていればよい。
　上記実施形態では、ガス吸着体６０のゲッタは蒸発型ゲッタであるが、ゲッタは非蒸発型ゲッタであってもよい。
　上記実施形態では、ガス吸着体６０は、長尺の平板状であるが、他の形状であってもよい。また、ガス吸着体６０は、必ずしも真空空間５０の端にある必要はない。また、上記実施形態では、ガス吸着体６０は、ゲッタの粉体を含む液体（例えばゲッタの粉体を液体に分散して得られた分散液や、ゲッタの粉体を液体に溶解させて得られた溶液）を塗布することにより形成される。しかしながら、ガス吸着体６０は、基板と、基板に固着されたゲッタと、を備えていてもよい。このようなガス吸着体６０は、ゲッタの粉末を含む液体に基板を浸漬し、乾燥することで得ることができる。なお、基板は、所望の形状であってよく、例えば、長尺の矩形状である。あるいは、ガス吸着体６０は、第２ガラス基板３００の表面に全体的あるいは部分的に形成された膜であってもよい。このようなガス吸着体６０は、第２ガラス基板３００の表面をゲッタの粉末を含む液体でコーティングすることで得ることができる。あるいは、ガス吸着体６０は、ピラー７０に含まれていてもよい。例えば、ピラー７０を、ゲッタを含む材料で形成すれば、ガス吸着体６０を含むピラー７０を得ることができる。あるいは、ガス吸着体６０は、ゲッタで形成された固形物であってもよい。
　上記実施形態では、複数のスペーサ７０が、内部空間５００の全体（第１空間５１０ａ～５１０ｇ及び第２空間５２０ａ，５２０ｂの各々）に配置されているが、第２空間５２０ａ，５２０ｂにピラー７０を配置することは必須ではない。また、ガラスパネルユニット１０は複数のピラー７０を備えているが、ガラスパネルユニット１０は、一つのピラー７０を備えていてもよい。あるいは、ガラスパネルユニット１０は、ピラー７０を備えていなくてもよい。
　上記実施形態では、第１空間（５１０ａ～５１０ｇ）を真空空間（５０ａ～５０ｇ）としているが、真空空間（５０ａ～５０ｇ）の代わりに、減圧空間としてもよい。減圧空間は、減圧状態となった第１空間（５１０ａ～５１０ｇ）である。減圧状態とは、圧力が大気圧より低い状態であればよい。
　３．態様
　上記実施形態及び変形例から明らかなように、本開示は、下記の態様を含む。以下では、実施形態との対応関係を明示するためだけに、符号を括弧付きで付している。
　第１の態様のガラスパネルユニットの組立て品（１００）は、互いに対向する一対のガラス基板（２００，３００）と、周壁（４１０）と、仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）と、通気路（６００）と、排気口（７００）と、を備える。前記周壁（４１０）は、前記一対のガラス基板（２００，３００）間にある。前記周壁（４１０）は、枠状である。前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）は、前記一対のガラス基板（２００，３００）及び前記周壁（４１０）で囲まれた内部空間（５００）を第１空間（５１０ａ～５１０ｇ）と第２空間（５２０ａ，５２０ｂ）とに仕切る。前記通気路（６００）は、前記第１空間（５１０ａ～５１０ｇ）と前記第２空間（５２０ａ，５２０ｂ）とをつなぐ。前記排気口（７００）は、前記第２空間（５２０ａ，５２０ｂ）と外部空間とをつなぐ。前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）は、前記周壁（４１０）より低い。第１の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　第２の態様のガラスパネルユニットの組立て品（１００）は、第１の態様との組み合わせにより実現され得る。第２の態様では、ガラスパネルユニットの組立て品（１００）は、更に、前記内部空間（５００）に配置され前記一対のガラス基板（２００，３００）間の間隔を所定間隔に維持する１以上のピラー（７０）を備える。前記１以上のピラー（７０）は、前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）より低い。第２の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　第３の態様のガラスパネルユニットの組立て品（１００）は、第１又は第２の態様との組み合わせにより実現され得る。第３の態様では、前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）は、前記周壁（４１０）より幅が大きい。第３の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　第４の態様のガラスパネルユニットの組立て品（１００）は、第１～第３の態様のいずれか一つとの組み合わせにより実現され得る。第４の態様では、前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）と前記周壁（４１０）とは同じ軟化点を有する、第４の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　第５の態様のガラスパネルユニットの組立て品（１００）は、第４の態様との組み合わせにより実現され得る。第５の態様では、前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）の材料と前記周壁（４１０）の材料とは同じである。第５の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　第６の態様のガラスパネルユニットの組立て品（１００）は、第１～第５の態様のいずれか一つとの組み合わせにより実現され得る。第６の態様では、前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）の材料と前記周壁（４１０）の材料には、同じ芯材が分散される。第６の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　第７の態様のガラスパネルユニットの製造方法は、組立工程と、排気工程と、封止工程とを含む。前記組立工程は、第１～第６の態様のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品（１００）を用意する工程である。前記排気工程は、前記通気路（６００）と前記第２空間（５２０ａ，５２０ｂ）と前記排気口（７００）とを介して前記第１空間（５１０ａ～５１０ｇ）を排気する工程である。前記封止工程は、前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）を変形させて前記通気路（６００）を塞ぐ工程である。第７の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　第８の態様のガラスパネルユニットの製造方法は、第７の態様との組み合わせにより実現され得る。第８の態様では、前記組立工程は、ディスペンサにより前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）の材料を前記一対のガラス基板（２００，３００）の一方に塗布して前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）を形成する仕切り形成工程を含む。前記仕切り形成工程では、前記ディスペンサ（８２０）のノズル（８２１）から吐出された前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）の材料を前記ノズル（８２１）で押圧して前記仕切り（４２０ａ～４２０ｐ）の高さを前記周壁（４１０）の高さより小さくする。第８の態様によれば、仕切りの高さの調整が容易に行える。
　第９の態様のガラスパネルユニットの製造方法は、第７又は第８の態様との組み合わせにより実現され得る。第９の態様では、前記組立工程は、ディスペンサにより前記周壁（４１０）の材料を前記一対のガラス基板（２００，３００）の一方に塗布して前記周壁（４１０）を形成する周壁形成工程を含む。前記周壁形成工程では、前記ディスペンサのノズルから吐出された前記周壁（４１０）の材料を前記ノズルで押圧しない。第９の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　第１０の態様のガラスパネルユニットの製造方法は、第７～第９の態様のいずれか一つとの組み合わせにより実現され得る。第１０の態様では、前記ガラスパネルユニットの製造方法は、更に、除去工程を含む。前記除去工程は、前記第２空間（５２０ａ，５２０ｂ）を有する部分（１１Ａ，１１Ｂ）を除去することで、前記第１空間（５１０ａ～５１０ｇ）を有する部分であるガラスパネルユニット（１０Ａ～１０Ｇ）を得る工程である。第１０の態様によれば、歩留まりの向上が図れる。
　１００　ガラスパネルユニットの組立て品
　２００，３００　ガラス基板
　４１０　周壁
　４２０ａ～４２０ｐ　仕切り
　４２１　材料
　５００　内部空間
　５１０ａ～５１０ｇ　第１空間
　５２０ａ，５２０ｂ　第２空間
　６００　通気路
　７００　排気口
　８２０　ディスペンサ
　８２１　ノズル
　７０　ピラー
　１０，１０Ａ～１０Ｇ　ガラスパネルユニット
　１１Ａ，１１Ｂ　部分

Claims (10)

  1. 　互いに対向する一対のガラス基板と、
    　前記一対のガラス基板間にある枠状の周壁と、
    　前記一対のガラス基板及び前記周壁で囲まれた内部空間を第１空間と第２空間とに仕切る仕切りと、
    　前記第１空間と前記第２空間とをつなぐ通気路と、
    　前記第２空間と外部空間とをつなぐ排気口と、
    　を備え、
    　前記仕切りは、前記周壁より低い、
    　ガラスパネルユニットの組立て品。
  2. 　更に、前記内部空間に配置され前記一対のガラス基板間の間隔を所定間隔に維持する１以上のピラーを備え、
    　前記１以上のピラーは、前記仕切りより低い、
    　請求項１のガラスパネルユニットの組立て品。
  3. 　前記仕切りは、前記周壁より幅が大きい、
    　請求項１又は２のガラスパネルユニットの組立て品。
  4. 　前記仕切りと前記周壁とは同じ軟化点を有する、
    　請求項１～３のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品。
  5. 　前記仕切りの材料と前記周壁の材料とは同じである、
    　請求項４のガラスパネルユニットの組立て品。
  6. 　前記仕切りの材料と前記周壁の材料には、同じ芯材が分散される、
    　請求項１～５のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品。
  7. 　組立工程と、排気工程と、封止工程とを含み、
    　前記組立工程は、請求項１～６のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品を用意する工程であり、
    　前記排気工程は、前記通気路と前記第２空間と前記排気口とを介して前記第１空間を排気する工程であり、
    　前記封止工程は、前記仕切りを変形させて前記通気路を塞ぐ工程である、
    　ガラスパネルユニットの製造方法。
  8. 　前記組立工程は、ディスペンサにより前記仕切りの材料を前記一対のガラス基板の一方に塗布して前記仕切りを形成する仕切り形成工程を含み、
    　前記仕切り形成工程では、前記ディスペンサのノズルから吐出された前記仕切りの材料を前記ノズルで押圧して前記仕切りの高さを前記周壁の高さより小さくする、
    　請求項７のガラスパネルユニットの製造方法。
  9. 　前記組立工程は、ディスペンサにより前記周壁の材料を前記一対のガラス基板の一方に塗布して前記周壁を形成する周壁形成工程を含み、
    　前記周壁形成工程では、前記ディスペンサのノズルから吐出された前記周壁の材料を前記ノズルで押圧しない、
    　請求項７又は８のガラスパネルユニットの製造方法。
  10. 　更に、除去工程を含み、
    　前記除去工程は、前記第２空間を有する部分を除去することで、前記第１空間を有する部分であるガラスパネルユニットを得る工程である、
    　請求項７～９のいずれか一つのガラスパネルユニットの製造方法。
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