RU2802043C1 - Способ получения нанопленок диоксида титана, легированного молибденом, с использованием технологии атомно-слоевого осаждения - Google Patents
Способ получения нанопленок диоксида титана, легированного молибденом, с использованием технологии атомно-слоевого осаждения Download PDFInfo
- Publication number
- RU2802043C1 RU2802043C1 RU2022134785A RU2022134785A RU2802043C1 RU 2802043 C1 RU2802043 C1 RU 2802043C1 RU 2022134785 A RU2022134785 A RU 2022134785A RU 2022134785 A RU2022134785 A RU 2022134785A RU 2802043 C1 RU2802043 C1 RU 2802043C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- vapors
- ald
- moocl
- molybdenum
- puffed
- Prior art date
Links
Abstract
Изобретение может быть использовано в солнечной энергетике, при изготовлении фотокатализаторов разложения воды и органических загрязнителей, а также антибактериальных нанопокрытий. Наноплёнки диоксида титана, легированного металлом, получают методом атомно-слоевого осаждения (АСО). Используют кремниевую подложку, на которую в качестве затравочного оксидного слоя наносят Al2O3 методом АСО путём попеременной подачи в реакционную зону паров триметилалюминия (ТМА) и воды с продувкой азотом после напуска паров каждого из данных реагентов. Тетрахлорид титана используют в качестве прекурсора атомов титана, воду - в качестве прекурсора атомов кислорода, а в качестве соединения легирующего металла используют MoOCl4. Реагенты при проведении АСО подают циклически в следующем режиме: первый субцикл - TiCl4-H2O, для чего напускают пары TiCl4 в течение 1 с, продувают 30 с, напускают пары H2O в течение 1 с и снова продувают 30 с; второй субцикл - MoOCl4-H2O, для чего напускают пары MoOCl4 в течение 1 с, продувают 30 с, напускают пары H2O в течение 1 с и снова продувают 30 с. Все процессы АСО проводят при температуре реакционной зоны, составляющей 160°С. Суперциклы, состоящие из указанных субциклов, повторяют до получения требуемой толщины плёнки. Для увеличения относительного содержания атомов молибдена в получаемой плёнке изменяют численное соотношение указанных субциклов. Изобретение позволяет получать однородные плёнки, контролировать их толщину и состав, обеспечивает их конформность и высокую адгезию на поверхностях подложек со сложной топографией. 1 з.п. ф-лы, 3 ил.
Description
Изобретение относится к технологии получения нанопленок диоксида титана, легированного молибденом, методом атомно-слоевого осаждения и может быть использовано для получения полупроводникового материала с улучшенными фотокаталитическими свойствами, имеющего перспективу применения в солнечной энергетике, как фотокатализатор разложения воды, и органических загрязнителей, а также как антибактериальное нанопокрытие.
Изобретение обеспечивает преимущество контроля состава и толщины получаемой пленки, равномерность легирования диоксида титана атомами молибдена. Используемая технология атомно-слоевого осаждения обеспечивает высокую степень конформности на подложках и поверхностях со сложной топографией.
Известно, что диоксид титана (TiO2) широко распространен в природе, не токсичен и обладает фотокаталитическими свойствами. Значение ширины запрещённой зоны TiO2 в зависимости от кристаллической структуры находится в пределах от 3.0 до 3.4 эВ. Это ограничивает его область активации ультрафиолетовой областью, которая составляет лишь ≈3 % солнечного спектра. Одним из подходов к модификации оптических свойств TiO2 является легирование ионами переходных металлов. Атомно-слоевое осаждение (АСО) нашло широкое применение для получения легированных нанопленок. В прошлом для легирования методом АСО TiO2 были успешно использованы ванадий, углерод, азот, ниобий, сера, цинк, фтор, тантал и др. В данной работе предлагается способ легирования TiO2 атомами молибдена методом АСО.
Известен способ CN 102836704B (дата приоритета 20.09.2012 г.) получения трехслойных пленок диоксида титана, легированного молибденом, проявляющих фотокаталитическую активность. В полученной трехслойной структуре нижний слой представляет собой пленку TiO2, легированного молибденом, толщиной в диапазоне от 5 до 20 нм с высокой концентрацией молибдена (атомное соотношение Mo/Ti составляет от 3% до 10%), средний слой представляет собой пленку TiO2, легированного молибденом, толщиной от 100 до 300 нм с низкой концентрацией (атомное соотношение Mo/Ti составляет от 0.5% до 3%), а верхний слой представляет собой пленку нелегированного TiO2 толщиной в диапазоне 100-300 нм. Данным способом показана возможность получения пленки TiO2, легированного молибденом, с трехслойной структурой в один этап в вакуумной камере с использованием технологии высокочастотного магнетронного совместного распыления в диапазоне температур 20-500°С. Данный способ прост, удобен и имеет высокую производительность, но его недостатками являются невозможность контроля толщины слоев и управления атомарной концентрацией молибдена в составе пленки.
Изобретение CN105344350A (дата приоритета 12.03.2015) раскрывает способ получения нанопроволок TiO2, легированного молибденом, в смеси с графеном, обладающих высокой каталитической активностью при видимом свете. Данный способ заключается в том, что эмульсию, содержащую диоксид титана и молибдат аммония смешивают с оксидом графена, затем полученную однородную суспензию подвергают щелочной гидротермальной обработке в реакторе высокого давления с тефлоновым покрытием при температуре 200°С в течение 18-30 часов. После охлаждения полученное соединение подвергается промывке несколько раз 0.1 М HCl, дистилированной водой и этанолом до достижения pH промывочной среды, равного 7. Затем соединение подвергается сушке в течение 8 часов при температуре 60°С. Далее соединение прокаливают при температуре 450-600°С в течение 2-6 часов в атмосфере азота для получения нанопроволок TiO2, легированного молибденом, в смеси с графеном. Недостатками данного способа являются многостадийность процесса, высокие давления и длительность термической обработки, что делает данный метод экономически нецелесообразным.
Также известен способ CN105161700A (дата приоритета 05.08.2015) легирования молибденом наночастиц диоксида титана, заключающийся в двухэтапном процессе: пиролиз аэрозоля, содержащего наночастицы триоксида молибдена и прекурсор титана с ацетилацетоном в органическом растворителе и дальнейшее прокаливание полученного нанопорошка в атмосфере воздуха в диапазоне температур 200-500°С в течение 0.5-5 ч. В качестве прекурсора титана могут быть использованы бутилат титана, тетраэтилат титана, тетраизопропилат титана, а в качестве органического растворителя - бензол, толуол, ксилол или циклогексан. Диаметр полученных наночастиц составлял 10-20 нм. Также в работе (Huang J., Guo X., Wang B., et. al. Synthesis and Photocatalytic Activity of Mo-Doped TiO2 Nanoparticles / J. Spectrosc., 2015, 1-8) наночастицы TiO2, легированного молибденом, синтезированы золь-гель методом. Сначала получали гель с использованием прекурсоров титана (тетрабутилат титана, Ti(OC4H9)4) и молибдена (молибдат аммония, (NH4)6Mo7O24·4H2O) и высушивали его при температуре 60°С до получения сухого геля. Для получения наночастиц TiO2, легированного молибденом, сухой гель прокаливали в муфельной печи при разных температурах (300, 450, 550 и 650°C). Содержание Mo в полученных образцах составляло 0.5 ат. %, 1.0 ат. %, 2.0 ат. % и 3.5 ат. %. Образец с содержанием молибдена 2.0 ат. %, который был изготовлен путем прокаливания сухого геля при температуре 550 °С, продемонстрировал высокую фотокаталитическую активность. Недостатками данных способов являются постепенная утрата наночастиц при их многократном использовании в каталитических процессах и, как следствие, существенный расход катализатора, а также многостадийность процесса подготовки фотокатализатора.
В работе (Sreedhar M., Brijitta J., Reddy N. et. al. Dye degradation studies of Mo-doped TiO2 thin films developed by reactive sputtering / Surf. Interface Anal. (2017) V. 50 (2), P. 171-179) пленки TiO2, легированные молибденом, получены методом реактивного магнетронного распыления при температуре 400°С с использованием мишени из титана чистотой 99.99 % для получения пленок TiO2. Содержание легированного молибдена регулируют прикладыванием прямоугольных полосок молибдена (99.99%) разных размеров (1×5 мм, 1×10 мм, 1×15 мм) на титановую мишень. Фотокаталитические свойства полученных пленок изучали посредством процесса деградации красителя метиленового синего. Было обнаружено, что для тонкой пленки TiO2 с содержанием Mo 4 ат. %, достигается разложение ~59.6% красителя, тогда как для нелегированного TiO2 значение фотодеградации красителя составило 15%. Недостатками данного способа являются невозможность послойного контроля толщины и состава получаемой пленки, а также риск паразитного легирования, ввиду высокой вероятности пробития предыдущих слоев высокоэнергетичными ионами распыляемого материала.
В работе Luo Sh.-Y. и др. (Luo Sh.-Y., Yan B., Shen J. Enhancement of photoelectric and photocatalytic activities: Mo doped TiO2 thin films deposited by sputtering /Thin Solid Films (2012) V. 522 , P. 361-365) описан способ получения данного материала толщиной 500 нм методом магнетронного распыления. В работе для распыления были приготовлены четыре совмещенные мишени из Ti (99.99%, Alluter) и Mo. Содержание молибдена в каждой составной мишени контролировалось прикладыванием маленькой таблетки молибдена к разным зонам эрозии (распылительного кольца) титановой мишени. Различные коэффициенты распыления для титана (1.2) и молибдена (0.8) также были учтены для контроля соотношения распыляемого материала. Перед напылением в камере создавался вакуум до 2·10-3 Па. При распылении давление рабочих газов составляло 0.8 Па, соотношение газов O2 и Ar равнялось 14.3% и 85.7%, соответственно. Каждый процесс напыления длился один час. Было получено четыре типа пленок: пленки A (чистый TiO2), B (0.9 ат. % Mo), C (1.8 ат. % Mo), D (2.7 ат. % Mo) и E (3.6 ат. % Mo), состав которых был скорректирован в процессе напыления с учетом коэффициента выхода. Пленки были получены на стеклянных подложках при комнатной температуре. К недостаткам данного способа относятся отсутствие послойного контроля толщины получаемой нанопленки; отсутствие воспроизводимости процесса при получении в других вакуумных установках магнетронного распыления, вследствие того, что у процесса нет свойства самоограничения; отсутствие возможности масштабирования данного способа, ввиду того, что нет возможности управления атомарной концентрацией молибдена и получения соединений с заданной стехиометрией для применений, где это критически необходимо; а также в процессе напыления многослойных структур при толщине слоя в несколько нанометров существует высокая вероятность пробития предыдущих слоев высокоэнергетичными ионами распыляемого материала и вследствие этого получение эффекта паразитного легирования.
В качестве способа наиболее близкого к предложенному по своей технической сущности и достигаемому результату выбран способ легирования TiO2 методом атомно-слоевого осаждения, предложенный в работе [Viljami Pore, Atomic Layer Deposition and Photocatalytic Properties of Titanium Dioxide Thin Films (Academic Dissertation, Helsinki, Laboratory of Inorganic Chemistry Faculty of Science University of Helsinki, 2010]. В данной работе разработаны способы легирования диоксида титана различными элементами, включая атомы фтора; серы; азота; ниобия; тантала, методом атомно-слоевого осаждения в диапазоне температур 200-500°С. В качестве прекурсора атомов титана в работе использован тетрахлорид титана - TiCl4, кислорода - H2O, фтора - TiF4, серы - H2S, азота - NH3, ниобия - Nb(OEt)5, тантала - Ta(OEt)5. В качестве подложек для осаждения легированного TiO2 использованы боросиликатное стекло, известково-натриевое стекло, кремниевая подложка с естественным оксидом кремния, стеклянная подложка с ITO-напылением и кремниевая подложка со слоем термически окисленного кремния. При легировании пленок TiO2 атомами металлов (ниобий, тантал) для получения смешанной пленки чередуют циклы, а также меняют их соотношения, за счет чего образуется многослойное покрытие TiO2-Nb2O5 или TiO2-Ta2O5. Полученные путем легирования диоксида титана пленки проявляли повышенную фотокаталитическую активность по сравнению с нелегированным TiO2.
Однако отличительными признаками предложенного нами способа от выбранного прототипа является то, что:
1. для АСО TiMoOx используются суперциклы, где осуществляется циклическая подача реагентов в следующем режиме: первый субцикл - TiCl4-H2O, для чего напускают пары TiCl4 в течение 1 с, продувают азотом 30 с, напускают пары H2O в течение 1 с и снова продувают 30 с; второй субцикл - MoOCl4-H2O, для чего напускают пары MoOCl4 в течение 1 с, продувают 30 с, напускают пары H2O в течение 1 с и снова продувают 30 с. Соотношение атомов титана и молибдена регулируется соотношением субциклов TiCl4-H2O и MoOCl4-H2O. Использование подхода с использованием суперциклов позволяет равномерно легировать TiO2 атомами металлов;
2. в качестве легирующего атома выбран молибден; также легирование диоксида титана атомами молибдена методом атомно-слоевого осаждения ранее не было проведено;
3. в качестве прекурсора легирующего атома выбрано неорганическое соединение (галогенид) - оксотетрахлорид молибдена VI (MoOCl4), в отличие от прототипа, где в качестве источника атомов ниобия и тантала выбраны металлорганические соединения. В сравнении с часто используемыми в АСО металлорганическими (МО) прекурсорами, галогениды обладают достаточным давлением паров при комнатной температуре или могут быть относительно легко переведены в газовую фазу нагревом. Синтез галогенидов менее экономически затратен по сравнению с МО прекурсорами;
4. предложено предварительное осаждение оксида алюминия (Al2O3) на кремниевую подложку с естественным оксидом кремния в качестве затравочного слоя для обеспечения высокой адгезионной прочности нанопленки TiMoOx к подложке;
5. процессы АСО пленок происходят при температуре реакционной камеры 160°С, то есть благодаря выбранной химии осаждения удается снизить температуру получения легированных титаноксидных пленок.
Целью предлагаемого изобретения является разработка способа получения тонких пленок диоксида титана, легированного молибденом (TiMoOx), с возможностью контроля толщины и состава получаемого покрытия с использованием технологии атомно-слоевого осаждения (АСО). Сущность изобретения заключается в обеспечении контроля состава и толщины получаемой пленки; конформности и высокой адгезии пленок TiMoOx на поверхности подложек со сложной топографией; возможности получения однородных пленок, благодаря поэтапному химическому выращиванию пленки за счет самоограничивающихся поверхностных реакций, осуществляющихся в технологии АСО.
Достижение результата технически осуществляется двухэтапным процессом: на первом этапе осуществляется подготовка поверхности субстрата путем атомно-слоевого осаждения затравочного слоя оксида алюминия толщиной около 50 Å; на втором этапе осуществляется атомно-слоевое осаждение TiMoOx пленки с подбором необходимых реагентов и условий АСО (температура, время дозирования реагентов и время продувки побочных продуктов поверхностных реакций). Предварительное нанесение затравочного слоя оксида алюминия на кремниевую подложку способствует более эффективной нуклеации во время АСО TiMoOx, вследствие высокой концентрации гидроксильных групп на поверхности аморфного оксида алюминия. Благодаря использованию галогенидов (TiCl4, MoOCl4) в качестве реагентов для АСО TiMoOx, данный способ является экономичным и доступным, вследствие возможности синтезировать их в лабораторных условиях.
Пример конкретного выполнения способа
1. Подготовка осаждаемой поверхности путем нанесения Al2O3;
2. Атомно-слоевое осаждение тонких пленок диоксида титана, легированного молибденом (TiMoOx)
Для подготовки поверхности кремниевой подложки к АСО TiMoOx на нее наносят Al2O3 методом АСО. Для этого в качестве прекурсоров используются триметилалюминий (TMA) (CAS номер 75241, Sigma-Aldrich, 97%) и бидистилированная вода (H2O). АСО проводится в вакуумной установке для атомно-слоевого осаждения при температуре реакционной зоны 160 °С. В реакционную зону попеременно подаются пары ТМА и H2O. Время дозирования паров реагентов составляет 1 секунду. После напуска паров каждого реагента следует стадия продувки (30 секунд) с целью удаления побочных продуктов реакции и непрореагировавших молекул реагентов. В качестве продувочного газа используется азот особой степени чистоты от ООО «Гермес-газ» (N2, 99.999%). Один цикл АСО Al2O3 составляют следующие стадии: напуск паров ТМА (1 с), продувка (30 с), напуск паров H2O (1 с), продувка (30 с). Для получения Al2O3 толщиной 50 Å на поверхности кремниевой подложки проводится 50 АСО циклов Al2O3.
На подготовленную описанным выше способом поверхность кремниевой подложки начинают процесс АСО TiMoOx. Для этого в качестве прекурсоров используют TiCl4 (Sigma-Aldrich, кат. номер 7550450, ≥99.0%), MoOCl4 (Sigma-Aldrich, кат. номер 13814750, 97.0%,) и бидистилированную воду (H2O). Температура реакционной зоны составляет 160°С. MoOCl4 греют до 60°С для сублимации и достижения достаточного давления паров, его линию подачи в реакционную зону греют до 80°С во избежание конденсации паров реагента. Осаждение TiMoOx осуществляется посредством использования суперциклов, состоящих из субциклов TiCl4-H2O и MoOCl4-H2O. Во время субцикла TiCl4-H2O происходит напуск паров TiCl4 (1 с), продувка (30 с), напуск паров H2O (1 с), продувка (30 с). Этот субцикл во время одного суперцикла повторяется один раз. Субцикл MoOCl4-H2O во время одного суперцикла повторяется 7 раз и состоит из следующих стадий: напуск паров MoOCl4 (1 с), продувка (30 с), напуск паров H2O (1 с), продувка (30 с). Соотношение субциклов TiCl4-H2O и MoOCl4-H2O во время одного суперцикла может меняться в зависимости от желаемого соотношения относительного содержания Ti и Mo в получаемой пленке. В данном способе используется соотношение субциклов TiCl4-H2O и MoOCl4-H2O 1:7 с целью увеличения относительного содержания атомов молибдена в получаемой пленке. Полученную таким образом пленку обозначили 1Ti7MoO. АСО суперциклы повторяют до получения необходимой толщины пленки. Для данного примера проводили 70 суперциклов атомно-слоевого осаждения.
На фигуре 1 представлен обзорный рентгенофотоэлектронный спектр для пленки 1Ti7MoO, полученной при температуре АСО 160°C с использованием 70 АСО суперциклов на кремниевой подложке с предварительно нанесенным АСО Al2O3 толщиной 50 Å. Анализ пленки 1Ti7MoO показал следующий состав: Ti 2p (20.61 ат. %), Mo 3d (4.02 ат. %), O 1s (50.72 ат. %), Al 2p (4.24 ат. %), С 1s (20.41 ат. %). Содержание атомов хлора в пленках было ниже чувствительности инструмента (<0.5 ат. %). Обнаружение алюминия обусловлено предварительной подготовкой поверхности кремниевой подложки к осаждению 1Ti7MoO путем нанесения АСО Al2O3. Присутствие примесей углерода обусловлено загрязнением поверхности образцов при контакте с воздухом в промежутке между осаждением и РФЭС анализом.
Проведенный анализ пленки 1Ti7MoO методом рентгеновской дифрактометрии показал, что она аморфная. Методом рентгеновской рефлектометрии определены толщина полученной пленки (109 Å), постоянная роста (1.5 Å/суперцикл), плотность (4.30 г/см3) и среднеквадратичная шероховатость (8.5 Å). На фигуре 2 приведены экспериментальные кривые сканирования пленок (отображены красной линией) и кривые, смоделированные с использованием пакета программ Bruker Difrac.Suite (представлены черной линией). Для моделирования использовали «сэндвич» Si/SiO2/Al2O3/TiMoOx. По близости смоделированной и экспериментальной кривых судят о адекватности предложенной для измерения модели.
На фигуре 3 приведены 2D и 3D сканы атомно-силовой микроскопии для пленки TiMoOx толщиной 109 Å. Среднеквадратичная шероховатость (RRMS) пленки составила 8.9 Å. Полученная пленка характеризуется аморфной структурой и гладкой поверхностью.
Claims (2)
1. Способ получения нанопленок диоксида титана, легированного металлом, методом атомно-слоевого осаждения (АСО), включающий использование кремниевой подложки с затравочным оксидным слоем, тетрахлорида титана в качестве прекурсора атомов титана, воды в качестве прекурсора атомов кислорода, а также соединения легирующего металла, отличающийся тем, что процессы АСО проводят при температуре реакционной зоны, составляющей 160°С, в качестве затравочного оксидного слоя на кремниевую подложку наносят Al2O3 методом АСО путём попеременной подачи в реакционную зону паров триметилалюминия (ТМА) и воды с продувкой азотом после напуска паров каждого из данных реагентов; в качестве соединения металла для легирования диоксида титана молибденом используют MoOCl4, а циклическую подачу реагентов при проведении АСО проводят в следующем режиме: первый субцикл - TiCl4-H2O, для чего напускают пары TiCl4 в течение 1 с, продувают 30 с, напускают пары H2O в течение 1 с и снова продувают 30 с; второй субцикл - MoOCl4-H2O, для чего напускают пары MoOCl4 в течение 1 с, продувают 30 с, напускают пары H2O в течение 1 с и снова продувают 30 с.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что суперциклы, состоящие из указанных субциклов, повторяют до получения требуемой толщины пленки, а для увеличения в ней относительного содержания атомов молибдена изменяют численное соотношение указанных субциклов.
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2802043C1 true RU2802043C1 (ru) | 2023-08-22 |
Family
ID=
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102836704A (zh) * | 2012-09-20 | 2012-12-26 | 复旦大学 | 一种三层结构的掺钼TiO2光催化薄膜及其制备方法 |
CN105161700A (zh) * | 2015-08-05 | 2015-12-16 | 华东理工大学 | 一种三氧化钼包覆钼掺杂二氧化钛纳米复合颗粒及其制备方法与应用 |
CN105344350A (zh) * | 2015-12-03 | 2016-02-24 | 江南大学 | 一种在可见光下具有高催化降解活性的钼掺杂TiO2纳米线/石墨烯复合物的制法 |
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102836704A (zh) * | 2012-09-20 | 2012-12-26 | 复旦大学 | 一种三层结构的掺钼TiO2光催化薄膜及其制备方法 |
CN105161700A (zh) * | 2015-08-05 | 2015-12-16 | 华东理工大学 | 一种三氧化钼包覆钼掺杂二氧化钛纳米复合颗粒及其制备方法与应用 |
CN105344350A (zh) * | 2015-12-03 | 2016-02-24 | 江南大学 | 一种在可见光下具有高催化降解活性的钼掺杂TiO2纳米线/石墨烯复合物的制法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
VILIJAMI PORE, Atomic Layer Deposition and Photocatalytic Properties of Titanium Dioxide Thin Films, Academic Dissertation, Helsinki, Laboratory of Inorganic Chemistry Faculty of Science University of Helsinki, 2010, p.p. 5, 11-13, 28-30, 34, 44, 47. * |
КРЫСАНОВА В.А. и др. Мо-модифицированный диоксид титана как перспективный фотокаталитически активный материал, Труды Кольского научного центра РАН, Химия и материаловедение, 2021, т. 11, вып. 5, no. 2, сс. 131-135. M. SREEDHAR et al. Dye degradation studies of Mo-doped TiO2 thin films developed by reactive sputtering, Surf. Interface Anal., 2018; 50:171-179. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Kato et al. | Crystal structures of TiO 2 thin coatings prepared from the alkoxide solution via the dip-coating technique affecting the photocatalytic decomposition of aqueous acetic acid | |
Sonawane et al. | Preparation and photo-catalytic activity of Fe TiO2 thin films prepared by sol–gel dip coating | |
Mathur et al. | Nanostructured films of iron, tin and titanium oxides by chemical vapor deposition | |
Kishimoto et al. | Photocatalytic activity of titanium oxide prepared by liquid phase deposition (LPD) | |
CN108126681A (zh) | 用于增强二氧化钛(TiO2)涂层的光催化活性的成核层 | |
Oh et al. | Comparison of optical and photocatalytic properties of TiO2 thin films prepared by electron-beam evaporation and sol–gel dip-coating | |
Lee et al. | Photocatalytic functional coatings of TiO2 thin films on polymer substrate by plasma enhanced atomic layer deposition | |
Guo et al. | Investigation of structure and properties of N-doped TiO2 thin films grown by APCVD | |
WO2001010552A1 (fr) | Materiau photocatalytique, article photocatalytique et procede de preparation de ceux-ci | |
US10968508B2 (en) | Method of fabricating hydrophilic-hydrophobic transformable composite film | |
Lim et al. | Characteristics of TiOx films prepared by chemical vapor deposition using tetrakis-dimethyl-amido-titanium and water | |
Duminica et al. | Growth of TiO2 thin films by AP-MOCVD on stainless steel substrates for photocatalytic applications | |
Zhou et al. | Nanocrystalline TiO2 thin film prepared by low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition for photocatalytic applications | |
Patil et al. | Preparation of TiO2 thin films by modified spin-coating method using an aqueous precursor | |
Toma et al. | Parameters influencing the photocatalytic activity of suspension-sprayed TiO 2 coatings | |
Ren et al. | Study on the superhydrophilicity of the SiO 2-TiO 2 thin films prepared by sol-gel method at room temperature | |
CN101328574A (zh) | 一种高膜基结合强度光催化TiO2薄膜的制备方法 | |
Lee et al. | Photocatalytic activities of TiO2 thin films prepared on Galvanized Iron substrate by plasma-enhanced atomic layer deposition | |
Malnieks et al. | Effect of different dip-coating techniques on TiO2 thin film properties | |
WO2021219116A1 (zh) | 亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品 | |
RU2802043C1 (ru) | Способ получения нанопленок диоксида титана, легированного молибденом, с использованием технологии атомно-слоевого осаждения | |
CN108866510B (zh) | 一种在TiO2颗粒表面脉冲化学气相沉积无定形TiO2的方法 | |
US5919726A (en) | Method for producing photocatalyst material | |
Johari et al. | Effect of heat treatment temperature on the structural, morphological, optical and water contact angle properties of brookite TiO2 thin film deposited via green sol–gel route for photocatalytic activity | |
Murugan et al. | Effect of dehydration rate on non-hydrolytic TiO2 thin film processing: Structure, optical and photocatalytic performance studies |