RU2119211C1 - Способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов - Google Patents
Способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов Download PDFInfo
- Publication number
- RU2119211C1 RU2119211C1 RU96105145A RU96105145A RU2119211C1 RU 2119211 C1 RU2119211 C1 RU 2119211C1 RU 96105145 A RU96105145 A RU 96105145A RU 96105145 A RU96105145 A RU 96105145A RU 2119211 C1 RU2119211 C1 RU 2119211C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- irradiation
- rectifier element
- thyristors
- value
- coefficient
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Thyristors (AREA)
Abstract
Использование: силовая полупроводниковая техника. Сущность изобретения: способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов заключается в облучении партии выпрямительных элементов (в.э.) потоком быстрых электронов, γ - квантов или протонов, при этом на каждом i-том выпрямительном элементе предварительно определяют U, при заданном I3, и τ, а величину дозы облучения Φ1i определяют из соотношений:
U3 - ΔU3 ≤ Uki≤ U3+ΔU3 ;
где U3 - величина Uв.э. при I3 Uki - фактическое значение U i-того в.э. после облучения при I3; ΔU - допустимая величина отклонения Uki от U3; ξ - максимальное значение коэффициента для тиристоров или диодов при облучении, которое предварительно определяется на других в.э. этого же типа; К - постоянная Больцмана; T - температура в.э. при измерении U; W - ширина эффективной базовой области; Loi, τ0i --диффузионная длина и время жизни н.н.з. в эффективной базовой области i-того в.э. до облучения; Kτ - максимальное значение коэффициента деградации времени жизни неосновных носителей заряда н.н.з., предварительно определенное на других в.э.; D* - амбиполярный коэффициент диффузии. На в.э. неудовлетворяющих условию (1) у каждого i-того в.э. после облучения контролируют U при I3 и τ и проводят повторное облучение, величина дозы которого для каждого i-того в.э. должна удовлетворять соотношениям (1)
U3 - ΔU3 ≤ Uki≤ U3+ΔU3 ;
где U3 - величина Uв.э. при I3 Uki - фактическое значение U i-того в.э. после облучения при I3; ΔU - допустимая величина отклонения Uki от U3; ξ - максимальное значение коэффициента для тиристоров или диодов при облучении, которое предварительно определяется на других в.э. этого же типа; К - постоянная Больцмана; T - температура в.э. при измерении U; W - ширина эффективной базовой области; Loi, τ0i --диффузионная длина и время жизни н.н.з. в эффективной базовой области i-того в.э. до облучения; Kτ - максимальное значение коэффициента деградации времени жизни неосновных носителей заряда н.н.з., предварительно определенное на других в.э.; D* - амбиполярный коэффициент диффузии. На в.э. неудовлетворяющих условию (1) у каждого i-того в.э. после облучения контролируют U при I3 и τ и проводят повторное облучение, величина дозы которого для каждого i-того в.э. должна удовлетворять соотношениям (1)
Description
Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов.
Регулирование величины напряжения (U) в открытом состоянии тиристоров и диодов осуществляется с целью увеличения их быстродействия (снижения времени выключения tg для тиристоров или заряда обратного восстановления Qrr для тиристоров и диодов) или снижения разницы в значениях U у тиристоров или диодов изготавливаемой партии, что необходимо при их использовании, например, при параллельном соединении. В первом случае, как правило, U3 задается равным импульсному напряжению в открытом состоянии U. Регулирование U у тиристоров обычно осуществляется путем регулирования (уменьшения) времени жизни неравновесных носителей заряда (н.н.з.) в эффективной базовой области -(τ). Для этого используют диффузию золота, платины или радиационные методы электронного, протонного или γ- облучения.
Известен способ [1] уменьшения τ в полупроводниковых приборах путем проведения диффузии платины. При использовании этого способа процент выхода годных приборов и воспроизводимость их параметров возрастает по сравнению с использованием диффузии золота на несколько процентов.
Недостатком данного способа является то, что перед проведением диффузии исходное состояние для каждой полупроводниковой структуры неизвестно и, хотя они могут существенно различаться, режим диффузии устанавливается единым для всей партии. Поэтому значения U у большинства изготовленных выпрямительных элементов (в.э.) существенно отличаются от U3.
Известен способ [2] регулирования U на в.э. тиристоров, заключающийся в облучении партии их в. э. потоком быстрых электронов. При использовании данного способа на каждом в.э. до облучения контролируют исходные значения Uo.i. при заданном значении амплитуды анодного тока в открытом состоянии (I3) τoi и устанавливают дозу облучения для i-того в.э. φ1i из соотношений:
U3-ΔU3≤Uki≤U3+ΔU3, (3)
,
где
U3 - величина требуемого U у в.э. облучаемой партии после облучения, измеренная при I3;
Uki - фактическое значение Ui-того в.э. после облучения, измеренное при I3;
ΔU3- допустимая величина отклонения Uki от U3;
ξ- максимальное значение коэффициента, которое для тиристоров и диодов облучаемого типа предварительно определяют на других в.э.;
K - постоянная Больцмана;
T - температура в.э. при измерении;
W - ширина эффективной базовой области;
q - заряд электрона;
Loi, τoi- диффузионная длина и время жизни н.н.з. i-того в.э. до облучения;
D* - амбиполярный коэффициент диффузии;
Kτ- максимальное значение коэффициента деградации времени жизни н.н.з. (τ) для в. э. облучаемого типа в используемом режиме облучения, предварительно определенное на других в.э.
U3-ΔU3≤Uki≤U3+ΔU3, (3)
,
где
U3 - величина требуемого U у в.э. облучаемой партии после облучения, измеренная при I3;
Uki - фактическое значение Ui-того в.э. после облучения, измеренное при I3;
ΔU3- допустимая величина отклонения Uki от U3;
ξ- максимальное значение коэффициента, которое для тиристоров и диодов облучаемого типа предварительно определяют на других в.э.;
K - постоянная Больцмана;
T - температура в.э. при измерении;
W - ширина эффективной базовой области;
q - заряд электрона;
Loi, τoi- диффузионная длина и время жизни н.н.з. i-того в.э. до облучения;
D* - амбиполярный коэффициент диффузии;
Kτ- максимальное значение коэффициента деградации времени жизни н.н.з. (τ) для в. э. облучаемого типа в используемом режиме облучения, предварительно определенное на других в.э.
Недостатком данного способа является то, что ξ и Kτ определяются заранее на других в.э. тиристоров данного типа и считаются едиными для всех в.э. данного типа. Фактически значения ξ и Kτ даже у в.э. одного типа тиристоров могут существенно различаться, что обусловлено различиями геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структур, возникающих из-за неполной воспроизводимости режимов технологических операций в процессе производства тиристоров. Поэтому и при использовании этого метода много в.э. после облучения имеют недопустимые отличия величины Uki от U3, что не позволяет достичь у них требуемых значений tq, Qrr и использовать их при параллельном соединении.
Предлагается способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов, устраняющий перечисленные выше недостатки. Способ заключается в том, что в известном способе, состоящем в облучении партии выпрямительных элементов, на каждом i-том из которых предварительно определяют U(Uoi) при заданном значении амплитуды анодного тока в открытом состоянии (I3) и время жизни неравновесных носителей заряда в эффективной базовой области τ(τoi), потоком быстрых электронов, γ- квантов или протонов, величину дозы которого для i-того выпрямительного элемента (φ1i) определяют из соотношений:
U3-ΔU3≤Uki≤U3+ΔU3, (1)
и у каждого i-того выпрямительного элемента после облучения контролируют U (U1i) при I3 и τ(τ1i), и на тиристорах и диодах, неудовлетворяющих условию (1), проводят повторное облучение, при котором величина дозы облучения i-того выпрямительного элемента (φ2i) удовлетворяет соотношениям:
U3-ΔU3≤Uki≤U3+ΔU3, (1)
где
L1i - диффузионная длина неосновных носителей заряда i-того выпрямительного элемента после первого облучения;
L2i - диффузионная длина неосновных носителей заряда i-того выпрямительного элемента после второго облучения;
коэффициент деградации времени жизни в процессе электронного облучения у i-того выпрямительного элемента;
ai - коэффициент, зависящий от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры i-того выпрямительного элемента;
τ2i- - требуемое значение τ после повторного облучения i-того выпрямительного элемента.
U3-ΔU3≤Uki≤U3+ΔU3, (1)
и у каждого i-того выпрямительного элемента после облучения контролируют U (U1i) при I3 и τ(τ1i), и на тиристорах и диодах, неудовлетворяющих условию (1), проводят повторное облучение, при котором величина дозы облучения i-того выпрямительного элемента (φ2i) удовлетворяет соотношениям:
U3-ΔU3≤Uki≤U3+ΔU3, (1)
где
L1i - диффузионная длина неосновных носителей заряда i-того выпрямительного элемента после первого облучения;
L2i - диффузионная длина неосновных носителей заряда i-того выпрямительного элемента после второго облучения;
коэффициент деградации времени жизни в процессе электронного облучения у i-того выпрямительного элемента;
ai - коэффициент, зависящий от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры i-того выпрямительного элемента;
τ2i- - требуемое значение τ после повторного облучения i-того выпрямительного элемента.
При использовании данного способа осуществляется контроль не только исходного состояния Uoi, τoi выпрямительных элементов перед облучением, но и определяется скорость роста U и у каждого i-того выпрямительного элемента при облучении в заданном режиме.
В соответствии с [3] U при высоком уровне инжекции в широкой базовой области тиристора определяется тремя составляющими:
Ut = Uj + U1 + U2,
где
Ui - суммарное падение напряжения на p-n-переходах тиристора;
U1 - составляющая падения напряжения на базовой области, обусловленная электрическим полем;
U2 - составляющая падения напряжения, обусловленная взаимным рассеянием подвижных носителей заряда.
Ut = Uj + U1 + U2,
где
Ui - суммарное падение напряжения на p-n-переходах тиристора;
U1 - составляющая падения напряжения на базовой области, обусловленная электрическим полем;
U2 - составляющая падения напряжения, обусловленная взаимным рассеянием подвижных носителей заряда.
Значения Uj и U2 слабо изменяются при изменении τ, а U1 можно представить в виде соотношения
U1=aoew/2L , (11)
где
aо - коэффициент, зависящий от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры;
W - ширина эффективной базовой области p-n-p-n-структуры;
L - диффузионная длина н.н.з. в эффективной базовой области;
aо слабо зависит от τ, поэтому изменение U у i-того в.э. в процессе облучения с высокой степенью точности можно описать соотношением
Изменение τ в процессе облучения для i-того в.э. описывается соотношением
где
зависит от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры тиристоров и режимов облучения.
U1=aoew/2L , (11)
где
aо - коэффициент, зависящий от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры;
W - ширина эффективной базовой области p-n-p-n-структуры;
L - диффузионная длина н.н.з. в эффективной базовой области;
aо слабо зависит от τ, поэтому изменение U у i-того в.э. в процессе облучения с высокой степенью точности можно описать соотношением
Изменение τ в процессе облучения для i-того в.э. описывается соотношением
где
зависит от геометрических и электрофизических параметров p-n-p-n-структуры тиристоров и режимов облучения.
Из соотношений (12), (13) можно определить коэффициенты ai и , которые характеризуют изменение U в процессе облучения для каждого i-того в.э. Изменение U и τ в процессе повторного облучения с учетом соотношений (1), (12) и (13) будут описываться соотношениями:
С целью опробывания вышеописанного способа была изготовлена партия выпрямительных элементов тиристоров типа ТБ371-250 в количестве 70 штук. Полупроводниковая p-n-p-n-структура изготавливалась из кремния марки КОФ 44-50, имела толщину 380 мкм и глубину p-n-переходов по 80 мкм. Выпрямительные элементы изготавливались на АО "Электровыпрямитель" по серийному технологическому процессу. До проведения облучения на каждом выпрямительном элементе проводилось измерение Uoi при токе I3=250•π(A) и τoi. Для расчета режима облучения U3 принималось равным 1,7В, а ΔU3-0,05В. Облучение проводилось на установке радиационно-физической БОИС-8. Максимальная плотность потока электронов составляла при облучении 8,88 • 1010 эл/(см2 • с). Распределение относительной интенсивности потока электронов по облучаемой площади приведено в табл.1.
С целью опробывания вышеописанного способа была изготовлена партия выпрямительных элементов тиристоров типа ТБ371-250 в количестве 70 штук. Полупроводниковая p-n-p-n-структура изготавливалась из кремния марки КОФ 44-50, имела толщину 380 мкм и глубину p-n-переходов по 80 мкм. Выпрямительные элементы изготавливались на АО "Электровыпрямитель" по серийному технологическому процессу. До проведения облучения на каждом выпрямительном элементе проводилось измерение Uoi при токе I3=250•π(A) и τoi. Для расчета режима облучения U3 принималось равным 1,7В, а ΔU3-0,05В. Облучение проводилось на установке радиационно-физической БОИС-8. Максимальная плотность потока электронов составляла при облучении 8,88 • 1010 эл/(см2 • с). Распределение относительной интенсивности потока электронов по облучаемой площади приведено в табл.1.
Электроны при облучении имели сплошной спектр энергии от 0,4 до 2,0 МэВ с максимумом в районе 1,5 МэВ. До проведения облучения исследуемой партии на тиристорах этого же типа проводилось облучение на установке БОИС-8 и рассчитывалось значение величин : ai и Kτi, исходя из которых устанавливались соответствующие значения a и Kτ для выпрямительных элементов и проводилось облучение. Исходные значения Uoi, τoi , фактическое время облучения, место расположения образца на лодочке при облучении в БОИС-8 (строка и столбец), реальное и приведенное время облучения (с учетом распределения интенсивности потока по площади лодочки) приведены в табл. 2. Там же приведены результаты измерений U и τ после облучения (U1i и τ1i соответственно) и рассчитанные значения ai и Из данных табл. 2 следует, что только 5 выпрямительных элементов (7% от общего числа) тиристоров имеют после облучения значения U, удовлетворяющие условию (1). С целью доведения значений U у выпрямительных элементов до требуемых значений из соотношений (1), (4) - (9) были рассчитаны необходимые значения времени повторного облучения.
Расчетные значения времени повторного облучения, место расположения выпрямительного образца при этом, реальное и приведенное время облучения приведены в табл. 2. Там же приведены в результате измерения Uki после повторного облучения.
Из полученных результатов следует, что после повторного облучения только один выпрямительный элемент (1,5% общего числа) не удовлетворяет условию (1), что свидетельствует о высокой эффективности предлагаемого способа.
Источники информации:
1. Патент США N 3640783, кл. 148 - 186, заявка N 848928 от 11.08.69, заявитель США TRW Inc. опубл. 08.02.72.
1. Патент США N 3640783, кл. 148 - 186, заявка N 848928 от 11.08.69, заявитель США TRW Inc. опубл. 08.02.72.
2. Асина С.С., Сурма А.М., Кузнецов В.М., Аксенов В.Е. Роль отжига после электронного облучения при регулировании характеристик мощных тиристоров. - Электротехническая промышленность. Сер. "Преобразовательная техника", 1984, вып. 12(170), стр. 11 - 13.
3. Расчет силовых полупроводниковых приборов./Под ред. В.А. Кузьмина - М.: Энергия, 1980, [4 - 5].
Claims (1)
- Способ регулирования величины напряжения U в открытом состоянии тиристоров и диодов, заключающийся в облучении партии их выпрямительных элементов, на каждом i-м из которых предварительно определяют U (Uoi) при заданном значении амплитуды I3 анодного тока в открытом состоянии и время τ(τoi) жизни неравновесных носителей заряда в эффективной базовой области потоком быстрых электронов, γ - квантов или протонов, величину дозы которого для i-го выпрямительного элемента φ1i определяют из соотношений
где U3 - величина требуемого U у выпрямительного элемента облучаемой партии, измеренная при I3;
Uki - фактическое значение U i-го выпрямительного элемента после облучения, измеренное при I3;
ΔU3 - допустимая величина отклонения Uki от U3;
ζ - максимальное значение коэффициента для тиристоров или диодов при облучении, которое предварительно определяется на других выпрямительных элементах этого же типа;
K - постоянная Больцмана;
T - температура выпрямительного элемента при измерении U;
q - заряд электрона;
W - ширина эффективной базовой области;
Loi, τoi - диффузионная длина и время жизни неравновесных носителей заряда в эффективной базовой области i-го выпрямительного элемента до облучения;
Kτ - максимальное значение коэффициента деградации времени жизни неравновесных носителей заряда для выпрямительных элементов облучаемого типа в используемом режиме облучения, предварительно определенное на других выпрямительных элементах;
D* - амбиполярный коэффициент диффузии,
отличающийся тем, что на тиристорах и диодах, неудовлетворяющих условию I, у каждого i-го выпрямительного элемента после облучения контролируют U (U1i) при I3 и τ(τ1i) и проводят повторное облучение, при котором величина φ2i дозы облучения i-го выпрямительного элемента удовлетворяет соотношениям
U3-ΔU3≤ Uki≤ U3+ΔU3;
где L1i - диффузионная длина неравновесных носителей заряда i-го выпрямительного элемента после первого облучения;
L2i - диффузионная длина неравновесных носителей заряда i-го выпрямительного элемента после второго облучения;
Kτi - коэффициент деградации времени жизни в процессе электронного облучения у i-го выпрямительного облучения;
ai - коэффициент, зависящий от геометрических и электрофизических параметров p-n - p-n-структуры i-го выпрямительного элемента;
τ2i - требуемое значение τ после повторного облучения у i-го выпрямительного элемента.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU96105145A RU2119211C1 (ru) | 1996-03-13 | 1996-03-13 | Способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU96105145A RU2119211C1 (ru) | 1996-03-13 | 1996-03-13 | Способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU96105145A RU96105145A (ru) | 1998-06-10 |
RU2119211C1 true RU2119211C1 (ru) | 1998-09-20 |
Family
ID=20178150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU96105145A RU2119211C1 (ru) | 1996-03-13 | 1996-03-13 | Способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2119211C1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2474926C1 (ru) * | 2011-09-21 | 2013-02-10 | Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации | Способ регулирования напряжения переключения силового полупроводникового прибора |
-
1996
- 1996-03-13 RU RU96105145A patent/RU2119211C1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
1. US, патент, 3640783, кл. 148 - 186, 1972. 2. Асина С.С. и др. Роль отжига после электронного облучения при регулировании характеристик мощных тиристоров: Электрохимическая промышленность. Сер. Преобразовательная техника. 1984, вып. 12(170), с. 11 - 13. 3. Расчет силовых полупроводниковых приборов. /Под ред. Кузьмина В.А. - М.: Энергия, 1980, с. 4 - 5. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2474926C1 (ru) * | 2011-09-21 | 2013-02-10 | Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации | Способ регулирования напряжения переключения силового полупроводникового прибора |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8101506B2 (en) | Method for producing a buried n-doped semiconductor zone in a semiconductor body and semiconductor component | |
Gaiseanu | Modeling and simulation of the impurity diffusion and related phenomena in silicon and polysilicon systems in microfabrication and micromachining technologies | |
Hazdra et al. | Optimization of SiC power pin diode parameters by proton irradiation | |
JPH05102161A (ja) | 半導体装置の製造方法とその半導体装置 | |
Johnson et al. | Electronic defect levels in self‐implanted cw laser‐annealed silicon | |
McNally | Ion implantation in InAs and InSb | |
RU2119211C1 (ru) | Способ регулирования величины напряжения в открытом состоянии тиристоров и диодов | |
Obreja | An experimental investigation on the nature of reverse current of silicon power pn-junctions | |
Catania et al. | Optimization of the tradeoff between switching speed of the internal diode and on-resistance in gold-and platinum-implanted power metal-oxide-semiconductor devices | |
Donnelly et al. | Uniform‐carrier‐concentration p‐type layers in GaAs produced by beryllium ion implantation | |
Rai-Choudhury et al. | Electron irradiation induced recombination centers in silicon-minority carrier lifetime control | |
Fuochi | Irradiation of power semiconductor devices by high energy electrons: the Italian experience | |
US3109760A (en) | P-nu junction and method | |
Keskitalo et al. | Resistivity profile measurements of proton-irradiated n-type silicon | |
Houston et al. | Measurement and analysis of carrier distribution and lifetime in fast switching power rectifiers | |
RU2110113C1 (ru) | Способ регулирования величины заряда обратного восстановления полупроводниковых приборов с заданной точностью | |
Von Borany et al. | Ion implanted nuclear radiation detectors passivated with anodic silicon oxide | |
Jackson et al. | Two deep hole traps in boron‐implanted phosphorus‐doped silicon | |
KR100616115B1 (ko) | 양성자 조사방식에 따른 고전압/대전류 반도체 -고속스위치 소자들의 제조용 소수 캐리어 수명 제어방법 | |
US20050020095A1 (en) | Method for surface treating a semiconductor | |
RU2152107C1 (ru) | Способ снижения времени выключения тиристоров | |
Siemieniec et al. | Applying device simulation for lifetime-controlled devices | |
De Lyon et al. | Dominance of surface recombination current in planar, Be‐implanted GaAs p‐n junctions prepared by rapid thermal annealing | |
JPH08148501A (ja) | シリコン半導体装置の製造方法 | |
Roux et al. | Radiation‐induced traps in low‐energy proton‐irradiated GaAs solar cells |