WO2004005371A1

WO2004005371A1 - 光学記録媒体

Info

Publication number: WO2004005371A1
Application number: PCT/JP2002/006952
Authority: WO
Inventors: Kazuhiko Koya; Hironobu Kato; Koki Ikeda
Original assignee: Teijin Chemicals, Ltd.
Priority date: 2002-07-09
Filing date: 2002-07-09
Publication date: 2004-01-15
Also published as: JPWO2004005371A1; EP1518880A4; EP1518880A1; US20040241375A1; EP1518880B1; DE60229888D1; US6875489B2; WO2004005371A8

Description

明細書光学記録媒体発明の詳細な説明

発明の属する技術分野

本発明'は、光学的情報記録媒体、より具体的には表面記録再生のための光学情報記録媒体に関する。

従来の技術

通常の CD、 CD— ROMなどの光ディスク（これらを "CDディスク" と略称する）においては、 1 . 2 mm厚の透明基板の一方の面上に記録データに応じたエンボスピットが形成され、さらにその上にアルミニウム（A 1 ) などからなる反射膜が形成されている。こうした CDディスクに記録された情報は、反射膜が設けられた面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより再生される。

これに対して、より記録密度が高密度化された DVDや D VD— ROMデイスク（これらを "DVDディスク" と略称する）においては、 0. 6 mm厚の透明基板の一方の面上に C Dディスクの場合よりも微細なェンボスピットが形成され、さらにその上に A 1などからなる反射膜が形成されている。こうした DVDディスクの記録面に記録された情報の再生は、 CDディスクの場合と同様に反射膜が形成されている面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより行われる。

0. 6 mm厚の基板の材料としては、透明な樹脂材料である P C (ポリ力一ポネート）が一般的に使用されている。 0. 6 mm厚の P C基板では、機械的特性が十分ではなく、そのままでは基板が反ってしまうため、記録面が内側となるよう 2枚の 0 . 6 mmP C基板を貼り合わせて、合計厚さ 1 . 2 mmのディスクとして機械的特性を確保している。

なお、 DVDディスクの基板厚が 0. 6 mmとなったのは、チルトマージンを確保するためである。トラックピッチ、ピット密度がより詰まるとディスクの傾き、いわゆるチルトのマージンが減少してしまう。 1. 2mm力ら 0. 6 mmへと基板厚を小さくすることによって、チルトマージンは確保することができるが、 ■ 機械的強度の低下は避けられない。

そこで、基板を薄くして機械的強度を確保するため、ディスクの中央部を厚くすることにより機械的強度を確保することが提案されている（特開平 9— 204 686号公報)。しかしながら機械的強度を確保するためには、信号記録領域の基板厚さは 0. 6mmが限界であった。また、透明基板の厚さを 0. lmm〜0. 6 mmとすることが報告されている（特開平 9— 204688号公報）が、記録膜を保持する保護基板の厚さ、反射膜の膜厚等については言及されておらず、実施するうえでは間題であった。

ところが近年になって、新しい方式の光学記録媒体が種々提案されている。 '例えば、米国特許第 5972459号明細書（特開平 11— 7658号公報）には、 "熱可塑性樹脂からなり、 0. 3〜1. 2mm—の厚さの支持体と、上記支持体上に案内溝と、該案内溝上に、順に、少なくとも反射膜と、相変化型記録膜とからなる記録領域を有し、少なくとも上記記録領域において、 3〜 177 mの厚さの透明保護層が形成されて成り、上記透明保護層の、厚さムラを Δ ΐとしたときに、再生、もしくは記録再生する光学系の開口数（Ν. Α.) および波長（λ) との間に、

Δ t≤5. 26 (λ/Ν. A. ⁴) ( m) (N. A. は開口数）の関係を満たすことを特徴とする光学記録媒体"が提案され、透明保護層の厚さと、その厚さむらの関係を規定することにより、大容量化が可能な光記録媒体が提供されるとしている。

そして一つの例として、記憶容量 8 GBの高密度を達成するための光学記録媒体に必要な条件をまとめ、次のように示されている。すなわち、記録再生光学系が λ≤0. 68 imかつ Ν. A. /λ≤1. 20をみたし、かつ、記録領域内で透明保護層の厚さ t = 3〜 177 xm、透明保護層の厚さむらは、

△ t≤±5. 26 (λ/Ν. A. ⁴) ( m) トラックピッチ P≤0. 64 ( m)

公差 ΔΡ≤±0. 04Ρ (βΐώ

線密度 d≤0. 1 161/Ρ (um/b i t)

ディスクスキュー Θ≤84. 115Χ (λ/Ν. A. Vt)

偏心 Ε≤67. 57 P ( m)

表面粗さ Ra≤±3 λ/100 (スポット照射領域内）

というものである。

また、米国特許第 6159572号明細書（特開平 11— 296904号公報）には、片面記録方式として、 "エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側である第 1の表面と、この第 1の表面に対向する第 2の表面との 2つの面により表面が構成され、前記第 1の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変ィ匕に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の記録面から前記第 1の表面までの距離は、前記基板の厚さより小さく前記第 1の表面は平滑であることを特徴とする情報記録媒体"が提案されている。また両面記録方式として "エンボスピットまたは案内溝が設けられ、対向する第 1および第 2の記録面を有する基板と、この基板の前記第 1および第 2の記録面にそれぞれ形成された第 1および第 2の反射膜と、この第 1および第 2の反射膜の上にそれぞれ形成された第 1および第 2の保護膜とを具備し、前記第 1の保護膜が形成された側である第 1の表面と、前記第 2の保護膜が形成された側である第 2の表面との 2つの面により表面が構成され、前記第 1の表面側および第 2の表面側から、それぞれ光ビームを照射してその反射光の光強度変ィ匕に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であつて、前記基板の第 1の記録面から前記第 1の表面までの距離、および前記基板の第 2の記録面から前記第 2の表面までの距離は、 bX/ (4n) 以上 0. 6m m以下（λは光ビームの波長であり、 ηは前記波長 λの光の前記第 1または第 2 の保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは 0. 6mm以上 1. 2m m以下であり、前記第 1の表面から第 2の表面までの距離は 1. 2 mm以下であることを特徴とする情報記録媒体"が提案されている。

これらは記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度とを確保しうる情報記録媒体を提供することを目的としている。

ところでこれらの提案の記録媒体においては基板を構成する材料については特別な考慮は払われておらず、例えば前記米国特許第 6 1 5 9 5 7 2号明細書には、基板材料として、例えばポリメチルメタクリレート（PMMA) のようなアタリル樹脂、ポリカーボネー卜樹脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ガラス、 A 1などの金属、合金、およびセラミック等が挙げられている。

しかし、前述した記録媒体の構成では、下記①〜④の理由により、スキュー（S KEW) の発生を回避することは困難である。

①射出時:キヤビティー内を樹脂が流動する際にせん断応力による応力の発生 (分子配向歪)。

②充填完了：樹脂がキヤビティーに充填されたときスクリユーの運動の急激な停止と共に樹脂の流動が急激に停止し觀旨とスク Uユーの慣性力がすべて基板にかかる。

③保圧：射出時の樹脂がゲートシールされるまで删旨の逆流防止と体積収縮によるヒケ等の防止のために榭脂に圧力をかけているため基板全体に圧力分布が発生する。

④冷却：熱収縮により温度分布にしたがった応力が発生する。

そのため、特開平 1 1— 2 4 2 8 2 9号公報では、その改良として、

"基板上に少なくとも記録層と透明保護層とが順次形成されており、当該透明保護層側から光が入射されて情報信号の記録および Zまたは再生が行われる光記録媒体であって、上記基板は、上記記録層が形成される側の面を形成する第 1の樹脂層と、上記第 1の樹脂層に積層され、上記第 1の樹脂層を形成する樹脂材料より'も曲げ弾性率の大きい樹脂材料からなる第 2の樹脂層とを備えることを特徴とする光記録媒体"が提案されている。

一方、上記改良により機械特性の課題を解決しても片面信号の光記録媒体では温度湿度の環境変化における吸湿によりディスクに変形が生じる。 D VDディスクの場合は通常の吸水率 0 · 3 %以上のポリ力一ポネ一ト基板を使用しているが 0. 6 mmディスクを信号側を内側に背中合わせに貼り合せているため、 P及水率が大きくても吸水パランスが取れ変形を起こしにくく、問題になることはなかった。し力 ^し、高 N. A. (開口率）の高密度ディスクでは表層の片側に信号があるために吸水バランスが異なり、 P及水変形を起こす問題が生じている。特にドライブ運転中は機内温度が高く湿度も低いところから急激な変化がおこりやすくディスクの変形により信号が読み出せない等のフォーカスエラーを起こしゃすい。

このような吸水変形を抑えるために、米国特許第 6 2 0 1 7 8 3号明細書（特開 2 0 0 0— 1 1 4 4 9号公報）では、 "基板と、この基板に配置されて情報信号を記録するための記録層とその記録層に積層される透明保護層を有し、透明保護層側から光を入射することで情報信号の記録 Z再生を行うディスク状の情報記録媒体であり、この基板は、樹脂製のコア層と、コア層に一体になつており、一方の面に記録層側の情報信号の凸凹が存在し、コア層に比べて流動性を有する樹脂製の表層とから構成されていることを特徴とする情報記録媒体。"であって、基板の表層樹脂として吸水率が 0 . 3 %以下の樹脂を用いることが提案されており、 2色成形、サンドィツチ成形による複雑な基板構成で問題を解決する方向が示されている。

発明が解決しょうとする課題

本発明者らは、前記のごとき従来技術の動向に鑑み、複雑な構成にすることなく、単純な構成の上記形式の光学記録媒体の基板を提供することを目的とし、鋭意研究し、本発明に到達した。

課題を解決するための手段

本発明者らの研究によれば、前記本発明の目的は、熱可塑性樹脂からなる、ェンポ'スピットまたは案内溝が設けられた 0 . 3〜2 . 0 mm厚さの基板、該基板上に設けられた反射層およびその上に設けられた厚さ 3〜2 0 0 mの透明保護層を有し、その透明保護層の表面側から光ビ一ムを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、当該基板は、 ( i) 1， 1—ビス（4ーヒドロキシフエニル）一 3, 3, 5—トリメチルシク口へキサンおよび 9， 9一ビス（4ーヒドロキシー 3—メチルフエニル）フルォレンよりなる群から選ばれた少なくとも 1種の芳香族ジヒドロキシ化合物を全ジヒドロキシ化合物に対して少なくとも 20モル％含むジヒドロキシ化合物をビスフエノール成分として重合された芳香族ポリカーボネ一ト樹脂を 50重量％以上含有する熱可塑性樹脂より形成されていること、より一般的には当該基板は、

(i i) 下記（1) 〜（4) の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されていることを特徴とする光学記録媒体によって達成される。

(1) 曲げ弾性率が 24， 000 kg fZcm²以上

(2) 飽和吸水率が 0. 33重量％以下

(3) 荷重たわみ温度が 125 C以上かつ

(4) 損失正接（t an が 0. 006以上、

前記本発明の光学記録媒体は、 3〜 200 mの透明保護層の表面側から光ビームを照射して記録媒体を記録再生する光学記録媒体であって、大容量の情報を記録再生することが可能であり、短波長レーザー（例えば波長 405ナノメートルの青紫色半導体レーザー）を用いる光学記録媒体に適用することができる。このような光学記録媒体は、従来の CDや DVDと区別して、ブル—レイ 'デイスク（B l u— r ay D i s c) と称されたりもしている。

図面の簡単な説明

図 1

本発明に適用する光学記録媒体の一例におけるディスク面の垂直断面の部分的模式図を示す。

図 2

本発明に適用する光学記録媒体の他の一例におけるディスク面の垂直断面の部分的模式図を示す。

図 3

本発明に適用する光学記録媒体の他の一例におけるディスク面の垂直断面の部分的模式図を示す。図 4

環境変化によって生じる光ディスクの中心から 5 8 mm部における T i 1 t経時変化を安定時を基準として示したものである。

発明の実施の形態

以下、本発明の光学記録媒体の具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図 1〜3は、いずれも本発明の光学記録媒体の一例を示すディスク面における垂直の断面の部分的模式図である。なお、本発明で提案する光学記録媒体の構成はここに挙げた例に限定されるものではない。

本発明を適用した光学記録媒体 1は、図 1に示すように、案内溝を有する基板 2上に光反射層 3、記録層 4および透明保護層 5が順次積層形成されてなるものである。基板 2には、その上部表面にデータ情報やトラッキングサーポ信号等の記録がなされる位相ピットゃ、プリグループ等の微細な凸凹等の所定の凸凹パタ —ンからなる案内溝が形成されている。

また、光学記録媒体 2は、図 2に示すように；案内溝を有する基板 2上に記録膜あるいは反射層と、透明保護層が複数積層された多層構造であることを特徴としており、さらに、光学記録媒体 3では、図 3に示すようにエンボスピットまたは案内溝が基板 2の両面に設けられ、該反射層および透明保護層も共に両面に順次積層形成することを特徴としている。なお、これら光学記録媒体（光ディスク）を構成する基板、光反射層、記録層、透明保護層には同一もしくは類似の特性を持つ材料が使用可能である。

以下本発明の光学記録媒体（以下"光ディスク" と略称することがある。）を構成する基板についてさらに詳細に説明する。

基板 2は、厚さが 0. 3〜2. 0 mm、好ましくは 0. 5〜1. 1 mmである。ちなみに透明保護層は厚みが 3〜2 0 0 m、好ましくは 1 0〜1 2 0 mであつて.、基板と透明保護層を合計した厚みは、図 1に示す光学記録媒体の場合、実用的には約 1 . 2 mmである。

基板 2に用いられる熱可塑成樹脂の曲げ弾性率は 2 4， 0 0 0 k g f / c m² 以上であることが好ましく、より好ましくは 2 6， 0 0 0 k g f Z c m²以上であり、 27， 00 Okg cm²以上であることが最も好ましい。曲げ弾性率が 24, 000 kg f Zcm²より小さと、成形された光ディスクが高速回転する際に起こる面振れが大きくなり、高密度の記憶容量を要する光ディスクとして好ましくない。曲げ弾性率は、成形性が保持できれば高い程好ましい。通常は 37， 000 kg iZcm²以下、好ましくは 35, 000 k g ί Zc m²以下である。

本発明における熱可塑性樹脂は、さらに 23 X：の純水に浸漬した場合の飽和吸水率が 0. 33重量％以下であることが好ましい。さらに好ましくは 0. 30重量％以下である。殊に飽和吸水率が 0. 27重量％以下であることが最も好ましい。飽和吸水率が 0. 33重量％を超えると、吸湿および脱湿過程における光デイスクの反り変形が生じやすくなり、フォーカスエラーやトラッキングエラ一を起こしやすくなるので好ましくない。

光ディスクの吸湿および脱湿過程における反り変形に関しては以下の測定法を用いた。すなわち、.ディスクを温度 30 、湿度 90%RHの環境下（A環境）に飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度 23°C、湿度 50%RH環境（B環境）に移した時に生じる中心から 58mm部のチルト（Ti l t) 変化を経時的に測定し、チルト（T i l t) 変ィ匕の最大値と定常に達したときの値の差（ΔΤ i 1 t) を比較したものである。このときのディスクの ΔΤ i 1 tは 0. 6度以下、好ましくは 0. 5度以下である。

また、本発明における熱可塑性樹脂は、 AS TM D— 648に従って、 1. 82 MP aにて測定した荷重たわみ温度 (HDT) が、 125 °C以上であることが、好ましく、 127 以上であることがより好ましく、 129°C以上がさらに好ましい。荷重たわみ温度が低くなると、ディスクとしての耐熱性が不足する。荷重たわみ温度は、通常の射出成形に適用する場合、一般的には 150°C以下、好ましくは 140°C以下である。

さらに、該熱可塑性樹脂は、 I SO 6721— 4に準じて 40°C、 18Hz にて測定した損失正接（t an δ)の値が 0. 006以上であることが好ましく、より好ましくは 0. 008以上であり、 0. 01以上であることが最も好ましい。損失正接（ t a n (5 ) が 0 . 0 0 6より小さいと該樹脂の制振性が小さくなり、成形された光ディスクが高速回転する際に起こる面振れが大きくなるため好ましくない。損失正接（t a n S ) の上限は一般的には 0 . 0 8以下、通常 0 . 0 7 - 以下である。

本発明のディスク基板は、高密度の記録容量を対象としているため、樹脂は成形時の案内溝（グループ）への転写率が高いことが要求される。後述する測定法に従って樹脂は、転写率は 9 5 %以上、好ましくは 9 8 %以上であるのが適当である。

また、本発明の光学記録媒体は、透明保護層 5側から光を入射させて情報信号の記録および Zまたは再生が行われるため、基板 2は光学的な記録および Zまたは再生特性に影響を与えることがなく、透明性を特に必要としない。大きく屈折率が異なった 2種以上の樹脂のブレンド材料は光散乱によりヘイズ（H a z e ) が生じるため、従来の光学特性を必要とする C D、 D VD等の基板材料として使用することは容易ではなかったが、上述したよ""うに本発明の基板 2には、大きく屈折率が異なつた 2種以上の樹脂のプレンド材料でも用いることが可能である。次にかかる熱可塑性樹脂の例を挙げる。しかし、本発明における基板を'形成する熱可塑性樹脂はその特性が前記（1 ) 〜（4) を満足する限り、以下の例に限定するものではない。

本発明における熱可塑性樹脂としては、吸水率が低く、かつ制振性および曲げ弾性率が良好で、ディスク材料として良好な耐熱性を有する樹脂を主成分とする前記特性を満たす樹脂であればよい。このような熱可塑性樹脂の例としてはポリカーポネ一ト樹脂、非晶性ポリ環状ォレフィン類および水添ポリスチレンなどから選ぶことができるが、特にポリ力一ポネート樹脂を主成分とする熱可塑性樹脂から選ぶのが好ましい。

上記ポリカーボネート樹脂は、通常芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート結合前駆体とを例えば溶液法または溶融法等で重合させて得られるものである。ここで使用される芳香族ジヒドロキシ化合物は、上記の条件を満たすことができるならば、どのような化合物でも差し支えないが、例えば、 2 , 2—ビス（3— メチルー 4ーヒドロキシフエニル）プロパン、 1， 1—ビス（4—ヒドロキシフェニル）シクロへキサン、 1， 1—ビス（4ーヒドロキシフエニル） - 3 , 3， 5—トリメチルシクロへキサン、 9， 9—ビス（3—メチル一4ーヒドロキシフェニル）フルオレンまたは， ' —ビス ( 4—ヒドロキシフエニル) m—ジィソプロピルベンゼンが好ましい。なお、前記 a , ' —ビス（4—ヒドロキシフェニル） m—ジイソプロピルベンゼンは、下記化学構造式により表される化合物である。

ポリカーボネート樹脂は、前記した芳香族ジヒドロキシ化合物を、単独で用いたホモポリカーボネートであってもよく、また 2種以上を使用したコポリカーボネートであってもよい。さらに前記した芳香族ジヒドロキシ化合物に、他のジヒドロキシ化合物を組合せたコポリカーボネードであってもよい。他のジヒドロキシ化合物の例としては 2， 2—ビス（4—ヒドロキシフエニル）プロパン（ビスフエノール A) が挙げられる。ちなみにビスフエノール Aの単独によるポリ力一ポネート樹脂は、本発明の前記（1 ) 〜（4 ) の特性の全てを満足する樹脂には該当しない。またポリ力一ポネート榭脂は単独であっても 2種以上のブレンド物であってもよい。

好ましい樹脂組成物は、 1， 1—ビス（4—ヒドロキシフエニル） - 3 , 3 , 5—トリメチルシクロへキサン（a— l成分）および 9， 9一ビス（4—ヒドロキシ— 3—メチルフエニル）フルオレン（a— 2成分）よりなる群から選ばれた少なくとも 1種の芳香族ジヒドロキシ化合物（A成分）を全ジヒドロキシ化合物に対して、少なくとも 2 0モル％含むジヒドロキシ化合物をビスフエノール成分として重合された芳香族ポリカーボネート樹脂を 5 0重量％以上含有する熱可塑性樹脂である。

さらに好ましい熱可塑性樹脂の具体例を挙げれば、 1， 1一ビス（4—ヒドロキシフエニル）一 3 , 3， 5—トリメチルシクロへキサンおよび Zまたは 9， 9 —ビス（4ーヒドロキシ一 3—メチルフエニル）フルオレンと α, α'—ビス（4 —ヒドロキシフエニル） m—ジイソプロピルベンゼンとを 20 ： 80〜70 ： 3 0、好ましくは 40 ： 60〜70 ： 30のモル比で含むビスフエノール成分を力ーボネート前駆体と反応させて得られる共重合ポリカーボネート樹脂、またはそれらのプレンドカーポネ一ト組成物が挙げられる。

また、その共重合ポリ力一ポネート樹脂を 50重量％以上含有する他の樹脂 (好ましくは他のポリ力ーポネート樹 Ji旨）とのプレンド物が挙げられる。

前記ポリカーボネート樹脂は、そのポリマ一 0.7 gを 1 0 Omlの塩化メチレンに溶解し、 20°Cで測定した比粘度が 0. 2〜0. 5のものが好ましく、 0. 25〜0. 4の範囲のものがより好ましい。比粘度が 0. 2未満では成形品が脆くなり、 0. 5より高くなると溶融流動性が悪く、成形不良を生じ、光学的に良好な成形品が得難くなる。

本発明の熱可塑性樹脂には、熱安定剤としてリン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択された少なくとも 1種のリン化合物を配合することができる。これらのリン化合物は縮合物であってもよい。このリン化合物を配合することにより、かかる光ディスク用樹脂の熱安定 f生が向上し、成形時における分子量の低下や色相の悪化が防止される。

かかる熱安定剤の配合量は、該熱可塑性樹脂に対して 0. 000 1〜0. 0 5 重量％であり、 0. 0005〜0. 02重量％が好ましく、 0. 00 1〜0. 0 1重量％が特に好ましい。

本発明の熱可塑性樹脂には、酸化防止の目的で通常知られた酸ィ匕防止剤を添加することができる。その例としてはフエノール系酸化防止剤を示すことができる。これら酸化防止剤の好ましい添加量の範囲は該熱可塑性樹脂に対して、 0. 00 0 1〜0. 05重量％である。

さもに本発明の熱可塑性樹脂には、必要に応じて一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを加えることもできる。この一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを配合することにより、前記熱可塑性樹脂の成形時の金型からの離型性が改良され、ディスク基板の成形においては、離型荷重が少なく離型不良によるディスク基板の変形、ピットずれを防止できる。また、該熱可塑性樹脂の溶融流動性が改善される利点もある。

かかるアルコールと高級脂肪酸とのエステルの配合量は、該熱可塑性樹脂に対して 0 . 0 1〜2重量％であり、 0. 0 1 5〜0 . 5重量％が好ましく、 0 . 0 2 〜0 . 2重量％がより好ましい。

本発明の光ディスク基板用の樹脂には、さらに他の熱可塑性樹脂、光安定剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤などの添加剤を、転写性、並びに成形したディスクの吸湿および脱湿過程における反りの低減効果を損わない範囲で加えることができる。

本発明の樹脂組成物の調製において、ポリカーボネート樹脂同士の混合およびノまたは他の樹脂との混合は、ポリマ一溶液、粉粒体またはペレット等の成形品の各段階での実施が考えられるが、特に制限するものではない。また混合の方法については、ポリマ一溶液の段階では、例えば、攪拌機付き容器が主として考えられ、また、粉粒体、ペレット等の成形品の段階では、例えばタンブラ一、 V型プレンダー、ナウ夕一ミキサー、バンバリ一ミキサー、混練ロールまたは押出機などで混合する方法が用いられる。いずれの場合も任意の方法が採用でき、特に制限はないが、混合操作中の異物混入に対する除去方法の簡便さからポリマー溶液状態での混合後、適切な目開きのフィルターを通過させる方法が好ましい。ポリ力一ポネート棚皆および他の樹脂を溶液にて混合する場合は、ポリ力一ポネート樹脂並びに他の樹脂が共に可溶な溶媒を用いることが好ましい。この場合、溶液状態において濾過処理を行い未反応成分等の不純物や異物を除去することが好ましい。さらに射出成形に供するためのペレツト状樹脂組成物を得る押出工程

(ペレツ卜化工程）では溶融状態のときに濾過精度 5 0 以下の焼結金属フィルター等を通すなどして異物を除去することが好ましい。必要により、例えばリン系等の酸化防止剤などの添加剤を加えることも好ましい。いずれにしても射出成形前の原料樹脂は異物、不純物、溶媒などの含有量を極力低くしておくことが必要である。

次に光ディスクの成形方法について説明する。上記光ディスク基板用樹脂より光ディスク基板を製造する場合には光記録媒体に必要なスペックを満たすピッチおよびグループ、並びに表面精度を実現したスタンパが装着された射出成形機（射出圧縮成形機を含む）を用い、射出成形法にて作成する。この時ディスク基板の厚さは 0. 3〜2. 0mmとする。この射出成形機としては一般的に使用されているものでよいが、炭化物の発生を抑制しデイスク基板の信頼性を高める観点からシリンダーゃスクリユーと棚旨との付着性が低く、力つ耐食性、耐摩耗性を有する材料を使用してなるものを用いるのが好ましい。成形工程での環境は、本発明の目的から考えて、可能な限りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の分解を招くような滞留を起こさないように配慮することも重要となる。

本発明における光ディスク基板用樹脂は、射出成形または射出圧縮成形の際に、転写性の良好となる十分な流動性を有していることが好ましい。

本発明の光ディスク基板は、その片面に少な—くとも反射膜を形成させることにより光ディスクとなる。この材料としては、金属元素を単独で、あるいは複合させて用いることができる。そのうち A 1および Auを単独で使用するか、もしくは 0. 5重量％以上 10重量％以下、特に好ましくは 3. 0重量％以上 10重量％以下の T iを含有する A 1合金、 0. 5重量％以上 10重量％以下の Crを含有する A 1合金を使用するのが好ましい。また該反射膜は、イオンビームスパッタ法、 DCスパッ夕法または RFスパッタ法などの手段で形成することができる。この金属薄膜（反射層）だけでもよいが、さらにこの他に、記録層 4 (DVD -RAM, DVD— Rの場合は相変化膜、染料が挙げられ、光磁気ディスクの場合は光磁気記録膜が挙げられる）および透明保護層 5が形成されて本発明の光デイスクとすることができる。

か'かる相変化膜記録材料層としては、例えば単体のカルコゲンやカルコゲン化合物が用いられる。具体的には、 T e、 S eの各単体、 Ge-Sb-Te, Ge -Te, I n— Sb— Te， I n-S e-Te-Ag, I n-S e, I n-S e -T 1 -Co, I n-S b-S e, B i ₂Te₃, B i Se， Sb₂S e₃, S b₂ T e ₃等のカルコゲナイト系材料が使用される。

また、光磁気記録膜層には、 T b— F e— C o等の非晶質合金薄膜等の、力一効果ゃファラデー効果等の磁気光学特性を有する垂直磁化膜等が用いられる。透明保護層 5は記録層 4上に形成される。この透明保護層 5は、レーザー光を透過させる材料よりなり、かかる材料としては、例えば、ポリ力一ポネートや非晶性ポリ環状ォレフィン系樹脂などの熱可塑性樹脂や、各種熱硬化性樹脂等が挙げられる。

透明保護層を形成する手段は、例えば、記録層 4上にポリ力一ポネートゃ非晶性ポリ環状ォレフィン系樹脂などの熱可塑性樹脂からなるシートゃガラス板等の透明版を貼り合わせる方法、また紫外線硬化樹脂をスピンコート等の手法によつて塗布し、紫外線照射することによって形成する方法が挙げられる。さらにこの透明保護層はコマ収差をかなり小さく抑えるために、 3〜2 0 0 mの厚さに制限される。

透明保護層は、本発明の基板の熱可塑性樹脂—と同じ特性（1 ) 〜（4) を満足する透明な脂より形成されていることが好ましく、基板の樹脂と同じ樹脂で形成されているのが特に好ましい。

以上が本発明の光学記録媒体（光ディスク）の基本的構成例であるが、この構成に加えて誘電体層を設けて、光学的特性や熱的特性を制御してもよい。この場合、基板 2上に光反射層 3、第一の誘電体層、記録層 4、第 2の誘電体層、透明保護層 5を j噴次、形成することができる。実施例

以下に実施例を挙げて本発明をさらに説明する。なお実施例中の部は重量部である。なお、評価は下記の方法に従った。 '

( 1 荷重たわみ温度

A S TM D— 6 4 8に従つて、荷重 1 . 8 2 M P aにて測定した。

( 2 ) 飽和吸水率

1 . 2 mm厚さのシート 6 gを 2 3 °Cの純水に浸漬し、 2 0日後における重量の変化率を測定した。

(3) 曲げ弾性率

ペレツトを 120°Cで 5時間乾燥した後、射出成形機 [住友重機（株）製 SG — 150] により、シリンダー温度 340 °Cで射出成形した試験片を用い、 AS TM D-0790に従つて測定した。

(4) 標準ディスクの製法

グループ ·デプス 40 n m、グループ ·ピッチ 0. 6 mのスタンパーを装備した、名機製作所（株）製 M35B— D— DMを用いて各ペレットから 12 Om πιφ、 1. 2 mm厚みのディスク基板を射出成形した。表 1に各基板の成形条件 (高転写率を与える条件に設定）を示した。その後、射出成形により得られたデイスク基板に順に下記構成の反射膜、誘電体層 1、相変化記録膜、誘電体層 2をスパッタ蒸着させ、その上にポリカーボネート製薄膜カバ一層を貼り合わせることで目的の光ディスクを得た。

反射膜 : 100 nmの Ag · P t · Pd · Cu—合金（Vn ax i s社製 TTT4 0 - A) 層

誘電体層 1 : 15 nmの Z n S · S i O ₂層

相変化記録膜： 15nmの GeSbTe層

誘電体層 2 ： 40 nmの ZnS · S i〇₂層

カバー層： 20 mのイソシァネート架橋アクリル系粘着剤を付与した 80 rn のポリカーボネート（帝人化成（株）製 C— 1400) 層

(5) 初期機械特性

ディスク 10枚を互いに接触しないようスぺーサーを挟んだ状態で、温度 2 3°C、湿度 50 %RH環境に 2日間以上放置した。熱収縮および環境変ィ匕に対する T i 1 tの変化が安定した時点でジャパン，ィ一 ·ェム（株）製 3次元形状測定器' DLD—3000Uにより T i 1 t (初期ディスク形状）の評価を行い、初期機械特性とした。値は 10枚のディスクの平均値である。

(6) 転写率

上記（4) 初期機械特性の測定のために作成した各基板の、半径 58mmの場所のグループ ·デプス（d) をセイコー ·エプソン製 AFM— 380 ONを用いて測定し、下記式より転写率を求める。転写率（％) X 100

(7) ΔΤ i 1 t

初期機械特性を評価したディスクを温度 30° (：、湿度 90%RHの環境下 (A 環境）に飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度 23で、湿度 50%RH環境 (B環境）に移した。

移動後、環境変化によって生じる中心から 58mm部の T i 1 t変化をジャパン 'ィー 'ェム（株）製 3次元形状測定器 DLD— 3000Uにより経時的に測定し、 T i 1 t変化が最大に達した値および定常に達した値の差を ΔΤ i 1 tとした。

(8) 損失正接 (t a )

I SO 6721— 4に準じ、レオメトリツ -タス社製 RDAIIを用いて 40。C、 18Hzにて測定した。

実施例 1

温度計、攪拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水 929. 2部、 48% 水酸化ナトリウム水溶液 61. 3部を入れ、 1， 1—ビス（4—ヒドロキシフエニル） —3， 3, 5—トリメチルシクロへキサン（成分 a— 1) 43. 9部、ひ， ' 一ビス（4—ヒドロキシフエニル） m—ジイソプロピルベンゼン（成分 a— 2) 43. 6部およびハイドロサルファイト 0. 17部を溶解した後、 p— t e r t一ブチルフエノール 1. 51部と塩化メチレン 637. 9部を加えトリェチルァミン 0. 09部を添加した後攪拌下 15〜25°Cでホスゲン 32. 4部を 4 0分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、 48%水酸化ナトリウム水溶液 ·15. 6部を加え、 28〜 33 で 1時間攪拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がィォン交換水と殆ど同じになったところで、軸受部に異物取り出し口を有する隔離室を設けたニーダ一にて塩化メチレンを蒸発して、成分 a— 1と成分 a— 2の比がモル比で 53 : 47の比粘度が 0. 27である無色のポリマー 86. 4部を得た（収率 97%)。

このポリ力一ポネート樹微粒体にトリスノニルフエニルフォスフェ一トを 0 · 005%、トリメチルフォスフェートを 0. 003%、ステアリン酸モノグリセリドを 0. 030%加えて、ベント付き φ 3 Omm二軸押出機を用いて、ペレツト化した後、名機製作所（株）製 M35— D— DMを用いて 12 Οπιπιφ、 0. 6mm厚みのディスク基板に射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスク製法に基づき光ディスクを製造した。このディスクの初期機械特性および△ Ti 1 t並びに損失正接を評価した。評価結果およぴ境変化によって生じる中心から 58mm部の Ti 1 t変ィ匕（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表 1および図 4に示す。

実施例 2

温度計、攪拌機、還流冷却器およびホスゲン吹き込み管を備えた反応器にィォン交換水 32， 165部、水酸化ナトリウム 1: 757部を入れ、 9, 9—ビス ( 3—メチルー 4—ヒドロキシフエニル) フルオレン（成分 a— 3) 2, 213 部および α，ひ， —ビス（4ーヒドロキシフエニル） m—ジイソプロピルべンゼン（成分 a— 4) 3, 039部およびハイドロサルファイト 11部を溶解した後、塩化メチレン 10, 950部を加え、攪拌下 16〜 18 °Cでホスゲン 1， 667 部を 60分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、 p— t e r t—プチルフエノール 92部と水酸化ナトリウム 293部を加え、さらにトリェチルアミン 4部を加えて 30°Cで 1時間攪拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がィオン交換水と殆ど同じになったところで、ニーダ一にて塩化メチレンを蒸発して、成分 a— 3と成分 a— 4の比がモル比で 40： 60である白色粉粒体 5, 550 部を得た（収率 96%)。この粉粒体の比粘度は 0. 245、二次転移温度 (Tg) は 143°Cであった。

この樹脂粉粒体にトリスノニルフエニルフォスフェートを 0. 005%、トリメチルフォスフエ一トを 0. 003%、ステアリン酸モノグリセリドを 0. 03 0%加えて、ベント付き φ 30mm二軸押出機を用いて、ペレット化した後、名機製作所（株）製 M35 B— D— DMを用いて 120mmd>、 1. 2mm厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて、標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性および ΔΤ i 1 t並びに損失正接を評価した。評価結果および境変化によって生じる中心から 58mm部の T i 1 t変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表 1および図 4に示す。

実施例 3

(A) ビスフエノール Aからのポリカーボネート単独重合体（ポリマー A) の合成；

温度計、攪拌機および還流冷却器付き反応器にイオン交換水 11， 057部、

48 %水酸化ナトリゥム水溶液 1, 560部を仕込み、これにビスフエノール A 2， 134部およびハイドロサルファイト 2. 1部を溶解した後、塩化メチレン 6， 445部を加え、攪拌下 15〜2 Otでホスゲン 1， 005部を 60分要して吹込んだ。ホスゲン吹込み終了後 ρ— t e p"t—プチルフエノ一ル 92部および 48 %水酸化ナトリゥム水溶液 830部を加え、攪拌して乳化させた後トリエチルァミン 0. 09部を加え、 28~33°Cで 1時間攪拌して反応を終了した。反応終了後生成物溶液を多孔板付遠心抽出機 [(株）日立製作所製ウルトレックス EP-02]にてイオン交換水流量 1， 000 m 1 分、反応生成物溶液流量 1，

500mlノ分、回転数 3, 500 r pmの条件で遠心分離した後、塩化メチレン相を塩酸酸性にし、さらに同様の条件で遠心分離操作を繰返し、 7j相の導電率がィオン交換水と殆ど同じになったところで、軸受部に異物取出口を有する隔離室を設けたニーダ一により塩化メチレンを蒸発して、粉粒状の無色のポリ力一ポネート樹脂 2, 400部（収率 92%) を得た。

(B) ポリカーボネート共重合体（ポリマ一 B) の合成；

温度計、攪拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水 929. 2部、 48% 水酸化ナトリウム水溶液 61. 3部を入れ、 1， 1—ビス（4ーヒドロキシフエニル）一3, 3， 5—トリメチルシクロへキサン（成分 a— 1) 43. 9部、ひ， ' —ビス（4ーヒドロキシフエニル） m—ジイソプロピルベンゼン（成分 a— 2) 43. 6部およびハイドロサルファイト 0. 17部を溶解した後、 p— t e r t一ブチルフエノール 1. 51部と塩化メチレン 637. 9部を加えトリェチルァミン 0. 09部を添加した後攪拌下 15〜25°Cでホスゲン 32. 4部を 4 0分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、 48%水酸化ナトリウム水溶液 15. 6部を加え、 28〜 33°Cで 1時間攪拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がィオン交換水と殆ど同じになったところで、軸受部に異物取り出し口を有する隔離室を設けたニーダ一にて塩化メチレンを蒸発して、成分 a— 1と成分 a— 2の比がモル比で 53 : 47の比粘度が 0. 27である無色のポリマ一 86. 4部を得た（収率 97%)

(C) 樹脂組成物の調製

(A) で合成したビスフエノール Aの単独重合体（ポリマー A) の塩化メチレン溶液と（B) で合成したポリマー Bの共重合体の塩化メチレン溶液とを溶液中のポリマー重量比（ポリマー A：ポリマー B)」が 80 : 20となるようにそれぞれ攙拌機付容器に投入した後、攪拌して混合した。混合後、目開き 0. 3 zmのフィルターを通過させた後、軸受部に異物取出口を有する隔離室を設けたニーダ —にこの混合溶液を投入して塩化メチレンを蒸発することにより該ポリカ一ポネ ―ト榭脂粉粒体を得た。

この樹脂粉粒体にトリスノニルフエニルフォスフエ一トを 0. 005%、トリメチルフォスフェートを 0. 003%、ステアリン酸モノグリセリドを 0. 03 0%加えて、ベント付き φ 30mm二軸押出機を用いて、ペレット化した後、名機製作所（株）製 M35 B— D— DMを用いて 120mm<i)、 1. 2mm厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性および ΔΤ i 1 t並びに損失正接を評価した。評価結果および環境変化によって生じる中心から 58mm部の T i 1 t変化 (安定時を基準として図示した）をそれぞれ表 1および図 4に示す。

実施例 4

実施例 3の（A) で合成したビスフエノール Aの単独重合体（ポリマー A) の塩化メチレン溶液と、（ B )で合成したポリマ一 Bの共重合体の塩化メチレン溶液とを溶液中のポリマー重量比（ポリマー A：ポリマー B) が 60： 40となるようにそれぞれ攪拌機付容器に投入した後、攪拌して混合した。混合後、目開き 0. 3 tmのフィルターを通過させた後、軸受部に異物取出口を有する隔離室を設けたニーダ一にこの混合溶液を投入して塩化メチレンを蒸発することにより該ポリカーボネート測皆粉粒体を得た。

この樹脂粉粒体にトリスノニルフエニルフォスフェートを 0. 005%、トリメチ Jレフォスフェートを 0. 003%、ステアリン酸モノグリセリドを 0. 03 0%加えて、ベント付き φ 3 Omm二軸押出機を用いて、ペレット化した後、名機製作所（株）製 M35B— D— DMを用いて 12 Οπιπιφ、 1. 2mm厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性および ΔΤ i 1 t並びに損失正接を評価した。評価結果および境変化によって生じる中心から 58mm部の Ti 1 t変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表 1お—よび図 4に示す。

実施例 5

(成分 a— 1) を 38. 9部、（成分 a— 2) を 49. 1部とする以外は実施例 1と同様にして、（成分 a— 1) / (成分 a— 2) =47/53 (モル比）の無色ポリマー 87. 5部（収率 98%) を得た。

実施例 1と同様に光ディスクを作成し、各特性を評価したが、実施例 1と同等であった。

比較例 1

ロームアンドハースジャパン製のポリメチルメタクリレート (VLD- 100) を名機製作所（株）製 M35B— D— DMを用いて 12 Omm(i)、 1. 2 mm厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスク.を製造した。このディスクの初期機械特性および ΔΤ i 1 t並びに損失正接を評価した。評価結果および境変ィ匕によって生じる中心から 58 mm部の T i 1 t変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表 1および図 4に示す。比較例 2 ェ一'アンド ·ェムスチレン（株）製のポリスチレン（HF77) を名機製作所（株）製 M35B— D— DMを用いて 120πιπιφ、 1. 2mm厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性および ΔΤ i 1 t並びに損失正接を評価した。評価結果および境変化によって生じる中心から 58mm部の T i 1 t変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表 1および図 4に示す。

比較例 3

ビスフエノール Aの単独重合体として、帝人化成（株）製のポリカーボネート樹脂（パンライト AD— 5503 (ペレツト））を使用し、名機製作所（株）製 M 35B— D— DMを用いて 12 Οπιπιφ、 1. 2 mm厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性および厶 Ti 1 t並びに損失正接を評価した。評価結果を表 1に示す。

シリンダ温度型締め力金型温度荷重たわみ曲げ弾性率

CC) (トン） (°C) 温度（） (k g f / cm²)

実施例 1 125 130 28000

実施例 2 120 130 32000

実施例 3 119 127 25100

実施例 4 320 . 32 118 127 26100

比較例 1 81 89 37000

比較例 2 80 89 30000

比較例 3 120 127 23900

t 飽和吸水率初期機械特性 △ T i l t t an δ fe 率

(重量％) (度） ¹ < (度） C%)

実施例 1 0.21 0.20 0.37 0.014 100

実施例 2 0.25 0.20 0.46 0.039 100

実施例 3 0.32 0.30 0.59 0.007 100

実施例 4 0.30 0.35 0.53 0.009 100

比較例 1 2.00 0.36 5.00以上 0.078 100

比較例 2 0.05 0.35 0.01以下 0.015 100

比較例 3 0.35 0.7 0.006 100

表 1に示すように、実施例 1〜4に示した樹脂および実施例 5の樹脂は飽和吸水率を 0 . 3 3重量％以下であり、荷重たわみ温度が 1 2 5 °C以上であり、 AT i 1 tを 1 . 0以下に抑えることが可能となった。また、曲げ弾性率および損失正接（t a n S ) も十分に大きいため、成形された光ディスクが高速回転する際に起こる面振れは小さく抑えることが可能であった。

比較例 1の P MMAは飽和吸水率が 2 . 0 %と高いため、 AT i 1 tは 5 . 0 以上と非常に大きくなり、実用上、適さないことがわかった。また、比較例 2のポリスチレンは吸水率が低いため、 ΔΤ ί 1 tは非常に小さく抑えることができたが、ガラス転移点（T g ) が低いため、ディスク基板としての耐熱性が不足する結果となった。

比較例 3のポリカーボネート樹脂は、飽和吸水率が 0 . 3 5 %とやや高く、また曲げ弾性率がやや不足しているので光ディスク基板の特性として十分満足すベきものではなく、殊にチルト角の最大変化値 (ΔΤ i 1 t ) が 0. 7 ° であるのは、記録の読み取りに支障を来す恐れを有して—いる。また比較例 3の基板は転写率が低く、基板としての成形特性が不満足である。

発明の効果

本発明の光学記録媒体は、基板上に、順に、少なくとも反射膜、記録層および透明保護層とが形成され、透明保護層側から光が照射されて情報記号の記録および/または再生が行われる光ディスクを対象としている。この光ディスクにおいて、直径 1 2 c mのディスク片面で 1 5 GBを越える記録容量を持つものも開発されているが、本発明の光ディスク基板は複雑な構成にすることなく、これらのものにも十分にすることが可能である。

Claims

請求の範囲

1. 熱可塑性樹脂からなる、エンボスピットまたは案内溝が設けられた 0. 3〜

2. 0mm厚さの基板、該基板上に設けられた反射層およびその反射層上に設けられた厚さ 3〜200 の透明保護層を有し、その透明保護層の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、該基板は、 1， 1-ビス（4—ヒドロキシフエ二ル）一 3， 3， 5—トリメチルシクロへキサン（a— 1成分）および 9， 9—ビス（4—ヒドロキシ _ 3—メチルフエニル）フルオレン（a— 2成分）よりなる群から選ばれた少なくとも 1種の芳香族ジヒドロキシ化合物（A成分）を全ジヒドロキシ化合物に対して少なくとも 20モル％含むジヒドロキシ化合物をビスフエノール成分として重合された芳香族ポリカーボネート樹脂を 50重量％以上含有する熱可塑性樹脂より形成していることを特徴とする光学記録媒体。 2. 該基板は、 1， 1一ビス（4—ヒドロキシフエニル）一3， 3, 5—トリメチルシクロへキサン（a—l成分）および 9, 9一ビス（4ーヒドロキシ一 3— メチルフエニル）フルオレン（a— 2成分）よりなる群から選ばれた少なくとも 1種の芳香族ジヒドロキシ化合物（A成分）および， a' —ビス（4—ヒドロキシフエニル） m—ジイソプロピルベンゼン（B成分）を A成分： B成分 =20 ： 80〜70 ： 30のモル比で含むジヒドロキシ化合物をビスフエノール成分として重合された芳香族ポリ力一ポネート樹脂を 50重量％以上含有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。

3. 該基板は、曲げ弾性率が 24, O O O kg fZc m²以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。 .

4. 該基板は、飽和吸水率が 0. 33重量％以下を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。

5. 該基板は、荷重たわみ温度が 125°C以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。

6. 該基板は、損失正接（t anS) が 0. 006以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。

7. 該基板は、転写率が 95%以上の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。

8. 該基板は、チルト角の最大変化値 (ΔΤ i 1 t) が 0. 6° 以下の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。

9. 該基板は、 2種以上の熱可塑性樹脂のプレンド物より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。

10. 該透明保護層は、該基板を形成する熱可塑性樹脂と同じ熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1記載の光学記録媒体。 11. 該反射層と該透明保護層との間に記録層を有する請求項 1記載の光学記録媒体。

1 . 該反射層あるいは記録層が複層積層されている多層構造である請求項 11 記載の光学記録媒体。

-

13. 熱可塑性樹脂からなる、エンボスピットまたは案内溝が設けられた 0. 3 〜2. 0mm厚さの基板、該基板上に設けられた反射層およびその反射層上に設けられた厚さ 3〜200 mの透明保護層を有し、その透明保護層の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、該基板は下記（1) 〜（4) の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されていることを特徴とする光学記録媒体。

(1) 曲げ弾性率 24, OOOkgfノ cm²以上

(2) 飽和吸水率が 0. 33重量％以下

(3) 荷重たわみ温度が 125°C以上かつ

(4) 損失正接（t an が 0. 006以上

14. 該基板は、曲げ弾性率が 26, 000 kg f /c m²以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 13記載の光学記録媒体。

15. 該基板は、飽和吸水率が 0. 30重量％以下を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 13記載の光学記録媒体。

16. 該基板は、荷重たわみ温度が 127 °C以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 13記載の光学記録媒体。

17. 該基板は、損失正接（t an δ) が 0. 008以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項 13記載の光学記録媒体。

18. 該基板は、転写率が 95%以上の特性を有する熱可塑性榭脂より形成されている請求項 13記載の光学記録媒体。

19. 該基板は、チルト角の最大変化値 (ΔΤ i 1 t) が 0. 6°以下の特性を有す'る熱可塑性樹脂より形成されている請求項 13記載の光学記録媒体。

20. 該基板は、芳香族ポリ力一ポネート樹脂より形成されている請求項 13記載の光学記録媒体。

2 1 . 該基板は、 2種以上の熱可塑性樹脂のブレンド物より形成されている請求項 1 3記載の光学記録媒体。

2 2. 該透明保護層は、請求項 1 3記載の熱可塑性樹脂の特性（1 ) 〜（4) を満足しかつ透明な熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1 3記載の光学記録媒体。

2 3 . 該透明保護層は、該基板を形成する熱可塑性樹脂と同じ熱可塑性樹脂より形成されている請求項 1 3記載の光学記録媒体。

2 4. 該反射層と該透明保護層との間に記録層を有する請求項 1 3記載の光学記録媒体。

2 5 . 該反射層あるいは記録層が複層積層されている多層構造である請求項 2 4 記載の光学記録媒体。