WO2006126707A1

WO2006126707A1 - グリッド偏光フィルム、グリッド偏光フィルムの製造方法、光学積層体、光学積層体の製造方法、および液晶表示装置

Info

Publication number: WO2006126707A1
Application number: PCT/JP2006/310652
Authority: WO
Inventors: Mitsugu Uejima; Toshihide Murakami; Akiyoshi Shibuya; Megumi Fujita; Masahiko Hayashi; Kohei Arakawa
Original assignee: Zeon Corporation
Priority date: 2005-05-27
Filing date: 2006-05-29
Publication date: 2006-11-30
Also published as: EP1887390A1; US7872803B2; EP1887390A4; US20090128904A1; KR20080020610A

Abstract

　長尺の樹脂フィルムと、　該樹脂フィルムの表面及び／又は内部に設けられた互いに略平行に伸びる複数のグリッド線とを有し、　該グリッド線は複素屈折率（Ｎ１＝ｎ１－ｉκ１）の実部ｎ１と虚部κ１の差の絶対値が１．０以上の材料Ｇからなり、前記樹脂フィルムは、その表面に互いに略平行に伸びた複数列の溝が形成されており、　前記グリッド線は、溝の底面上、及び／又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、積層された材料Ｇの薄膜からなる、長尺のグリッド偏光フィルム。該長尺のグリッド偏光フィルムと、他の長尺の偏光光学フィルムとを含んでなる長尺の光学積層体。

Description

明細書

グリッド偏光フィルム、グリッド偏光フィルムの製造方法、光学積層体、光学積層体の製造方法、および液晶表示装置

技術分野

[0001] 本発明は、グリッド偏光フィルム、グリッド偏光フィルムの製造方法、光学積層体、光学積層体の製造方法、および液晶表示装置に関する。

背景技術

[0002] 偏光面を自由に設定することができる偏光子としてグリッド偏光子が知られて、る（非特許文献 1)。これは、多数の線状金属 (ワイヤ)を一定の周期で平行に配列したグリツド構造をもつ光部品である。このような金属グリッドを形成すると、グリッド周期が入射光の波長より短い場合に、金属グリッドを形成している線状金属に対して平行な偏光成分は反射し、垂直な偏光成分は透過するため、単一偏光を作りだす偏光子として機能する。このグリッド偏光子は、光通信ではアイソレーターの光部品として、液晶表示装置では光の利用率を高め輝度を向上させるための部品として、利用することが提案されている。

非特許文献 1 : H. Hertz「Electric WavesJ , Macmillan & Company Ltd., London, 189 3, p.177

[0003] グリッド構造を形成する方法として、特許文献 1には、光透過性基板に金属を蒸着、スパッタリング、あるいはイオンプレーティングで形成し、これにレジストを塗布し、写真製版を行なった後、 UHF— ECRプラズマエッチングにより、縞状細線を形成する方法が開示されている。特許文献 2には、光透過性基板の片面上に銅の薄膜を形成し、硬化時の屈折率が、該光透過性基板とほぼ等しいフォトレジストを用いたフォトリソグラフィ技術によりイオンミリング法で多数本の銅細線を平行に配列したグリッドパターンを形成する方法が開示されてヽる。これらの方法ではエッチング工程を採用して V、るので、面積の狭!、グリッド偏光子 (特許文献 1では 0. 3 m X 0. 07 m、特許文献 2では直径 1インチ）し力得られな、。

特許文献 1：特開 2003 - 66229号公報特許文献 2：特開 2000— 284117号公報

[0004] 特許文献 3には、ポリマーフィルムの上に金属膜を形成し、このポリマーフィルム/ 金属膜の積層体を一軸延伸することにより、延伸方向と直交する方向に金属の割れを発生させて、金属の付、て、る部分とポリマーフィルムが露出した部分がストライプ状に交互に配置された異方的な構造を有する、グリッド偏光フィルムを得る方法が開示されている。ポリマーフィルムに用いる榭脂としては、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエ一テルスルホン、 2酢酸セルロース、及び 3酢酸セルロース等の熱可塑性榭脂や、ポリメチルメタタリレートや、アートン、及びゼォネックスなどの商標で知られる光弾性係数の小さい熱可塑性榭脂などが開示されている。しかしながら、この特許文献 3に記載の方法は金属膜に生じる割れの幅、形状などをコントロールすることが極めて困難であることから、面内で均一な光学特性を得ることが難しいという問題があった。また、この方法で得られるグリッド偏光フィルムは高温高湿環境下に放置しておくと、ポリマーフィルムがわずかに収縮し、偏光特性に変化が生じることがあった。

特許文献 3：特開 2001 - 74935号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0005] 本発明の目的は、偏光分離性能に優れ且つ幅広で長尺のグリッド偏光フィルム、及び、それを容易に製造するための方法を提供することにある。

本発明の別の目的は、液晶表示装置などの表示装置での光の利用効率を高め、輝度を面内で一様に向上させることができ、且つ高温高湿環境下でも光学特性の劣化のないグリッド偏光フィルムを提供することにある。

課題を解決するための手段

[0006] 本発明者は、前記目的を達成するために検討した結果、微細な凹凸形状を有する転写ロールを用、て長尺の榭脂フィルム表面に微細な凹凸形状を連続的に形成し、次いで、該凹凸に複素屈折率の実部と虚部の差の絶対値が 1. 0以上の材料からなる薄膜を形成することによって、該薄膜によってグリッド線を構成する長尺のグリッド偏光フィルムが得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至つたものである。

[0007] カゝくして本発明によれば、長尺の榭脂フィルムと、該榭脂フィルムの表面及び Z又は内部に設けられた互いに略平行に伸びる複数のグリッド線とを有し、該グリッド線は複素屈折率 (N =η -ίκ )の実部 ηと虚部 κ の差の絶対値が 1. 0以上の材料 G 力もなる、長尺のグリッド偏光フィルムが提供される。

[0008] 本発明の別の態様として、表面に互いに略平行に伸びた複数列の溝が形成された透明で長尺の榭脂フィルムと、溝の底面上、及び Ζ又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、積層された複素屈折率 (Ν =η -ϊκ )の実部 ηと虚部 κ の差の絶対値が 1. 0以上の材料 G力もなる薄膜とを有し、榭脂フィルムの溝の幅 t、隣接する溝間の間隔 d、溝の側壁の斜度 Θ、溝の深さ h

0、底面及び Z又は頂面に積層された薄膜の膜厚 h、真空中における波長が λ である光に対する榭脂フィルムの複素屈折率 Ν

1 0 0

(=η -ικ )、及び真空中における波長が λ である光に対する材料 Gの複素屈折

0 0 0

率 Ν (=η -ϊκ ； η ≥2. 5又は κ ≥1. 5)が、

(1) -0. 1 δ < (h -h )；但し、 δ = λ /(2π²η ²κ )^1/2

0 1 0 1 1

(2) 60° ≤ θ≤90° ；但し、 ζは溝深さ方向の距離； θ (ζ)は距離 ζにおける溝深さ方向に直交する方向に対する側面の傾斜角度；

[0009] [数 1]

Θ二丄 6> ( Ζ ) · · · · (Α)

(3) d< λ

Ο Ζη 、及び

0

(4) 0. ld<t<0. 8d の関係を満たすグリッド偏光フィルムが提供される。

[0010] 本発明によれば、転写型又は転写ロールを用いて長尺の榭脂フィルム表面に互!ヽに略平行に伸びた複数列の溝を形成し、次いで、該溝の底面上、及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、複素屈折率 (N =η -ϊκ )の実部 nと虚部 _K の差の絶対値が 1. 0以上の材料 Gカゝらなる薄膜を積層することによってグリッド線を形成する、長尺のグリッド偏光フィルムの製造方法が提供され、

[0011] また、真空中における波長が λ である光に対する複素屈折率 Ν (=η -ϊκ )の

0 0 0 0 透明な榭脂フィルム表面に、溝の幅 t、隣接する溝間の間隔 d、溝の側壁の斜度 Θ、溝の深さ h力

0

( 1) - O. 1 δ < (h -h )；但し、 δ = λ / (2 π ²η ² κ ) ^1/2

0 1 0 1 1

[0012] [数 2]

Θ = 丄 I 。 Θ い、 dz · . · · ( A)

(3) d< λ

0 Zn 、及び

0

(4) 0. ld< t< 0. 8d の関係を満たすように、互いに略平行に伸びた複数列の溝をエンボス加工法によって形成し、溝の底面上、及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、真空中における波長が λ である光に対する複素屈折率 Ν ( =η -ϊ κ ；

0 1 1 1 η ≥2. 5又は κ ≥1. 5)の材料 G力もなる薄膜を膜厚 hで積層する、グリッド偏光フイルムの製造方法が提供される。

[0013] 本発明によれば、前記の長尺のグリッド偏光フィルムと、他の長尺の偏光光学フィルムとを含んでなる長尺の光学積層体が提供される。また、本発明によれば、ロール状に巻かれた前記の長尺のグリッド偏光フィルムと、ロール状に巻かれた他の長尺の偏光光学フィルムとを、それぞれのロール力繰り出しながら、該グリッド偏光フィルムと該他の偏光光学フィルムとを密着させて積層する、長尺の光学積層体の製造方法が提供され、

さらに本発明によれば、前記の長尺のグリッド偏光フィルム力切り出された光学部材を備える液晶表示装置が提供される。

発明の効果

[0014] 本発明のグリッド偏光フィルムは、偏光分離性能に優れ且つ幅広で長尺であるので、他の長尺の偏光光学フィルムとの貼り合わせを、長尺のままでロール 'トウ'ロール積層することができる。本発明の製法によれば、複素屈折率の実部と虚部の差の絶対値が 1. 0以上の材料力もなるグリッド線の分布を精密にコントロールでき、長尺のグリッド偏光フィルムを容易に得ることができる。本発明のグリッド偏光フィルムを液晶表示装置の液晶セルとバックライト装置との間に配置すると、高温高湿下に放置した後の白表示においても額縁部の表示が着色することなぐ光の利用効率をより一層高めることができ、輝度を向上させることができる。さらに、高温高湿下に放置した後でも、輝度向上効果は変わらず、色ムラ'輝度ムラも生じない。

図面の簡単な説明

[0015] [図 1]本発明の第一実施態様に係るグリッド偏光フィルムを示す斜視図である。

[図 2]本発明の第二実施態様に係るグリッド偏光フィルムを示す斜視図である。

[図 3]本発明の第二実施態様に係るグリッド偏光フィルムの断面を示す断面図である

[図 4]本発明の第三実施態様に係るグリッド偏光フィルムを示す斜視図である。

[図 5]本発明の第三実施態様に係るグリッド偏光フィルムの断面を示す断面図である

[図 6]本発明の製法に用いる転写ロールを製造するために用いられる研削工具の一例を示す図である。

[図 7]本発明の製法に用いる転写ロールで榭脂フィルム表面に凹凸形状を形成する工程の一例を示す図である。

[図 8]本発明の製法において薄膜を形成するために用いる連続スパッタリング装置の一例を示す図である。

[図 9]本発明の製法で用いる転写ロールを製造するために用いられる切削工具の先端構造の一例を示す図である。

[図 10]本発明の実施例 3で作製したグリッド偏光フィルムを示す図である。

[図 11]本発明の実施例 4で作製したグリッド偏光フィルムを示す図である。

[図 12]本発明のグリッド偏光フィルムを備える液晶表示装置を示す模式図である。符号の説明

[0016] 1 :グリッド線；

2、 30、 42、 52、 62 :榭脂フィルム（基材）；

X、 Y:溝； 43、 44、 53、 54、 55、 64:薄膜；

11、 12:グリッド偏光フィルム；

22:転写ロール；

500:連続スパッタリング装置；

501:巻き出しロール；

502—1、 502— 2、 502— 3、 502— 4:ガイドロール；

503:成膜ロール；

504:巻き取りロール；

506:ターゲット；

510—1、 510— 2:防着板；

D:拡散板；

I：グリッド分離フィルム；

L:光源；

LC:液晶セル；

Pl、 P2:吸収型偏光フィルム；

W:反射板；

発明を実施するための最良の形態

(グリッド偏光フィルム）

本発明の長尺グリッド偏光フィルムは、長尺の榭脂フィルムと、該榭脂フィルムの表面および Zまたは内部に設けられた互いに略平行に伸びる複数のグリッド線とを有するものである。該グリッド線は複素屈折率 (N =η -ϊκ )の実部 nと虚部 κ の差の絶対値が 1. 0以上の材料 G力も構成されている。

本発明において長尺とは、ロール状に卷回できる程度に長いことを意味し、好ましくは lm以上のものである。本発明のグリッド偏光フィルムの幅は特に制限されないが、大面積の表示装置に適用できるように、広幅であることが好ましい。具体的には幅 5 〜3000cmが通常である。

本発明を構成する榭脂フィルムは、ほぼ平面状に形成されていることが好ましいが、全体として曲面状に形成されていてもよい。さらに、榭脂フィルムは、幅方向に対して少なくとも 5倍程度以上の長さを有するものであり、好ましくは、幅方向に対して 10 倍以上の長さを有するものである。

[0018] 本発明を構成する榭脂フィルムは、透明な榭脂からなるフィルムである。透明榭脂フィルムは、 400〜700nmの可視領域 (又は偏光子として使用する際の光の波長）の光の透過率が好ましくは 80%以上、より好ましくは 86%以上であり、表面が平滑なものである。榭脂フィルムは石英や光学ガラスに貼り合わせて、積層体として用いることがでさる。

また、榭脂フィルムは、そのヘイズが好ましくは 2. 0%以下であり、より好ましくは 1. 0%以下である。榭脂フィルムの複素屈折率 N (=η -ί κ )は、実部 ηが 1. 4〜1.

0 0 0 0

8、虚部 κ がほぼ 0であることが好ましい。

0

さらに榭脂フィルムは、水蒸気などを吸収して変形しないものが好ましい。具体的には吸水率が好ましくは 0. 3重量％以下、より好ましくは 0. 1重量％以下である。前記吸水率 «JIS K7209に準じて、 23°C、 24時間で測定する。

[0019] 本発明に好適に用いられる榭脂フィルムの平均厚みは、ハンドリングの観点力通常 5 μ m〜lmm、好ましくは 20〜200 μ mである。榭脂フィルムの厚みが厚過ぎたり薄過ぎたりすると加工性が悪くなり好ましくない。

[0020] 本発明のグリッド偏光フィルムを構成する好適な榭脂フィルムは、その幅方向及び長手方向において、波長 550nmでの面内のレターデーシヨン値（Re= (n— n ) X d で定義される値、 dはフィルム厚、 n、 nはフィルム面内において直交する主屈折率）のばらつきが ± 10nm以内、好ましくは ± 5nm以内であり、且つ光軸のばらつきが士

15° 以内、好ましくは ± 10° 以内である。

榭脂フィルムは、光の偏光に及ぼす影響が小さいものがよいという観点から、面内のレターデーシヨン値 _Reの平均値力 S小さいものが好ましぐ具体的には波長 550nm にお、て好ましくは 50nm以下、より好ましくは lOnm以下である。

[0021] 本発明に用いる好適な榭脂フィルムは、温度 60°C及び相対湿度 90%の環境下に

500時間放置したときのフィルムの線膨張率が 0. 03%以下、好ましくは 0. 01%以下である。

前記線膨張率が上記範囲を超える場合、液晶表示装置に使用した時にフィルムの変形によりグリッド線が略平行を保てなくなり液晶表示装置の周辺部などに輝度ムラや色ムラが生じる恐れがある。なお、前記線膨張率は、 JIS K2772に準じて測定する。

[0022] 榭脂フィルムを構成する透明榭脂は特に制限されないが、フィルム表面への加工性の観点カも榭脂のガラス転移温度が 60〜200°Cであることが好ましぐ 100-180 °Cであることがより好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析 (DSC)により測定することができる。

[0023] 榭脂フィルムを構成する透明榭脂としては、例えば、ポリカーボネート榭脂、ポリエ一テルスルホン榭脂、ポリエチレンテレフタレート榭脂、ポリイミド榭脂、ポリビニノレアルコール、エポキシ榭脂、ポリメチルメタタリレート榭脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート榭脂、ポリエチレン榭脂、ポリプロピレン榭脂、ポリ塩化ビュル榭脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、脂環式ォレフインポリマーなどが挙げられる。これらのうち、透明性、低吸湿性、寸法安定性、加工性の観点力脂環式ォレフインポリマーが好適である。脂環式ォレフインポリマーとしては、例えば特開平 05— 310845号公報、特開平 05— 097978号公報、米国特許第 6, 511, 756号公報に記載されているものが挙げられる。

[0024] 本発明に好適に用いられる脂環式ォレフインポリマーは、主鎖及び Zまたは側鎖にシクロアルカン構造を有する重合体である。機械的強度や耐熱性などの観点から、主鎖にシクロアルカン構造を含有する重合体が好適である。また、シクロアルカン構造としては、単環、多環 (縮合多環、橋架け環など）が挙げられる。シクロアルカン構造の一単位を構成する炭素原子数は、格別な制限はないが、通常 4〜30個、好ましくは 5〜20個、より好ましくは 5〜15個の範囲であるときに、榭脂フィルムの機械的強度、耐熱性、及び成形性の諸特性が高度にバランスされ好適である。また、本発明で使用される脂環式ォレフインポリマーは、通常、熱可塑性の榭脂である。

[0025] 脂環式ォレフインポリマーは、通常、シクロアルカン構造を有する繰り返し単位を脂環式ォレフインポリマーの主鎖における全繰り返し単位中に通常 30〜： LOO重量⁰ /₀、好ましくは 50〜： LOO重量⁰ /₀、より好ましくは 70〜： LOO重量⁰ /₀有する。シクロアルカン構造を有する繰り返し単位の割合がこれらの範囲にあれば榭脂フィルムの耐熱性に優れる。

[0026] 本発明に好適に用いられる脂環式ォレフインポリマーは、実質的に疎水性であることが望ましい。脂環式ォレフインポリマーは、実質的に疎水性であれば極性基を有するものであってもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、ォキシカルボ-ル基、カルボ-ル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物残基、アミド基、イミド基などが挙げられる。

脂環式ォレフインポリマーが実質的に疎水性であり得るように、脂環式ォレフインポリマー中の極性基の含有量は、通常 0. 8mmolZg以下、好ましくは 0. 5mmol/g 以下、更に好ましくは 0. ImmolZg以下である。

[0027] 脂環式ォレフインポリマーは、通常、環構造を有するォレフィンを付加重合又は開環重合し、そして必要に応じて不飽和結合部分及び芳香環部分を水素化することによって得られる。

[0028] 脂環式ォレフインポリマーを得るために使用される環構造を有するォレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジェン、テトラシクロドデセン、ェチルテトラシクロドデセン、ェチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔7. 4. 0. I¹⁰' ¹³. 0²，⁷〕トリデカ 2, 4, 6, 11ーテトラェンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロへキセン、 3, 4ージメチルシクロペンテン、 3—メチルシクロへキセン、 2—（2 メチルブチル） 1ーシクロへキセン、シクロオタテン、 3a , 5, 6, 7a—テトラヒドロー 4, 7 メタノー 1H—インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジェン、シクロへキサジェンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；スチレン、 α—メチルスチレン、ジビュルベンゼンなどの芳香族ビュル化合物；ビュルシクロへキサン、ビュルシクロへキセン、ビュルシクロペンタン、ビュルシクロペンテンなどの脂環族ビニルイ匕合物等が挙げられる。環構造を有するォレフィンは、それぞれ単独で、ある、は 2種以上を組み合わせて用いることができる。

[0029] 環構造を有するォレフィンと共重合可能な単量体を必要に応じて付加共重合させることができる。その具体例として、エチレン、プロピレン、 1—ブテン、 1—ペンテン、 1一へキセン、 3—メチルー 1ーブテン、 3—メチルー 1 ペンテン、 3 ェチルー 1 ペンテン、 4ーメチルー 1 ペンテン、 4ーメチルー 1一へキセン、 4, 4 ジメチルー 1 —へキセン、 4, 4 ジメチルー 1—ペンテン、 4 ェチル—1—へキセン、 3 ェチル — 1—へキセン、 1—オタテン、 1—デセン、 1—ドデセン、 1—テトラデセン、 1—へキサデセン、 1ーォクタデセン、 1 エイコセンなどの炭素数 2〜20のエチレンまたは α ーォレフイン； 1, 4一へキサジェン、 4ーメチルー 1, 4一へキサジェン、 5—メチルー 1, 4一へキサジェン、 1, 7—ォクタジェンなどの非共役ジェン；1, 3 ブタジエン、ィソプレンなどの共役ジェン等が挙げられる。これらの単量体は、それぞれ単独で、あるいは 2種以上を組み合わせて使用することができる。

[0030] 環構造を有するォレフィンの重合は公知の方法に従って行うことができる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常— 50°C〜100°Cの重合温度、 0〜5MPaの重合圧力で重合させる。水素化反応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素を吹き込んで行う。

[0031] 脂環式ォレフインポリマーの具体例としては、ノルボルネン系単量体の開環重合体及びその水素化物、ノルボルネン系単量体の付加重合体及びその水素化物、ノルボルネン系単量体とビュル化合物（エチレンや、 (Xーォレフインなど）との付カ卩重合体及びその水素化物、単環シクロアルケンの重合体及びその水素化物、脂環式共役ジェン系単量体の重合体及びその水素化物、ビニル脂環式炭化水素系単量体の重合体及びその水素化物、芳香族ビニル化合物の重合体の芳香環を水素化した物などが挙げられる。これらの中でも、ノルボルネン系単量体の開環重合体の水素化物、ノルボルネン系単量体の付カ卩重合体、ノルボルネン系単量体とビニル化合物（=ェチレンや α—ォレフィンなど）との付加重合体、芳香族ォレフイン重合体の芳香環水素化物が好ましぐ特にノルボルネン系単量体の開環重合体の水素化物が好ま、。前記の脂環式ォレフインポリマーは、それぞれ単独で、あるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、ここでノルボルネン系単量体とは化 1に示すようなノルボルネン構造を有する単量体のことである。ノルボルネン系単量体を開環重合すると化 2のような繰り返し単位を持つポリマーが得られ、これを水素化すると化 3に示すような繰り返し単位を持つポリマーが得られる。なお、ィ匕 1〜化 3中の R1及び R2は、置換基を示し、 R1と R2とが結合して環を形成してもよい。

[0032] [化 1]

[0033] [化 2]

[0034] [化 3]

本発明に用いる透明榭脂は、その分子量によって特に制限されない。透明樹脂の分子量は、シクロへキサンまたはトルエンを溶媒とするゲルパーミエーシヨンクロマトグラフィー（GPC)で測定される、ポリスチレン (溶媒がトルエンの場合)換算又はポリイソプレン (溶媒がシクロへキサンの場合)換算の重量平均分子量 (Mw)で、通常 1, 00 0〜1, 000, 000、好まし <は 5, 000〜500, 000、より好まし <は 10, 000〜250, 0 00の範囲である。透明樹脂の重量平均分子量 (Mw)がこの範囲にあるときには、耐熱性、接着性、表面平滑性などがバランスされ好適である。

透明樹脂の分子量分布は、 GPCで測定される重量平均分子量 (Mw)と数平均分子量 (Mn)との比（MwZMn)で、通常 5以下、好ましくは 4以下、より好ましくは 3以下である。

[0036] 本発明に用いる透明榭脂は、顔料や染料のごとき着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、耐電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもょ、。

[0037] 榭脂フィルムは前記透明榭脂を公知の方法で成形することによって得られる。例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。

[0038] 本発明の長尺のグリッド偏光フィルムを構成するグリッド線は、前記榭脂フィルムの表面及び Z又は内部に設けられている。例えば、図 1に示すように、本発明の第一実施態様に係るグリッド偏光フィルムは、上述した榭脂フィルム 2と、この榭脂フィルムの上面に、互いに略平行に配列された複数のグリッド線 1とを備えている。ここで、略平行とは、例えば、グリッド線が交わらず、グリッド線間のピッチが広がったり狭まったりして、る場合でも、例えば平均ピッチの ± 5%程度以内に収まって、ることを、う。グリッド線間のピッチは使用する光の波長の 1Z2以下とすることが必要である。グリツド線の幅は細いほど透過方向の偏光成分の吸収が小さくなり、特性上好ましい。可視光線に用いるグリッド偏光フィルムでは、グリッド線のピッチが通常 50〜： LOOOnm であり、線幅力 S通常 25〜600nm、高さが 10〜800nmであることが好ましい。

[0039] グリッド線に用いられる材料は、複素屈折率 (N =η -ί κ )の実部 ηと虚部 κ の差の絶対値が 1. 0以上の材料 Gであり、複素屈折率の実部と虚部のいずれかが大きぐその差の絶対値が 1. 0以上の材料の中から適宜選択することができる。複素屈折率の実部と虚部の差の絶対値が 1. 0以上の材料の具体例としては、金属；シリコン、ゲルマニウム等の無機半導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチォフェン、ポリー ρ—フエ-レン等の導電性ポリマー、及びこれら導電性榭脂をヨウ素、三フッ化ホゥ素、五フッ化ヒ素、過塩素酸等のドーパントを用いてドーピングした有機系導電性材料；絶縁性榭脂に金、銀などの導電性金属微粒子を分散した溶液を乾燥して得られる有機—無機複合系導電性材料、などが挙げられる。これらの中でも、グリッド偏光フィルムの生産性、耐久性の観点からは金属材料が好ましい。可視域の光を効率よく偏光分離するためには、温度 25°C、波長 550nmにおける複素屈折率の実部 n 及び虚部 κ のそれぞれは、好ましくは nが 4. 0以下で、 κ が 3. 0以上で且つその差の絶対値 I

_{Κ ι} Iが 1. 0以上のものであり、より好ましくはが 2. 0以下で、 κ が 4. 5以上で且つ I n — κ Iが 3. 0以上のものである。前記好ましい範囲にあるものとしては、銀、アルミニウム、クロム、インジウム、イリジウム、マグネシウム、パラジゥム、白金、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、スズ等が挙げられ、前記より好ましい範囲にあるものとしては、アルミニウム、インジウム、マグネシウム、ロジウム、スズ等が挙げられる。また上記以外に、 nが 3. 0以上で且つ κ が 2. 0以下の範囲にある材料、好ましくは nが 4. 0以上で且つ κ が 1. 0以下の範囲にある材料も好適に用いることができる。このような材料としてはシリコンなどが挙げられる。複素屈折率 Nは、電磁波の理論的関係式であり、実部の屈折率 nと虚部の消衰係数 κ を用いて、 N =η -ϊ κ で表現されるものである。屈折率 nの媒体中では真空中よりも光が速く進み、大きい消衰係数 κの媒体中では光の強度が減衰することが知られている。

[0040] 詳細は不明であるが I n — κ Iの値は次のような意義を持つ。まず、 η < κ の場合においては、 κ が大きいものほど導電性が大きぐグリッド線の方向に振動できる自由電子が多くなるため、偏光 (グリッド線に (電場が）平行な方向の偏光)の入射により発生する電界が強くなり、前記偏光に対する反射率が高まる。グリッド線の幅が小さいので、グリッド線と直交する方向には電子は動けず、グリッド線と直交する方向の偏光に対しては上記の効果は生じず、透過する。また nが小さい方が入射した光の媒質中での波長が大きくなるため、相対的に微細凹凸構造のサイズ (線幅、ピッチ等)が小さくなり、散乱、回折等の影響を受け難くなり、光の透過率 (グリッド線に直交する方向の偏光）、反射率 (グリッド線に平行な方向の偏光）が高まる。ここで I n - κ Iが 1. 0以上というのは、 κ がより大きく、 nがより小さいものほど好ましいということ示している。

一方 η > κ の場合においては、 nが大きいものほど、グリッド線とそれに隣接する部分 (図 1では空気)との屈折率の差が大きくなり、構造複屈折が発現しやすくなる。一方 κ が大きいと光の吸収が大きくなるため、光の損失を防ぐ意味で _K は小さいほど好ましい。ここで I η — κ Iが 1. 0以上というのは、 ηがより大きく、 κ 力り小さ V、ものほど好まし、と、うことを示して、る。

[0041] 本発明の好ましい長尺のグリッド偏光フィルムは、榭脂フィルムの表面に互いに略平行に伸びた複数列の溝が形成されており、グリッド線が溝の底面上、及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、積層された材料 Gの薄膜からなるものである。溝の底面及び Z又は畝の頂面上に積層された材料 G力なる薄膜によってグリッド線が構成されている。

[0042] 図 2は、グリッド偏光フィルムの第二実施態様を示す斜視図である。図 3は、第二実施態様のグリッド偏光フィルム 11の断面図である。図 2に示すグリッド偏光フィルム 11 は、榭脂フィルム 42と、材料 G力もなる薄膜 44と 43とを有している。薄膜 44と 43によつてグリッド線が構成されて、る。

榭脂フィルム 42の表面には、互いに略平行に伸びた複数列の溝 Xが形成されて!ヽる。溝 Xは、図 3に示すように長方形の断面をしている。そして、この溝と溝との間に畝が形成されている。該溝 Xの底面には、薄膜 43が積層されている。また畝の頂面には薄膜 44が積層されている。図 3に示すように、グリッド偏光フィルム 11では溝の側面に薄膜が積層されていないが、本発明の目的を達成できる範囲で側面に薄膜が積層されていてもよい。

[0043] 図 4は、本発明のグリッド偏光フィルムの第三実施態様を示す斜視図である。図 5は、第三実施態様のグリッド偏光フィルム 12の断面図である。図 4に示すグリッド偏光フイルム 12は、榭脂フィルム 52と、材料 Gからなる薄膜 54と 53とを有している。薄膜 54 と 53によってグリッド線が構成されている。

榭脂フィルム 52の表面には、互いに略平行に伸びた複数列の溝 Yが形成されている。溝 Yは、図 5に示すように等脚台形状の断面をしている。そして、この溝と溝との間に畝が形成されている。該溝 Yの底面には、薄膜 53が積層されている。また畝の頂面には薄膜 54が積層されている。図 5に示すように、グリッド偏光フィルム 12では溝 Yの側面 (傾斜面）に薄膜が積層されているが、該側面に薄膜が積層されていなくてもよい。

[0044] 前記薄膜は、グリッド偏光フィルムを法線方向から見た際に見える榭脂フィルム表面の略全体 (概ね 95%以上）を被って!/、るように形成されることが好ま、。被って!/ヽる領域が概ね 95%よりも小さくなると、偏光分離性能を十分に発揮できなくなる場合がある。法線方向（図 3又は図 5中紙面に平行な上方)から見えるフィルム表面は、図 2においては、溝 Xの底面と畝の頂面であり、図 4においては、溝 Yの底面と畝の頂面と溝の両側面である。

[0045] 薄膜に用いられる材料 Gは、既に述べたように、複素屈折率 Nの実部 nと虚部 κ の絶対値の差が 1. 0以上のものである。本発明では、さらに実部 ηと虚部 κ のうちどちらか一方の値が大きい材料が好ましい。具体的には、金属や半導体が挙げられる。金属としては、マグネシウム、アルミニウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コノレト、ニッケル、銅、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、インジウム、スズ、アンチモン、タングステン、イリジウム、プラチナ、金、タリウム等が挙げられる。これらは 1種単独で、あるいは 2種以上を組み合わせて合金としても用いることができる。中でもマグネシウム、アルミニウム、クロム、ルテニウム、ロジウム、銀、インジウム、スズ、アンチモン、金が好適である。半導体としては、シリコン、ゲルマ- ゥムといった単元素半導体や、 GaAs、 InP、 SiGe、 GaTZn P、 Pb Sn Teなどと

3 2 1-x x いった化合物半導体が挙げられる。これらの中でもシリコン、 SiGe、 GaTZn P、 Pb

3 2 1

Sn Teが好適である。

[0046] 溝間の平均間隔（ピッチ） dは好ましくは 50〜： LOOOnmであり、溝又は畝の平均巾は、通常光の波長よりも短ぐ好ましくは 25〜600nmであり、畝の高さ又は溝の平均深さは好ましくは 50〜800nmである。溝の長さは、通常光の波長より長ぐ好ましくは 800nm以上である。溝の大きさを上記範囲とすることにより、可視光領域の光に対し効率的な輝度向上効果が期待できる。

[0047] 本発明のグリッド偏光フィルムにおいては、榭脂フィルムの溝の幅 t、隣接する溝間の間隔 d、溝の側壁の斜度 Θ (式 (A)で表される。）、溝の深さ h、底面及び Z又は

0

頂面に積層された材料 G力なる薄膜の膜厚 h、真空中における波長が λ である

1 0 光に対する榭脂フィルムの複素屈折率 Ν ( =η -ι κ )、及び真空中における波長

0 0 0

がえである光に対する材料 Gの複素屈折率 N ( =η -ί κ ； η≥2. 5又は κ ≥1. 5)が、下記の関係を満たすものが好ましい。

(1) -0. 1 δ < (h -h )；但し、 δ = λ / (2 π ²η ² κ ) ^1/2

0 1 0 1 1

(2) 60° ≤ θ≤90° ；但し、 ζは溝深さ方向の距離； θ (ζ)は距離 ζにおける溝深さ方向に直交する方向に対する側面の傾斜角度； [0048] [数 3]

Θ = 丄。 6> ( ζ ) · · · · ( A)

(3) d< λ Zn 、及び

0 0

(4) 0. ld<t< 0. 8d

[0049] なお、 zは、溝の底面を 0とした場合の高さ方向の距離 (hが溝の最上部となる）でも

0

ある。また θ (ζ)は、距離 ζにおける、溝の側面に対応する直線と、基板表面を表す直線とがなす溝側の角度を示すものであってもよい。斜度 Θは、溝の側面部分が直線でない場合に、側面を微小部分に分割し、各微小部分における接線と、その位置での基板表面を示す直線とのなす角度を、溝の底面 (高さ 0)力溝の最上部（高さ h )

0 まで高さ方向に積分し、それを hで除算して算出した角度である。

0

なお、溝の側面部分がほぼ直線に近い形状となる場合には、斜度 0は、垂直断面

、て、側面部分の最下部および側面部分の最上部を結んだ直線と基板表面とのなす角度としてもよ!/、。

[0050] 溝の深さ hは、材料 G力もなる薄膜の膜厚 hより大きいことが好ましい。また、波長

0 1

λ での材料 Gの複素屈折率 Νの虚部 κ は 2以上であることが好ましぐ 3以上であ

0 1 1

ることがより好ましい。 h、 h、 Κ を、このような範囲とすることにより、偏光分離性能を

O i l

高めることができる。

[0051] また、斜度 0は、 70° 〜90° であることが好ましぐ 80° 〜90° であることがより好ましヽ。また、溝の幅 tは、 0. 2d<t< 0. 7dとすること力好ましく、 0. 25d<t< 0.

6dとすることがより好ましい。

斜度 Θおよび溝の幅 tを前記範囲とすることにより、偏光分離性能の向上を図ることができるとともに、グリッド分離フィルムの製造を容易にできる利点がある。

[0052] また、溝は、同じ形状のものが、厳密に平行に同じ間隔で並んでいることが偏光性能の均一性、安定性などの点力好ましいが、それぞれ 10〜20%程度の形状誤差があってもよい。

溝の形状に誤差を含んでいる場合には、上記の h、 h、 0、 d、 tなどは全ての溝に

0 1

つ！/、ての平均値として表される。 [0053] なお、照射される光が複数の波長を含む場合には、照射光の全ての波長に対して上記関係を満たすグリッド偏光フィルムは、偏光分離性能、すなわちコントラスト性能を良好に保つことができ、好ましい。

[0054] 図 3は、第二実施態様のグリッド偏光フィルム 11の断面図である。図 3に示すように、グリッド偏光フィルム 11は、その表面に互いに略平行に伸びる（図 3では紙面に垂直に)複数列の溝 Xが形成された榭脂フィルム 42と、榭脂フィルム 42の図中上側に形成された薄膜 43、 44とを有している。図 3において、溝 Xは、断面が長方形状に形成されている。溝 Xが断面長方形状であるため、薄膜は、榭脂フィルムを法線方向（図 3では紙面に平行な上方)から見た際に、溝 Xを含む榭脂フィルムの表面全体を覆うように、すなわち、榭脂フィルム 42に形成された溝の底面及び畝の頂面に形成されている。

図 3のような溝 Xが榭脂フィルム 42に形成された場合には、溝の深さ h、薄膜の膜

0

厚 h、溝の幅 t、隣接する溝間の間隔 dの各値は、図 3に示す各位置の寸法として示される。薄膜の膜厚 hは、溝の底面上に積層された薄膜 43と、畝の頂面上に積層された薄膜 44の各膜厚の平均値として求められる。図 3に示すグリッド偏光フィルムでは、斜度 0は 90° である。

[0055] 図 5は、第三実施態様のグリッド偏光フィルム 12の断面図である。図 5に示すように、グリッド偏光フィルム 12は、その表面に互いに略平行に伸びる（図 5では紙面に垂直に)複数列の溝 Yが形成された榭脂フィルム 52と、榭脂フィルム 52の図中上側に形成された薄膜 53、 54、 55とを有している。図 5において、溝 Yは、下辺より上辺の方が大きな断面逆等脚台形状に形成されて!ヽる。溝 Yが断面逆等脚台形状であるため、薄膜は、榭脂フィルムを法線方向（図 5では紙面に平行な上方)から見た際に、溝 Yを含む榭脂フィルムの表面全体を覆うように、すなわち、榭脂フィルム 52に形成された溝の底面及び側面並びに畝の頂面に亘つて連続的に形成されている。

[0056] 図 5のような断面逆等脚台形状の溝 Yが榭脂フィルム 52に形成された場合には、溝の深さ h、斜度 Θの各値は、図 5に示す各位置の寸法として示される。薄膜の膜

0

厚 hは、溝の底面上に積層された薄膜 53と、畝の頂面上に積層された薄膜 54の各膜厚の平均値として求められる。また、溝の幅 tは、下記式 (B)で表される。 [0057] [数 4] t = t { z ) ώ ( B )

h o ·> o

[0058] ここで、 t (z)は、位置 zにおける溝の両側面間の距離を表す。

図 5に示す断面逆等脚台形状の溝 Yにおいては、溝の深さ hの

0 1Z2に相当する深さ位置における両側面間距離が溝の幅 tに等しくなる。

隣接溝間の間隔 d (ピッチ)は、隣り合う溝の特定位置間の距離である。図 5では、溝の深さ hの 1Z2に相当する深さ位置間の距離を示している。

0

[0059] 本発明では、例えば、図 2に示すように、薄膜が溝の側面にも形成されていることが好ましぐ榭脂フィルムに形成された畝の頂面と溝の側面と溝の底面とに亘つて薄膜が連続的に形成されていることがより好ましい。溝の側面に薄膜を形成することにより、十分な偏光分離機能を有しつつ、薄膜の平均 ≤を薄くすることができる。膜厚を薄くしても効果を発揮するので、薄膜を蒸着等で製膜する時間を短縮でき、グリッド偏光フィルムの製造が容易となる。また、薄膜を連続的に形成することにより、榭脂フイルムと薄膜との密着性が高くなり、グリッド偏光フィルムのどの領域でも同様の偏光分離性能を発揮でき、品質が安定する。また、薄膜を大面積に均一に製膜することが容易になるため、製造上も好ま、。

[0060] 本発明の好適な長尺グリッド偏光フィルムは、その偏光透過軸の方向がフィルムの幅方向に略平行である。偏光透過軸をフィルムの幅方向に略平行にすることにより、他の長尺の偏光光学フィルム、特に長尺の吸収型偏光フィルムとの積層を、長尺のまま、枚葉に切らずに行うことができるため、生産性に優れる。ここでいう略平行とは、平行方向から、 ± 5° の範囲内にあることをいう。また、本発明の好適な長尺グリッド偏光フィルムは該グリッド線をフィルムの長手方向に略平行に延設するものである。これにより、前記材料で形成されたグリッド線に対して平行な偏光を反射し、該グリッド線に対して直角な偏光を透過する効果を発現するため、フィルムの幅方向に偏光透過軸を有する長尺グリッド偏光フィルムとすることができる。

[0061] (グリッド偏光フィルムの製法）本発明の長尺グリッド偏光フィルムに好適な製法は、転写型又は転写ロールを用いて長尺の榭脂フィルム表面に互いに略平行に伸びた複数列の溝を形成し、次、で、該溝の底面上及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、複素屈折率 (N =n -ϊκ )の実部 nと虚部 κ の差の絶対値が 1.0以上の材料 G力なる薄膜を積層することによってグリッド線を形成することを含むものである。

[0062] また、真空中における波長が λ である光に対する複素屈折率 Ν (=η -ϊκ )の

0

(1) -0. 1 δ < (h -h )；但し、 δ =λ /(2π²η ²κ )^1/2

0 1 0 1 1

[0063] [数 5] θ = - ^{h e} ^ ^ · · · · ^{( A)}

n o

(3) d< λ Zn 、及び

0 0

(4) 0. ld<t<0.8d の関係を満たすように、互いに略平行に伸びた複数列の溝をエンボス加工法によって形成し、溝の底面上及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、真空中における波長が λ。である光に対する複素屈折率 (= i _{Κ ι};η ≥2. 5又は κ ≥1. 5)の材料 G力もなる薄膜を膜厚 hで積層する、グリッド偏光フィルムの製造方法が提供される。

[0064] 本発明の製法に用いられる、転写型又は転写ロールは、上記の溝及び Z又は畝を形成できるものであれば、その製法によって特に限定されないが、例えば、モース硬度 9以上の材料を高エネルギー線を用いて加工し、先端に、上記の溝及び Z又は畝の形状に対応した突起を形成してなる工具を作製し、該工具を用いて、型部材又はロール部材を切削等して、その表面に、上記の溝及び Z又は畝を形成する方法が挙げられる。

[0065] 図 6は、本発明の製法に用いる転写ロールを製造するために用いられる工具 10の一例を示す図である。モース硬度 9以上の直方体 aを高エネルギー線でカ卩ェし、先端の面に溝 bを彫り込み、先端に、例えば巾 600nm以下、好ましくは 300nm以下の直線状の突起 33を一定の間隔で複数本平行に形成する。

[0066] 先端に形成される突起の形状は特に制限されず、例えば、直線状突起の長手に垂直な面で切断した断面が、長方形、三角形、半円形、台形、又はこれらの形状を若干変形させたような形状などを挙げることができる。断面長方形の突起を持つ工具を用いると図 3に示すような形状のグリッド偏光フィルムを得ることができ、断面台形の突起を持つ工具を用いると図 5に示すような形状のグリッド偏光フィルムを得ることができる。工具の先端に形成される突起の算術平均粗さ (Ra)は好ましくは lOnm以下、より好ましくは 3nm以下である。

[0067] 工具の突起が型部材又はロール部材の表面では凹部となり、工具の凹部が型部材又はロール部材の表面では凸部となって形成される。図 9に示す突起断面形状が長方形である切削工具（巾 Wl、ピッチ Pl、高さ HI)を用いた場合、型部材又はロール部材の表面の凸部の巾 W2は P1— Wl、凸部のピッチ P2は Pl、凸部の高さ H2は H 1以下となる。この関係と転写時の熱膨張などを考慮して、型部材又はロール部材の表面に形成したいナノメートルオーダーの凹凸形状に対応する工具形状を決めることができる。工具の両側端の突起の巾 eは、

+ 25 (単位11111)又は e = 0であることが、加工継ぎ目部分のピッチを設定どおりの値にすることができること力好ましい。

[0068] 工具に用いられるモース硬度 9以上の材料としては、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、コランダムなどが挙げられる。これらの材料は単結晶又は焼結体であることが好ましい。単結晶であれば、加工精度と工具寿命の面で好ましぐ単結晶ダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素が硬度が高いためにより好ましぐ単結晶ダイヤモンドが特に好ましい。焼結体としては、例えば、コバルト、スチール、タングステン、ニッケル、ブロンズなどを焼結材とするメタルボンド;長石、可溶性粘土、耐火粘土、フリットなどを焼結材とするビトリフアイドボンドなどを挙げることができる。これらの中でダイヤモンドメタルボンドが好適である。

[0069] 工具の作製に用いられる高エネルギー線としては、例えば、レーザービーム、ィォンビーム、電子ビームなどが挙げられる。これらの中でイオンビームと電子ビームが好適である。イオンビームによる加工では材料の表面にフロン、塩素などの活性ガスを吹き付けながらイオンビームを照射する方法 (イオンビーム援用化学加工という。 )が好ましい。電子ビームカ卩ェでは、材料の表面に酸素ガスなどの活性ガスを吹き付けながら電子ビームを照射する方法 (電子ビーム援用化学加工という。）が好ましい。これらビーム援用化学カ卩ェによって、エッチング速度を速め、スパッタされた物質の再付着を防ぎ、且つナノメートルオーダーの高精度で微細な加工を効率よく行うことができる。

[0070] 前記で得られた工具を型部材又はロール部材の表面に圧しあて、表面を切削又は研削して、転写型又は転写ロールを得る。

型部材又はロール部材の切削又は研削は、精密微細加工機を用いて行うことが好ましい。精密微細加工機は、 X, Υ, Z軸の移動精度が、好ましくは lOOnm以下、より好ましくは 50nm以下、特に好ましくは lOnm以下のものである。精密微細加工機は、好ましくは 0. 5Hz以上の振動の変位が 50 m以下に管理された室内、より好ましくは 0. 5Hz以上の振動の変位が 10 m以下に管理された室内に設置して、上記カロェを行う。また、型部材又はロール部材の切削又は研削は、好ましくは温度が ±0. 5 °C以内に管理された恒温室、より好ましくは ±0. 3°C以内に管理された恒温室で行う

[0071] 微細加工に用いられる型部材又はロール部材は特に制限はないが、型部材又は口一ル部材の表面は微細格子形状を形成するために適当な硬度のある材料で形成されていることが好ましぐ例えば、電着又は無電解めつきにより形成された金属膜で形成される。金属膜を構成する材料としてはビッカース硬度が好ましくは 40〜350、より好ましくは 200〜300の金属膜を得ることができるものがよぐ具体的には、銅、二ッケル、ニッケルリン合金、パラジウムなどが挙げられ、これらのうち、銅、ニッケル、ニッケル一リン合金が好ましい。

[0072] 上記のようにロール部材に直接工具を圧し付けて、ナノメートルオーダーの凹凸形状を形成させてもよいが、前記の工具で金型部材にナノメートルオーダーの凹凸形状を形成させ、その金型部材の上に電铸などで金属版を作製し、該金属版を金型部材から引き剥がし、その金属版を型部材又はロール部材の表面に貼り付ける方法で、転写型又は転写ロールを作製してもよい。

[0073] 上記の方法などで得られた転写型又は転写ロールを用いて榭脂フィルム表面にェンボス加工して溝を形成し微細な凹凸形状にする。図 7は、本発明の製法に用いる転写ロール 22で榭脂フィルム 30表面に凹凸形状を形成する工程の一例を示す図である。図 7では、転写ロール 22と、榭脂フィルムを挟んで反対側にあるロールとで、榭脂フィルム 30を圧し挟み、転写ロール周面の凹凸形状を榭脂フィルムに転写している。転写ロールとその反対側にあるロールによる挟み圧力は、好ましくは数 MPa〜数十 MPaである。また転写時の温度は、好ましくは榭脂フィルムを構成している透明榭脂のガラス転移温度を Tgとすると、 Tg〜(Tg+ 100) °Cである。榭脂フィルムと転写ロールとの接触時間は樹脂フィルムの送り速度、すなわちロール回転速度によって調整でき、好ましくは 5〜600秒である。

[0074] 榭脂フィルム表面に微細な凹凸形状を連続的に形成する別の方法としては、転写ロールに感光性透明榭脂を圧しあて、露光して、凹凸形状を転写する方法が挙げられる。具体的には感光性透明榭脂溶液を流延して、溶媒を除去し、次いで前記転写ロールを圧しあてると同時に光を照射して、感光性透明榭脂を硬化させ凹凸形状を固定する方法である。

[0075] 次に、該凹凸表面に材料 G力もなる薄膜を、上述したように、溝の底面及び Z又は畝の頂面に膜厚 hで積層させる。図 5に示すような、断面台形状の凹凸表面である場合には側面にも薄膜が積層される。側面に形成される薄膜の膜厚は、溝の底面及び畝の頂面に形成される薄膜の膜厚に比べて小さくなる。

製膜方法は特に制限されない。用いる材料に応じて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の真空成膜プロセスや、マイクログラビア法、スクリーンコート法、ディップコート法、無電解めつき、電解めつき等のウエットプロセスによる各種コーティング法を用いることができる。これらのうちグリッド構造の均一性の観点から

、真空蒸着法、スパッタリング法が好ましい。

[0076] 図 8は連続スパッタリング装置の一例を示す図である。図 8の装置 500は、巻き出し口ール 501に前記ナノメートルオーダー凹凸形状を形成させた榭脂フィルムを装填でき、タ—ゲット 506に蒸着しょうとする金属材料を装填できるようになった直流マグネトロンスパッタリング装置である。真空室を真空にして、巻き出しロール 501からフィルムを巻き出し、清浄な成膜ロール 503にフィルムを巻きつけ、ターゲット 506からのスパッタリングにより、フィルム表面に金属膜を形成させる。金属膜を形成させたフィルムは巻き取り口—ル 504に巻き取る。なお、 510— 1及び 510— 2は防着板であり、蒸着膜が目的外の場所に付着するのを防止する板である。

[0077] 金属をスパッタリングや蒸着するときの方向をフィルムに形成された凹凸形状の方向とを傾けることによって、金属膜が形成される部分と金属膜が形成されない部分とができる。例えば、図 3のような凹凸形状が形成された榭脂フィルムにおいて、榭脂フイルム法線方向からスパッタリング等を行うと凸部頂面と凹部底面に金属膜が形成されるが、凸部側面には金属膜が形成されない。また同じ榭脂フィルムで、凹凸形状長手方向に直角で且つフィルム面に対して斜めにスパッタリング等を行うと、凸部頂面と凸部の片側面の上半分の面に金属膜が形成されるが、凹部底面、凸部の片側面の下半分及びもう一方の片側面には金属膜が形成されない。このようなスパッタリングにより飛来する金属の直線性と、凹凸形状とを利用して、互いに略平行に配置されたグリッド線を容易に得ることができる。

[0078] また、図 3に示すように凸部の頂面及び凹部の底面に薄膜を形成させた後、エッチング処理等により榭脂フィルムの凸部を凹部底面と同じ高さまで削り落とすことで図 1 に示すような第一実施態様のグリッド構造を形成することもできる。

[0079] 本発明では、グリッド線の防食や、溝の形状維持のために、長尺グリッド偏光フィルムに透明保護膜をさらに積層することが好ましい。

透明保護膜は、その目的に応じて、長尺グリッド偏光フィルムの片面 (グリッド線が形成されて、る面でも、グリッド線が形成されてヽな、面でもよ、）のみに形成しても良いし、両面に形成しても良い。透明保護膜としては光を透過できる膜であれば特に限定は無く、脂環式ォレフインポリマー；ポリエチレンやポリプロピレン等の鎖状ォレフイン重合体；トリァセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースプ口ピオネート等のセルロースエステル類；ポリビュルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフイン、変性アクリルポリマー、エポキシ榭脂等力もなる透明プラスチック膜や、オルガノアルコキシシラン、無機微粒子分散アクリル等カゝらなる有機'無機複合膜や、窒化ケィ素、窒化アルミニウム、酸化ケィ素等;石英、各種光学ガラスなどカゝらなる透明無機膜などが挙げられる。

[0080] 透明保護膜を積層する手法としては特に限定は無いが、長尺グリッド偏光フィルムと透明保護フィルムをラミネーターを用いて積層する方法、透明保護膜を形成する組成物を含有するコーティング剤を長尺グリッド偏光フィルムに塗布し、乾燥すること〖こより透明保護膜を積層する方法、前記手法により長尺グリッド偏光フィルムにコーティング層を形成し、さらに熱又は光により硬化する方法、長尺グリッド偏光フィルムに真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法方式等の手法により透明保護膜を積層する方法等が挙げられる。

[0081] さらに本発明では、榭脂フィルムの裏面 (すなわち、薄膜が積層された面の反対側の面）に反射防止膜が設けられていてもよい。反射防止膜としては、 MgF膜、 SiO

2 2 膜及び TiO膜が好適で、これらを複数含む積層膜がより好ましぐ光の波長 400〜7

2

OOnmの範囲における光透過率が 99%以上であればさらに好ましい。

[0082] 本発明のグリッド偏光フィルムに光を入射すると、溝の長手方向に平行な方向の偏光はグリッド偏光フィルムをほぼ吸光性媒体としてみなし、溝の長手方向に垂直な方向の偏光はグリッド偏光フィルムをほぼ誘電体とみなす。このため、入射光のうち、一方の偏光を反射及び Z又は吸収し、他方の偏光を透過するような偏光分離の機能を発現する。

本発明のグリッド偏光フィルムは、各種の用途に利用できる。特に、液晶表示装置の輝度向上フィルムとして好適に利用できる。輝度向上フィルムに利用すれば、各種波長の光に対する明るさや、コントラストの高さに優れた液晶表示装置を製造でき、ノソコン、テレビジョンをはじめとする多くの表示装置に利用可能である。

[0083] (光学積層体）

本発明の長尺光学積層体は、前記長尺グリッド偏光フィルムと、他の長尺の偏光光学フィルムとを含んでなるものである。他の偏光光学フィルムとしては、吸収型偏光フイルム、位相差フィルム、偏光回折フィルムなどが挙げられる。特に、液晶表示装置の輝度向上フィルムとして用いる場合には、他の偏光光学フィルムが吸収型偏光フィルムであることが好ましい。

[0084] 本発明の長尺光学積層体に好適に用いられる吸収型偏光フィルムは、直角に交わる二つの直線偏光の一方を透過し、他方を吸収するものであり、例えばポリビニルァルコールフィルムやエチレン酢酸ビュル部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムにヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸させたもの、前記親水性高分子フィルムを一軸延伸して二色性物質を吸着させたもの、ポリビニルァルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリェン配向フィルムなどが挙げられる。吸収型偏光フィルムの厚さは、通常 5〜80 /ζ πιである。

[0085] 本発明の長尺光学積層体を得るための好適な製造方法は、ロール状に巻かれた前記の長尺のグリッド偏光フィルム及びロール状に巻かれた他の長尺の偏光光学フイルムを同時にロール力巻き出しながら、該グリッド偏光フィルムと該他の偏光光学フィルムとを密着させることを含む方法である。グリッド偏光フィルムと他の偏光光学フイルムとの密着面には接着剤を介在させることができる。グリッド偏光フィルムと他の偏光光学フィルムとを密着させる方法としては、二本の平行に並べられたロールの- ップにグリッド偏光フィルムと他の偏光光学フィルムを一緒に通し圧し挟む方法が挙げられる。

[0086] 本発明の長尺グリッド偏光フィルム及び長尺光学積層体は、その使用形態に応じて所望の大きさに切り出した光学部材として用いられる。

[0087] (液晶表示装置）

本発明の液晶表示装置は、前記の長尺グリッド偏光フィルム又は長尺光学積層体力も切り出された光学部材を備えるものである。図 12は、本発明のグリッド偏光フィルムを備える液晶表示装置を示す模式図である。液晶表示装置は、偏光透過軸を電圧の調整で変化させることができる液晶セル LCと、それを挟むように配置される吸収型偏光フィルム P1及び Ρ2とからなる液晶パネルを少なくとも備えて、る。吸収型偏光フィルム P1及び Ρ2は、通常、それぞれの偏光透過軸が直交又は平行になるように配置されている。そして、この液晶セルに光を送りこむために、表示面の裏側に、透過型液晶表示装置ではバックライト装置が、反射型液晶表示装置では反射板が備えられる。図 12では、反射板 Wと、光源 Lと、拡散板 Dとからなるバックライト装置が示されている。

[0088] 本発明の長尺のグリッド偏光フィルム及び長尺の光学積層体は、直交する直線偏光のうちの一方を透過し、他方を反射する性質を持っている。透過型液晶表示装置において、本発明の長尺のグリッド偏光フィルム及び長尺の光学積層体から所望の大きさに切り出した光学部材 (以下、切り出したものを、「グリッド偏光子 I」という。）を、バックライト装置と液晶パネルとの間に配置する。グリッド偏光子 Iの溝の長手方向が、吸収型偏光子 P1の偏光吸収軸と平行になるように配置する。このように配置すると、ノックライト装置で発光した光がグリッド偏光子 Iによって、二つの直線偏光に分離され、一方の直線偏光は液晶パネルの方向へ、他方の直線偏光はバックライト装置の方向へ戻る。ノックライト装置には反射板が通常備わっており、バックライト装置の方向へ戻った直線偏光は、その反射板により反射され、再びグリッド偏光子 Iに戻ってくる。戻ってきた光はグリッド偏光子 Iで再度二つの偏光に分離される。これを繰り返すことでバックライト装置で発光した光が有効に利用されることになる。その結果、光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる効果が得られる。

実施例

[0089] 実施例及び比較例を示し、本発明を更に具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな、。

[0090] 実施例 1 (長尺グリッド偏光フィルム 1の製造）

8mm X 8mm X 60mmの SUS製シャンクにろう付けされた寸法 0.2mm X lmm X lmmの直方体単結晶ダイヤモンドの 0.2mm X lmmの面に、集束イオンビーム加工装置（セイコーインスッノレメンッ (株)、 SMI3050)を用いてアルゴンイオンビームを用いた集束イオンビーム加工を行って、長さ lmmの辺に平行な幅 0.1 m、深さ 0.1 mの溝をピッチ 0.2 μ mで彫り込み、幅 0.1 μ m、高さ 0.1 μ mの直線状の突起 1,000 本をピッチ 0.2 mで形成してなる切削工具を作製した。

[0091] 直径 200mmで長さ 150mmの円筒形状ステンレス鋼 SUS430製ロールの周面全面に、厚さ 100 mのニッケル-リン無電解メツキを施し、次いで、先に作製した直線状突起を形成した切削工具と、精密円筒研削盤 (スチューダ社、精密円筒研削機 S3 o-i)を用いて、ニッケル-リン無電解メツキ面に、円筒の円周端面と平行な方向（すなわち、円周方向）に幅 0.1 m、高さ 0.1 m、ピッチ 0.2 mの直線状の突起を切削加工することにより、転写ロール 1を得た。

なお、集束イオンビームカ卩ェによる切削工具の作製と、ニッケル-リン無電解メツキ面の切削加工は、温度 20.0±0.2°C、振動制御システム ((株)昭和サイエンス）により 0.5Hz以上の振動の変位が 10 μ m以下に管理された恒温低振動室内で行った。

[0092] トリシクロ〔4. 3. 0. I²，⁵〕デカ- 3, 7-ジェン（ジシクロペンタジェン、以下「DCP」と略記する。）、 7, 8-ベンゾトリシクロ〔4. 4. 0. I²' ⁵. I⁷，¹。〕デカ- 3-ェン (メタノテトラヒドロフルオレン、以下、「MTF」と略記する。）、及びテトラシクロ 4. 0. I²' ⁵. I⁷' ¹⁰ 〕ドデ力- 3-ェン (テトラシクロドデセン、以下、「TCD」と略記する。）の混合物 40Z35 Z25 (重量比）を、公知の方法により開環重合し、次いで水素化して DCPZMTFZ TCD開環重合体水素化物を得た。得られたこの水素化物中の各ノルボルネン系単量体の共重合比率を、重合後の溶液中の残留ノルボルネン類の組成 (ガスクロマトグラフィ一法による）力計算したところ、 DCPZMTFZTCD=40Z35Z25でほぼ仕込み組成に等しかった。この水素化物の重量平均分子量 (Mw)は 35, 000、分子量分布は 2. 1、水素化率は 99. 9%、ガラス転移温度 Tgは 134°Cであった。

[0093] 前記開環重合体水素化物を 65mm φのスクリューを備えた榭脂溶融混練機を有する Τダイ式フィルム溶融押出成形機を使用し、溶融榭脂温度 240°C、厚さ 100 mのフィルムを押出成形して、基材フィルム Aを得た。基材フィルム Aの波長 550nmでの面内の平均レターデーシヨンは 4. 5nm、幅方向及び長手方向における面内のレタ一デーシヨンのばらつきは ± 1. 5nm、光軸のばらつきは ±7° であった。

[0094] 直径 70mmのゴム製ロールからなる-ップロール及び上記転写ロール 1を使用した転写装置を用い、転写ロールの表面温度 160°C、 -ップロールの表面温度 100°C、フィルムの搬送テンションを 0. lkgf/mm², -ップ圧が 0. 5kgfZmmの条件で厚さ 100 μ mの基材フィルム Αの表面上に転写ロール表面の形状を転写することにより、フィルムの流れ方向と平行に幅 0. 1 m、高さ 0. 1 m、ピッチ 0. 2 μ mの直線状の突起を有するフィルムを作製した。そして引き続き連続的に突起面上にアルミニウムを法線方向から真空蒸着することによりフィルム表面にダリッド線を形成した。さらに連続的に、トリァセチルセルロース力もなる保護フィルムをウレタン系接着剤でグリッド線形成側に重ね、加圧ローラーの-ップに供給し圧着して連続的に貼り合せることにより、長尺のグリッド偏光フィルム 1を得た。得られたグリッド偏光フィルム 1をロール状に巻き取った。長尺のグリッド偏光フィルム 1の偏光透過軸は、長手方向に直角であつた o

[0095] 厚さ 120 μ mの長尺のポリビュルアルコールフィルムを長手方向に一軸延伸し、この延伸フィルムを、ヨウ素とヨウ化カリウムを含む水溶液、次いで硼酸とヨウ化カリウム水溶液に浸漬し、さらに水洗し、乾燥させる工程を連続的に行なうことにより厚さ 20 μ mの長尺の吸収型偏光フィルムを得、ロール状に巻き取った。この長尺の吸収型偏光フィルムの偏光透過軸は、長手方向に直角であった。

前記吸収型偏光フィルムと上記で得た長尺グリッド偏光フィルム 1をロール力巻き出しながら、前記吸収型偏光フィルムの片面に長尺グリッド偏光フィルムをウレタン系接着剤を使用した接着層を介して積層し、さらに吸収型偏光フィルムのもう一方の面側にトリァセチルセルロースカゝらなる長尺の保護フィルムをウレタン系接着剤を使用した接着層を介して積層し、この積層体を加圧ローラーの-ップに供給し圧着して、連続的に貼り合せることにより、長尺の光学積層体 1を得た。得られた光学積層体 1を口ール状に巻き取った。

[0096] 実施例 2 (長尺のグリッド偏光フィルム 2の製造）

基材フィルム Aに代えて、キャスト法にて作製したポリカーボネート [帝人化成 (株）、パンライト K-1300Y]製の基材フィルム Bを用ヽた他は実施例 1と同様にして長尺のグリッド偏光フィルム 2を得た。なお、基材フィルム Bの波長 550nmでの面内の平均レターデーシヨンは 8nm、幅方向及び長手方向における面内のレターデーシヨンのばらつきは ± 2nm、光軸のばらつきは ±8° であった。

[0097] 実施例 1で得た吸収型偏光フィルムと上記で得た長尺グリッド偏光フィルム 2をロールカ巻き出しながら、前記吸収型偏光フィルムの片面に長尺グリッド偏光フィルムをウレタン系接着剤を使用した接着層を介して積層し、さらに吸収型偏光フィルムのもう一方の面側にトリァセチルセルロース力もなる長尺の保護フィルムをウレタン系接着剤を使用した接着層を介して積層し、この積層体を加圧ローラーの-ップに供給し圧着して、連続的に貼り合せることにより、長尺の光学積層体 2を得た。得られた光学積層体 2をロール状に巻き取った。

[0098] [表 1] 表 1

[0099] 表 1に示す上記実施例 1〜2における評価は、以下の方法により行った。（1)基材フィルムの幅方向及び長手方向における面内のレターデーシヨン ·光軸及びそのばらつき

榭脂フィルムを幅方向の全幅に対して等間隔に 5点、及び長手方向に 100mm間隔で 5点を測定点として選択した。その測定点が中心になるように、榭脂フィルムから矩形片を切り出した。自動複屈折計 (王子計測機器社製、 KOBRA21— ADH)を用いて、切り出した矩形片の中心 (測定点）の面内のレターデーシヨン値及び光軸を測定した。面内のレターデーシヨン値のばらつきは、レターデーシヨンの測定値の平均との差から求めた。光軸のばらつきは、光軸の測定値の平均を光軸方向 0° とし、それとの角度差から求めた。なお、測定波長は 550nmとした。

(2)基材フィルムの線膨張率

榭脂フィルムを打ち抜き、 50mm X 50mmの矩形片を得た。矩形片の辺の長さを測定した。矩形片を温度 60°C、相対湿度 90%の環境下に 500時間放置した。 500 時間放置した矩形片の辺の長さを測定し、高温高湿環境に放置前後の長さ変化から、線膨張率を下記の式に従って計算した。

線膨張率 (％) = I (高温高湿環境放置後の長さ) - (高温高湿環境放置前の長さ） I

Z (高温高湿環境放置前の長さ） X 100

[0100] (3)表示性能

光学積層体を所望の大きさに切り出し、光学積層体の吸収型偏光フィルム側の上に、視野角拡大フィルム（商品名： WVフィルム、富士写真フィルム社製）、透過型 TN 液晶セル、吸収型偏光板 (前記吸収型偏光フィルムの透過軸に対して吸収型偏光板の透過軸は直交する）をこの順に重ね置いた。これらを矩形の外枠で抑え、一体にし、パネルを作製した。

入射端面側に冷陰極管が配置され、かつ裏面側に光反射シートが設けられた導光板の出射面側に、光拡散シートを備えたバックライト装置の上に、上記パネルを重ね置いて、液晶表示装置を得た。

得られた液晶表示装置の正面輝度を輝度計 (商品名： BM-7、トプコン社製)を用いて測定した。また、背景を黒表示及び青表示にさせたときの、正面方向からの色ムラと輝度ムラを目視により観察した。なお、表 1中の「〇」は、「色ムラがない」又は「輝度ムラがな、」ことを意味する。

[0101] (4)高温高湿試験

前記 (3)表示性能を測定した後、液晶表示装置からパネルを取り外した。取り外したパネルを、温度 60°C、相対湿度 90%の環境下に 500時間放置し、次いで常温常湿環境下に 24時間放置した。パネルを再びバックライト装置の上に重ね置いて、液晶表示装置を組み直した。背景を黒表示及び青表示させ、正面方向からの色ムラと輝度ムラを目視により観察した。なお、表 1中の「〇」は、「色ムラがない」又は「輝度ムラがない」ことを意味する。

[0102] 実施例 3 (長尺のグリッド偏光フィルム 3の製造）

8mm X 8mm X 60mmの SUS製シャンクにろう付けされた寸法 0.2mm X lmm X lmmの直方体単結晶ダイヤモンドの 0.2mm X lmmの面に、集束イオンビーム加工装置（セイコーインスツルメンッ (株）、 SMI3050)を用いてアルゴンイオンビームを用いた集束イオンビーム加工を行って、長さ lmmの辺に平行な幅 50nm、高さ 60nm の溝をピッチ 130nmで彫り込み、幅 80nm、高さ 60nmの直線状の突起をピッチ 13 Onmで形成してなる切削工具を作製した。

直径 80mmで長さ 125mmの円筒形状ステンレス鋼 SUS430製ロールの周面全面に、厚さ 100 mのニッケル-リン無電解メツキを施し、次いで、先に作製した直線状突起を形成した切削工具と、精密円筒研削盤 (スチューダ社、精密円筒研削機 S30 - 1)を用いて、ニッケル-リン無電解メツキ面に、円筒の円周端面と平行な方向に幅 5 Onm、高さ 60nm、ピッチ 130nmの直線状の突起を切削加工することにより、転写口ール 2を得た。

[0103] なお、集束イオンビームカ卩ェによる切削工具の作製と、ニッケル-リン無電解メツキ面の切削加工は、温度 20.0±0.2°C、振動制御システム ((株)昭和サイエンス）により 0.5Hz以上の振動の変位が 10 μ m以下に管理された恒温低振動室内で行った。転写ロールとして上記転写ロール 2を用いた他は、実施例 1と同様にして転写することにより、フィルム表面に幅 50nm、高さ 60nmのほぼ平行な複数列の凹部をピッチ (凹部の間隔） 130nmで形成した。

次に、スパッタリング装置を用いて、前記フィルムの凹部側の面に、ァノレミニゥムを厚み 30nmで積層した。以上のようにして、図 10に示すような長尺のグリッド偏光フィルム 3を作製した。また、作製したグリッド偏光フィルムの各寸法等を表 2に示す。

[0104] [表 2] 表 2

[0105] 得られた長尺のグリッド偏光フィルムを所定形状に打ち抜いて枚葉のグリッド偏光フイルムを得た。このグリッド偏光フィルムに対して、光源、偏光作成用偏光板、上記グリツド偏光フィルム、光検出器の順に光路上に配列した分光光度計（日本分光株式会社製）を用いて、このグリッド偏光フィルムに、波長 430nm、 530nm、 630nmの偏光を照射して、その性能を評価した。各測定波長における薄膜層の複素屈折率等を表 3に示す。また、このグリッド偏光フィルムにおいて、最も透過しやすい偏光である、溝の長手方向に垂直な方向に振動する光の透過率 (偏光透過率）と、最も透過しにくい偏光である、溝の長手方向に平行な方向に振動する光の透過率とを測定し、これらの比であるコントラストを求めた。偏光透過率およびコントラストの結果を表 3に示す。 [0106] [表 3] 表 3

[0107] 各測定波長におけるグリッド偏光フィルムの各部の複素屈折率測定については、同様の材質で平板フィルム形状のものを別途用意し、分光エリプソメーター Ci. A.ウーラム社製)を用いて測定したものを用いた。

また、グリッド偏光フィルムの形状測定については、グリッド偏光フィルムの一部分を断面が出るように薄壁状に集束イオンビーム (FIB)加工し、透過型電子顕微鏡 (TE M)で形状を測定した。 10周期分について、溝の形状やアルミニウム膜厚をそれぞれ測定し、その平均値を測定値とした。

[0108] 実施例 4 (長尺のグリッド偏光フィルム 4の製造）

実施例 3と同様の方法にて、図 11に示すようなグリッド偏光フィルムを作製し、同様に評価した。このグリッド偏光フィルムは、実施例 3のグリッド偏光フィルムとは溝の形状が相違し、溝の断面形状が逆等脚台形状である。このようなグリッド偏光フィルムの各寸法等を表 4に示す。また、その評価結果を表 5に示す。

[0109] [表 4] 表 4

[0110] [表 5] 表 5

実施例 3及び 4に示すように、上記（1)〜 (4)の各条件を満足することにより、偏光透過率およびコントラストの値が十分に大きぐ偏光透過率およびコントラストの点に優れていることがわ力る。

Claims

請求の範囲 [1] 長尺の榭脂フィルムと、該榭脂フィルムの表面及び Z又は内部に設けられた互いに略平行に伸びる複数のグリッド線とを有し、該グリッド線は複素屈折率 (N =η -ϊκ )の実部 nと虚部 κ の差の絶対値が 1. 0以上の材料 G力もなる、長尺のグリッド偏光フィルム。 [2] 前記榭脂フィルムは、その表面に互いに略平行に伸びた複数列の溝が形成されており、前記グリッド線は、溝の底面上、及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、積層された材料 Gの薄膜からなる、請求項 1に記載の長尺のグリッド偏光フィルム。 [3] 表面に互いに略平行に伸びた複数列の溝が形成された透明で長尺の榭脂フィルムと、溝の底面上、及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、積層された複素屈折率 (N =η -ίκ )の実部 ηと虚部 κ の差の絶対値が 1. 0以上の材料 Gからなる薄膜とを有し、前記榭脂フィルムの溝の幅 t、隣接する溝間の間隔 d、溝の側壁の斜度 Θ、溝の深さ h、底面及び Z又は頂面に積層された薄膜の膜厚 h、真空中における波長が λ0 1 0 である光に対する榭脂フィルムの複素屈折率 Ν (=η -ικ )、及び真空中における 0 0 0 波長が λ である光に対する材料 Gの複素屈折率 Ν (=η -ικ ； n ≥2. 5又は κ ≥1. 5)が、

(1) -0. 1 δ < (h -h )；但し、 δ = λ /(2π²η ²κ )^1/2

0 1 0 1 1

(2) 60° ≤ θ≤90° ；但し、 ζは溝深さ方向の距離； θ (ζ)は距離 ζにおける溝深さ方向に直交する方向に対する側面の傾斜角度； θ = ^^ 0 {z)dz · · · · (A)

o

(3) d< λ Ζη 、及び

0 0

(4) 0. ld<t<0. 8d の関係を満たす長尺のグリッド偏光フィルム。

[4] 前記薄膜が溝の側面上にさらに形成されて、る請求項 3に記載のグリッド偏光フィノレム。

[5] 前記薄膜が、溝の底面及び側面並びに畝の頂面の上に繋がって形成されている請求項 3に記載のグリッド偏光フィルム。

[6] 前記グリッド線が、前記長尺の榭脂フィルムの長手方向に略平行に延設されており

、偏光透過軸の方向がフィルムの幅方向に略平行である、請求項 1または 2に記載の長尺のグリッド偏光フィルム。

[7] 前記榭脂フィルムは、榭脂フィルムの幅方向及び長手方向にお!、て、波長 550nm での面内のレターデーシヨン値 (Re)のばらつきが ± 10nm以内であり且つ光軸のばらつきが ± 15° 以内である、請求項 1〜6のいずれかに記載のグリッド偏光フィルム。

[8] 前記榭脂フィルムは、温度 60°C及び相対湿度 90%の環境下に 500時間放置したときの線膨張率が 0. 03%以下である請求項 1〜7のいずれかに記載のグリッド偏光フイノレム。

[9] 表裏面のうちの少なくとも一方の面にさらに透明保護膜が積層されてなる請求項 1 〜8の!、ずれかに記載のグリッド偏光フィルム。

[10] 転写型又は転写ロールを用、て長尺の榭脂フィルム表面に互いに略平行に伸びた複数列の溝を形成し、次いで、該溝の底面上及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、複素屈折率 (N =η -ί κ )の実部 ηと虚部 κ の差の絶対値が 1. 0 以上の材料 G力もなる薄膜を積層することによってグリッド線を形成する、請求項 1に記載の長尺のグリッド偏光フィルムの製造方法。

[11] 真空中における波長が λ である光に対する複素屈折率 Ν (=η -ϊ κ )の透明な

0 0 0 0 榭脂フィルム表面に、溝の幅 t、隣接する溝間の間隔 d、溝の側壁の斜度 Θ、溝の深さ hが、

0

(1) -0. 1 δ < (h -h )；但し、 δ = λ / (2 π ²η ² κ ) ^1/2

0 1 0 1 1

(2) 60° ≤ θ≤90° ；但し、 ζは溝深さ方向の距離； θ (ζ)は距離 ζにおける溝深さ方向に直交する方向に対する側面の傾斜角度； Θ = 丄。 6> ( ζ ) · · · · ( Α)

(3) d< λ Ζη 、及び

0 0

(4) 0. ld<t< 0. 8d

の関係を満たすように、互いに略平行に伸びた複数列の溝をエンボスカ卩工法によつて形成し、

溝の底面上及び Z又は隣接する溝間に在る畝の頂面上に、真空中における波長がえである光に対する複素屈折率 N (=η -ί κ ； η≥2. 5又は κ ≥1. 5)の材料 G力なる薄膜を膜厚 hで積層する、請求項 3に記載のグリッド偏光フィルムの製造方法。

[12] 請求項 1〜9のいずれかに記載の長尺のグリッド偏光フィルムと、他の長尺の偏光光学フィルムとを含んでなる長尺の光学積層体。

[13] 前記他の長尺の偏光光学フィルムが吸収型偏光フィルムである請求項 12に記載の長尺の光学積層体。

[14] ロール状に巻かれた請求項 1〜9のいずれかに記載の長尺のグリッド偏光フィルムと、ロール状に巻かれた他の長尺の偏光光学フィルムとを、それぞれのロールから繰り出しながら、該グリッド偏光フィルムと該他の偏光光学フィルムとを密着させて積層することを含む、長尺の光学積層体の製造方法。

[15] 請求項 1〜9のいずれかに記載の長尺のグリッド偏光フィルム力切り出された光学部材を備える液晶表示装置。