TWI646383B - 雙鏡頭照相系統 - Google Patents

Abstract

一種雙鏡頭照相系統，包括沿一長軸方向排列之一第一鏡頭驅動模組及一第二鏡頭驅動模組，第一、第二鏡頭驅動模組分別包括一鏡頭承載座、至少一磁性元件以及一驅動板，其中前述鏡頭承載座用以容置一鏡頭，前述驅動板具有至少一第一驅動線圈，用以與磁性元件之間產生一電磁驅動力，以驅使鏡頭承載座與鏡頭沿著垂直於鏡頭之光軸的方向移動。在第一、第二鏡頭驅動模組中相互平行且彼此相鄰的兩側邊上，前述磁性元件的結構配置不相同。

Description

雙鏡頭照相系統

本發明係關於一種雙鏡頭照相系統；特別係關於一種可透過電磁驅動力(electromagnetic force)移動鏡頭之雙鏡頭照相系統。

在現有的雙鏡頭照相系統中，兩鏡頭驅動模組(lens driving module)之位置通常相當靠近，因此設置在不同鏡頭驅動模組內的磁鐵容易產生磁干擾(magnetic interference)，並導致會隨著活動部移動之鏡頭的對焦速度及準確度受到影響。有鑑於此，如何設計可防止不同鏡頭驅動模組之間產生磁干擾的雙鏡頭照相系統始成為一重要之課題。

有鑑於前述習知問題點，本發明之一目的在於提供一種雙鏡頭照相系統，其可減少兩鏡頭驅動模組中的磁性元件所產生之磁干擾，藉此以改善雙鏡頭照相系統中之鏡頭的對焦速度及定位精度。

本發明一實施例提供一種雙鏡頭照相系統，包括沿一長軸方向排列之一第一鏡頭驅動模組及一第二鏡頭驅動模組，第一、第二鏡頭驅動模組分別包括一鏡頭承載座、至 少一磁性元件以及一驅動板，其中前述鏡頭承載座用以容置一鏡頭，前述驅動板具有至少一第一驅動線圈，用以與磁性元件之間產生一電磁驅動力，以驅使鏡頭承載座與鏡頭沿著垂直於鏡頭之光軸的方向移動。在第一、第二鏡頭驅動模組中相互平行且彼此相鄰的兩側邊上，前述磁性元件的結構配置不相同。

為讓本發明之上述和其它目的、特徵、和優點能更明顯易懂，下文特舉出較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

1‧‧‧雙鏡頭照相系統

2‧‧‧鏡頭驅動模組

10‧‧‧頂殼

10A‧‧‧頂壁

10B‧‧‧側壁

12‧‧‧頂殼開孔

20‧‧‧底座

20A‧‧‧底壁

22‧‧‧底座開孔

30‧‧‧鏡頭承載座

32‧‧‧貫穿孔

40‧‧‧驅動線圈(第二驅動線圈)

50‧‧‧框架

50A‧‧‧框邊

52‧‧‧開口

60‧‧‧驅動磁鐵

70‧‧‧上簧片

72‧‧‧下簧片

74‧‧‧懸吊線

80‧‧‧電路基板

90‧‧‧驅動板

92‧‧‧磁場感測元件

C‧‧‧中線

D‧‧‧間距

F‧‧‧外殼

M、M1、M2‧‧‧磁性元件

O‧‧‧光軸

R‧‧‧凹槽

S‧‧‧屏蔽件

第1圖顯示根據本發明一實施例之雙鏡頭照相系統之立體示意圖。

第2圖顯示第1圖中之一個鏡頭驅動模組之***圖。

第3圖顯示沿第1圖中A-A’線段之剖視圖。

第4圖顯示根據本發明一實施例之雙鏡頭照相系統中之磁性元件結構配置示意圖。

第5A圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件結構配置平面示意圖。

第5B圖顯示第5A圖中之磁性元件M1的磁極方向(N-S)示意圖。

第6圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件結構配置平面示意圖。

第7圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件結構配置平面示意圖。

第8圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件結構配置平面示意圖。

第9圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件結構配置平面示意圖。

第10圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件結構配置平面示意圖。

第11圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件結構配置平面示意圖。

第12圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件結構配置平面示意圖。

第13圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件外側設有屏蔽件之立體示意圖。

第14圖顯示根據本發明另一實施例之屏蔽件形成有凹槽之立體示意圖。

以下說明本發明實施例之雙鏡頭照相系統。然而，可輕易了解本發明實施例提供許多合適的發明概念而可實施於廣泛的各種特定背景。所揭示的特定實施例僅僅用於說明以特定方法使用本發明，並非用以侷限本發明的範圍。

除非另外定義，在此使用的全部用語(包括技術 及科學用語)具有與此篇揭露所屬之一般技藝者所通常理解的相同涵義。能理解的是這些用語，例如在通常使用的字典中定義的用語，應被解讀成具有一與相關技術及本揭露的背景或上下文一致的意思，而不應以一理想化或過度正式的方式解讀，除非在此特別定義。

請先參照第1圖至第3圖，其中第1圖顯示根據本發明一實施例之雙鏡頭照相系統1之立體示意圖，第2圖顯示第1圖中之一個鏡頭驅動模組2之***圖，第3圖顯示沿第1圖中A-A’線段之剖視圖。應先說明的是，在本實施例中，雙鏡頭照相系統1之兩個鏡頭驅動模組2可沿一長軸方向(X軸方向)並排配置於手機或平板電腦等手持式數位產品中，且兩個鏡頭驅動模組2例如為具有相同規格並具備光學防手震(OIS)功能的音圈馬達(VCM)，但本發明不以此為限。在一些實施例中，雙鏡頭照相系統1之兩個鏡頭驅動模組2亦可具有不同規格，並可具備自動對焦(AF)及光學防手震(OIS)功能。

如第1圖至第3圖所示，在本實施例中，每一鏡頭驅動模組2主要包括有一頂殼10、一底座20、一鏡頭承載座30、一驅動線圈40、一框架50、四個驅動磁鐵60(磁性元件)、一上簧片70、一下簧片72、四個懸吊線74、一電路基板80、一驅動板90、及兩個磁場感測元件92。

前述頂殼10具有一中空結構，且其與底座20可相互結合而構成鏡頭驅動模組2之一外殼F，其中頂殼10構成外殼F之頂壁10A與四個側壁10B，且底座20構成外殼F之底壁20A。應了解的是，頂殼10及底座20上分別形成有一頂殼開孔 12及一底座開孔22，頂殼開孔12的中心對應於一鏡頭(圖未示)之光軸O，底座開孔22則對應於一設置在鏡頭驅動模組2之外的影像感測元件(圖未示)；據此，設置於鏡頭驅動模組2中之前述鏡頭可在光軸O方向與影像感測元件進行對焦。

前述框架50具有一開口52以及四個框邊50A，其中框邊50A分別對應於外殼F之四個側壁10B。四個驅動磁鐵60可固定於四個框邊50A上。於一些實施例中，四個驅動磁鐵60亦可固定於框架50之四個角落，且驅動磁鐵60的形狀可為長條形或三角形。

前述鏡頭承載座30具有一中空環狀結構，並具有一貫穿孔32，其中貫穿孔32與前述鏡頭之間配置有對應鎖合的螺牙結構(圖未示)，可令鏡頭鎖固於貫穿孔32內，前述驅動線圈40(第二驅動線圈)則捲繞於鏡頭承載座30之外周面。

在本實施例中，鏡頭承載座30及其內之鏡頭係活動地(movably)設置於框架50內。更具體而言，鏡頭承載座30可藉由金屬材質的上簧片70及下簧片72懸吊於框架50的中心。當一電流被施加至前述驅動線圈40時，可透過和驅動磁鐵60的磁場產生作用，並產生一電磁驅動力(electromagnetic force)以驅使鏡頭承載座30和前述鏡頭相對於框架沿Z軸方向移動。舉例而言，前述四個驅動磁鐵60(磁性元件)中可包含至少一個多極磁鐵(multipole magnet)，用以和驅動線圈40感應以驅使鏡頭承載座30和前述鏡頭沿光軸O方向移動以進行對焦。

應瞭解的是，上、下簧片70(彈性元件)及72(彈性 元件)的外周部分別連接於框架50之上、下兩側，且其內周部則分別連接於鏡頭承載座30之上、下兩側，以使鏡頭承載座30能以懸吊的方式彈性地設置於框架50內(即，鏡頭承載座30活動地連接框架50)。

此外，前述電路基板80例如為一可撓性印刷電路板(FPC)，其可透過黏著方式固定於底座20上。於本實施例中，電路基板80係電性連接設置於鏡頭驅動模組2外部的一驅動單元(未圖示)，用以執行自動對焦(AF)及光學防手震(OIS)等功能。

前述四個懸吊線74之一端固定於電路基板80，另一端則連接上簧片70，藉以將框架50連同設置於其內的鏡頭承載座30和鏡頭懸吊於外殼F內和底座20上(即，框架50活動地連接底座20)，其中前述懸吊線74之材質例如可包括金屬。

前述驅動板90例如為一印刷電路板，其內部設有四個第一驅動線圈(圖未示)，分別對應於四個驅動磁鐵60的位置(其中兩個第一驅動線圈可平行於X軸方向，且另兩個第一驅動線圈可平行於Y軸方向)，驅動板90可透過黏著方式固定於電路基板80上。

應瞭解的是，電路基板80上設有用以傳送電訊號至驅動線圈40及驅動板90之第一驅動線圈的配線(圖未示)，且電路基板上之配線係可透過懸吊線74及上簧片70而電性連接至驅動線圈40，藉此可控制鏡頭承載座30在光軸O方向上的移動。

在本實施例中，於底座20之不同側邊上分別安裝 有和電路基板80電性連接之一磁場感測元件92，其例如為霍爾感測器(Hall effect sensor)、磁敏電阻感測器(MR sensor)、或磁通量感測器(Fluxgate)等，藉此可用以感測框架50上的(參考)磁性元件以得知框架50和鏡頭承載座30相對於底座20在X軸方向及Y軸方向上的位置偏移量(即，磁場感測元件92與框架50上位置對應的參考磁性元件組成一位置感測組件)。

需特別說明的是，前述電路基板80可產生並提供電訊號至前述驅動板90之該些第一驅動線圈，並藉由第一驅動線圈與框架50上之驅動磁鐵60之間所產生的電磁驅動力，驅使框架50沿著垂直於光軸O方向(平行於XY平面)移動來補償前述位置偏移，進而實現光學防手震(OIS)的功能。

請繼續參照第3圖，在雙鏡頭照相系統1中，由於兩鏡頭驅動模組2之位置係相當靠近，故兩鏡頭驅動模組2中相互鄰近的兩個驅動磁鐵60之間容易產生磁干擾(magnetic interference)，進而可能使鏡頭的對焦速度及定位精度受到影響。

第4圖顯示本發明一實施例之(從鏡頭的光軸的方向觀察時)雙鏡頭照相系統中的磁性元件結構配置示意圖(為了簡明，以下各實施例僅繪示出兩鏡頭驅動模組的外殼F和磁性元件M以表達其彼此間的相對位置關係)。如第4圖所示，在前述雙鏡頭照相系統中，磁性元件M(對應於第2、3圖中之驅動磁鐵60)係具有相同的結構(例如皆為長條形磁鐵)，且其設置在不同外殼F中較靠近的兩個磁性元件M1、M2的結構配置係對稱於兩外殼F間之中線C。然而，為了降低前述磁 性元件M1、M2之間因距離較近所產生的磁干擾，可使磁性元件M1、M2採用多極磁鐵的方式以克服此問題，從而可確保鏡頭的對焦速度以及定位精度。

除此之外，本發明更可藉由使兩(矩形)鏡頭驅動模組中位置對應於兩外殼F之間相鄰的兩側壁之磁性元件M1及M2的結構配置不相同，以降低兩鏡頭驅動模組之相鄰的磁性元件M1及M2彼此間所產生的磁場影響，進而可改善雙鏡頭照相系統中兩鏡頭驅動模組間的磁干擾問題。

第5A圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件之結構配置平面示意圖(以下說明將圖中左側及右側之鏡頭驅動模組分別稱作第一及第二鏡頭驅動模組)。如第5A圖所示，在本實施例中，第二鏡頭驅動模組中的磁性元件M(包含磁性元件M2)係具有相同的結構(長條形磁鐵)，而第一鏡頭驅動模組中的各個磁性元件M(包含磁性元件M1)之結構配置則不盡相同。需特別說明的是，在第5A圖左側之第一鏡頭驅動模組中的磁性元件M1係包括至少2個間隔設置的短磁鐵，亦即其長度短於其他磁性元件M，且第一、第二鏡頭驅動模組中相鄰的兩側邊上之磁性元件M1及M2相對於其間的中線C而言，係採取不對稱之配置方式。

基於以上結構設計，如第5A圖所示，兩鏡頭驅動模組之相鄰的磁性元件M1及M2彼此間所產生的磁場影響可減弱，因而得以改善雙鏡頭照相系統中兩鏡頭驅動模組之間的磁干擾問題。應了解的是，前述磁性元件M1例如為一磁鐵(參考磁性元件)，其中藉由在前述底座20上設置磁場感測元件 92(如第2圖所示)，可用以分別偵測兩個磁性元件M1的磁場變化(即，參考磁性元件M1與磁場感測元件92組成一位置感測元件)，進而得知框架50於X軸方向及Y軸方向上的位移量；此外，如第5B圖中箭頭方向所示，由於本實施例中之磁性元件M1的磁極方向(N-S)係平行於光軸O(Z軸方向)，因此可降低其與第二鏡頭驅動模組中的磁性元件M2間所產生之磁干擾，另由於兩個磁性元件M1之間乃相隔一距離且偏離磁性元件M2的中心位置，更可進一步地降低磁性元件M1及M2彼此之間所產生的磁干擾。

第6圖顯示本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件之結構配置平面示意圖(以下說明將圖中左側及右側之鏡頭驅動模組分別稱作第一及第二鏡頭驅動模組)。本實施例與第5A圖中之磁性元件M(包含磁性元件M2)的配置方式不同，其中磁性元件M1、M2同樣為短磁鐵(長度短於其他磁性元件M)，且磁性元件M2與磁性元件M1呈錯位配置，亦即兩鏡頭驅動模組之相鄰兩側邊上的磁性元件M1及M2相對於其間的中線C而言，係採取不對稱之配置方式。舉例而言，磁性元件M1及M2從X軸方向觀察可彼此不重疊，且在本實施例中的磁性元件M1、M2之長度可為相同。

基於以上結構設計，如第6圖所示，兩鏡頭驅動模組之相鄰的磁性元件M1及M2彼此間所產生的磁場影響同樣可減弱，因而能改善雙鏡頭照相系統中兩鏡頭驅動模組之間的磁干擾問題，同時可有效減輕雙鏡頭照相系統的整體重量。

第7圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件之結構配置平面示意圖(以下說明將圖中左側及右側之鏡頭驅動模組分別稱作第一及第二鏡頭驅動模組)。如第7圖所示，本實施例與第6圖中實施例之差異在於：兩鏡頭驅動模組之相鄰的磁性元件M1及M2數量皆僅只有一個，且係呈錯位配置，亦即前述兩鏡頭驅動模組之相鄰兩側邊上的磁性元件M1及M2相對於其間的中線C而言，係採取不對稱之配置方式，其中在Y軸方向上更可形成一較大的間距D以減少彼此間的磁干擾。

應瞭解的是，雖然上述實施例中，兩鏡頭驅動模組之相鄰的磁性元件M1及M2數量僅為一個或兩個，但亦可包括三個以上，且兩鏡頭驅動模組之相鄰的磁性元件M1及M2數量亦可均為複數個，其中磁性元件M1及M2可透過錯位或不對稱排列之方式以降低彼此間的磁干擾。

第8圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件的結構配置平面示意圖(以下說明將圖中左側及右側之鏡頭驅動模組分別稱作第一及第二鏡頭驅動模組)。在本實施例中，位在第8圖右側之第二鏡頭驅動模組中的磁性元件M(包含磁性元件M2)係具有長條形結構，而位在第8圖左側之第一鏡頭驅動模組中的磁性元件M(包含磁性元件M1)則具有三角形結構。

應了解的是，第8圖左側之第一鏡頭驅動模組中的磁性元件M(包含磁性元件M1)係分別對應於外殼F的四個角落，而第8圖右側之第二鏡頭驅動模組中的磁性元件M(包含 磁性元件M2)則分別對應於外殼的四個側壁，因此兩鏡頭驅動模組之間相鄰的磁性元件M1及M2實質上也是呈錯位配置，亦即前述兩鏡頭驅動模組之相鄰兩側邊上的磁性元件M1及M2相對於其間的中線C而言，係採取不對稱之配置方式。於本實施例中，磁性元件M1及M2從X軸方向觀察係彼此不重疊。

基於以上結構設計，如第8圖所示，兩鏡頭驅動模組之相鄰的磁性元件M1及M2彼此之間所產生的磁場影響可減弱，因而得改善雙鏡頭照相系統中兩鏡頭驅動模組之間的磁干擾問題。

第9圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件的結構配置平面示意圖(以下說明將圖中左側及右側之鏡頭驅動模組分別稱作第一及第二鏡頭驅動模組)。在本實施例中，位在第9圖右側之第二鏡頭驅動模組具有四個對稱配置的長條形磁性元件M(包含磁性元件M2)，而第9圖左側的第一鏡頭驅動模組中與第二鏡頭驅動模組相鄰之一第一側邊F1上則未設有與前述磁性元件M2相對應之磁性元件，藉此可避免兩鏡頭驅動模組之間的磁干擾問題。

然而，為了克服在第一鏡頭驅動模組中因減少磁性元件M而產生驅動力不足的問題，如第10圖所示，可以增加在第一鏡頭驅動模組中設置於第二側邊F2上的磁性元件M之寬度、體積或重量，以提升第一鏡頭驅動模組的整體驅動力，其中位在在第二側邊F2上的磁性元件M可為一磁鐵，且前述第二側邊F2係相對於第一側邊F1。

又，為了避免第10圖左側的第一鏡頭驅動模組因 重量不平衡而導致其穩定性不佳，亦可在第一鏡頭驅動模組的第一側邊F1上設置一不具導磁性的配重塊W(如第11圖所示)，使其對應於該第二側邊F2上的磁性元件M，以保持該第一鏡頭驅動模組的整體重量平衡。

此外，如第12圖所示，於本實施例中係在第一鏡頭驅動模組的第一側邊F1上同時設置有磁性元件M1(例如磁鐵)以及前述磁場感測元件92，其中磁性元件M1係與第二鏡頭驅動模組中的磁性元件M2相鄰，惟磁性元件M1的長度較磁性元件M2更短，且其在Y軸方向上係介於兩個磁場感測元件92之間。應了解的是，於本實施例中係藉由減少磁性元件M1的長度以降低磁性元件M1、M2之間的磁干擾，同時更進一步利用磁性元件M1上、下方的剩餘空間以配置兩個磁場感測元件92，藉此可達到節省空間以及機構微型化之目的。

在本實施例中，藉由前述磁場感測元件92可偵測磁性元件M1的磁場變化，進而能得知磁性元件M1和框架50相對於底座20的位置偏移量，且從Z軸方向觀察，磁性元件M1與磁場感測元件92係相互不重疊。然而，也可僅在第一側邊F1上設置一個磁場感測元件92以及一磁性元件M1，如此同樣可藉由磁場感測元件92得知磁性元件M1和框架50相對於底座20的位置偏移量，以達到節省空間以及機構微型化之功效。

第13圖顯示根據本發明另一實施例之兩鏡頭驅動模組中的磁性元件之外側設有屏蔽件之立體示意圖。如第13圖所示，設置於前述兩鏡頭驅動模組中的活動部(即，第2、3圖中之框架50)上的磁性元件M(包括磁性元件M1及M2)之外 側可設有屏蔽件S(於本實施例中係包括兩個屏蔽件S)，其中每一屏蔽件S包括複數個屏蔽部分S1與一連接該些屏蔽部分S1的框架部分S2，其中屏蔽件S可固定於前述框架50上或與框架50為一體成型。需特別說明的是，由於屏蔽件S係具有導磁材質(例如鎳鐵合金)，其可用以導引並集中由磁性元件M所產生之磁力線分佈，從而可降低雙鏡頭照相系統中的兩鏡頭驅動模組之相鄰磁性元件M1及M2間的磁干擾。

再請參閱第14圖，於本實施例中，在前述屏蔽件S的框架部分S2上更形成有至少一凹槽R，其係分別位於磁性元件M1或M2之頂面，且對應於第一、第二鏡頭驅動模組中之鏡頭承載座30，當鏡頭承載座30因對焦或震動而相對於框架50沿Z軸方向朝下方移動時，鏡頭承載座30可進入凹槽R並抵接磁性元件M1或M2之頂面(擋止面)，以避免鏡頭承載座30碰撞到屏蔽件S並可限制鏡頭承載座30於一極限位置。如此一來，不僅可增加鏡頭承載座30在Z軸方向上的移動距離，且能有效減少第一、第二鏡頭驅動模組於Z軸方向上的厚度，進而可達到機構微型化之目的。

應瞭解的是，雖然在第13、14圖中之磁性元件M1及M2的結構配置類似於第6A圖之實施例，但其亦可採用如第5A、7~12圖所示之結構配置或者其他可利用且能減少兩鏡頭驅動模組之間的磁干擾的結構配置，只要屏蔽件S之屏蔽部分S1可罩設在磁性元件M1或M2之外側即可。另一方面，前述各實施例中之磁性元件M1、M2的磁極方向(N-S)可採取平行於Z軸方向(如第5B圖所示)之方式，或者其亦可採用多極磁 鐵，以進一步降低磁性元件M1及M2彼此之間所產生的磁干擾。

雖然本發明的實施例及其優點已揭露如上，但應該瞭解的是，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作更動、替代與潤飾。此外，本發明之保護範圍並未侷限於說明書內所述特定實施例中的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟，任何所屬技術領域中具有通常知識者可從本發明揭示內容中理解現行或未來所發展出的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟，只要可以在此處所述實施例中實施大抵相同功能或獲得大抵相同結果皆可根據本發明使用。因此，本發明之保護範圍包括上述製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟。另外，每一申請專利範圍構成個別的實施例，且本發明之保護範圍也包括各個申請專利範圍及實施例的組合。

雖然本發明以前述數個較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可做些許之更動與潤飾。因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。此外，每個申請專利範圍建構成一獨立的實施例，且各種申請專利範圍及實施例之組合皆介於本發明之範圍內。

Claims (10)

1. 一種雙鏡頭照相系統，包括沿一長軸方向排列之一第一鏡頭驅動模組及一第二鏡頭驅動模組，其中，該第一鏡頭驅動模組包括：一第一鏡頭承載座，用以容置一第一鏡頭；至少一第一磁性元件；以及至少一第一驅動線圈，用以與該第一磁性元件之間產生電磁驅動力，以驅使該第一鏡頭承載座與該第一鏡頭沿著一第一方向移動；以及該第二鏡頭驅動模組包括：一第二鏡頭承載座，用以容置一第二鏡頭；至少一第二磁性元件；以及至少一第二驅動線圈，用以與該第二磁性元件之間產生電磁驅動力，以驅使該第二鏡頭承載座與該第二鏡頭沿著不同於該第一方向之一第二方向移動；其中，該第一鏡頭驅動模組之一第一側邊與該第二鏡頭驅動模組之一第二側邊彼此相互平行且相鄰，且設置於該第一、第二側邊的該第一、第二磁性元件的結構配置不相同，且設置於該第一鏡頭驅動模組中與該第一側邊不同之一側邊的該第一磁性元件具有一長條形結構，沿著該長軸方向延伸。
2. 如申請專利範圍第1項所述的雙鏡頭照相系統，其中，該第一鏡頭驅動模組更包括一第一外殼，該第二鏡頭驅動模 組更包括一第二外殼，且該第一、第二外殼的部分設置於該第一、第二磁性元件之間。
3. 如申請專利範圍第1項所述的雙鏡頭照相系統，其中，該第二鏡頭驅動模組更包括：一框架，其中該第二鏡頭承載座活動地連接該框架；以及一底座，其中該框架活動地連接該底座，且該第二磁性元件設置於該框架上。
4. 如申請專利範圍第3項所述的雙鏡頭照相系統，其中，該第二鏡頭驅動模組更包括一彈性元件，彈性地連接該框架和該第二鏡頭承載座，且從垂直於該第二鏡頭之一光軸的一方向觀察時，該彈性元件與該框架部分地重疊。
5. 如申請專利範圍第4項所述的雙鏡頭照相系統，其中，該第二鏡頭驅動模組更包括複數個第二磁性元件，設置於該第二鏡頭承載座的周圍。
6. 如申請專利範圍第5項所述的雙鏡頭照相系統，其中，從該第二鏡頭之該光軸的一方向觀察時，該第二鏡頭驅動模組呈矩形，且該些第二磁性元件分別設置於該第二鏡頭驅動模組的角落。
7. 如申請專利範圍第1項所述的雙鏡頭照相系統，其中，設置於該第一鏡頭驅動模組中與該第一側邊相對之一側邊的該第一磁性元件具有一長條形結構，沿著與該長軸方向 不同之一方向延伸。
8. 如申請專利範圍第1項所述的雙鏡頭照相系統，其中，該第一側邊未設置有該第一磁性元件。
9. 如申請專利範圍第1項所述的雙鏡頭照相系統，更包括一位置感測組件，設置於該第一側邊或該第二側邊。
10. 如申請專利範圍第9項所述的雙鏡頭照相系統，其中，該位置感測組件包括一參考磁性元件以及一磁場感測元件。