TWI640550B - Secondary nonlinear optical epoxy resin oligomer, chromophore group, and method for producing crosslinked layered secondary nonlinear optical nano composite material containing the same - Google Patents

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Abstract

本發明提出一種二次非線性光學環氧樹酯寡聚物、發色基團及包含該寡聚物之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法，藉由酸化二次非線性光學環氧樹脂寡聚物複合材料，可將黏土完全脫層，並可應用於其他二維層狀材料之脫層化，並透過自組裝達到發色團基的非中心對稱，包括陽離子型水滑石、陰離子型矽酸鹽黏土與有機官能化之層狀石墨碳材等。交聯後的複合材料固定非中心對稱提升了熱穩定性。

Description

二次非線性光學環氧樹酯寡聚物、發色基團及包含該寡聚物之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法
本發明提出一種二次非線性光學環氧樹酯寡聚物、發色基團及包含該寡聚物之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法。雙環戊二烯(Dyclopentadiene，DCPD)為金剛烷的前驅物，共聚性良好，能夠提升材料的電氣與機械性質，增加材料的耐候與耐熱性，廣泛用於特用化學品。利用環戊二烯的衍生物降冰片烯，與環氧樹脂上的醇基反應生成帶有雙鍵的側鏈官能基，與帶有呋喃側鏈的環氧樹酯進行Diels-Alder交聯，固定二次非線性光學材料的非中心對稱，提升材料的熱穩定性。
非線性光學又稱強光光學，即是利用高功率雷射光在介質材料中傳播，電磁場與介質中的帶電離子發生作用；束縛較弱的價電子為強光電場所極化，其極化強度取決於介質的分子極化，極化使介質的離子電場分布發生變化，導致電偶極距不再光波場線性相關，造成光的相位、頻率、振幅的改變，變化的強度是入射強度的函數。利用具有不同非線性光學效應的材料可以製造出諸如調製、開關、儲存等各種進行光信息處理的重要元件，目前最常見的光電相位調變裝置就是利用二階非線性光學材料的電光效應(electro-optic；EO)設計而成。利用非線性光 學效應的光控制裝置，有光調變元件、光開關器等。材料二次非線性回應產生倍頻效應(SHG：Second Harmonic Generation)，顯示出電場一次方比例地折射率變化之波克斯效應(一次電光學效應)，即所謂電光效應(EO效應)材料。為符合非線性光學材料應用，材料的非線性光學效應佳，強制定向展現出非線性光學效應後必須固定，並且需要優異的高溫穩定性。
中華民國專利第200700461及200700462號，揭示由苯并雙噻唑化合物所衍生之新穎發色團以及具有良好熱穩定性之聚醯亞胺，將兩者結合而製得同時兼具熱穩定性及二次非線性光學特性。聚(苯并雙噻唑)[poly(benzobisthiazole)，PBT]雖具有不錯的二次非線性光學性質，但是一般有機溶劑中卻無法完全溶解，限制其應用。為了有效提昇溶解度以及維持良好的非線性光學性質，利用具有良好溶解度及加工性質之聚醯亞胺做為主鏈，且將一由苯并雙噻唑所衍生之發色團作為側鏈接枝於聚醯亞胺主鏈上，而藉此製得兼具熱穩定性及二次非線性光學性質之聚醯亞胺。中華民國專利第085111870號，提出一種新的方法來製備二次非線性光學高分子薄膜，此方法之特點為在單體蒸鍍聚合過程中共蒸鍍摻入具有該非線性光學效應之分子並同時極化，此法之優點在於該薄膜可在極低之極化場下製得，且無需繁複聚合程序，可方便製得無數多種可供裁選的(tailorable)薄膜。
中華民國專利第102127807號及第10211251號，提供一種可形成具優異非線性光學效果、耐熱性、絕緣耐壓及透明性之非線性光學材料的預聚物，含有該預聚物之硬化性材料，與溶劑之塗佈用組成物，使該硬化性材料硬化而成之非線性光學材料，使用該非線性光學材料之 光波導以及光波導之光控裝置。
有機化合物因其定向遲緩而使得其非線性光學效應降低。此缺點可經由其與有機插層改質劑(intercalating agent)之離子交換反應，允許單體之進出並將層間距由10Å增加至約20~30Å來改善。插層(intercalation)狀態係指層板間以固定距離之有序排列分散存在，即層與層之間***有機分子，並阻止層與層之間的作用力與再堆疊；脫層(exfoliation)狀態則指每單一層以不規則之距離及方向存在，通常可藉有機插層改質劑提高相當層間距增加無機層板與有機高分子之親和性後，再經由聚合反應、混煉加工或再分散機制而得到所謂的有機/無機高分子奈米複合材料。
非專利文獻(Macromol.Rapid Commun.,2008,29,587-592.；Polym.Adv.Technol.,2009,20,493-500.；ACS Applied Materials & Interfaces,2009,1,2371-2381,Polym.Chem.,2013,4,2747-2759)透過末端具有發色團基之規則樹枝狀分子(dendritic polymer)，並利用其獨特之末端官能基與蒙脫土(MMT)進行插層作用，產生一有機化改質黏土，再與聚亞醯胺混摻形成一奈米複合材料，透過樹枝狀結構束縛發色團基並與蒙脫土上的離子團基作用插層排列，進一步經由脫層化使其無序化，此混成材料具有不須極化即可容易自組裝達到非中心對稱排列之光電效果，並具有良好的熱穩定性。
Jen等人提出一些專利與結構利用Diels-Alder反應交聯二次非中心對稱，如US20120252995 A1,US8173045 B2,US 7425643 B1,US7390857 B2,US8409713 B2,US8648332 B2與US 8394499 B2等專利，並 且發現許多Diels-Alder可逆反應的化學結構組合，如US7268188 B2與US7144960 B2專利，交聯後二次非線性光學材料的穩定性得到提升。
本發明提出一種二次非線性光學環氧樹酯寡聚物、發色基團及包含該寡聚物之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法，藉由酸化二次非線性光學環氧樹脂寡聚物複合材料，可將黏土完全脫層，並可應用於其他二維層狀材料之脫層化，並達到發色團基的非中心對稱，包括陽離子型水滑石、陰離子型矽酸鹽黏土與有機官能化之層狀石墨碳材等。交聯後的複合材料固定非中心對稱，提升了材料的熱穩定性。
本發明之目的在於提供固定二次非線性光學材料的有機脫層後的非中心對稱排列及其製造方法。利用環戊二烯的衍生物降冰片烯，與環氧樹脂上的醇基反應生成帶有雙鍵的側鏈官能基，與帶有呋喃側鏈的環氧樹酯進行Diels-Alder交聯，固定交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的非中心對稱，提升材料的熱穩定性。
本發明係二次非線性光學環氧樹酯寡聚物、發色基團及包含該寡聚物之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法，利用二胺發色團基(chromophore)與環氧甘油醚(Diglycidyl ether of bisphenol A；DGEBA)合成出具有二次非線性光學活性的高分子複合材料。二胺發色團基可為(4-aminophenyl(4-(4-nitrophenyl)-diazenyl)-phenyl)amine；DAC化合物，亦可為2,4--diamino-4`-(4-nitrophenyl-diazenyl)-azobenzene；DNDA化合物，具有如下結構式：
環氧樹酯為環氧甘油醚(Diglycidyl ether of bisphenol A；DGEBA)，具有如下結構式：
上述二胺發色團基(chromophore)與環氧甘油醚(Diglycidyl ether of bisphenol A；DGEBA)合成出具有二次非線性光學活性的高分子複合材料，必須在在氮氣下，100~150℃，經過24~48小時反應，以避免交聯反應發生。線性二次非線性環氧樹脂分子量(Mn)介於5000~14000g/mol，polydispersity介於2.1~3.2。聚合後透過UV-Vis確定二次非線性發色團基光學吸收波長沒有消失，反應過程沒有破壞發色團基。
環氧樹脂複合材料脫層蒙脫土之方法，必須使用二維層板材料採用蒙脫土當原料，經過酸化的二次非線性光學材料寡聚物二級 胺上帶有陽離子，能夠與蒙脫土層板間鈉離子進行離子交換，在超過1CEC(Cation Exchange Capacity,1.20mequiv/g for Na+ MMT)的情況下即可使蒙脫土脫層。其中蒙脫土每公克需要加入50mL去離子水於80℃下進行膨潤24小時直到均勻分散為止。欲脫層物可以為蒙脫土、雲母、高嶺土、蛭石、水滑石(layered double hydroxides，LDH)或任何可脫層的二維層狀材料。上述步驟共溶劑為N,N-二甲基乙醯胺(N,N-Dimethylacetamide；DMAc)、二甲基甲醯胺(dimethylfomamide；DMF)二甲基亞碸(dimethylsulfoxide；DMSO)與N-甲基吡咯烷酮(1-methyl-2-pyrrolidone；NMP)等非質子極性親水溶劑。離子化無機酸為硫酸、硝酸、鹽酸、磷酸或任何具相同效果的酸。加入等當量二級胺酸化後之二次非線性環氧樹脂複合材料pH值為3.5~4.3。適用環氧樹脂複合材料CEC為1~5。脫層後二次非線性光學蒙脫土的環氧樹脂複合材料經過自組裝可得到2.4~4.7pm/Vr33的二次非線性光學材料數值。
交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的方法，在二次非線性光學蒙脫土的環氧樹脂複合材料的醇基分別接枝降冰片烯與呋喃側鏈，進行如下圖Diels-Alder反應熱交聯後固定二次非線性光學材料的非中心對稱。
第1圖係為本發明係二次非線性環氧樹脂寡聚物合成示意圖。
第2圖係為本發明DACP聚合官能基變化IR圖。
第3圖係為本發明二次非線性光學寡聚物分子量。
第4圖係為本發明二次非線性光學材料寡聚物UV-Vis光譜圖。
第5圖係為本發明MMT脫層XRD圖譜。
第6圖係為本發明DSC觀察Diels-Alder交聯反應溫度變化。
第7圖係為本發明TGA觀察Diels-Alder交聯前後的熱解解溫度變化。
以下舉出數個較佳實施例說明本發明的製造過程，並由比較例了解相對製造條件及結果。
實施例1
步驟(a)：二次非線性光學環氧樹酯寡聚物的合成：
將p-nitrosonitrobenzene(1.22g,8mmole)與4,4’,4’’-triamino-phenylamine(4.07g,14mmole)分別溶於適量之醋酸中。以p-nitrosonitrobenzene溶液緩慢滴入4,4’,4’’-triaminophenylamine溶液當中，滴完後，經過攪拌反應12小時後，以醋酸鈉飽和溶液將其中和至pH=6，此時會有紫色固體沉澱物生成，利用抽氣過濾將固、液體分離，並且以大量之去離子水沖洗濾餅數次，得到紫色之固體混合物，所收集得到之固體混合物利用管柱層析法加以純化出產物，沖提液為n-hexane：ethyl acetate=1：3，即可得到DAC，其為亮綠色固體，化學反應式如下：
將DGEBA 2g(6mmol)與DAC 2g(6mmol)均勻混合後，於150℃下聚合40小時，之後逐滴滴於50mL CH3OH並攪拌，得到DGEBA-DAC寡聚物(以代號DACP表示)。利用FTIR監測反應，由913cm-1環氧基的特性吸收峰消失之情形確認反應完成。化學反應式如下： ，其中n可為3~10。
步驟(b)：DGEBA-DAC寡聚物改質MMT：
將DGEBA(1.6g,4.7mmol)及DAC(2g,4.7mmol)於150℃下進行聚合，聚合溫度藉由DSC決定反應溫度，超過150℃即會進行聚合物交聯而無法溶解，因此150℃以下DGEBA與一級胺反應24hr，並利用FTIR檢測由913cm-1環氧基的特性吸收峰消失之情形確認反應完成，形成之寡聚物(簡稱DCAP，Mn=5000~14000g/mol)可直接溶劑(DMAc)溶解，藉由胺滴定及酸化寡聚物可直接與蒙脫土(1.20mequiv/g for Na+ MMT)進行離子交換。脫層後的寡聚物MMT複合材料即可量測到二次非線性光學性質，詳細見非專利文獻Macromol.Rapid Commun.,2008,29,587-592.；Polym.Adv.Technol.,2009,20,493-500.；ACS Applied Materials & Interfaces,2009,1,2371-2381,Polym.Chem.,2013,4,2747-2759。
步驟(c)：交聯固化DGEBA-DAC
寡聚物改質MMT二次非中心對稱形成之奈米複合材料(簡稱DACPMMT)，均勻分散於溶劑DMAc中之後，取2-Furoyl chloride 0.25g加入1.96g DACPMMT中，於室溫下反應24小時，經由萃取可得產物DACPMMT-F，重複上述步驟，取5-Norbornene-2-carbonyl chloride 0.31g加入1.96g DACPMMT中，在室溫反應24小時後，經由萃取可得產物DACPMMT-N，最後將等當量之DACPMMT-F與DACPMMT-N於適當溫度下反應，反應溫度同樣由DSC決定，最後選擇237℃作為Diels-Alder reaction之反應溫度，藉由Diels-Alder reaction將改質完之DACPMMT形成交聯固化的二次非中心對稱之網狀交聯結構。
實施例2
步驟(a)：二次非線性光學環氧樹酯寡聚物的合成：
將DO3(1.33g,5.5mmole)、NaNO2(0.38g,5.5mmole)與10ml的水加以混合，置入50ml之圓底反應瓶中冰浴之。加入1.5ml之濃鹽酸(37%)與20ml冰水於混合溶液中，在冰浴下反應半小時，形成重氮鹽混合溶液；再將1,3-苯二胺溶(0.60g,5.5mmole)於20ml蒸餾水及3ml濃鹽酸(37%)中，置入另一50ml圓底反應瓶中，然後把重氮鹽溶液慢慢加入，攪拌約1小時，收反應。先配製氫氧化鈉水溶液與之中和，此時會有黑褐色固體產生，經由抽濾漏斗過濾將固、液分離，再以大量蒸餾水清洗濾餅，直到呈中性(pH=6~7)；以沖提液為n-hexane：ethyl acetate=1：3，即可得到發色團基DNDA，化學反應式如下：
其中Disperse Orange 3(DO3)【C12H10N4O2】，分子量為242.23g/mol。
將DGEBA 2g(6mmol)與DNDA 2g(6mmol)均勻混合後，於150℃下聚合40小時，之後逐滴滴於50mL CH3OH並攪拌，得到DGEBA-DNDA 寡聚物(以代號DNDAP表示)。利用FTIR監測反應，由913cm-1環氧基的特性吸收峰消失之情形確認反應完成。
步驟(b)：DGEBA-DNDA寡聚物改質MMT：
將DGEBA(1.6g,4.7mmol)及DNDA(2g,4.7mmol)於150℃下進行聚合，聚合溫度藉由DSC決定反應溫度，超過150℃即會進行聚合物交聯而無法溶解，因此150℃以下DGEBA與一級胺反應24hr，並利用FTIR檢測由913cm-1環氧基的特性吸收峰消失之情形確認反應完成，形成之寡聚物(簡稱DNDAP，Mn=5000~14000g/mol)可直接溶劑(DMAc)溶解，藉由胺滴定及酸化寡聚物可直接與蒙脫土(1.20mequiv/g for Na+ MMT)進行離子交換。脫層後的寡聚物MMT複合材料即可量測到二次非線性光學性質，詳細見非專利文獻Macromol.Rapid Commun.,2008,29,587-592.；Polym.Adv.Technol.,2009,20,493-500.；ACS Applied Materials & Interfaces,2009,1,2371-2381,Polym.Chem.,2013,4,2747-2759。
步驟(c)：交聯固化DGEBA-DNDA
寡聚物改質MMT二次非中心對稱形成之奈米複合材料(簡稱DNDAPMMT)，均勻分散於溶劑DMAc中之後，取2-Furoyl chloride 0.25g加入1.96g DNDAPMMT中，於室溫下反應24小時，經由萃取可得產物DNDAPMMT-F，重複上述步驟，取5-Norbornene-2-carbonyl chloride 0.31g加入1.96g DNDAPMMTMMT中，在室溫反應24小時後，經由萃取可得產物DNDAPMMT-N，最後將等當量之DNDAPMMT-F與DNDAPMMT-N於適當溫度下反應，反應溫度同樣由DSC決定，最後選擇237℃作為 Diels-Alder reaction之反應溫度，藉由Diels-Alder reaction將改質完之DNDAPMMT形成交聯固化的二次非中心對稱之網狀交聯結構。
透過如第1圖的DGEBA及DAC於150℃下進行聚合，聚合溫度藉由DSC決定反應溫度，超過150℃即會進行聚合物交聯而無法溶解，因此將反應溫度150℃以下只與DGEBA與一級胺反應24小時，再利用第2圖FTIR檢測，由913cm-1環氧基的特性吸收峰消失之情形確認反應完成，形成之寡聚物，簡稱DCAP，其分子量由第3圖GPC分析第2圖結果顯示數目平均分子量約為8000。DACP可溶解於THF、DMAc等溶劑，藉由胺滴定及酸化寡聚物可直接與蒙脫土進行離子交換，以簡單快速的方式使蒙脫土達到脫層，並進行XRD、TEM、熱分析與光電性質測試，並量測到8.0的二次非線性光學r33係數值。
蒙脫土層間帶正電，因此必須將高分子酸化以進行陽離子交換，進行如第2圖的二次非線性光學寡聚句插層步驟，進入層板間的高分子進一步將蒙脫土脫層。IR圖可以看出聚合前後還氧官能基的變化，插層後MMT的吸收疊掉原本DACP IR特徵峰；從第4圖的UV-Vis可以看到原本547cm-1的DAC的特徵吸收峰還在只有略微紅位移，搭配第5圖的脫層XRD圖，可以證明交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料不只將MMT的層板分開，還保有原本的二次非線性光學發色團基，表1的二次非線性光學性質量測也證明此點。
將脫層後的二次非線性光學奈米複合材料進行改質，接枝上可Diels-Alder反應中的diene呋喃與dienophile降冰片烯，在第6圖的DSC當中可觀察到原本DACP沒有的Diels-Alder反應放熱峰，交聯反應 發生。交聯後固定住二次非線性光學材料的非中心對稱可在120℃還能量測到2.1二次非線性光學r33係數值。第7圖為交聯前的DACP與交聯後的DAC熱重分析，由結果發現5wt%熱重損失溫度熱由DACPMMT的220℃提升到DACPMMT-NF的310℃，材料操作範圍將得益於熱裂解溫度的提升。

Claims (8)

  1. 一種二次非線性光學環氧樹酯寡聚物，具有下列化學式：，其中n為3~10。
  2. 一種二次非線性光學發色基團，具有下列化學式：
  3. 一種如申請專利範圍第1項所述之二次非線性光學環氧樹酯寡聚物及其交聯層狀奈米複合材料的製造方法，包括下列步驟：(a)將p-nitrosonitrobenzene與4,4’,4’’-triamino-phenylamine分別溶於醋酸中，分別形成p-nitrosonitrobenzene溶液與4,4’,4’’-triamino-phenylamine溶液；(b)將p-nitrosonitrobenzene溶液滴入4,4’,4’’-triamino-phenylamine溶液中，攪拌反應後得到結構式為之二胺發色基團bis(4-aminophenyl(4-(4-nitrophenyl)-diazenyl)phenyl)amine(DAC化合物)；(c)將結構式為之環氧甘油醚(Diglycidyl ether of bisphenol A；DGEBA)與DAC均勻混合，於氮氣下，固定溫度範圍，經過一段時間聚合反應後，得到如申請專利範圍第1項所述之二次非線性光學環氧樹酯寡聚物(DGEBA-DAC寡聚物)；(d)將DGEBA-DAC寡聚物與蒙脫土(MMT)進行離子交換後，得到一種交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法，該固定溫度範圍為100~150℃。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法，該聚合反應時間為24~48小時。
  6. 一種如申請專利範圍第2項所述之二次非線性光學發色基團及其交聯層狀奈米複合材料的製造方法，包括下列步驟：(a)將DO3(Disperse Orange 3,C12H10N4O2)、NaNO2與水混合後，加入濃鹽酸；(b)將(a)步驟形成之溶液加入冰水，於冰浴下反應，形成重氮鹽混合溶液；(c)將(b)步驟形成之重氮鹽混合溶液加入1,3-苯二胺溶液中，攪拌反應；(d)將氫氧化鈉水溶液與(c)步驟形成之溶液融合後，可得到如申請專利範圍第2項所述之二次非線性光學發色基團(DNDA)；(e)將結構式為之環氧甘油醚(Diglycidyl ether of bisphenol A；DGEBA)與DNDA均勻混合，於氮氣下，固定溫度範圍，經過一段時間聚合反應後，得到DGEBA-DNDA寡聚物；(f)將DGEBA-DNDA寡聚物與蒙脫土(MMT)進行離子交換後，得到一種交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法，該固定溫度範圍為100~150℃。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之交聯層狀二次非線性光學奈米複合材料的製造方法，該聚合反應時間為24~48小時。
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