TWI399276B - 流延裝置、溶液流延設備及溶液流延方法 - Google Patents
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Description
本發明關於一種用於排放黏彈性液體之流延裝置、一種溶液流延設備、及一種溶液流延方法,而且特別是一種用於排放含聚合物作為薄膜原料之塗布液之流延裝置、及一種用於由塗布液製造薄膜之溶液流延設備及溶液流延方法。
由於其透明性與撓性優良,進一步由於可減小薄膜厚度,聚合物薄膜(以下稱為薄膜)廣泛地作為光學功能薄膜。聚合物薄膜之中有由醯化纖維素形成之醯化纖維素薄膜,而且特別是在醯化纖維素之中使用三乙酸纖維素(TAC)以形成TAC薄膜。由於具有強度及可燃性,TAC薄膜作為薄膜材料之薄膜基料,如感光性材料。應注意,TAC之平均乙醯化程度較佳為57.5%至62.5%之範圍。此外TAC薄膜之光學各向同性(isotropy)優良,因此在近年來市場變大之液晶顯示器中作為偏光濾色片保護膜、光學補償膜(例如寬視角膜等)。
至於製造薄膜之方法有熔化擠壓法及溶液流延方法。在熔化擠壓法中,其將聚合物加熱且熔化,然後將熔化聚合物自擠壓器擠壓形成薄膜。熔化擠壓法具有高生產力及低設置裝備成本之優點。然而熔化擠壓法難以精細地控制薄膜厚度,而且由於在薄膜上形成條紋(即模線),製造之薄膜幾乎不具有適合光學薄膜之高品質。另外在溶液流延方法中,其將聚合物溶於溶劑,如此製備如聚合物溶液之塗布液。然後將塗布液自流延模流延至撐體上形成流延薄膜。在流延薄膜具有自撐性質時,自撐體剝除流延薄膜成為濕膜。然後在拉幅機乾燥機中,在夾住濕膜之兩個側緣部分時將濕膜拉伸且使之鬆弛。同時將濕膜乾燥。在足夠乾燥後,將濕膜捲成薄膜。在溶液流延方法中,相較於熔化擠壓法,製造之薄膜的光學各向同性及厚度均勻性較優良,而且含較少之外來材料。因此習知上溶液流延方法為較佳之製造薄膜(特別是光學薄膜)方法。
以下解釋溶液流延方法之流延程序的重點。如描述排放程序之第12圖所示,作為流延裝置之流延模300將塗布液301排放至行進撐體302上。對於流延,其藉撐體302朝行進方向X1之行進而將塗布液301散布在撐體302上。如此形成流延薄膜303。
流延模300包括經其排放塗布液301之塗布液出口300a。如第13圖所示,流延模300具有唇板310、311側板312、313,及內定框板314、315,同時安置唇板310、311及內定框板314、315形成塗布液出口300a且各具有用於接觸塗布液301之接觸面310a、311a、314a、315a。
在使流延塗布液301在撐體302上流延時,流延塗布液301經塗布液出口300a自流延模300排放,而在出口300a與撐體302之間形成塗布液粒。然而在接近內定框板314、315之出口300a兩側易於發生保留(retaining)流延塗布液301,而且保留之流延塗布液301易於乾燥形成結皮。然後結皮生長而具有冰柱形式,其擾亂流延塗布液301經出口300a之流動。如此抑制流延薄膜303與排放流延塗布液粒之形成。因此在發生結皮之情形,流延因降低流延速度而去除。在此情形,其必須使流延速度較低使得流延薄膜及粒不被切除。結果流延程序之結皮造成極低之生產力。
習如上,防止結皮之方法有一種提供溶劑而塗布液可溶於溶劑以防止流延塗布液乾燥之方法,及一種在接近出口防止流延塗布液之方法。日本專利公告第2,687,260號及日本專利公開待審公告第2002-337173號揭示防止結皮之方法,其在以下稱為向下流動法。在這些方法中,在將流延塗布液自流延出口排放時,使溶劑(二氯甲烷等)向下流至經排放塗布液之兩個側緣上,其各配置於流延模出口邊緣之稍微內側。在日本專利公開待審公告第2002-103361號中,依照流延模唇端之兩個側緣的切面形狀,其將唇面與唇側面間之角度控制成至少120°而防止結皮。
然而在流延程序中,接近出口300a之風速及溶劑供應速率難以控制成預定值。在公告第2687260及2002-337173號之方法中,如果未適當地控制風速及供應速率,則向下流動之溶劑散佈於撐體上,其造成薄膜之平面性缺陷,及過度地供應溶劑,其造成外來材料黏附撐體。如果發生外來材料黏附則必須清理撐體,因此生產力變低。此外依照液晶顯示器之極高需求成長,其必須進行高技術溶液流延方法。然而如果提高製造速度時,則接近出口300a之風速及溫度控制更難以控制。因此其難以將以上之向下流動法應用於溶液流延方法。此外在公告第2002-103361號之方法中,出口幾乎不以此種可防止結皮之處理準確度形成。因此在習知技藝中無法充分地預期防止結皮之效果。
在研究及深入檢驗中,發明人發現如果唇板310、311及內定框板314、315之下端在假想面上,即如果唇板310、311及內定框板314、315按塗布液301之流出方向(稱為排放方向)的位移為預定值時,則可防止造成結皮之保留。
本發明之一個目的為提供一種用於在流延程序中防止結皮產生之流延裝置。
本發明之另一個目的為提供一種具有高生產力之溶液流延設備。
本發明之又一個目的為提供一種具有高生產力之溶液流延方法。
為了達成此目的及其他目的,一種使塗布液自縫流出之流延裝置包括一對形成第一縫壁之第一縫構件與一對形成第二縫壁之第二縫構件,及第一縫壁朝縫之長度方向延伸且第二縫壁朝縫之寬度方向延伸。對第二縫構件提供自第一縫構件朝塗布液之流出方向突起之突出,或對第一縫構件提供自第二縫構件朝流出方向突起之突出,突出之突出長度為最大9微米。
在流延裝置之一個較佳具體實施例中,一對第一縫構件係由一對對立地配置之唇板構成而形成預定長度之距離,及一對第二縫構件係由內定框板構成。側板係附著唇板之外緣,及內定框板係配置於唇板與側板包圍之空間中而接觸側板。在一個特佳具體實施例中,唇板與側板係由不銹鋼形成且內定框板係由陶瓷形成。
在流延裝置之一個較佳具體實施例中,各第二縫構件具有加寬表面使得該塗布液之流動寬度可在該塗布液流動之下游側較大。
本發明之溶液流延設備包括一行進撐體、一種用於使塗布液流動至撐體上形成流延薄膜之流延裝置、及一種用於乾燥自撐體剝除之流延薄膜而可獲得薄膜之乾燥裝置。流延裝置包括一對形成第一縫壁之第一縫構件與一對形成第二縫壁之第二縫構件,及第一縫壁朝縫之長度方向延伸且第二縫壁朝縫之寬度方向延伸。對第二縫構件提供自第一縫構件朝塗布液之流出方向突起之突出,或對第一縫構件提供自第二縫構件朝流出方向突起之突出,突出之突出長度為最大9微米。
在本發明之溶液流延方法中,其提供一種用於使塗布液自縫流出之流延裝置,其使撐體行進,及使塗布液自縫流出而形成流延薄膜。流延裝置包括一對形成第一縫壁之第一縫構件與一對形成第二縫壁之第二縫構件,及第一縫壁朝縫之長度方向延伸且第二縫壁向縫之寬度方向延伸。對第二縫構件提供自第一縫構件向塗布液之流出方向突起之突出,或對第一縫構件提供自第二縫構件向流出方向突起之突出,突出之突出長度為最大9微米。
依照本發明,其將含聚合物之塗布液自流延裝置出口排放,同時在出口之兩個側緣提供向流出方向突起之突出。此外突出長度為最大9微米。因而防止塗布液保留在出口中,故可防止結皮之產生。此外在溶液流延方法之使用流延裝置之溶液流延設備中,其不必去除已在先行技藝流延程序形成之結皮。如此在溶液流延方法中薄膜製造之生產力變高。
以下詳細解釋本發明之較佳具體實施例。然而本發明不限於此說明。
至於此具體實施例之聚合物,其可使用已用於薄膜製造之已知聚合物。例如較佳為醯化纖維素,而且特佳為三乙醯纖維素(TAC)。在醯化纖維素中較佳為醯基對纖維素羥基上氫原子之取代程度最好滿足所有下式(I)-(III)。在這些式(I)-(III)中,A為乙醯基對纖維素羥基上之氫原子的取代程度,及B為碳原子數量為3至22個之醯基對氫原子之取代程度。應注意,至少90重量%之TAC為直徑0.1毫米至4毫米之粒子。
構成具β-1,4鍵之纖維素的葡萄糖單元在第二、第三及第六位置具有自由羥基。醯化纖維素為一種其中藉酯化將一部分或所有羥基之氫原子以具有至少兩個碳原子之醯基取代之聚合物。醯化程度為第二、第三、第六位置羥基之酯化程度。在各羥基中,如果酯化為100%則醯化程度為1。
在此,如果醯基係取代葡萄糖單元中第二位置之氫原子,則將醯化程度稱為DS2(在第二位置之醯化取代程度),及如果醯基係取代葡萄糖單元中第三位置之氫原子,則將醯化程度稱為DS3(在第三位置之醯化取代程度)。此外,如果醯基係取代葡萄糖單元中第六位置之氫原子,則將醯化程度稱為DS6(在第六位置之醯化取代程度)。醯化程度總和DS2+DS3+DS6較佳為2.00至3.00,更佳是2.22至2.90,而且特佳是2.40至2.88。此外DS6/(DS2+DS3+DS6)較佳為至少0.28,更佳是至少0.30,而且特佳是0.31至0.34。
在本發明中,醯化纖維素中醯基之數量及種類可為僅一種或至少二種。如果有至少兩種醯基,則其一較佳為乙醯基。如果第二、第三及第六位置羥基之氫原子係由乙醯基取代,則將總取代程度稱為DSA,及如果第二、第三及第六位置羥基之氫原子係由乙醯基以外之醯基取代,則將總取代程度稱為DSB。在此情形,DSA+DSB值較佳為2.22至2.90,更佳是2.40至2.88。此外DSB較佳為至少0.30,而且更佳是至少0.7。依照DSB,第六位置之取代對第二、第三及第六位置之百分比為至少20%。此百分比較佳為至少25%,更佳是至少30%,而且特佳是至少33%。此外醯化纖維素之第六位置的DSA+DSB較佳為至少0.75,尤其是至少0.80,而且特佳是至少0.85。在使用這些種類之醯化纖維素時,其可製造具有較佳溶解度之溶液(或塗布液),而且特別是對非氯型有機溶劑具有較佳溶解度之溶液。此外在使用以上醯化纖維素時,製造之溶液具有低黏度及良好之過濾力。應注意,塗布液含聚合物及用於溶解聚合物之溶劑。此外如果必要,則將添加劑加入塗布液。
作為醯化纖維素原料之纖維素可得自棉毛與木漿之一。
在醯化纖維素中,具有至少2個碳原子之醯基可為脂族基或芳基。此醯化纖維素為例如醯化纖維素之烷基羰基酯與烯基羰基酯。此外有芳族羰基酯、芳族烷基羰基酯等,而且這些化合物可具有取代基。至於此化合物之較佳實例有丙醯基、丁醯基、戊醯基、己醯基、辛醯基、癸醯基、十二碳醯基、十三碳醯基、十四碳醯基、十六碳醯基、十八碳醯基、異丁醯基、第三丁醯基、環己烷羰基、油醯基、苯甲醯基、萘基羰基、桂皮醯基等。其中更佳之基為丙醯基、丁醯基、十二碳醯基、十八碳醯基、第三丁醯基、油醯基、苯甲醯基、萘基羰基、桂皮醯基等,而且特佳之基為丙醯基與丁醯基。
此外至於用於製備塗布液之溶劑有芳族烴(例如苯、甲苯等)、鹵化烴(例如二氯甲烷、氯苯等)、醇(例如甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、二乙二醇等)、酮(例如丙酮、甲乙酮等)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯等)、醚(例如四氫呋喃、甲基賽珞蘇等)等。應注意,塗布液為一種其中將聚合物等溶於或分散於溶劑中之聚合物溶液或分散液。在本發明中亦應注意,塗布液為一種藉由將聚合物等溶於或分散於溶劑中而得之聚合物溶液或分散液。
溶劑較佳為具有1至7個碳原子之鹵化烴,而且特別是二氯甲烷。關於醯化纖維素之溶解度、流延薄膜自撐體之剝除力、薄膜之機械強度、薄膜之光學性質等,其較佳為將一或多種具有1至5個碳原子之醇混合二氯甲烷。醇含量對全部溶劑較佳為2重量%至25重量%之範圍,而且特別是5重量%至20重量%之範圍。具體而言有甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇等。醇之較佳實例為甲醇、乙醇、正丁醇、或其混合物。
順便地,近來為了將對環境之影響降至最小,現已逐漸考量不使用二氯甲烷之溶劑組成物。為了達成此目的,其較佳為具有4至12個碳原子之醚、具有3至12個碳原子之酮、具有3至12個碳原子之酯、及具有1至12個碳原子之醇,而且亦可適當地使用其混合物。例如有乙酸甲酯、丙酮、乙醇、與正丁醇之混合物。這些醚、酮、酯、與醇可具有環結構。此外具有醚、酮、酯、與醇之至少兩種官能基(即-O-、-CO-、-COO-、與-OH)的化合物可用於溶劑。
應注意,醯化纖維素之詳述解釋在日本專利公開公告第2005-104148號之[0140]至[0195],而且此公告之說明可應用於本發明。應注意,溶劑及添加劑之添加劑材料(如塑性劑、退化抑制劑、UV吸收劑、光學各向異性控制劑、染料、消光劑、釋放劑、遲滯控制劑等)的詳述解釋在日本專利公開公告第2005-104148號之[0196]至[0516]。
塗布液係由原料製造。塗布液生產線有用於儲存溶劑之溶劑槽、用於混合TAC與溶劑之混合槽、用於對混合槽供應TAC之加料漏斗、及用於儲存添加劑之添加劑槽。此外有用於將膨脹液體(其如以下所詳述藉由混合TAC與溶劑而得)加熱之加熱裝置、用於控制由膨脹液體得到之塗布液的溫度之溫度控制器、及過濾裝置。此外有用於回收溶劑蒸氣之回收裝置、及用於精製所回收溶劑之精製裝置。塗布液生產線係經原料槽39(參見第2圖)連接薄膜生產線40。
打開球閥而將溶劑送至混合槽。然後測量加料漏斗中所需量之TAC且測量送至混合槽。然後將所需量之添加劑溶液自添加劑槽送至混合槽。應注意,如果添加劑在室溫為液態,則其可以液態進料至混合槽而不必製備添加劑溶液。另外如果添加劑在室溫為固態,則其可使用加料漏斗等進料至混合槽。如果使用多種添加劑化合物,則可在添加劑槽中將含多種添加劑化合物之添加劑累積在一起。另外可使用多個添加劑槽含各添加劑化合物,其經獨立管線送至混合槽。
在以上解釋中,依序將溶劑、TAC與添加劑送至混合槽。然而送入次序不限於此。例如在將所需量TAC測量送至混合槽後可實行較佳量溶劑之進料。此外未必事先將添加劑送至混合槽,而且其可加入TAC與溶劑之混合物。
混合槽具有覆蓋混合槽外表面之外套、及藉各馬達轉動之第一與第二攪拌器。第一攪拌器較佳為具有固定輪葉,及第二攪拌器較佳為溶解器型偏心攪拌器。其使用在外套中流動之熱傳遞介質而控制混合槽之內溫。較佳內溫為-10℃至55℃之範圍。其適當地選擇第一與第二攪拌器至少之一實行轉動。如此得到其中TAC在溶劑中膨脹之膨脹液體。應注意,其可省略第二攪拌器。然而如同此具體實施例,較佳為裝設第二攪拌器。
使用泵將混合槽中之膨脹液體送至加熱裝置。較佳為加熱裝置為具外套之管線,而且進一步將膨脹液體加壓。在僅將膨脹液體加熱或加熱且加壓期間,進行TAC之溶解而可得到聚合物溶液。應注意,聚合物溶液可為一種其中聚合物完全溶解之溶液、及一種其中聚合物經膨脹之膨脹液體。在此熱溶解法中應注意,膨脹液體之溫度較佳為50℃至120℃之範圍。取代使用加熱裝置以熱溶解,可將膨脹液體冷卻至-100℃至-30℃之範圍實行溶解,其係周知的冷卻溶解法。在此具體實施例中,其可依照材料之性質選擇熱溶解法及冷卻溶解法之一來控制溶解度。如此可使TAC足夠地溶於溶劑。將聚合物溶液進料至溫度控制裝置以將溫度控制成約為室溫。然後以過濾裝置完成聚合物溶液之過濾,使得可自聚合物溶液去除雜質。用於過濾裝置之過濾器較佳為具有最大100微米之平均公稱直徑。過濾裝置中之過濾流速較佳為至少50公升/小時。如第1圖所示,過濾後之聚合物溶液在薄膜生產線40之原料槽39中累積成塗布液11(參見第2圖)。
聚合物溶液可作為薄膜製造用塗布液,其在以下解釋。然而在其中製備膨脹液體後實行TAC溶解之方法中,如果其係設計成製造高濃度聚合物,則此塗布液之製造時間變長。因此較佳為首先製備濃度較預定值低之聚合物溶液,然後濃縮聚合物溶液。在此具體實施例中,其將過濾後之聚合物溶液送至閃蒸裝置。在閃蒸裝置中部分地蒸發聚合物溶液之溶劑。蒸發產生之溶劑蒸氣係藉冷凝器(未示)冷凝成液態,及藉回收裝置(未示)回收。回收之溶劑係藉再循環裝置(未示)再循環及再使用。由於製造效率較高且將溶劑再使用,依照此方法可設計成降低成本。
如以上說明濃縮後之聚合物溶液係經泵自閃蒸裝置抽取。此外為了去除聚合物溶液中產生之泡沫,其較佳為實行消泡處理。消泡處理有許多種已知方法,例如超音波照射法等。然後將聚合物溶液進料至另一個過濾裝置,在其中去除未溶材料。應注意,過濾聚合物溶液之溫度較佳為0℃至200℃之範圍。如此將聚合物溶液在原料槽39中累積成塗布液11(參見第2圖)。
如此製造塗布液。製造之塗布液具有5重量%至40重量%範圍之TAC濃度。TAC濃度較佳為15重量%至30重量%,而且特別是17重量%至25重量%之範圍。此外如果塗布液中全部固體含量視為100重量%,則添加劑(主要為塑性劑)之濃度為1重量%至20重量%之範圍。
應注意,製造聚合物溶液之方法詳述於日本專利公開公告第2005-104148號之[0517]至[0616],例如材料之溶解與添加方法、用於形成TAC薄膜之溶液流延方法的原料與添加劑、過濾方法、氣泡去除方法等。
現在解釋薄膜製法10。如第1圖所示,薄膜製法10包括用於由以上方法得到之塗布液11製備流延塗布液14之塗布液製法15、用於將流延塗布液14流延至撐體上形成流延薄膜16之流延程序17、用於在流延薄膜16具有自撐性質時自撐體剝除流延薄膜16成為濕膜18之剝除程序19、及用於將濕膜18乾燥成薄膜22之乾燥程序20。應注意,其可實行用於捲繞薄膜22之薄膜捲繞程序。此外在本發明中濕膜18相當於自撐體剝除之流延薄膜。
以下參考第2圖解釋用於由塗布液11製備薄膜22之薄膜生產線40作為本發明溶液流延設備及溶液流延方法之一個具體實施例。然而應注意,本發明不限於第2圖。薄膜生產線40包括原料槽39、流延模41、支撐輥42、43、環繞支撐輥42、43作為撐體之流延帶44、拉幅機乾燥機45、邊緣切割裝置46、乾燥室47、冷卻室48、捲繞室49等。
原料槽39具有馬達55及藉馬達55驅動而轉動之攪拌器56。原料槽39經具有泵58、過濾裝置59與靜態混合器60之管線61連接流延模41。
在管線61中,其將含消光劑與UV吸收劑之添加劑液體加入塗布液11,然後靜態混合器60攪拌塗布液11與添加劑液體之混合物,而可得到均勻混合物作為流延塗布液14。
流延模41係作為流延塗布液14之流延裝置,而且具有用於排放流延塗布液14之出口41a(參見第3圖)。流延模41係配置使得出口41a可與流延帶44對立。如此流延塗布液14自流延模41經出口41a排放至流延帶44。應注意,以下詳細解釋流延模41。
如第2圖所示,流延帶44位於流延模41下方,而且環繞支撐輥42、43。在支撐輥42、43藉驅動裝置(未示)轉動時,如此流延帶44依照支撐輥42、43之轉動循環地行進。然後流延速度較佳為10米/分鐘至200米/分鐘之範圍。此外支撐輥42、43之溫度係藉用於循環熱傳遞介質之熱傳遞介質循環器80控制。其較佳為藉來自支撐輥42、43之熱傳遞將流延帶44之表面溫度調整成-20℃至40℃之範圍。在此具體實施例中,其在支撐輥42、43中形成熱傳遞介質路徑(未示),而且使藉熱傳遞介質循環器80控制溫度之熱傳遞介質通過此路徑。如此將支撐輥42、43之溫度保持在預定值。
流延帶44之寬度及長度並未特別地限制。然而其較佳為流延寬度之1.1至2.0倍。長度較佳為20米至200米,而且厚度為0.5毫米至2.5毫米。表面較佳為經拋光以具有最大0.05微米之表面粗度。流延帶44較佳為由不銹鋼,而且特別是由SUS316製成,以具有足夠之腐蝕抗性及強度。全部流延帶44之厚度不均勻性較佳為最大0.5%。
應注意,其可使用支撐輥42、43之一作為撐體。在此情形,輥較佳為以高準確度轉動使得轉動顫動可為最大0.2毫米。因此表面粗度較佳為最大0.01微米。此外較佳為對滾筒實行鍍鉻使得滾筒可具有足夠之硬度及持久性。如上所述,撐體較佳為表面缺陷必須減至最小。具體而言,其每1平方米無至少30微米之針孔,最多1個10微米至30微米範圍之針孔,及最多2個小於10微米之針孔。
流延模41、流延帶44等係容納於流延室81中。其提供用於將流延室81之內溫控制在預定值之溫度控制裝置(未示)、及用於冷凝在流延室81中蒸發之有機溶劑的冷凝器82。此外在流延室81外部有用於回收經冷凝有機溶劑之回收裝置83。此較佳具體實施例有用於控制經排放流延塗布液之塗布液粒的背側壓力之減壓室85。如此安定塗布液粒之形成。
在此具體實施例中,其較佳為提供用於饋入乾燥空氣以蒸發流延薄膜16(其隨流延帶44行進而運輸)中溶劑之吹風機87a、87b、87c。此外將擋風板87d配置於流延模41下游側接近流延薄膜16。雖然乾燥風造成恰在形成後之流延薄膜16的表面條件改變,但擋風板87d減少表面條件之變化。此外流延室有用於隨流延帶44行進而輸送流延薄膜16之通路。接近下游通路有用於自流延帶44剝除流延薄膜16成為濕膜18之輥89。然後將濕膜18自流延室81饋出。
其在流延室81下游側提供轉移區域90。轉移區域90有用於饋入溫度為預定值之乾燥空氣的吹風機91。緊鄰轉移區域90將濕膜18進料至拉幅機乾燥機45。在拉幅機乾燥機45中,其將濕膜18之兩個側緣部分藉夾子或銷夾持且按濕膜18之寬度方向完成拉伸。此外在拉幅機乾燥機45中,其對濕膜18施加乾燥空氣使得按預定條件完成乾燥。應注意,拉幅機乾燥機45內部分隔成多個溫度區,其中較佳為獨立地控制溫度。如此將濕膜18乾燥且成為薄膜22自拉幅機乾燥機45饋出。然後將薄膜22進料至配置於拉幅機乾燥機45下游之邊緣切割裝置46。在邊緣切割裝置46中切除薄膜22之兩個側緣部分。藉連接至邊緣切割裝置46之壓碎機93將薄膜22之經切除側緣部分的頂端壓碎。
乾燥室47含有多個輥100。此外乾燥室47附有用於吸附及回收在薄膜22之溶劑蒸發中產生之溶劑蒸氣的吸附裝置101。此外乾燥室47下游有用於冷卻薄膜22之冷卻室48。此外可提供濕度控制室(未示)以調節乾燥室與冷卻室48間之濕度。
在乾燥室47下游側,強制中和裝置(中和棒)102排除薄膜22之帶電靜電電位能至預定值(例如-3 kV至+3 kV之範圍)。中和程序之位置不限於此具體實施例。例如此位置可在乾燥段或滾紋輥103下游側之預定位置,另外中和可在多個位置完成。在中和後,其藉滾紋輥完成薄膜22兩個側部分之壓花以提供滾紋。此外捲繞室49有用於捲繞薄膜22之捲繞軸110及用於控制捲繞中薄膜張力之壓輥111。
<流延模>如第4 & 5圖中,作為流延裝置之流延模41具有兩個唇板210、211。各唇板210、211具有預定形狀之凹口,而且唇板210、211係配置成使得凹口可組合形成其邊緣為環形之歧管215及縫216。
如第5 & 6圖所示,兩個側板218、219係配置於唇板210、211之側緣上。其將填料(未示)配置於唇板210、211與側板218、219之間,以堅固地組合及接觸唇板210、211與側板218、219。歧管215具有塗架形式,包括連接管線61之入口220(參見第2圖)。其在歧管215下側形成縫216,而且將內定框板223、224配置於縫216兩邊以堅固地接觸填料。應注意,上端223x(第4圖)係位於縫216。然而本發明不限於此。上端223x可位於歧管之上端或下端。此外如果唇板210、211堅固地黏附側板218、219,而且進一步如果歧管215、縫216等夠接近,則可不使用填料。
唇板210、211各具有接觸流延塗布液14且朝長度方向LD形成縫壁之接觸面210a、211a。內定框板223、224各具有接觸流延塗布液14且向寬度方向WD形成縫壁之接觸面223a、224a。接觸面210a、211a、223a、224a形成縫216與出口41a,而且縫216之末端為出口41a。流延塗布液14係經入口220供應至歧管215中,流入縫216,及自流延模41經出口41a排放至流出方向(排放方向)A1。
唇板211與內定框板223各以端面211b及端面223b提供於流出方向A1之下游面上,其為流延塗布液14通路中之最下游面。此外唇板211之接觸面211a及端面211b形成脊211c,而且內定框板223之接觸面223a及端面223b形成脊223c。理想地,內定框板223之下端係配置於理想面上,其表示在流延模41之模唇的下端無突起。然而以理想方式配置唇板211及內定框板223太困難。在實際模製造中,內定框板223之下端在模唇上形成突出。因此本發明將突出減少至最多預定值。具體而言,脊211c與脊223c間之距離CL1為最大9微米。在出口41a側,唇板210及內定框板224各具有端面210b及端面224b,其為流延塗布液14通路之最下游面。此外唇板210之接觸面210a及端面210b形成脊210c,及內定框板224之接觸面224a及端面224b形成脊224c。以理想方式配置唇板210及內定框板223之下端亦太困難。在實際模製造中,內定框板223之下端在模唇上形成突出。因此本發明將突出減少至最多預定值。具體而言,脊210c與脊224c間之距離CL4為最大9微米。此外脊211c與脊224c間之距離CL3及脊210c
與脊223c間之距離CL2亦為最大9微米。
應注意,流出方向A1可由一種其中將追蹤材料注射至流延塗布液14中且觀察追蹤材料粒子之路徑的方法決定。另外流出方向A1可由一種使用其中觀察聚合物溶液之流動雙折射現象的光彈性裝置之方法決定。
用於製造流延模41中唇板210、211及內定框板223、224之材料較佳為具有對接觸流延塗布液14造成之氧化及腐蝕的抗性。此外為了將距離CL1-CL4保持在預定範圍,其較佳為在流延程序中幾乎不發生大小變動。因此唇板210、211及內定框板223、224用材料較佳為具有以下特性:(1)在電解質水溶液中之強制腐蝕實驗中,腐蝕抗性與SUS316相同,(2)在氣-液界面上不發生斑蝕(或斑蝕腐蝕),即使將此材料浸於二氯甲烷、甲醇與水之混合液體中經三個月,及(3)熱膨脹係數為最大2×10-5
(℃-1
)。
因此唇板210、211及內定框板223、224用材料較佳為不銹鋼及陶瓷,而且特別是沃斯田鐵型不銹鋼,特別是SUS316、SUS316L。此外亦特佳為經析出硬化不銹鋼,如SUS630、SUS631等。現在敘述調整距離CL1-CL4之方法的一個實例。應注意,調整方法不限於以下之說明。首先得到具有預定大小之唇板210、211及內定框板223、224
。其次如第7A圖所示,組合唇板210、211與內定框板223、224。第三,恰在組合唇板210、211與內定框板223、224後測量距離CL1-CL4。測量時對內定框板223按方向A2施力,使得內定框板223之面223d及唇板211之面211d可彼此接觸。依照第7A圖未示之內定框板224,以相同方式測量距離CL1-CL4。第四,去除內定框板223、224,及處理面223b、224b使得距離CL1-CL4可為最大9微米。如此調整距離CL1-CL4而具有預定值。
如果進行以上之調整方法,則較佳為進一步滿足不僅以上條件(1)-(3),亦及以下條件:(4)唇板210、211及內定框板223、224恰在處理後之體積波動率為最大0.05%,及(5)內定框板223、224不會硬到損壞唇板210、211。
本發明較佳為唇板210、211及內定框板223、224之體積波動率滿足以上條件(4)。體積波動率表示在x、y、z直角座標系統中大小波動率ax
、ay
、az
之最大值。在按x軸方向每單位大小(1平方毫米)施加外力F(約90牛頓)之內定框板223、224的大小波動為△bx
,及施加外力前內定框板之大小為bx
之情形,大小波動率ax
定義為△bx
/bx
。如果按y軸方向施加外力F之內定框板223、224的大小波動為△by
,及施加外力前內定框板之大小為by
,則大小波動率ay
定義為△by
/by
。在按z軸方向施加外力F之內定框板223、224的大小波動為△bz
,及施加外力前內定框板之大小為bz
之情形,大小波動率az
定義為△bz
/bz
。
依照條件(5),例如如果使用經析出硬化不銹鋼作為唇板210、211用材料,則較佳為內定框板223、224用材料具有200 Hv至1000 Hv範圍之維克氏硬度。因此較佳為使用不銹鋼或陶瓷作為內定框板223、224用材料。此外內定框板用材料較佳為具有鎂。在此情形,在處理面223b、224b時,內定框板223、224係藉磁鐵固定,因此距離CL1-CL4之處理準確度變高。
依照唇板210、211及內定框板223、224之接觸面210a、211a、223a、224a,其較佳為修整準確度為最大1微米之表面粗度且在任何方向之直線性為最大1微米。在接觸面210a、211a、223a、224a之修整準確度滿足以上條件時,其防止流延薄膜上之條紋及不均勻性形成。面210b、211b、223b、224b之光滑度較佳為最大2微米。
較佳為硬化層較佳地形成於面210b、211b、223b、224b上。形成硬化層之方法並未限制。但是其為例如陶瓷硬化塗覆、鍍硬鉻、中和處理等方法。如果使用陶瓷作為硬化層時,則較佳為使用之陶瓷可研磨但不易碎,具較低多孔性,高腐蝕抗性,及不黏著流延模41。具體而言,其為碳化鎢(WC)、Al2
O3
、TiN、Cr2
O3
等。特佳陶瓷為碳化鎢。碳化鎢塗覆可藉噴灑法完成。
流延模41之寬度並未特別地限制。然而此寬度較佳為薄膜寬度之至少1.1倍至最大2.0倍。此外較佳為流延模41附溫度控制裝置(未示),使得在薄膜製造期間可維持預定溫度。此外流延模41較佳為塗架型模。
為了調整薄膜厚度,流延模41較佳為具有自動厚度調整裝置。例如將厚度調整螺栓(熱螺栓)在流延模41之寬度方向按預定距離配置。依照熱螺栓時,其較佳為在薄膜製造時基於預定程式依泵(較佳為高精確度齒輪泵)58之進料速率設定外形。此外可基於如紅外線厚度計等之厚度計(未示)的外形,藉調整程式完成反饋控制。在流延薄膜側緣部分以外之寬度方向任何兩點間之厚度差較佳為控制成最大1微米。寬度方向厚度之最大值與最小值間之差為最大3微米,而且特別是最大2微米。此外厚度之指定目標值的準確度較佳為±1.5微米。此外較佳為將流延模14之剪切速率控制成1(1/秒)至5000(1/秒)之範圍。
現在敘述使用薄膜生產線40用於製造薄膜22之薄膜製造方法的一個具體實施例。塗布液11始終因攪拌器56之轉動而均勻。在攪拌期間可加入添加劑,如塑性劑等。
其驅動泵58以將塗布液11進料至過濾裝置59,在其中完成塗布液11之過濾。在管線(未示)中混合消光劑液體及UV吸收劑液體,而且其混合係藉靜態混合器(未示)而成為均勻添加劑液體。然後添加劑液體加入進料至管線61之塗布液11(參見第1圖)。然後藉靜態混合器60完成塗布液11與添加劑液體之混合,及塗布液11變均勻且自靜態混合器60饋出成為流延塗布液。塗布液11、消光劑液體與UV吸收劑之混合比例並未特別地限制。然而較佳為重量百分比(塗布液11、消光劑液體與UV吸收劑)之比例為(90重量%;5重量%;5重量%)至(99重量%;0.5重量%;0.5重量%)。
支撐輥42、43之驅動較佳為控制使得流延帶44之張力可在104
牛頓/米至105
牛頓/米之範圍。然後將流延塗布液14自流延模41流延至流延帶44上。流延帶44與各支撐輥42、43間之相對速度差為最大0.01米/分鐘。依照流延帶44之控制,較佳為行進速度對預定值之變化為最大0.5%,及行進一圈在寬度方向之蜿蜒為最大1.5毫米。為了降低蜿蜒,其較佳為在流延帶44之各側緣部分上方提供偵測器(未示),以基於測量值進行流延帶44位置之反饋控制。此外流延帶44之位置依照支撐輥42之轉動而上下偏移。因此較佳為流延帶44之位置控制於流延模41之正下方,使得流延帶44之偏移範圍可為最大200微米。流延室81之內溫較佳為藉溫度控制裝置65控制在-10℃至57℃之範圍。流延室81中之溶劑蒸氣係藉冷凝器82冷凝,及回收溶劑係藉回收裝置83回收,然後再循環作為塗布液製備用溶劑。
流延塗布液14係經流延模41之出口41a排放。經排放塗布液粒在流延模41與流延帶44之間形成粒,而且流延塗布液在流延帶44上形成流延薄膜16。較佳為流延塗布液14之溫度為-10℃至57℃之範圍。此外為了穩定流延塗布液粒之形成,其有用於控制塗布液粒背側壓力之減壓室85。減壓較佳為進行使得上游對下游側之塗布液粒壓力差可為-10 Pa至-2000 Pa之範圍。
其較佳為對減壓室85提供用於控制內溫之外套(未示)。減壓室85之溫度並未特別地限制。然而溫度較佳為至少所使用有機溶劑之最高熔點。此外可對減壓室85提供抽氣器,其接近流延模41之塗布液出口的兩個側緣。如此在塗布液粒之兩個側緣抽氣以安定塗布液粒之形狀。在此情形,抽氣力速度較佳為1至100公升/分鐘之範圍。
吹風機87a-87c饋入風使得流延薄膜16之溶劑可蒸發更多。在此情形,雖然施加乾燥空氣造成流延薄膜16恰在形成後之表面條件改變,但擋風裝置87d減小表面條件之變化。流延帶44之表面溫度較佳為-20℃至40℃之範圍。
在流延塗布液具有自撐性質時,以將流延薄膜16剝除成為以輥89支撐之濕膜18。剝除時之殘餘溶劑含量較佳為固體材料含量之20重量%至250重量%的範圍。然後將濕膜18在其中提供許多輥之轉移區域90運輸。在轉移區域90中,吹風機91饋入溫度為預定值之乾燥空氣。如此進行濕膜18之乾燥。在轉移區域90中,各輥之轉動速度在上游側變高。如此可對濕膜18按運輸方向施加抽拉張力。
在拉幅機乾燥機45中,濕膜18係藉由使用夾子等夾住兩個側緣部分而夾持。在夾子移動而運輸濕膜18時,其按預定條件完成乾燥。
濕膜18係乾燥直到殘餘溶劑含量變成預定值,而且成為薄膜22自拉幅機乾燥機45饋出朝向用於切除兩個側緣部分之邊緣切割裝置46。藉切割器吹送機(未示)將切割之側緣部分送至壓碎器93,及藉壓碎器93壓成碎片。碎片可再用於製備塗布液,其就降低製造成本而言為有效的。應注意,其可省略兩個側緣部分之切割程序。然而較佳為在流延程序與捲繞程序之間實行切割。
將已切除其側緣部分之薄膜22送至乾燥室47且進一步乾燥。在乾燥室47中,薄膜22係環繞輥100而運輸。乾燥室47之內溫並未特別地限制。然而其較佳為在50℃至160℃之範圍。藉乾燥室47自薄膜22蒸發之溶劑蒸氣係藉吸附裝置101吸附。將去除溶劑成分之空氣在乾燥室47中再使用作為乾燥空氣。應注意,乾燥室47較佳為具有多個隔間以改變乾燥溫度。此外在邊緣切割裝置46與乾燥室47之間提供前乾燥室(未示)以實行薄膜22之前乾燥。如此防止薄膜22之溫度快速地增加,因此減少薄膜22之形狀變化。
將薄膜22運向冷卻室48,在其中冷卻至大約室溫。其可在乾燥室47與冷卻室48之間提供濕度控制室(未示)以調節濕度。較佳為在濕度控制室中將具溫度與濕度經控制之空氣施加至薄膜22。如此在捲繞程序中可減少薄膜22之捲曲及捲繞缺陷。
然後強制中和裝置(或中和棒)102排除薄膜22之帶電靜電電位至預定值(例如在-3 kV至+3 kV之範圍)。中和程序之位置不限於此具體實施例。例如此位置可在乾燥段或滾紋輥103下游側之預定位置,另外中和可在多個位置完成。在中和後,其藉滾紋輥完成薄膜22兩個側部分之壓花以提供滾紋。由壓花底部至頂部之壓花高度為1微米至200微米之範圍。
在最後程序中,薄膜22在捲繞室49中以捲繞軸110捲繞。此時對壓輥111施加預定值之張力。較佳為張力係自捲繞開始至結束逐漸改變。在本發明中,薄膜22之長度較佳為至少100米。薄膜寬度較佳為至少600毫米,而且特別是1400毫米至2500毫米之範圍。此外即使寬度超過2500毫米,本發明仍有效。即使厚度為20微米至80微米之範圍,本發明仍適用。
現在進行關於流延塗布液14經流延模41之出口41a排放之詳細解釋。
如第3 & 6圖所示,在流延程序17中(參見第1圖),塗布液14流經入口220、歧管215與縫216。在縫216中,流延塗布液14流向出口41a,同時藉接觸面223a、224a調節流延塗布液14之寬度,及藉接觸面210a、211a調節流延塗布液14之厚度。流延塗布液14按流出方向A1經流延模41之出口41a排放。流出方向A1之脊210c、211c、223c、224c間的距離CL1-CL4為最大9微米,因此經出口41a排放之流延塗布液14自流延模41流出至流延帶44上而未保留。如此流延塗布液14在流延帶44上形成流延薄膜16而在流延模41之出口41a不形成結皮。
產生流延塗布液14結皮之原因並不清楚。然而如果距離CL1-CL4大,則依照本發明之效果可視為如下。在黏彈性流體之流延塗布液14經出口41a排放時,其發生模膨脹現象。發生模膨脹現象之原因據信為通常在黏彈性流體通過管線發生之彈性剪切應變在接近管線出口回復。因此在流延模41中,接近出口41a之彈性剪切應變回復造成流延塗布液14之保留。通常在由一對唇板或一對內定框板構成之流延模中,距離CL1-CL4不為零。因此在模唇下端,自出口41a按流出方向A1饋出之流延塗布液僅接觸接觸面之一,同時已與對立側之接觸面分開。在此情況,部分流延塗布液接觸到接觸面,而且此部分之彈性剪切應變因模膨脹現象而回復。因此,流延塗布液之膨漲會發生。此外其他部分之流延塗布液與對立側之接觸面分開,即未接觸對立側之接觸面,彈性剪切應變未回復。因此如果部分地發生之彈性剪切應變回復持續一段時間,則完全地發生流延塗布液之流動失序而造成接觸於流延面之流延塗布液之保留。此外流延塗布液之失序依距離CL1-CL4放大而變大。然而在本發明中,由於距離CL1-CL4為最大9微米,其防止因模膨脹現象而造成之流延塗布液保留。因此在本發明中,其降低流經流延模41中通道之流延塗布液14的流動失序或彈性剪切應變。結果防止流延塗布液對唇板210、211之黏附及保留,而黏附及保留通常造成結皮。
在本發明中,排放流延塗布液14通過出口41a之排放速度或流延塗布液14之黏彈性均與用於薄膜製造之出口41a的形式或流延塗布液14的黏彈性無關,而且在任何情形,其可預期減少結皮之效果。因此本發明廣泛地應用於用於製造數種薄膜之溶液流延方法。
至於本發明之溶液流延方法、溶液流延設備及流延模41,其實行流延程序17而降低造成結皮之流延塗布液14保留。因此在薄膜製造期間不需要清潔撐體及去除結皮。如此可使薄膜之製造有效率。考量溶液流延方法之製造速度增加,流延程序之速度為其主要元素之一。為了增加製造速度,不僅流延帶44之行進速度增加,減壓室85之減壓的增加亦不可或缺。然而在本發明中,其亦在高薄膜製造速度防止結皮發生,而且使流延程序17穩定。此外先行技藝認為長方形出口容易發生流延塗布液14之保留。然而在本發明中,即使流延裝置具有任何形狀仍達成此效果。因此可將本發明應用於具有長方形出口之流延裝置。此外結皮及保留造成數種對溶液流延方法有不良影響之元素。然而本發明亦防止此元素。至於此元素,例如有因在接近模唇之接觸面210a、211a、223a、224a內側發生塗布液固化粒子而形成之模線。
此外本發明之流延裝置不僅用於流延模、溶液流延生產線及溶液流延方法,亦用於排放處理黏彈性流體。在此情形,其可防止因保留及模膨脹現象造成之不良元素(例如模線等)。
在以上具體實施例中,唇板210、211及內定框板223、224之面210b、211b、223b、224b為平行,而且在此條件下解釋。然而考量面之實際處理,唇板210、211及內定框板223、224之面210b、211b、223b、224b接***行。然而即使唇板210、211及內定框板223、224之面210b、211b、223b、224b不平行,本發明仍可適用。在此情形,在考量構成出口41a之構件之一的側面與接觸面形成之第一脊及另一構件之第二脊時,第一與第二脊間之差按流出方向A1為最大9微米。如此達成本發明之效果。因此在內定框板223、224為自唇板210、211按流出方向A1突起時,或在唇板210、211為自內定框板223、224按流出方向A1突起時,其在突出長度為最大9微米之條件下達成本發明之效果。應注意,如果在模唇上未發現任何突出則仍滿足最大9微米之條件。因此在此情形亦達成本發明之效果。
順便地,依照在唇端之唇板210、211及內定框板223、224,接觸面之任何一個邊緣有時按接觸面之面內方向彎曲而形成不齊狀(或鋸齒狀)曲線。因此為了防止連續發生彈性剪切應變之部分回復,本發明較佳為調節各邊緣在接觸面210a、211a、223a、224a下游端之彎曲差,同時彎曲差係定義為不齊曲線之頂部與底部間的最大值。其表示如果不僅調節垂直於流出方向之不同脊間的突出長度,而且調節構成塗布液通道之構件的下端部分各邊緣之彎曲差時,則本發明更為有效地實行。具體而言,彎曲差較佳為最大9微米。例如在此具體實施例中,內定框板223、224係在縫216下游端自唇板210、211按流出方向突起,而且接觸面210a、211a、223a、224a之下游端邊緣不僅有垂直於流出方向之脊210c、211c、223c、224c,而且有按流出方向延伸之脊223x、223y、224x、224y。脊223x為連接脊210c、223c之接觸面223a之邊緣,脊223y為連接脊211c
、223c之接觸面223a之邊緣,脊224x為連接脊210c、224c之接觸面224a之邊緣,及脊224y為連接脊211c、224c之接觸面224a的邊緣。各脊210c、211c、223c、224c、223x、223y、224x、224y之彎曲差較佳為最大9微米。
即使唇板210、211自內定框板223、224按流出方向A1突起時,彎曲差之調節亦以相同方式完成。在此情形,接觸面210a、211a、223a、224a之下游端邊緣不僅有脊210c、211c、223c、224c,亦有接觸面210a、211a在脊223c、224c下游側之下游端面邊緣(未示)。
此外較佳為在本發明中,接觸面210a、211a、223a、224a之下游端邊緣可彎曲而具有弧形。
由於用於溶液流延方法之塗布液為黏彈性流體,在出口與撐體間之經排放流延模粒的兩個側緣因瓶頸現象之效果而變厚(以下稱為邊緣缺陷)。即使在薄膜製造中發生粒之邊緣缺陷時,則所製造薄膜之兩個側緣部分亦無法作為薄膜產物,因此薄膜之製造效率變低。此外在薄膜製法中,具有厚側緣部分之流延薄膜造成低撐體黏著性。因此流延薄膜在撐體上之自撐性質不足,或者薄膜在輥上纏繞。
在塗布液之黏度變高之情形,及在出口至撐體之氣隙變大之情形,造成邊緣缺陷之瓶頸現象極易發生。為了使塗布液之黏度低,其需要改變聚合物組成物或使用低聚合物濃度之塗布液。改變聚合物組成物因所製造薄膜之光學性質的限制而較不採用。此外由於發生自撐性質變難,使用較低聚合物濃度之塗布液造成低生產力。
因此為了防止因流延塗布液14之瓶頸現象造成之缺陷,氣隙AG(參見第3圖)較佳為最大100毫米,更佳是最大10毫米,而且特別是最大5毫米。氣隙AG為撐體(流延帶44等)表面與脊210c、211c、233c、234c之一之間的最小距離。為了防止因流延帶44接觸由硬材料形成之內定框板223、224造成之流延帶44缺陷,氣隙AG較佳為至少0.1毫米。氣隙AG可依流延模41之位置、距離CL1-CL4之大小、及行進流延帶44之上下方向位置波動而控制。
此外為了使氣隙AG較小,其較佳為形成接觸面210a、211a、223a、224a,使得脊223c、224c可較脊210c、211c接近流延帶44。為了防止發生結皮,其可形成接觸面210a、211a、223a、224a使得脊210c、211c較脊223c、224c接近流延帶44。
為了使氣隙AG較小,其必須在調整氣隙AG及流延流延塗布液14時防止因接觸內定框板223、224之流延帶44缺陷。在習知方、式中,內定框板因此由樹脂製造,如Teflon(註冊商標)等。然而在本發明中,內定框板係由硬材料形成,如不銹鋼、陶瓷等,因此可以高準確度完成距離CL1、CL4之調節及氣隙AG之調節。因此在本發明中,其防止因瓶頸現象造成之缺陷,同時防止結皮。
為了防止因模具膨脹現象與瓶頸現象造成之缺陷,自流延模41之出口41a排放之流延塗布液14的黏度較佳為10 Pa.s至200 Pa.s之範圍。
在此流延模具體實施例中,內定框板223、224係配置使得接觸面223a與224a間之距離可幾乎固定。然而本發明不限於此具體實施例。以下解釋流延模之第二-第四具體實施例。應注意,相同號碼適用於流延模41之相同構件及部分,而且省略其解釋。
如第8 & 9圖所示,流延模400具有連接管線61(流延塗布液經其流動)之入口220,及用於流延塗布液(其經入口220進料至流延模400中)之排放出口400a。此外流延模400有一對唇板410、411,及一對板218、219。在側板218、219之間有內定框板423、424。此外將填料(未示)配置於側板218與內定框板423之間,及將其他填料(未示)配置於側板219與內定框板424之間。接觸面410a、411a各形成於唇板410、411上,及接觸面423a、424a各形成於內定框板423、424上。接觸面410a、411a、423a、424a形成連接入口220之歧管415、及連接歧管與出口400a之縫416。
接觸面411a具有上部450、配置於上部450按流出方向Al之下游側的中部451、及配置於中部451下端至出口400a之下部452。上部450與接觸面410a間之距離稱為TH1,及下部452與接觸面410a間之距離稱為TH2。上部450與下部452係形成使得可滿足條件TH1>TH2。此外中部451至接觸面410a之距離按流出方向由上至下游側變窄。如此在縫416中,流延塗布液之厚度首先藉上部450至接觸面410a控制成TH1值,然後藉下部452至接觸面410a控制成TH2值。然後將流延塗布液自出口400a排放。
接觸面423a與424a間之距離W1係定義成流延塗布液之流動寬度。距離W1在歧管415中幾乎完全固定,而且在縫416接近出口400a之下部以預定比率變大。如此內定框板423、424之接觸面423a、424a在下端部分具有按流延模400之寬度方向傾向外側之傾斜面。由於各接觸面423a、424a具有傾斜面,經排放流延塗布液粒之兩個側緣部分變薄,因此防止邊緣缺陷。應注意,傾斜表面對應本發明之加寬表面。
在此具體實施例中,如果將加寬起始位置定為接觸面423a、424a間之距離W1開始變大之位置,則接觸面411a之中部451在加寬起始位置下游側變寬。然而本發明不限於此具體實施例。其可形成中部以在延伸起始位置之上游部分開始按寬度方向延伸。
代替第二具體實施例之流延模400,第三具體實施例之流延模500可用於本發明,如第10圖所示。流延模500具有歧管515、縫516、接觸面523a、524a、及出口500a。接觸面523a、524a間之距離W1在較靠近出口500a之位置變大。接觸面之下端部分可為彎向流延模寬度方向外側之彎曲面。此外距離W1之延伸速率在縫516接近出口500a之下部變小。
此外在這兩個具體實施例中,內定框板之接觸面間距離在接近出口處變大。然而本發明不限於此。如第11圖所示,第三具體實施例之流延模600可用於本發明。流延模600具有內定框板623、624、歧管615、縫616、及出口600a。內定框板623、624各具有接觸面623a、624a,而且接觸面623a、624a間之距離W1自縫616之上游端以預定比率變大,同時縫616在上游端連接歧管615。
在此具體實施例中,內定框板為板構件。然而本發明不限於此。因此如果內定框構件具有用於調節自出口排放之流延塗布液寬度的接觸面,則可無關形狀使用其他型式之內定框板。
本發明將由流延帶44形成之流延薄膜16乾燥而具有自撐性質。然而本發明不限於此。例如本發明可應用於一種其中藉由冷卻流延薄膜16而完成膠化,使得流延薄膜16可具有自撐性質之溶液流延方法。特別地,在冷卻膠化方法中,發生自撐性質所需時間較乾燥流延薄膜之方法短,而且快速冷卻之負面效果不大。因此膠化方法適合高速薄膜製造。此外在以上具體實施例中使用連續地行進之流延帶44(參見第3圖)作為撐體。然而本發明不限於此。撐體可為軸向地轉動之流延圓筒。
本發明之溶液流延方法有用於流延多塗布液之流延方法,例如共流延方法及循序流延方法。在共流延方法中,進料區可附於流延模,如此具體實施例,或者可使用多歧管型流延模(未示)。在具有多層結構之薄膜製造中,其將多種塗布液流延至撐體上形成具有第一層(最上層)及第二層(最下層)之流延薄膜。然後在製造之薄膜中,第一層之厚度與對立之最下層的厚度至少之一較佳為總薄膜厚度之0.5%至30%的範圍。此外在將其設計成實行共流延時,較高黏度塗布液被低黏度塗布液包夾。具體而言,其較佳為用於形成表面層之塗布液具有較用於形成被表面層包夾之層的塗布液低之黏度。此外在將其設計成共流延時,其較佳為在模縫(或模唇)與撐體間之塗布液粒中,醇之組成物在二外塗布液高於內塗布液。
日本專利公開公告第2005-104148號之[0617]至[0889]詳述流延模、減壓室、撐體等結構,而且進一步關於共流延、剝除、拉伸、各程序之乾燥條件、處理方法、捲曲、修正平面性後之捲繞方法、溶劑回收方法、薄膜回收方法。其說明可應用於本發明。
日本專利公開公告第2005-104148號之[0112]至[0139]敘述關於捲繞醯化纖維素薄膜之性質及其測量方法。此性質及測量方法可應用於本發明。
醯化纖維素薄膜較佳為在至少一個表面之表面處理後以數種方式使用。較佳表面處理為真空輝光放電、在大氣壓力下電漿放電、UV光照射、電暈放電、火燄處理、酸處理與鹼處理。此外較佳為利用這些表面處理之一。
醯化纖維素薄膜在至少一個表面上可具底塗層,而且以數種方式使用。
其較佳為使用醯化纖維素薄膜作為可對其提供功能層之一的基膜。較佳功能層為抗靜電層、硬化樹脂層、抗反射層、易黏著層、抗眩層、與光學補償層。
用於形成功能層之條件及方法詳述於日本專利公開公告第2005-104148號之[0890]至[1087],其可應用於本發明。如此製造之薄膜可具有數種功能及性質。
這些功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種界面活性劑。此外功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種塑性劑。功能層較佳為含0.1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種消光劑。功能層較佳為含1毫克/平方米至1000毫克/平方米範圍之至少一種抗靜電劑。
製造之醯化纖維素薄膜可有效地作為偏光濾色片用保護膜。在偏光濾色片中,其將醯化纖維素薄膜黏附偏光片。其通常將兩片偏光濾色片黏附液晶層使得可製造液晶顯示器。應注意,液晶層及偏光濾色片之排列不限於此,而且數種已知排列為可行的。日本專利公開公告第2005-104148號詳細揭示TN型、STN型、VA型、OCB型、反射型、及其他型式之液晶顯示器。此說明可應用本發明。此外,此公告第2005-104148號敘述具光學各向異性層及具有抗反射與抗眩功能之醯化纖維素薄膜。此外由於為具適當光學功能之雙軸醯化纖維素薄膜,製造之薄膜可作為光學補償膜。此外此光學補償膜可作為偏光濾色片用保護膜。其詳細說明在公告第2005-104148號之[1088]至[1265]。
在形成本發明聚合物薄膜之方法中,形成之醯化纖維素薄膜的光學性質優良。TAC薄膜可作為偏光濾色片用保護膜、感光性材料之基膜等。此外為了改良液晶顯示器(用於電視等)之視角依附性,製造之薄膜亦可用於光學補償膜。特別地,在兼作偏光濾色片用保護膜時,其有效地使用製造之薄膜。因此薄膜不僅用於如先行模式之TN模式,而且用於IPS模式、OCB模式、VA模式等。此外其可構成具有保護膜作為構造元件之偏光濾色片。
此外本發明不限於光學薄膜之製造,而且適用於藉溶液流延方法製造任何薄膜。例如本發明適用於製造作為用於燃料電池之質子穿透材料的固態電解膜。應注意,用於本發明之聚合物不限於醯化纖維素,而是可為任何已知聚合物。
本發明之實驗已完成,其如以下之解釋。此實驗實行五個薄膜製造實例。實例1 & 2為本發明之實例,及實例3-5為對實例1 & 2之比較。詳細解釋實例1,而且在實例2-5之解釋中省略相同處之解釋。
以下解釋實例1。用於製備用於薄膜製造之塗布液的組成物如下:<固體化合物>三乙酸纖維素 89.3重量%(取代程度:2.8)塑性劑A(磷酸三苯酯) 7.1重量%塑性劑B(磷酸聯苯基二苯酯) 3.6重量%<溶劑>二氯甲烷(第一溶劑成分) 92重量%甲醇(第二溶劑成分) 8重量%
如上所述,塗布液用溶劑含第一及第二溶劑成分。將固體成分適當地加入溶劑,而得到塗布液11。應注意,所得塗布液11之固體含量為19.3重量%。然後使用過濾器(東洋濾紙(股)製造之#63LB)將塗布液11過濾,而且進一步使用燒結金屬過濾器(06N,多孔性直徑10微米,日本精線(股)製造)過濾。此外使用篩過濾器將塗布液11過濾然後儲存在原料槽39。
<三乙酸纖維素>依照用於此實驗之三乙酸纖維素,乙酸殘餘含量為最大0.1重量%,Ca含量為5 ppm,Mg含量為70 ppm,Fe含量為0.5 ppm,自由乙酸為40 ppm,及硫酸離子含量為15 ppm。第6位置處乙醯化程度為0.91,及第6位置處乙醯基對所有乙醯基之百分比為32.5%。丙酮萃取物為8重量%,及重量平均分子量對數量平均分子量之比例為2.5。此外黃化指數為1.7,霧值為0.08,及透明度為93.5%。此三乙酸纖維素係由纖維素作為得自棉之材料而合成,而且在以下之解釋中稱為棉TAC。
<消光劑液體之製備>製備消光劑液體以含以下化合物,而TAC係與用於塗布液11之製備者相同:矽石 0.67重量%(Aerosil R972,Nippon Aerosil Co.,Ltd.製造)三乙酸纖維素 2.93重量%磷酸三苯酯 0.23重量%磷酸聯苯基二苯酯 0.12重量%二氯甲烷 88.37重量%甲醇 7.68重量%
使用研磨器製造以上化合物之混合物的分散液,使得體積中平均粒徑為0.7微米。如此製備消光劑液體,然後使用Astropore過濾器(Fuji Photo Film Co.,Ltd.製造)過濾,然後儲存於消光劑槽中。
<UV吸收劑液體之製備>UV劑A 5.83重量%(2-(2’-羥基-3’,5’-二第三丁基苯基)-5-氯苯并***)UV劑B 11.66重量%(2-(2’-羥基-3’,5’-二第三戊基苯基)苯并***)三乙酸纖維素 1.48重量%磷酸三苯酯 0.12重量%磷酸聯苯基二苯酯 0.06重量%二氯甲烷 74.38重量%甲醇 6.47重量%
使用Astropore過濾器(Fuji Photo Film Co.,Ltd.製造)將製備之UV吸收劑液體加以過濾,然後儲存於UV劑槽。
此外製備混合物溶劑A以含86.5重量%之二氯甲烷、13重量%之甲醇、0.5重量%之1-丁醇。
將消光劑液體加入UV吸收劑液體,及將混合物藉靜態混合器攪拌而得到添加劑液體。驅動泵58將塗布液11經管線61進料,及藉過濾裝置59將塗布液11過濾。然後將添加劑液體加入塗布液11,而且藉靜態混合器60混合塗布液11與添加劑液體。如此得到流延塗布液14。
使用第2圖所示之薄膜生產線40製造薄膜22。泵58增加主側壓力,及使用變頻馬達以反饋控制將塗布液11進料至泵之上游側,使得主側壓力可為0.8 MPa。至於泵58之效率,體積效率為最大99.2%,排放體積之波動百分比為最大0.5%。此外排放壓力為1.5 MPa。
流延模41包括唇板210、211、側板218、219、內定框板223、224,同時流延模41之這些構件係由體積波動百分比為0.002%之SUS316形成。至於唇板210、211及內定框板223、224之接觸面210a、211a、223a、224a的修整精度,表面粗度為最大1微米且在任何方向之直線性為最大1微米。此外至於出口41a邊緣之突出,距離CL1-CL4為最大2微米。
控制流延塗布液14在流延模41中接近出口41a之流速。來自流延模41出口41a之流延塗布液14的流延寬度為1700毫米。流延速度為45米/分鐘至55米/分鐘之範圍。在外套入口將熱傳遞介質之溫度控制成36℃,使得流延塗布液14之溫度可控制成36℃。
在此實驗中,唇板210、211及內定框板223、224之大小與大小變化係使用解析度為1微米之顯微鏡測量。
在薄膜製造期間將流延模41及管線之溫度控制成36℃。流延模41為塗架型,其中用於調整薄膜厚度之熱螺栓係以20毫米之節距配置。如此藉熱螺栓自動地控制薄膜厚度(或塗布液厚度)。熱螺栓之外形可基於預設程式,對應泵(未示)之流速而設定。如此可基於配置在薄膜生產線40中之紅外線厚度計(未示)的外形,藉控制程式完成反饋控制。其進行控制使得除了兩個側緣部分(所製造薄膜之寬度方向各20毫米)之外,兩點(彼此分隔50毫米)間之薄膜厚度差可為最大1微米,而且寬度方向之薄膜厚度最小值間的最大差可為最大3微米/米。此外平均薄膜厚度可控制在±1.5%。
流延模41之主側(即上游側)具有減壓室85。減壓室85之減壓率係依照流延速度控制,使得在流延帶44上方所排放流延塗布液之塗布液粒的上游與下游側間發生1 Pa至5000 Pa範圍之壓力差。此時測定塗布液粒之兩側間壓力差,使得塗布液粒之長度可為20毫米至50毫米。此外提供一種儀器使得減壓室85之溫度可設定為高於流延段附近氣體之冷凝溫度。此外在塗布液粒之上游及下游側有曲徑封填(未示)。
唇板210、211、側板218、219、及內定框板223、224之材料為不銹鋼,其熱膨脹係數為最大2×10-5
(℃-1
)。在電解質溶液之強制腐蝕實驗中,腐蝕抗性幾乎與SUS316相同。此外用於流延模41之材料具有足夠之腐蝕抗性,使得在氣-液界面上不發生斑蝕(或斑蝕腐蝕),即使將此材料浸於二氯甲烷、甲醇與水之混合液體中經三個月。各流延模對流延塗布液14之接觸表面的修整精度為最大1微米之表面粗度,及將縫餘隙調整成1.5毫米之直線性。依照流延模41唇端之接觸部分的邊緣,R在全寬為最大50微米。此外流延模41中之剪切率係控制於每秒1至5000次之範圍。此外藉熔化擠壓法由流延模41在唇端上完成WC塗覆,以提供硬化層。
流延帶44為寬1.9米及長70米之不銹鋼帶。流延帶44之厚度為1.5毫米,而且將流延帶44之表面拋光,使得使表面粗度可為最大0.05微米。材料為SUS316,其具有足夠之腐蝕抗性及強度。全部流延帶44之厚度不均勻性最大為預定值之0.5%。流延帶44係藉由轉動輥42、43而移動。此實驗係控制使得流延帶44對支撐輥42、43之相對速度差為最大0.01米/分鐘。此外控制使得流延帶44之速度變動最大為預定值之0.5%。偵測側端之位置而控制帶在寬度方向之位置,使得流延帶44行進一圈之蜿蜒降為1.5毫米。此外在流延模41下方,流延模41唇端與流延帶44間之垂直方向位置變動為200微米。
此實驗對支撐輥42、43供應熱傳遞介質,使得可控制流延帶44之溫度。其對配置於流延模41一側之支撐輥43供應5℃之熱傳遞介質(水),及對支撐輥42供應40℃之熱傳遞介質(水)。恰在流延前之位置的流延帶44中部之表面溫度為15℃,而且帶兩側間之溫度差為最大6℃。應注意,針孔(直徑至少30微米)之數量為零個,針孔(直徑至少10微米且小於30微米)之數量為每平方米最多1個,及針孔(直徑小於10微米)之數量為每平方米最多2個。
首先將乾燥空氣平行於流延薄膜16而進料以完成乾燥。此外自上游空氣導管87a饋出140℃乾燥空氣以將流延薄膜16乾燥,自下游空氣導管87b饋出140℃乾燥空氣以將流延薄膜16乾燥,及自下空氣導管87c饋出65℃乾燥空氣以將流延薄膜16乾燥。應注意,藉由以氮氣取代空氣而將流延帶44上乾燥大氣中之氧濃度保持5體積%。為了將氧濃度保持5體積%,其將乾燥大氣之內部空氣以氮氣取代。流延室81中之溶劑蒸氣係藉由將冷凝器82之出口溫度設定為-3℃而回收。
將接近流延模41之靜態波動降至最大±1 Pa。在流延薄膜16具有自撐性質時,將流延薄膜16自流延帶44剝除成為以輥89支撐之濕膜18。為了減少剝除缺陷,其將剝除速度(剝除輥之抽拉)對流延帶44之速度之百分比控制成100.1%至110%。將在蒸發中產生之溶劑蒸氣藉-3℃之冷凝器86冷凝成液態,而且藉回收裝置83回收。將所回收溶劑之水含量調整成最大0.5%。此外將去除溶劑成分之空氣再度加熱及再用於乾燥空氣。將濕膜18以轉移區域90之輥朝拉幅機乾燥機45輸送。在轉移區域90中,其自吹風機91將60℃乾燥空氣饋至濕膜18。拉幅機抽拉(輥89至拉幅機乾燥機45入口之薄膜長度倍數)為103.0%。
在位幅機乾燥機45中,其藉夾子夾住或夾持濕膜18之兩個側緣部分,而且將濕膜18運輸通過溫度區。在拉幅機乾燥機45之運輸期間對濕膜18進行預定拉伸及乾燥,然後將濕膜18自拉幅機乾燥機45饋出成為薄膜22送至邊緣切割裝置46。
在拉幅機乾燥機45中蒸發之溶劑蒸氣係藉冷凝器(未示)在-3℃冷凝及液化以回收溶劑。然後將所回收溶劑之水含量調整成最大0.5重量%。
在離開拉幅機乾燥機45之30秒內,其在邊緣切割裝置46中切除薄膜22之兩個側緣部分。在此實驗中,其測定薄膜22之寬度方向各側部分50毫米作為側緣部分,藉邊緣切割裝置46之NT型切割器將其切除。應用來自吹風機(未示)之吹風將切除之側緣部分送至壓碎器93,而且壓碎成約80平方毫米之碎片。將碎片儲存在邊緣貯倉中以再度使用作為塗布液製備用TAC屑之原料。在乾燥室47中以高溫乾燥前,在供應100℃吹風之預熱室(未示)中完成薄膜22之預熱。
薄膜22係在乾燥室47中以高溫乾燥,其分隔成四個隔間。由吹風機(未示)自上游側將溫度為120℃、130℃、130℃、與130℃之吹風饋入隔間。各輥100對薄膜22之運輸張力為100牛頓/米。將乾燥進行10分鐘使得殘餘溶劑含量可為0.3重量%。某些輥100之餘面角(lapping angle)為80°,而且其他為190°。輥100係由鋁或碳鋼製成。在表面上完成硬鉻塗覆。輥100之表面平坦或經消光處理之噴砂處理。輥轉動之搖動為50微米內。此外將張力為100牛頓/米之各輥100的彎曲降為最大0.5毫米。
使用吸附裝置101(其中使用吸附劑)去除含於乾燥空氣之溶劑蒸氣。吸附劑為活性碳,而且脫附係使用經乾燥之氮實行。將所回收之溶劑在水含量可作成最大0.3重量%後再使用作為塗布液製備用溶劑。乾燥空氣不僅含溶劑蒸氣,亦含塑性劑、UV吸收劑及高沸材料。因此使用冷卻去除用冷卻器及前吸附器去除之。如此再使用乾燥空氣。吸附及脫附條件係設為使得廢氣之VOC(揮發性有機化合物)含量為最大10 ppm。此外在全部蒸氣溶劑中,藉冷凝方法回收之溶劑含量為90重量%,而且大部分之其餘溶劑蒸氣係藉吸附回收法加以回收。
將經乾燥薄膜22運輸至第一濕度控制室(未示)。在乾燥室47與第一濕度控制室之間有其中饋入110℃乾燥空氣之運輸區域90。在第一濕度控制室中饋入溫度及露點各為50℃及20℃之空氣。此外將薄膜22運輸至第二濕度控制室(未示)以防止薄膜22捲曲。在第二濕度控制室中直接施加溫度及濕度各為90℃及70%之空氣。
在濕度控制後,將薄膜22在冷卻室48中冷卻使得薄膜之溫度為最高30℃。然後切除兩個薄膜邊緣部分。此外強制中和裝置(或中和棒)102排除薄膜22之帶電靜電電位能至-3 kV至+3 kV之範圍。在中和後藉滾紋輥103完成薄膜22之兩個側部分的壓花以提供滾紋。滾紋區域寬10毫米,而且決定滾紋壓力使得最大壓花高度平均較平均厚度大12微米。
將薄膜22運輸至捲繞室49,其內溫及濕度各保持在28℃及70%。此外提供強制中和裝置(未示),使得薄膜之帶電靜電電位能可為-1.5 kV至+1.5 kV之範圍。使用壓輥將薄膜22圍繞捲軸110捲繞,如此可得薄膜捆。薄膜之厚度為70微米及寬度為1500毫米。
流延模包括陶瓷製內定框板,其體積波動百分比為0.002%。其他條件係與實例1相同,而且藉溶液流延方法製造薄膜22。
在流延模41之唇端上,出口41a邊緣上之突出的距離CL1-CL4為至少10微米。其他條件係與實例1相同,而且藉溶液流延方法製造薄膜22。
在流延模41之唇端上,出口41a邊緣上之突出的距離CL1-CL4為至少30微米。其他條件係與實例1相同,而且藉溶液流延方法製造薄膜22。
流延模包括Teflon(註冊商標)製內定框板,其體積波動百分比為2%。其他條件係與實例1相同,而且藉溶液流延方法製造薄膜22。
對於以上實例,關於結皮發生之處及薄膜表面之光滑性而評估所製造薄膜22。以下敘述評估方法。應注意,在所有實例1-5中評估係以相同方式完成,而且評估結果示於表1。
在流延程序中,在將流延塗布液自流延模排放時,以肉眼觀察流延塗布液之表面是否發生結皮。在未觀察到結皮時評估為A。在稍微觀察到結皮但薄膜可使用時評估為B。在太明顯地形成結皮且薄膜無法使用時評估為C。
自實例1-5所得之各薄膜切除具有長度方向為1.5米之大小及寬度方向之薄膜寬度的薄膜樣品。如此薄膜樣品具有如所得薄膜之相同寬度。對薄膜樣品照射反射光,而且觀察薄膜表面之不均勻性。在未觀察到不均勻性時評估為A。在稍微觀察到不均勻性但薄膜可使用時評估為B。在太明顯地形成不均勻性且薄膜無法使用時評估為C。
如表1所示,在應用本發明之實例1 & 2中,所製造薄膜具有優良之薄膜表面光滑性。此外由於在流延程序中減少結皮發生,裝置及流延室中構件(例如流延模、流延帶等)之清潔為不必要,因此溶液流延方法之生產力變高。然而在各實例3-5中,所製造薄膜之薄膜表面具有不均勻性且光滑性不適合薄膜產物。此外由於經常發生結皮,其必需進行裝置及流延室中構件之清潔,而且溶液流延方法之生產力變低。
結果本發明之流延模可防止結皮發生,而且其中使用此流延模之溶液流延方法及溶液流延設備可有效地製造光滑性優良之薄膜。
各種變化及修改在本發明中為可行的,而且應了解其在本發明之範圍內。
10...薄膜製法
11...塗布液
14...流延塗布液
15...塗布液製法
16...流延薄膜
17...流延程序
18...濕膜
19...剝除程序
20...乾燥程序
22...薄膜
39...原料槽
40...薄膜生產線
41...流延模
41a...出口
42...支撐輥
43...支撐輥
44...流延帶
45...拉幅機乾燥機
46...邊緣切割裝置
47...乾燥室
48...冷卻室
49...捲繞室
55...馬達
56...攪拌器
58...泵
59...過濾裝置
60...靜態混合器
61...管線
80...熱傳遞介質循環器
81...流延室
82...冷凝器
83...回收裝置
85...減壓室
87a...吹風機
87b...吹風機
87c...吹風機
87d...擋風板
89...輥
90...轉移區域
91...吹風機
100...輥
101...吸附裝置
102...強制中和裝置
103...滾紋輥
110...捲繞軸
111...壓輥
210...唇板
210a...接觸面
210b...端面
210c...脊
211...唇板
211a...接觸面
211b...端面
211c...脊
215...歧管
216...縫
218...側板
219...側板
220...入口
220a...接觸面
221...唇板
221a...接觸面
221b...端面
221c...脊
223...內定框板
223a...接觸面
223b...端面
223c...脊
223d...面
223x...脊
223y...脊
224...內定框板
224a...接觸面
224b...端面
224c...脊
224x...脊
224y...脊
300...流延模
300a...出口
301...塗布液
302...撐體
303...流延薄膜
310...唇板
310a...接觸面
311...唇板
311a...接觸面
312...側板
313...側板
314...內定框板
314a...接觸面
315...內定框板
315a...接觸面
400...流延模
400a...出口
410...唇板
410a...接觸面
411...唇板
411a...接觸面
415...歧管
416...縫
423...內定框板
423a...接觸面
424...內定框板
424a...接觸面
450...上部
451...中部
452...下部
500...流延模
500a...出口
515...歧管
516...縫
523a...接觸面
524a...接觸面
600...流延模
600a...出口
615...歧管
616...縫
623...內定框板
623a...接觸面
624...內定框板
624a...接觸面
熟悉此技藝者在閱讀以上詳細說明結合附圖時易於了解本發明之以上目的及優點。
第1圖為描述應用本發明之薄膜生產線的程序之流程圖;第2圖為薄膜生產線之略示圖;第3圖為描述在薄膜生產線中,自本發明第一具體實施例之流延模排放流延塗布液之位置的略示圖;第4圖為流延模之切面圖;第5圖為沿第4圖之線V-V的流延模切面圖;第6圖為流延模底部之正視圖;第7A-7B圖為流延模之側視圖,其描述調整流延模之內定框板位置的情況;第8圖為第二具體實施例之流延模的切面圖;第9圖為沿第8圖之線IX-IX的流延模切面圖;第10圖為第三具體實施例之流延模的切面圖;第11圖為第四具體實施例之流延模的切面圖;第12圖為描述在先行技藝薄膜生產線中自流延模排放流延塗布液之情況之略示圖;及第13圖為第12圖之先行技藝流延模底部的平面圖。
41a...出口
210...唇板
210a...接觸面
210b...端面
210c...脊
211...唇板
211a...接觸面
211b...端面
211c...脊
218...側板
219...側板
223...內定框板
223a...接觸面
223b...端面
223c...脊
224...內定框板
224a...接觸面
224b...端面
224c...脊
Claims (6)
- 一種使塗布液自縫流出之流延裝置,其包括:一對形成該縫第一壁之第一縫構件,該第一壁係按該縫之長度方向延伸;一對形成該縫第二壁之第二縫構件,該第二壁係按該縫之寬度方向延伸,對該第二縫構件提供自該第一縫構件按該塗布液之流出方向突起之突出,或對該第一縫構件提供自該第二縫構件按流出方向突起之突出,突出之突出長度為最大9微米。
- 如申請專利範圍第1項之流延裝置,其中該對該第一縫構件係由一對對立地配置之唇板構成而形成預定長度之距離,其中該對該第二縫構件係由內定框板構成,其中該側板係附著該唇板之外緣,及其中該內定框板係配置於該唇板與該側板包圍之空間中而接觸該側板。
- 如申請專利範圍第2項之流延裝置,其中該唇板與該側板係由不銹鋼形成,而且該內定框板係由陶瓷形成。
- 如申請專利範圍第1項之流延裝置,其中各該第二縫構件具有加寬表面,使得該塗布液之流動寬度可在該塗布液流動之下游側較大。
- 一種溶液流延設備,其包括: 一行進撐體;一用於使塗布液流動至該撐體上形成流延薄膜之流延裝置,該流延裝置包括一對形成該縫第一壁之第一縫構件與一對形成該縫第二壁之第二縫構件,該第一壁按該縫之長度方向延伸,該第二壁按該縫之寬度方向延伸,對該第二縫構件提供自該第一縫構件按塗布液之流出方向突起之突出,或對該第一縫構件提供自該第二縫構件按流出方向突起之突出,突出之突出長度為最大9微米;及一用於乾燥自該撐體剝除之該流延薄膜而可獲得薄膜之乾燥裝置。
- 一種溶液流延方法,包括以下步驟:提供一用於使塗布液自縫流出之流延裝置,該流延裝置包括一對形成該縫第一壁之第一縫構件與一對形成該縫第二壁之第二縫構件,該第一壁按該縫之長度方向延伸,該第二壁按該縫之寬度方向延伸,對該第二縫構件提供自該第一縫構件按塗布液之流出方向突起之突出,或對該第一縫構件提供自該第二縫構件按流出方向突起之突出,突出之突出長度為最大9微米;使一撐體行進;使該塗布液自該縫流出形成流延薄膜;自該撐體剝除該流延薄膜;及乾燥該經剝除之流延薄膜以成為薄膜。
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