TWI250220B - Vacuum-processing equipment for plane rectangular or quadratic substrate - Google Patents

Description

1250220 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種平面式矩形或正方形基板用之真空處理 裝置，該基板是在至少一種垂直之狀態中進行處理。本裝 置包含：一真空室，其具有至少二個分佈在真空室之周圍 上之在該室側敞開之處理室；一入口閘室；一出口閘室和 〜可旋轉之由位於該真空室內部中之基板支件所構成之配 tt，其具有一種起動機構以使該基板支件對該處理室依序 旋轉且前進或後退。 連續操作之處理裝置或塗層設備可在真空中操作直至真 窆泵組之功率極限爲止且可在各別之處理站中在所謂基板 上進行不同之處理，該處理裝置或塗層設備通常包含以下 之模組： a) 至少一真空室， b) 至少一抽真空之系統或栗系統， c) 可由該真空室接近之處理站，其具有處理源， d) 情況需要時在各處理站之入口端之內閘室閥， e) 該處理源用之供應裝置（電流源及/或氣體源）， f) 至少一閘室系統，其具有一種閘室閥，使基板進入 真空室中或使基板由真空室中出來， g) —輸送系統，用來對該基板進行二維-或多維之輸送， h) 基板支件或基板載體，可與該輸送系統一起作用， 1)情況需要時一已接通之機組，用來在該設備之閘室 之前製備-及/或送出該基板。 1250220 只要涉及一種具有可旋轉-且情況需要時具有徑向之輸送 路徑之設備，其處理站或處理室連接到至少一旋轉對稱之 主-真空室，則此種設備亦稱爲”Cluster-設備”。 在各種處理方法中，通常使用以下各種方法於很多之製 程參數中：基板之預熱（噴射氣體消毒）和冷卻，電漿處理（例 如，閃爍以進行淨化和促進黏合），PVD-方法，CVD-方法 和PC VD-方法。該裝置之各組件已爲人所知。此處” p”表 示”physical”，“C”表示”chemical”，，，V”表示，，vacuum，，且，，D，， 表示”deposit”。這些方法中之某一些方法（其符號已用在國 馨 際之語言慣用法中）能以反應性（在供應各種反應氣體或氣 體混合物時）或非反應性（目前是鈍性氣體）之方式來進行。 亦可使用該表面處理用之蝕刻方法，其包含特定之，，平面圖 樣”之產生和在基板上產生多條接觸線。該方法之整個步驟 和該裝置之組件（依據對該終端產品之需求）亦可用於本發 明之物件中。 【先前技術】 在歷史之發展中，連續式”Cluster-設備”首先用於較小之 φ 基板中，例如，用於碟片，晶片，資料記憶體和晶圓中。 但就較大基板（例如，視窗晶圓和顯示器）之進一步發展而 言則發生很大之問題，例如，該設備之尺寸，操控該基板（且 情況需要時該基板支件）所需之空間需求，例如，水平位置 中運行而至之基板對準至垂直之位置中，基板之彈性變 形，斷裂及/或機械上之受損等所造成之危險性及/或其各 種塗層和污染物，特別是由於塗層短暫地或持續地聚集而 1250220 存在於該設備中之各種成份和由於不同之製程參數而使這 些污染物剝落，特別是由於溫度變化或機械作用。 因此，依據以下仍將詳說明之EP 〇 1 3 6 562 B1，每一基 板在水平位置都供應至一種閘室系統，其中藉由一種起重 裝置而向上拉起且然後藉由一種擺動裝置而在垂直位置擺 動，基板固定在基板支件上。在第二閘室系統中取出時， 則上述一系列之步驟以相反順序進行。這在大面積之長方 形基板中會造成巨大之空間問題，大的閘室體積和室體積 以及長的抽真空時間及/或真空泵之大的吸取功率。 由EP 0 1 36 562 B1中所述之小的圓板形基板（例如，碟 片，半導體和晶圓）用之連續式陰極濺鍍設備中已知一種由 二個盆形之室所構成之真空室，即，由5角形之外室和一 與其同圓心之圓柱形之內室所構成，該二室藉由一種環形 之上蓋固定地且真空密封地相連。其底部之間具有一種小 的垂直距離。該外室在周圍以等距之方式設有一種閘室設 備和4個室形之處理站。這些設備通常亦稱爲”Cluster-設 備”。⑩ 外室和內室之間以可旋轉之方式配置另一多角形之盆， 其邊框上藉由片簧而配置5個基板支件。各片簧在操作狀 態時封閉該閘室設備且藉由密封件和閥功能來封閉各處理 室。該基板支件-盆亦具有一種底部，其配置在該外室和內 室之各底部之間。基板支件之徑向移動（其持續地保持在真 空室中）同步地藉由一種中央錐體和5個聯杆來產生，各聯 杆在該內室之邊框中受到導引且在大約一半高度處經由內 1250220 室之壁而不會一起旋轉。該起動器和其錐體亦是靜止的。 該基板支件-盆以步進方式藉由另一起動器而旋轉。爲了 使該基板支件-盆在真空室中可由一站旋轉至另一站，則上 述之聯杆必須由該基板支件-盆之圓形或圓柱形之移動軌道 周期性地拉回且又向前移。由於在該基板支件-盆由一站旋 轉至另一站時各處理站之開口保持開著的，則塗層材料在 外室和內室之間之空間中在一半高度處漏出且在該處已存 在之表面上凝結，即，亦在聯杆之末端上-，其導引區上-和該基板支件-盆上之片簧上凝結。此種冷凝液之由一處理 周期至另一處理周期而變大之層厚度以微粒之形式隨時剝 落而造成污染，且旋轉之基板之表面因此不可使用而成爲 較貴之次級品。聯杆之內部末端上之冷凝液之剝離過程特 別是有害的。 主要是：在製造-和操作時由於溫度改變而由已聚集之層 材料之由上方來之已剝落之微粒應防止其對基板造成污 染；但這對該真空室內部中在整個輸送路徑上處於絕對垂 直狀態之基板表面而言是適當的。但其先決條件是較小之 基板應固定在其支件上。 由EP 0 665 193 B1和DE 695 04 716 T2中已知在串集式 (Cluster)設備中可使調整面和室體積受到限制，大面積之 長方形或正方形顯示器（其尺寸是45 0 mmx 550 mm或更大） 用之由玻璃構成之基板在持續垂直之狀態中藉由基板支件 由周圍進入真空室之系統中且藉由相同之基板支件一起又 在周圍中運出。因此，在中央之緩衝室和各別之處理室之 1250220 間分別設有閥門。緩衝室中以同心方式且利用垂直軸而配 置一種旋轉桌，藉此使基板以其支件和其主面（即，幾乎成 徑向）而對準各別之處理室且由該位置而運行至處理室中且 又取回。但該旋轉桌未具有特定之基板支件。就基板支件 之輸送而言，每一處理室中和該旋轉桌上配置著互相隔開_ 且各別驅動之輸送裝置（其具有基板支件用之滾輪）。構造 上之耗費和所需之起動-和控制裝置是可觀的；特別是在旋 轉桌上亦可配置多個互相獨立之具備滾輪之輸送裝置。若 圍繞該旋轉桌之旋轉軸而劃一個圓（其亦包含徑向凸出之處 φ 理室），則對整個裝置所需之調整面會顯示一種較大之需 求，特別是另外由於基板以”立在其尖端上”之方式而固定 在大面積之基板支件上，則該基板之對角線範圍決定上述 之圓之直徑。在周圍和該設備內部之間重複輸送全部之基 板支件會由於該設備中溫度之改變而使所累積之層脫落， 此種問題因此仍不能解決。 由DE 200 2 2 5 64 U1中已知使載體和基板經由第一閘室 而進入真空設備中以進行塗層，連續地在一種圓形或部份 ® 圓形之軌道上運行且最後在塗層之後經由第二閘室又運 出。真空室內部中該載體針對各塗層站之徑向移動或以徑 向成份來移動（這與圓形軌道不同）未預先設定。空的載體 由該出口閘室送回至真空室外部之該入口閘室時應以儘可 能短之路徑來進行或儘可能快地進行，以便使真空室內部 中聚集在載體上之層由於溫度變動所造成之脫落可受到限 制。 1250220 由DE 102 05 167 Cl中已知在一種線上真空塗層設備中 藉由二個長度可變之線性輸送路徑使載體和基板用之二個 具有可旋轉之更換單元之緩衝室可互相連接，以使塗層站 之數目改變。各載體在垂直狀態或稍微傾斜之狀態中輸 送，其中一輸送路徑是作爲非連續之輸送用且在二端（其鄰 接於各緩衝室）分別具有一個閘室，各閘室都具有二個閥且 其前或其後具有一個載體用之負載-和去載站。另一輸送路 徑作爲連續之輸送用且在二端（各緩衝室經由一種閥而與該 二端相鄰接）分別具有該載體用之轉換（Transfer)區，其分 φ 別具有基板。該設備中該載體移動用之元件未設定其橫向 於該輸送方向而移動，亦不是在直線輸送路徑上移動，且 亦不是在緩衝室中或不是在該轉換區中移動。各緩衝室只 設有加熱和冷卻用之元件。 由US 2002/007 8 8 92 Α1中已知使LCD-顯示器用之大面積 之長方形基板（其尺寸是lmx 1.2 m或更大）以成對方式， 垂直地，互相平行地或在上方邊緣以銳角互相傾斜地在不 同之輸送路徑上由大氣經由真空設備（包含串集式設備）輸鲁 送至大氣。基板支件和水平板作爲該目的用，水平板在鏡 面對稱配置中之上側上配置二個向內敞開之框架以作爲基 板支件用且在其下側上沿著對稱面而配置一支撐板（其二側 具有齒條），藉此使基板支件可藉由一系列之小齒輪（其由 齒帶所驅動）而在不同之可隨時變換之方向中運行。 一種旋轉對稱之通道室或緩衝室（其具有旋轉桌）此處亦 可用作該輸送裝置之中央部份，該旋轉桌之下側上配置一 -12- 1250220 種小齒輪起動器，其具有6個小齒輪和一個馬達，以對該 基板支件進行導引，使移動方向改變或造成徑向移動。在 緩衝室之周圍上配置一種閘室系統和至少三個用於不同真 空過程之處理室，其係以截止閥相隔開。該基板支件在徑 向之縱向中運行至處理室中，各處理室因此須具有相對應 之徑向之尺寸，使整個設備周圍所設想之範圍都具有一種 大的直徑，這樣會造成一種相對應之大的調整面。縱向偏 移和處理室中相對應之驅動亦是需要的，此乃因此種處理 室亦可在徑向中互相成列。 φ 在US 2002/0078892 A1之先前技術中描述一種具有一轉 移-機器人和二個夾具之旋轉桌，各夾具經由偏向元件依據 一種剪切鉸鏈之方式在徑向中操作。但須明確地指出：各 基板在整個輸送路徑中以離心方式保持在水平位置中，且 這在顯示器（例如，壁式螢幕）用之基板之尺寸逐漸增大時 會造成空間-和體積上之問題以及較長之泵送時間，且在其 原來重量下會使只有0.7 mm厚之基板彎曲或折斷。基板之 水平尺寸變大會使直徑變成二倍，例如，會超過2 m。這 鲁 樣在加速或延遲時會使閘室閥額外變大而發生質量上之問 題且亦會有容許度之問題。 又，US 2002/007 8 892 A1中指出：該旋轉桌之支撐板藉 由磁起重機而由導引軌取下，以防止由於磨損而造成灰塵 散發。由於聚集在基板支件上之層材料之剝落而在由大氣 輸送至大氣時以及真空室內部加熱時形成灰麈，或由於小 齒輪起動時造成灰塵等如何防止這些灰塵之問題均未提 1250220 到。但該習知之配置之其它主要缺點是：室之內部之輸送 機構之數目隨著連接至中央室或緩衝室之處理室之數目之 增加而增加，這須與緩衝室中該旋轉桌之輸送機構相匹 配，因此，一種移交至處理室中或由處理室中交出之過程 是可能的。 先前之技術指出：由於基板尺寸持續變大且基板厚度隨 著持續之硏發而變小以及形式之不易彎曲性-和強度變小’ 則會產生新的問題，其已造成很複雜且昂貴之構造原理和 複雜之操作流程。在設備組件上解決該調整面之問題以及鲁 由於累積之層之微粒所造成之基板污染之問題等目前並未 達成。 【發明內容】 本發明之目的是提供一種構造原理和操作流程’其可使 該調整面，室體積和抽真空時間進一步減少且可在真空室 外部和內部中使基板之”操控”更簡化，特別是可使由於已 剝落之層封包之微粒所造成之基板之污染危險性大大地下 降。 · 上述目的在本發明中以申請專利範圍第1項之特徵來達 成，即，該基板支件在其下部區中經由導桿配置而與該起 動機構相連接，且至少該導桿配置之下部之擺動軸承配置 在該基板支件之承載面之高度之水平中央線之下方。 藉由上述解法，則全部之目的可在整個範圍中滿意地達 成，特別是給定構造原理和操作流程，其可使該調整面’ 室體積和抽真空時間進一步減少且可在真空室外部和內部 -14- 1250220 中使基板之”操控”更簡化，特別是可使由於已剝落之層封 包之微粒所造成之基板之污染危險性大大地下降。構造上 之耗費和次級品可減少且產品之品質可明顯地提高。 在本發明之一系列之形式中特別有利的是以下各別之情 況或其組合： *該導桿配置之全部之擺動軸承配置在該基板支件之承 載面之高度之水平中央線之下方， *每一基板支件用之起動機構具有成對配置之懸臂，其 上以懸掛方式分別配置一種平行四面體-導桿配置， *該平行四面體-導桿配置之下部之擺動軸承分別配置 在一種U形之護圈上，其向外對準之股邊是與一橫樑相連 接，該橫樑形成各基板支件之下方之終端， *該起動機構具有一旋轉盤，其上就每一基板支件而言 設定一組梯形-導桿配置， *該起動機構是一種具有同心軸之旋轉-和起重起動器， 藉由其垂直之移動可使該梯形-導桿配置被帶引至與基板支 件上之徑向移動相作用， * 該真空室 a) 具有一種盆形、旋轉對稱且靜止之內室部份，其 具有一垂直軸和一第一底部， b) 具有一以一距離圍繞該內室部份之外室部份，內、 外室部份之間配置一種環形之空間以使該基板支 件可旋轉，其中該外室部份設有多個以相等角距 而配置之開口和連接至各開口之處理室且具有另 •15- 1250220 一底部，其靜止地以某一距離而配置在第一底部 下方， C) 具有至少一導桿配置，以使基板支件相對於各處 理室之開口可作同步之徑向移動，該導桿配置是 配置在第一底部和第二底部之間而可繞該軸旋 轉， d) 具有閘室序列，其移交室用來使該設備連續地被 供應以無框架來導引之基板。 *直線對準之閘室序列配置在與真空室成切線之方向中 且包含：入口閘室，移交室和出口閘室（其具有連接於中間 之真空閥）。該閘室序列在真空處理之前和之後界定一種直 線式輸送路徑。 *可圍繞該垂直軸而旋轉之基板支件向上以一種介於1 和200之間之角度傾斜於該軸而配置著，特別是可圍繞該 垂直軸而旋轉之基板支件向上以一種介於3和1 之間之 角度傾斜於該軸而配置著， *靜止之基板支件位於閘室中以便對各基板進行無框架 式之導引，各基板支件對垂直線所成之角度是與該可旋轉 之基板支件（13)者相同， *各基板支件在其下端上具有滾輪以容納-且繼續發送 基板，且上方具有開口以發出氣體使形成氣墊，以便在基 板相對於各別之基板支件作相對移動時可使基板無摩擦地 被輸送， *各處理室之開口相對於其相面對之可旋轉基板支件而 -16- 1250220 言具有邊緣，各邊緣位於一與該基板支件之平面相平行之 平面中， *各處理室之開口設有一遮蔽件，以便在處理時對該基 板進行遮蔽， *該導桿配置只具有鉸鏈使該可旋轉之基板支件向前 推’藉此可使該基板支件移動而不會產生直線之滑動摩 擦， *該梯形·導桿配置之最短之位於上方之元件在其中央 處具有另一鉸鏈，且二個串聯之梯形-導桿配置須藉由間隔 φ 導桿而相連接時，則每個串聯之梯形-導桿配置分別佔有相 同之角位置， *在向著大氣之敞開之內室部份中配置該軸用之起動機 構， *梯形-導桿配置之上方之元件具有已安裝之固定之另 一導桿，其下端經由鉸鏈而與懸臂相連接，該基板支件固 定至懸臂之外端， *上方之元件和其導桿具有”T”之形式，特別是當 修 *在該軸上配置一承載凸緣，其經由該導桿而作用在角 桿上，該角桿定位在該旋轉盤上且其一個股邊是最內之梯 形-導桿配置之一部份以及藉此可造成各梯形-導桿配置之 擺動。 【實施方式】 本發明之二個實施例及其作用方式以下將依據第1至1 〇 圖來詳述。 1250220 第1，2圖中顯示一種中央起動機構1，其具有垂直軸和 一種共軸之安裝凸緣2以固定至真空室之此處未顯示之下 底部。該起動機構1在其上方區域中承載一可旋轉之室3(其 具有正方形之平面圖），其角隅上總共固定8個懸臂4，各 懸臂經由斜支柱5而支撐在該室3之圓柱形之基底6上， 且各別以成對方式經由4個徑向凸出之懸臂7而一起運行 (請參閱第2圖）。 總共8個平行四面體-導桿配置8向下經由上方之固定之 擺動軸承而懸掛至各懸臂4(其以成對方式互相平行延伸且 形成一種直角之十字形）。該平行四面體-導桿配置8之下 端可擺動地定位至水平之U形護圈9(其具有成對互相平行 之股邊9a)，各股邊之向外對準之末端分別經由一橫樑10 而相連。每一橫樑承載至少二個凸出之滾輪1 1，其作爲此 處未顯示之基板用之接取區且情況需要時可被驅動及/或鎖 定。每一橫棟10向上承載一傾斜向上且向後之以一種介 於3和15^之間角度來對準各垂直線之框座12(其具有桁架 式之縱支柱和橫支柱），其經由垂直之支件1 2 a而支撐在各 別之護圈9上。 該横樑10-和框座12之外側位於一種共同之平面中，其 輪廓至少對應於各別基板之輪廓，這些部份因此分別形成 一種形式不易變更之基板支件13，其在其上述平面之方向 中具有一種高度”H”且在其中央（H/2)界定一種水平之中 線”M”，其下方配置全部之導桿配置和其擺動鉸鏈。 上述二種基板支件13在箭頭14之方向中作用相反且可 -18- 1250220 在徑向中互相移動。須注意：只顯示二個基板支件1 3。另 二個基板支件（其配置在該起動機構1之前和之後）爲了淸 楚之故此處未顯示。各基板支件同樣可在相反方向中作徑 向移動，且對該二個箭頭14成直角。 框座1 2在很多位置上設有鑽孔且連接至一未顯示之氣體 源，使該裝料位置中之基板可依據”氣墊車”之形式以無摩 擦之方式藉由滾輪11之引導而移動至各別之基板支件。 然後使氣體供應中斷，使不會影響各處理室中之氣體大 氣。 第3，4圖顯示第1，2圖之旋轉系統，其以垂直軸A-A 整合在真空室15中。真空室15由內室區，盆形之室區16(其 具有底部17)所構成，藉由凸緣18以真空密封之方式使該 起動機構1之上方之末端區***至該底部17中。垂直之 支撐作用藉由4個固定支柱19來達成，其有效長度可由 各設定元件20來改變。只顯示二個位於垂直切面（第6圖 中之E-E)之後之設定元件20，其懸掛在徑向之節點片21 上。 又，該真空室15具有一種外室區22，其形式是一種4 邊形之平截頭棱錐體，其具有底部23，該起動機構1之下 方之末端區24以真空密封方式經由該底部23。內室區和 外室區16或23經由外蓋25以真空密封方式互相連接。外 室區22之壁以等距之分佈方式而設有4個長方形之開□ 26，其中此處同樣只有二個位於對角線上之開口 26可看 見。在開口 26上設置各處理室27 ’ 28，其可設有未顯示 1250220 之用於不同真空過程之裝置。各處理室27，28之外壁27 a， 2 7 b設有肋條5 0以容納大氣壓力之力（第7圖）。 在水平之底部17，23之間存在著該起動機構1之主要之 可旋轉之部份，其將依據第5圖作更詳細之說明。在內室 區1 6和外室區2 2之間之環形之空間2 9中由下向上伸入一 可旋轉-且能以徑向成份來移動之基板支件1 3。經由該內 室區16之圓柱形之壁來進行之移動是不存在的。反之， 該基板支件13由第13圖之位置轉移至第4圖之位置時是 藉由上述之平行四面體-導桿配置8來達成，其中該擺動軸 承之空間位置已由定義”平行四面體·導桿配置，，所定出。只 須說明：下方之擺動軸承之最低點位於相同之導桿之相對 應之上方之擺動軸承之下方。因此，可圍繞一種中央位置 而達成對稱之擺動。在該擺動角度-或徑向之移動成份進行 預定之測量時藉由該導桿長度之充份之測量，則可使垂直 之移動成份成爲儘可能小。相對於移動-進行而言，上述之 擺動軸承實際上未產生磨損且亦未使層材料產生灰塵（其會 影響該基板上之層品質）。因此，基板支件1 3上之U形之 護圈9對其下邊緣造成侵蝕而不是像EP 0 136 562 B1那樣 發生在基板中央。上述之平行四面體-導桿配置8之下方之 擺動軸承只以儘可能小之距離而位於該護圈9之上側上且 位於該基板支件1 3之背面上，使可能之磨損亦會由於此 一原因而不會到達該基板之外側。 第5圖是該起動機構1在第4圖之位置時一已放大之區 段。使用目前之參考符號來繼續描述。在可旋轉之室3中 -20- 1250220 配置一種起動馬達，以步進方式來進行旋轉式移動且配置 水平之控制桿30以周期性地移動上述之平行四面體-導桿 配置8，其中各控制桿30(其在該室3之內部中導引且受驅 動）以其外端由該室3凸出且經由該擺動軸承而分別抓握在 內部之導桿上。 該起動機構1具有經由該底部17，23之共軸之軸32， 其藉由真空密封之第一旋轉件3 3而經由上方之底部1 7且 藉由真空密封之第二旋轉件34而經由下方之底部23和徑 向軸承35。一組終端支件36用來供應各處理媒體且需要 φ 時亦供應電流。 第6圖顯示圓周方向中和徑向中相疊加之移動流程之圖 解。外室區22亦可依據虛線之圓22a所示之截錐體形式來 形成，一種閘室序列37平行於真空室15上之切線（平行於 外室區2 2)而延伸，該閘室序列3 7由移交室3 9之入口閘 室38和出口閘室40所構成。該閘室序列37含有習知構造 形式之真空閥41。該線E-E代表第3，4圖之垂直之切面。 成傾斜或已受導引之無基板支件之基板以直線步進方式® 經由該閘室序列37時之輸送方向由一系列之箭頭42來表 示。該移交室39面對另一處理室43。環形空間29之內部 中藉由粗厚之箭頭來顯示該移動順序。步進式之旋轉式移 動由該移交室39開始以900沿著閉合之箭頭線44來進行。 在4個固定點上分別直接在該移交室39和各處理室27， 43，28之前藉由徑向之雙箭頭45來表示該基板之前推和 後退。基板之前推進行至直接位於已屏蔽之框架形式之遮 -21- 1250220 蔽件46之前爲止，該遮蔽件46配置在各處理室27，43， 2 8之開口區中。但基板和該遮蔽件46之間之密封作用是 不需要的，此乃因最外部之薄的基板對此並無貢獻。只要 該基板支件之向後移動已完成，則其在下一個處理室之前 旋轉9M，在處理結束時位於移交室39之前以便繼續輸送 至該出口聞室40中。 第7圖是整個設備之外部之透視圖，其具有第1至6圖 之元件和參考符號。該移交室39之二側以虛線來表示該 入口閘室38和該出口閘室40。該移交室39中顯示一種成 φ 傾斜之入口縫隙39a，亦顯示一種連接於其上之泵支件47 和截止活門48及低溫泵49。可淸楚看出的是該移交室39-和該處理室2 8之針對大氣壓力之肋條5 0。 特別是由第6，7圖可得到該設備之特別緊密之省空間和 省體積之形式，特別是：基板支件不必送出至大氣中。在 全部之情況下在閘室38和40中亦配置已打孔之基板支件， 其在整個基板面上具有壓力氣體供應器且在下端具有滾 輪，使基板能無摩擦地經由氣墊而在基板支件上移動且又 馨 可推開。爲了抽真空且在該基板靜止於其支件上時，該氣 體供應器應短暫地中止。這亦適用於以下之時段：該基板 於真空室1 5中存在於其基板支件上。這亦適用於以下之 實施例。 第8，9圖顯示第1至7圖之物件之另一種形式，其亦使 用目前之參考符號，不同之處是該基板支件13用之旋轉-和前進起動器。在具有底部17之盆形之內室區16中配置 -22- 1250220 種旋轉-和起重起動器51，其包含：第一馬達52，其具有 減速齒輪5 3以產生旋轉式移動；第二馬達5 4，其具有減 速齒輪55以對一種共同之軸56產生向上-和向下之移動。 4個雙重式梯形-導桿配置5 7配置在一旋轉盤5 8上，該旋 轉盤58可由該軸56以步進方式而在旋轉方向中偏移。各 基板支件1 3在第8圖中以連續之線顯示其在已拉入之位 置中之情況。 藉由拉高該軸56(其具有一種承載凸緣63)，則經由其上 所懸掛之幾乎垂直之導桿64(第9圖）可使4個角桿59圍繞 · 其固定軸承60而向外擺動，因此可使梯形-導桿配置57在 其上端上向外擺動，如第9圖所示。梯形-導桿配置5 7之 位於最上方之最短之元件65以T形方式構成且在其中央 設有另一鉸鏈，其中二個串聯之梯形-導桿配置57藉由水 平之間隔導桿62而互相連接，使串聯之梯形-導桿配置57 分別佔有相同之至該旋轉盤5 8之角位置。該元件65之T 形之形式藉由與另一不能旋轉之導桿65a之連接來達成， 該導桿65a之下端經由一對未特別強調之擺動軸承而與楔鲁 形懸臂61之水平之下邊緣相連接，各懸臂61配置在基板 支件13之下端。由角桿59所促成之移動同步地跟隨其它 全部之梯形-導桿配置57。 懸臂61和其上傾斜地站立而固定之基板支件1 3 —起拉 行。因此，該梯形-導桿配置57之設計須適當，使徑向移 動之垂直成份儘可能小。在徑向移動結束時，該基板支件 1 3佔有第8圖中面對各處理室之虛點線所示之位置1 3 a。 -23- 1250220 同樣情況亦適用於面對另一處理室和該移交室之基板支件 13之位置，此處爲了簡化之故而省略。基板支件13之徑 向之外部終端位置在第9圖中以連續之線來表示。 依據第1 〇圖，第8，9圖中使用目前之參考符號來相比 較：該軸5 6藉由上方之旋轉軸承和真空導引件之組合66 而貫通’且藉由不可旋轉之圓板形承載板67經由內室區1 6 之底部17來達成。該軸56之下端在軸向中可移動地在下 方之旋轉軸承6 8中導引，其亦定位在另一旋轉板6 9中， 該旋轉板69向上承載一圓柱形之套件70，其具有中斷件7 1 φ 和徑向凸緣7 2，凸緣上以梯形-導桿配置5 7來設定該旋轉 盤58。向下密封是藉由位置固定之承載板73來達成，該 承載板73以真空密封方式***至該外室區22之底部23中 且在該軸56末端下方設有盆形之凸出件74以使該軸56下 降。 明顯可辨認的是：藉由該軸56在箭頭75之方向中之上 升，則整個梯形-導桿配置5 7和基板支件1 3可藉由角桿5 9 和間隔導桿6 2而在箭頭7 6之方向中同步地移動，此乃因 · 該懸臂61以鉸接方式定位在該與元件6 5固定相連之導桿 65a之下端上。 【圖式簡單說明】 第1圖 內部之起動機構之透視圖，其在徑向拉入之位置 中具有二個基板載體。 第2圖 類似於第1圖之內部之起動機構之透視圖，但其 在徑向駿出之位置中具有二個基板載體。 -24- 1250220 * 第3圖在第1圖之位置中具有一種起動機構之真空設備 之垂直、徑向之部份切面圖。 第4圖 在第2圖之位置中具有一種起動機構之真空設備 之垂直、徑向之部份切面圖。 第5圖 係第4圖之起動機構之已放大之區段。 第6圖 在圓周方向中和徑向中相疊加之移動流程之圖 解。 第7圖 具有第1至6圖之元件之完整設備之外部透視 圖。 第8圖 係第1至7圖之物件之另一種形式，其具有類似 於第3圖之已拉入之基板支件。 第9圖 係第8圖之物件’其具有類似於第4圖之已駿出 之基板支件。 第10圖係第8，9圖之一部份之比較圖。 主要元件之符號表： 1 起動機構 2 安裝凸緣 3 室 4，7 懸臂 5 斜支柱 6 基底 8 平行四面體-導桿配置 9 護圈 10 橫樑 -25- 1250220 11 滾輪 12 框座 12a 支件 13 基板支件 13a 位置 14 箭頭 15 真空室 16 室區 17 底部 18 凸緣 19 固定支柱 20 設定元件 21 節點片 22 室區 22a 圓 23 底部 24 末端區 25 外蓋 26 開口 27，28 處理室 27a， 28a 外壁 29 空間 30 控制桿 3 1 擺動軸承

-26- 軸 旋轉件 徑向軸承 終端支件 閘室序列 入口閘室 移交室 入口縫隙 出口閘室 · 真空閥 箭頭 處理室 箭頭線 雙箭頭 遮蔽件 泵支件 截止活門 # 低溫泵 肋條 旋轉-和起重起動器 馬達 減速齒輪 軸 梯形-導桿配置 -27- 1250220 58 旋轉盤 59 角桿 60 固定軸承 61 懸臂 62 間隔導桿 63 承載凸緣 64 導桿 65 元件 65a 導桿 66 組合 67 承載板 68 旋轉軸承 69 旋轉板 70 套件 7 1 中斷件 72 凸緣 73 承載板 74 凸出件 75，7 6 箭頭 A-A 軸 E-E 線/切面 H 高度 M 中線

-28-

Claims (1)

1250220 ^ : I ; …嘯......::、 一 - . : \ i 拾、申請專利範圍： 第9 3 1 0 8 2 9 3號「平面式矩形或正方形基板用之真空處理裝 置」專利案 (2005年1 1月修正） 1 · 一種平面式矩形或正方形基板用之真空處理裝置，該基 板是在至少一種垂直之狀態中進行處理，本裝置包含： 一真空室（15)，其具有至少二個分佈在真空室（15)之周 圍上之在該室側敞開之處理室（27，28，43); —入口閘 室（38); —出口閘室（40)和一可旋轉之由位於該真空室（15) ® 內部中之基板支件（13)所構成之配置，其具有一種起動 機構（1 ’ 5 1)以使該基板支件（1 3)對該處理室（2 7，2 8，4 3 ) 依序旋轉且前進或後退，其特徵爲：該基板支件（13)在 ^ 其下方之區域中經由導桿配置（8，57)而與該起動機構 (1，5 1)相連，且該導桿配置（8，57)之至少位於下方之擺 動軸承配置在該基板支件（13)之承載面之高度（H)之水平 之中線（M)之下方。 2.如申請專利範圍第1項之真空處理裝置，其中該導桿配 ® 置（8，5 7)之全部之擺動軸承配置在該基板支件（Π)之承 載面之高度（Η)之水平之中線（Μ)之下方。 3 .如申請專利範圍第1項之真空處理裝置，其中該每一基 板支件（13)用之起動機構（1)具有成對配置之懸臂（4)，其 上分別以懸掛方式配置一種平行四面體-導桿配置（8)。 4.如申請專利範圍第3項之真空處理裝置，其中該平行四 面體-導桿配置之下方之擺動軸承分別配置在U形之護 1250220 圈（9)上，其向外對準之股邊（9a)是與橫樑（10)相連，橫 樑形成各基板支件（1 3)之下方之終端。 5 .如申請專利範圍第1項之真空處理裝置，其中該起動機 構（5 1)具有一種旋轉盤（5 8 )，其上對每一基板支件（1 3 )設 定一組梯形-導桿配置（57)。 6.如申請專利範圍第5項之真空處理裝置，其中該起動機 構（5 1)是一種具有同心軸（56)之旋轉-和起重起動器，藉 由其垂直移動可使該梯形-導桿配置（57)被帶引至與基板 支件（13)上之徑向移動相作用。 7 .如申請專利範圍第1項之真空處理裝置，其中該真空室 (15) a) 具有一種盆形、旋轉對稱且靜止之內室區（16)，其具 有一垂直軸（A-A)和一第一底部（17)， b) 具有一以一距離圍繞該內室區（16)之外室區（22)，內、 外室之間配置一種環形之空間（29)以使該基板支件（13) 可旋轉，其中該外室區（2 2)設有多個以相等角距而配 置之開口（26)和連接至各開口之處理室（27，28，43)且 具有另一底部（23)，其靜止地以某一距離而配置在第 一底部（17)下方， c) 具有至少一導桿配置（8，57)，以使基板支件（13)相對 於各處理室（27，28，43)之開口（26)可作同步之徑向移 動，該導桿配置是配置在第一底部（17)和第二底部（23) 之間而可繞該軸（A-A)旋轉， d) 具有閘室序列（37)，其移交室（39)用來使該設備連續地 1250220 被供應以無框架來導引之基板。 8 ·如申請專利範圍第7項之真空處理裝置，其中該直線對 準之閘室序列（3 7)配置在該真空室（1 5)之切線方向中且包 含：一入口閘室（38)，一移交室（3 9)和一出口閘室（40)， 其具有連接於中間之真空閥（41)，其中該閘室序列（37)在 真空處理之前和之後界定該基板之直線之輸送路徑。 9 ·如申請專利範圍第丨項之真空處理裝置，其中該可圍繞 垂直軸（A-A)而旋轉之基板支件（π)向上以一種介於1和 2 0°之間之角度傾斜於該軸（A-A)而配置著。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之真空處理裝置，其中該可圍繞 垂直軸（A-A)而旋轉之基板支件（13)向上以一種介於3和 1 50之間之角度傾斜於該軸（A-A)而配置著。 1 1 .如申請專利範圍第1或8項之真空處理裝置，其中該閘 室（3 8 ’ 40)中存在著靜止之基板支件以對各基板進行無 框架式之導引，各閘室對垂直線所形成之角度是與可旋 轉之基板支件（13)者相同。 1 2 ·如申請專利範圍第1項之真空處理裝置，其中該基板支 件（1 3)在其下端具有滾輪（1 1)以容納-且繼續運送該基板 且上方具有開口使氣體排出以形成氣墊，以便在基板對 各別之基板支件（1 3)進行相對移動時對基板作無摩擦之 輸送。 1 3 ·如申請專利範圍第1項之真空處理裝置，其中該處理室 (27，28，43)之開口（26)相對於可針對其直立而旋轉之基 板支件（1 3)而言具有邊緣，各邊緣位於一與基板支件（1 3) 1250220 之面相平行之面中。 i 4.如申請專利範圍第13項之真空處理裝置，其中該處理室 (27，28，43)之開口（26)設有遮蔽件（46)，使基板在處理 期間可被遮蔽。 1 5 .如申請專利範圍第1項之真空處理裝置，其中該導桿配 置（8，57)只具有鉸鏈以使可旋轉之基板支件（13)向前推， 藉此可移動該基板支件（1 3)而不會產生線性之滑動摩 擦。 16.如申請專利範圍第5項之真空處理裝置，其中該梯形-導 桿配置（57)之最短之上方之元件（65)在其中央處具有另一 鉸鏈且二個串聯之梯形-導桿配置（57)藉由間隔導桿（62) 而互相連接，使串聯之梯形-導桿配置（57)分別佔有相同 之角位置。 1 7 ·如申請專利範圍第5至7項中任一項之真空處理裝置， 其中該軸（5 6)用之起動機構（51)配置在該向著大氣敞開之 內室區（16)中。 1 8 _如申請專利範圍第1 6項之真空處理裝置，其中該梯形-導桿配置（5 7)之上方之元件（6 5)具有另一已固定安裝之導 桿（65a)，其下端經由鉸鏈而與懸臂（61)相連接，其外端 上固定著該基板支件（13)。 1 9 .如申請專利範圍第1 8項之真空處理裝置，其中該上方之 元件（65)和其導桿（65a)具有”T”形之形式。 20.如申請專利範圍第17項之真空處理裝置，其中在該軸（56) 上配置一承載凸緣（63)，其經由導桿（64)作用在角桿（59) 上’角桿（5 9)定位在旋轉盤（5 8)上且其一股邊是最內之梯 1250220 形-導桿配置（5 7)之一部份，藉此可使梯形-導桿配置（57) 擺動。