TWI431329B - A surface protective film and an optical film with a surface protective film - Google Patents

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Description

表面保護薄膜及附有表面保護薄膜之光學薄膜
本發明係關於一種構成液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器、有機EL(電致發光)、場發射顯示器等的光學薄膜(光學薄片)之表面保護薄膜以及附有表面保護薄膜之光學薄膜。本發明係其中尤其適用於透明性優異之聚酯薄膜等之表面上精密成形有丙烯酸系樹脂等之稜鏡圖案的稜鏡片或透鏡薄片等具有細微凹凸之光學薄膜之表面保護薄膜。
自先前，於加工、搬運塑膠製品或金屬板等時，暫時貼附表面保護薄膜而企圖保護黏附體之表面，以免彼等黏附體之表面上劃出傷痕等。作為上述黏附體之表面保護薄膜，使用於基材薄膜之單面設置有黏著劑層之黏著薄膜。
尤其是於使用被稱作稜鏡片或透鏡薄片之光學薄片(光學薄膜)作為上述黏附體之情形時，為了不對經精密成形之丙烯酸系樹脂稜鏡(透鏡)圖案帶來光學性不良影響，通常使用橡膠系黏著劑作為該等光學用薄片之表面保護薄膜中所使用之黏著劑(例如，參照專利文獻1)。然而，因稜鏡之表面上存在數10μm之凹凸，故與其他黏附體相比，與黏著劑之接觸面積非常小，難以穩定貼附於稜鏡面。
對於相關問題，考慮嘗試藉由加厚黏著劑層之厚度而使之進一步密著於稜鏡凹凸處之方法。然而，進入稜鏡凹凸處之黏著劑一部分變得不均勻造成光之透過率有所不同，其結果造成重新產生如下問題：貼附於稜鏡面之保護薄膜 之外觀上產生不均，以貼附保護薄膜之狀態無法檢查稜鏡片之外觀。
又，為了抑制上述外觀中產生不均，若將表面粗糙(表面粗糙度大)之表面保護薄膜貼合於稜鏡片，則由於表面保護薄膜引起稜鏡形狀之變形，造成稜鏡片中產生點狀之光學缺陷。該點狀之光學缺陷造成稜鏡片之光學特性下降，造成作為製品之價值消失。
然而，該等問題有取捨(trade-off)關係，且不存在以先前技術可同時解決兩個問題點之表面保護薄膜。
專利文獻1：日本專利特開平11-181370號公報
因此，本發明之目的在於提供一種光學用表面保護薄膜、及使用其之附有表面保護薄膜之光學薄膜，該光學用表面保護薄膜可應付上述問題，亦可以貼附保護薄膜之狀態檢查稜鏡片等具有細微凹凸之黏附體之外觀，不會對上述黏附體帶來光學性不良影響，且接著可靠性優異。
本發明者等人為實現上述目的而進行積極研究，結果發現藉由使用下述表面保護薄膜可實現上述目的，從而完成本發明。
即，本發明之光學用表面保護薄膜，其特徵在於：其係於基材層之單面積層有黏著劑層之光學用表面保護薄膜，上述基材層之黏著劑層側之面的表面 算術平均粗糙度(Ra2 )為0.65μm以下，上述基材層之另一側之面的表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.6μm以上。
上述本發明之光學用表面保護薄膜，因具有包含上述特定基材層及黏著劑層之構成，故亦可以貼附保護薄膜之狀態檢查具有細微凹凸之黏附體之外觀，不會對上述黏附體帶來光學性不良影響，且接著可靠性優異。尤其是於用作貼附保護薄膜之黏附體之滾筒體時，可抑制成為問題之光學缺陷之產生或擠壓痕跡之產生。又，以貼附表面保護薄膜之狀態容易可容易地檢查黏附體之外觀，因此較先前相比可大幅度提高作業性。
再者，所謂本發明中之表面保護薄膜，包括表面保護膠帶或表面保護薄片等薄膜狀之其他形態。
於上述光學用表面保護薄膜中，上述表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.6μm以上，又，上述表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.65μm以下。藉由使用相關基材層，可更確實地抑制光學缺陷之產生或擠壓痕跡之產生。再者，所謂本發明中之表面算術平均粗糙度，意指依據JIS 0601所測定之值。更具體而言，意指以如下測定條件測定之值：VSI方式(垂直掃描型干涉方式)、邁克生干涉方式、物鏡：2.5倍、內部透鏡：0.5倍、測定範圍：5mm×5 mm、threshold(臨限值)：1%。又，上述算術平均粗糙度，較好的是例如以光學式輪廓儀NT-3300(Veeco公司製造)測定。
又，上述表面保護薄膜之濁度值較好的是30~75%。再者，所謂本發明中之表面算術平均粗糙度，意指依據JIS P-8116所測定之值。
又，上述黏著劑層之厚度較好的是2~10μm。藉由使用相關黏著劑層，更確實地抑制外觀不良或對光學特性之不良影響，且接著可靠性優異。
進而，較好的是上述黏著劑層由橡膠系黏著劑形成。
另一方面，本發明之附有表面保護薄膜之光學薄膜之特徵在於：將上述任一項之光學用表面保護薄膜，貼合於光學薄膜，其中尤其是貼合於稜鏡片之單面或兩面而成。本發明之附有表面保護薄膜之光學薄膜具備發揮上述作用之光學用表面保護薄膜，因此亦可以貼附保護薄膜之狀態檢查外觀，不會對上述黏附體帶來光學性不良影響，且接著可靠性優異。
以下，就本發明之實施形態，參照圖式加以詳細說明。
如圖1或圖2所示，本發明之光學用表面保護薄膜1，其特徵在於：其係於基材層10之單面積層有黏著劑層12之光學用表面保護薄膜1，上述基材層10之黏著劑層12側之面之表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.65μm以下，上述基材層10之另一側之面之表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.6μm以上。
如圖1或圖2所示，於本發明之基材層10之單面積層有黏著劑層12。又，上述基材層10之黏著劑層12側之面的表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.65μm以下，上述基材層10之另一側之面的表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.6μm以上。
於上述基材層10中，上述表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.6μm以上，較好的是0.6~1.0μm，更好的是0.7~0.8μm。若上述表面算術平均粗糙度(Ra1 )大於1.0μm，則尤其是製成滾筒體時，造成基材層10之表面上轉印基材層10之表面形狀，由此貼附於稜鏡片等黏附體2時，造成稜鏡面上易於產生光學缺陷。另一方面，若上述表面算術平均粗糙度(Ra1 )小於0.6μm，則表面保護薄膜1之表面變得更平滑，由於貼合時等之不均勻加壓，保護薄膜之一部分中產生擠壓痕跡，外觀不良之可能性提高。其結果，造成以貼附保護薄膜之狀態無法容易檢查外觀。
又，於上述基材層10中，上述表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.65μm以下，較好的是0.6μm以下，更好的是0.5μm以下。若上述表面算術平均粗糙度(Ra2 )大於0.65μm，則貼合於稜鏡片等時，有時造成保護薄膜引起稜鏡變形，使稜鏡片之光學特性惡化。
又，作為上述基材層10，適宜使用塑膠薄膜。
作為上述塑膠薄膜，例如可列舉聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚苯乙烯薄膜等。又，亦包含將該等薄膜單獨使用或混合2種以上使用之塑膠薄膜。進而，亦可將積層有上述薄膜之薄膜用作上述塑膠薄膜。
對於上述基材層10之厚度，並無特別限定，但就加工性之方面而言，通常較好的是使其為10~200μm，更好的是使其為15~100μm，尤其好的是使其為20~70μm。若厚度 過薄，則存在剝離上述表面保護薄膜1時之強度或表面保護功能變得不充分之傾向。另一方面，若厚度過厚，則存在於操作性或成本方面上不利之傾向。
又，上述基材層10之粗糙面之形成，例如可藉由於上述基材層10之原料中，調配天然沸石、合成沸石、天然矽石、合成矽石、交聯PMMA、超高分子量PE等防黏劑，嵌段PP、PE、EVA、EVOH、無規PP、與橡膠成分進行反應器摻合之PP、乙烯．α烯烴共聚物、丙烯．α烯烴共聚物、乙烯．丙烯．α烯烴共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、PET、PBT、6-尼龍、12-尼龍等而進行。
又，於上述基材層10中，以防止劣化等為目的，除添加例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、受阻胺系光穩定劑等光穩定劑、靜電防止劑以外，還可適當添加例如氧化鈣、氧化鎂、矽石、氧化鋅、氧化鈦等填充劑，顏料，眼脂防止劑，潤滑劑，防黏劑，發泡劑，聚乙烯亞胺等添加劑。該等化合物可單獨使用，且亦可將2種以上混合使用。
進而，於上述基材層10之表面，考慮與黏著劑層12或脫模處理層14之密著性，例如亦可視需要實施電暈放電處理、紫外線照射處理、火焰處理、電漿處理或濺鍍蝕刻處理等以控制黏著性或貼附作業性等為目的之表面處理、易接著處理或底塗處理。
另一方面，本發明之光學用表面保護薄膜1之特徵在於：於上述基材層10之單面具有黏著劑層12。
例如如圖1或圖2所示，本發明之光學用表面保護薄膜1 係於基材層10之單面具有黏著劑層12。再者，本發明之光學用表面保護薄膜1可以薄片狀、膠帶狀等使用。又，上述黏著劑層12可為單獨層，且亦可將2層以上積層使用。
作為形成黏著劑層12之黏著劑，可無特別限制地使用橡膠系黏著劑或(甲基)丙烯酸系黏著劑等眾所周知之再剝離用黏著劑。又，尤其是對於稜鏡片2之由丙烯酸系樹脂形成之稜鏡面，自抑制稜鏡面之外觀上產生缺點之觀點考慮，較好的是橡膠系黏著劑。
作為橡膠系黏著劑，例如可列舉天然橡膠、天然橡膠與甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系成分之共聚物、苯乙烯嵌段共聚物及其氫化物、暨苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物及其氫化物等。其中，較好的是天然橡膠與甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系成分之共聚物。該等亦可單獨使用，且亦可將2種以上混合使用。
又，藉由控制上述黏著劑之孟納黏度，可提高作業性或接著可靠性。
於上述黏著劑中，亦可含有其他眾所周知之添加劑，例如可相應所使用之用途適當添加交聯劑．硫化劑、矽烷偶合劑、增黏劑、著色劑、顏料等粉末，染料、界面活性劑、增塑劑、表面潤滑劑、勻化劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，亦可於可控制之範圍內採用包含還原劑之氧化還原系統。
作為增黏劑，例如可適當使用石油系樹脂、酚系樹脂、 松香系樹脂、萜烯系樹脂等。該等亦可單獨使用，且亦可將2種以上混合使用。
又，對於增黏劑之調配量並無特別限定，相對於橡膠100重量份，為1~200重量份，較好的是10~170重量份。
作為交聯劑及硫化劑，例如可適當使用異氰酸酯系交聯劑、秋蘭姆系硫化劑、醌系硫化劑、醌二肟硫化劑、馬來醯亞胺系硫化劑等。該等亦可單獨使用，且亦可將2種以上混合使用。
對於交聯劑及硫化劑之調配量並無特別限定，相對於橡膠100重量份，為0.1~20重量份，較好的是0.1~10重量份。
進而，於上述黏著劑層12之表面，亦可進行電暈處理、電漿處理等易接著處理。
又，上述黏著劑層12之厚度較好的是2~10μm，更好的是2~9μm，更好的是2~6μm。若上述黏著劑層12之厚度超過10μm，則黏著力過高，有時降低表面保護薄膜1之使用後之剝離作業性。進而，於稜鏡面上貼附有表面保護薄膜1之稜鏡片等2之滾筒狀態，或者將其進行打孔加工，將數十張貼附有表面保護薄膜1之透鏡薄片重疊之狀態之情形時，由於表面保護薄膜1與透鏡薄片之一部分之不均勻加壓，保護薄膜之一部分中產生擠壓痕跡，造成外觀不良，無法以貼合表面保護薄膜1之狀態進行檢查。另一方面，若上述黏著劑層12之厚度薄於2μm，則有時表面無法穩定密著於規則性形狀之稜鏡面等，無法貼附。
進而，於上述表面上露出黏著劑層12之情形時，亦可以 剝離薄片(隔離膜、剝離薄膜)保護黏著劑層12，該剝離薄片於供於實用時可進行剝離處理。
作為隔離膜之構成材料，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜，紙、布、不織布等多孔質材料，網狀物、發泡薄片、金屬箔及該等之層壓體等適當之薄片體等，自表面平滑性優異之方面考慮，可適宜使用塑膠薄膜。
作為其塑膠薄膜，若係可保護上述黏著劑層12之薄膜，則無特別限定，例如可列舉聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺基甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
上述隔離膜之厚度通常是5~200μm，較好的是5~100μm左右。
於上述隔離膜，亦可視需要進行使用矽氧系樹脂、氟系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、長鏈烷基(碳數為12~22者)系樹脂或脂肪酸醯胺系樹脂、或該等之改性體之脫模劑、矽石粉等的脫模及防汙處理，或塗佈型、捏合型、蒸鍍型等之靜電防止處理。尤其是於上述隔離膜之表面適宜進行矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，藉此可更能提高來自上述黏著劑層12之剝離性。
再者，於上述製造方法中，經剝離處理之薄片可直接用作表面保護用黏著薄膜等之隔離膜，可實現步驟方面之簡 單化。
又，於本發明之光學用表面保護薄膜1中，如圖2所示，於與上述基材層10之黏著劑層12側之面不同之另一側之面上，亦可設置脫模處理層14。
作為用於形成脫模處理層14之脫模處理劑，例如可列舉矽氧系樹脂、氟系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、長鏈烷基(碳數為12~22者)系樹脂或脂肪酸醯胺系樹脂、或該等之改性體等。其中，自所得之特性及成本方面等考慮，較好的是矽氧系樹脂。該等亦可單獨使用，且亦可將2種以上混合使用。
又，脫模劑層14之形成方法，可適當使用塗佈或轉印等眾所周知之脫模處理層之形成方法。
另一方面，具有上述基材層10與黏著劑層12之光學用表面保護薄膜1之製造方法，並無特別限制，可採用各種方法。例如，例示有如下之方法：將構成各層之樹脂材料進行熔融複合擠壓而成形為積層物之方法；將各層藉由擠壓等分別成形為薄膜狀，將該等藉由黏著劑等接著之方法等。該等方法之中，自各層間之密著性良好，且將步驟簡單化之觀點考慮，較好的是藉由複合擠壓成形、熔融複合擠壓成形之方法。
又，於本發明中，其特徵在於上述光學用表面保護薄膜1之濁度值為30~75%，較好的是30~60%，更好的是35~60%。若上述光學用表面保護薄膜1之濁度值超過75%，則有時以於稜鏡片2上貼附上述表面保護薄膜1之狀 態難以檢查稜鏡片等光學薄片2之外觀。另一方面，若上述光學用表面保護薄膜1之濁度值小於30%，則由於貼合時等之不均勻加壓，造成易於看到表面保護薄膜1之一部分中產生之擠壓痕跡，對貼合上述表面保護薄膜1之狀態之稜鏡片等光學薄片2之外觀檢查帶來不良影響。
進而，本發明之附有表面保護薄膜之光學薄膜之特徵在於：將上述任一項之光學用表面保護薄膜1，貼合於光學薄膜2，其中尤其是貼合於稜鏡片之單面或兩面。本發明之附有表面保護薄膜之光學薄膜具備發揮上述作用之光學用表面保護薄膜1，因此亦可以貼附保護薄膜之狀態檢查外觀，不會對上述黏附體帶來光學性不良影響，且接著可靠性優異。
作為上述光學薄膜，例如可列舉偏光板或偏光子、反射板或半透過板、相位差板(包含1/2或1/4等之波長板)、視角補償薄膜、亮度提高薄膜、稜鏡片或透鏡薄片、擴散板等用於形成液晶顯示裝置等之光學層者。其中，於本發明中，作為上述光學薄膜，最好的是使用精密成形有稜鏡圖案之稜鏡片或透鏡薄片等含有細微凹凸之光學薄膜2。
實施例
以下，就具體表示本發明之構成及效果之實施例等加以說明。再者，如下所述進行實施例等中之評價項目。
[實施例1]
使用基材之外側的表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.58μm且基材之黏著劑層側(內側)的表面算術平均粗糙度(Ra1 )為 0.64μm的厚度為40μm之聚丙烯薄膜之兩面實施了電暈處理者，作為基材層(支持體)；進而於上述基材層之外側，將矽氧系聚合物脫模劑(信越化學工業公司製造，KS-847H)溶解於稀釋溶劑中，使之塗佈乾燥而形成層，將其作為脫模處理層。又，將相對於包含30重量%之聚甲基丙烯酸甲酯之天然橡膠之接枝共聚物(孟納黏度：100，測定條件：MS(1+4)100℃)100重量份，添加有30重量份之增黏樹脂(日本ZEON公司製造，Quinton A-100)者溶解於稀釋溶劑中，進行塗佈乾燥，形成厚度為3μm之層，作為黏著劑層，從而獲得表面保護薄膜。
[實施例2]
使用基材之外側的表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.64μm且基材之黏著劑層側(內側)的表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.61μm的厚度為40μm之聚丙烯薄膜之兩面實施有電暈處理者作為基材層(支持體)，除此之外，以與實施例1相同之方式進行，獲得表面保護薄膜。
[實施例3]
使用基材之外側的表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.58μm且基材之黏著劑層側(內側)的表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.74μm的厚度為40μm之聚丙烯薄膜之兩面實施有電暈處理者作為基材層(支持體)，除此之外，以與實施例1相同之方式進行，獲得表面保護薄膜。
[實施例4]
將黏著劑層之厚度設為7μm，除此之外，以與實施例2 相同之方式進行，獲得表面保護薄膜。
[實施例5]
將黏著劑層之厚度設為5μm，除此之外，以與實施例3相同之方式進行，獲得表面保護薄膜。
[比較例1]
使用基材之外側的表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.49μm且基材之黏著劑層側(內側)的表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.59μm的厚度為40μm之聚丙烯薄膜之兩面實施有電暈處理者作為基材層(支持體)；進而於上述基材層之外側，將矽氧系聚合物脫模劑(信越化學工業公司製造，KS-847H)溶解於稀釋溶劑中，使之塗佈乾燥而形成層作為脫模處理層。又，將相對於包含30重量%之聚甲基丙烯酸甲酯之天然橡膠之接枝共聚物(孟納黏度：100，測定條件：MS(1+4)100℃)100重量份，添加有30重量份之增黏樹脂(日本ZEON公司製造，Quinton A-100)者溶解於稀釋溶劑中，進行塗佈乾燥，形成厚度為3μm之層，作為黏著劑層，從而獲得表面保護薄膜。
[比較例2]
於上述基材層之外側(電暈處理面)，將長鏈烷基系脫模劑(一方社油脂工業公司製造，Peroil(一口 )1010)溶解於稀釋溶劑中，使之塗佈乾燥而形成層，作為脫模處理層，並使黏著劑層之厚度為12μm，除此之外，以與實施例1相同之方式進行，獲得表面保護薄膜。
[比較例3]
使用基材之外側的表面算術平均粗糙度(Ra2 )為1.36μm且基材之黏著劑層側(內側)之表面算術平均粗糙度(Ra1 )為1.18μm的厚度為40μm之聚丙烯薄膜之兩面實施有電暈處理者作為基材層(支持體)；進而於上述基材層之外側，將長鏈烷基系脫模劑(一方社油脂工業公司製造，Peroil(一口 )1010)溶解於稀釋溶劑中，使之塗佈乾燥而形成層，作為脫模處理層。又，將相對於包含30重量%之聚甲基丙烯酸甲酯之天然橡膠之接枝共聚物(孟納黏度：100，測定條件：MS(1+4)100℃)100重量份，添加有20重量份之增黏樹脂(日本ZEON公司製造，Quinton A-100)者溶解於稀釋溶劑中，進行塗佈乾燥，形成厚度為3μm之層作為黏著劑層，從而獲得表面保護薄膜。
[比較例4]
使用基材之外側的表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.81μm且基材之黏著劑層側(內側)的表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.70μm的厚度為40μm之聚丙烯薄膜之兩面實施有電暈處理者作為基材層(支持體)；進而於上述基材層之外側，將長鏈烷基系脫模劑(一方社油脂工業公司製造，Peroil(一口 )1010)溶解於稀釋溶劑中，使之塗佈乾燥而形成層作為脫模處理層。又，將相對於苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物之氫化物(Clayton聚合物公司製造，ClaytonG1657)100重量份，添加有20重量份之增黏樹脂(荒川化學工業公司製造，Alcon P-100)者溶解於稀釋溶劑中，進行塗佈乾燥，形成厚度為3μm之層作為黏著劑層，從而獲得 表面保護薄膜。
[比較例5]
使用厚度為40μm之熔融摻合有80重量%之聚丙烯及20重量%之聚乙烯的薄膜(濁度值：57%，依據JIS K 7136)之單面實施有電暈處理者作為基材層。又，相對於將100重量份之丙烯酸丁酯與5重量份之丙烯酸共聚合而成之重量平均分子量(聚苯乙烯換算)為50萬之丙烯酸酯共聚物100重量份(固體含量)中，添加3重量份之交聯劑(四縮水甘油基-1,3-雙胺甲基環己烷)並加以混合後，溶解於稀釋溶劑中，進行塗佈乾燥，形成厚度為5μm之層作為黏著劑層，然後於50℃下老化48小時，獲得表面保護薄膜。
對實施例及比較例中獲得之表面保護薄膜，進行下述評價。將結果示於表1。
(濁度值之測定)
使用濁度測定器(SUGA TEST INSTRUMENTS公司製造，HZ-1)，依據JIS P-8116進行測定。
(表面算術平均粗糙度Ra之測定)
樣品製作方法：於玻璃載片上，貼合無基材而使用PET剝離襯墊之漿厚25±3μm之兩面膠帶，於該上面，以欲測定之面朝上貼合保護薄膜。
使用光學式輪廓儀NT-3300(Veeco公司製造)，於以VSI方式且物鏡：2.5倍、內部透鏡：0.5倍、Backscan：10μm、Length：15μm、threshold：1%、Window Filtering：None、5mm×5mm之條件下，以n=5進行測定。其中除去 上限值與下限值之剩餘三個資料之平均進行判斷，取得MD與TD之平均值，算出各表面算術平均粗糙度Ra。
(光學缺陷之評價)
於稜鏡片(稜鏡角度：90∘，稜鏡間距：50μm)上，以線壓：18N/cm、速度：3m/分鐘貼合表面保護薄膜，以施加壓力3MPa之狀態，於50℃下保存24小時。然後，於室溫(23℃、50%RH)下剝離保護薄膜(50mm×150mm)，藉由目視，自與稜鏡片之稜鏡相對的平板面確認有無光學缺陷。
．稜鏡片上完全觀察不到光學缺陷之情形：○
．稜鏡片上觀察到光學缺陷之情形：×。
(擠壓痕跡之評價)
於稜鏡片(稜鏡角度：90∘，稜鏡間距：50μm)上，以線壓：18N/cm、速度：3m/分鐘貼合表面保護薄膜，以施加壓力1MPa之狀態，於50℃下保存24小時。然後，於室溫(23℃、50%RH)下剝離保護薄膜，藉由目視，自與稜鏡片之稜鏡相對之平板面確認有無光學缺陷。
．稜鏡片上完全觀察不到光學缺陷之情形：○
．稜鏡片上觀察到光學缺陷之情形：×。
自表1，知曉實施例1~5中製作之表面保護薄膜，係即使於將稜鏡片用於黏附體中之情形時，亦可以貼附於黏附體之狀態檢查稜鏡片之外觀，不會對上述黏附體帶來光學性不良影響，且接著可靠性優異者。
1‧‧‧光學用表面保護薄膜
2‧‧‧光學薄片(稜鏡片)
10‧‧‧基材層
12‧‧‧黏著劑層
14‧‧‧脫模處理層
圖1係表示本發明之光學用表面保護薄膜之使用狀態之一態樣的剖面圖。
圖2係表示本發明之光學用表面保護薄膜之使用狀態之一態樣的剖面圖。
1‧‧‧光學用表面保護薄膜
2‧‧‧光學薄片(稜鏡片)
10‧‧‧基材層
12‧‧‧黏著劑層

Claims (7)

  1. 一種光學用表面保護薄膜，其特徵在於：其係於基材層之單面積層有黏著劑層之光學用表面保護薄膜，且上述基材層之黏著劑層側之面的表面算術平均粗糙度(Ra2 )為0.65μm以下，上述基材層之另一側之面的表面算術平均粗糙度(Ra1 )為0.6μm以上。
  2. 如請求項1之光學用表面保護薄膜，其中上述光學用表面保護薄膜之濁度值為30~75%。
  3. 如請求項1或2之光學用表面保護薄膜，其中上述黏著劑層之厚度為2~10μm。
  4. 如請求項1之光學用表面保護薄膜，其中上述黏著劑層係由橡膠系黏著劑形成。
  5. 如請求項1之光學用表面保護薄膜，其中其用於稜鏡片之表面保護。
  6. 一種附有表面保護薄膜之光學薄膜，其特徵在於：其係將如請求項1之光學用表面保護薄膜貼合於光學薄膜之單面或兩面而成。
  7. 一種附有表面保護薄膜之稜鏡片，其特徵在於：其係將如請求項1之光學用表面保護薄膜貼合於稜鏡片之單面或兩面而成。
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