NO813611L - Fremgangsmaate for fremstilling av video-skiver. - Google Patents
Fremgangsmaate for fremstilling av video-skiver.Info
- Publication number
- NO813611L NO813611L NO813611A NO813611A NO813611L NO 813611 L NO813611 L NO 813611L NO 813611 A NO813611 A NO 813611A NO 813611 A NO813611 A NO 813611A NO 813611 L NO813611 L NO 813611L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- layer
- photoresist
- photoresist layer
- recording
- original
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 56
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 11
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 5
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000033458 reproduction Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Rotational Drive Of Disk (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Fremgangsmåte for fremkallingav et eksponert fotomotstandssjikt av en foreskrevet, jevn tykkelse på en original video-skive. Video-original-skiven dreies ved en første foreskrevet hastighet, som kan være i området på omkring 75-100 omdreininger pr. minutt.Det velges en fotomotstandsfremkalleroppløsning som har en foreskrevet normalitet, som kan være i området på. omkring 0,230 til omkring 0,240. Det fordeles vann på fotomotstandssjiktet til den roterende originale video-skiven for å fukte sjiktet på forhånd. Det fordeles. så både vann og fremkalleroppløsning på fotomotstandssjiktet og deretter fordeles fremkalleroppløsning alene på fotomotstandssjiktet for fullstendig å fremkalle sjiktet. Det fremkalte fotomotstandssjiktet vaskes med vann for å fjerne rester av fremkalleroppløsning fra sjiktet, og video-original-skiven dreies med den andre foreskrevet hastighet, som kan være på omkring 750 til omkring 1000 omdreininger pr. minutt, for å tørke det fremkalte fotomotstandssjiktet.
Description
Foreliggende oppfinnelse angår generelt fremgangsmåte for å fremstille video-skiver, og mer bestemt fremgangsmåte for fremkalling av et eksponert fotomotstandssjikt av en foreskrevet, jevn tykkelse på en original video-skive.
Optiske lesbare reproduserte video-skiver er nyttige ved
lagring av store mengder med informasjon, vanligvis i form av et frekvensmodulert (f.m.) bærebølgesignal, med en høy opptegningstetthet. f.m.-signalet blir vanligvis opptegnet som en sekvens av med avstand anbragte fordypninger eller ujevnheter anordnet i en rekke med hovedsakelig sirkulære og konsentriske opptegningsspor. Hver fordypning og tilliggende rom mellom fordypningene representerer en periode med f.m.-signal.
Skivereproduksjoner blir i alminnelighet dannet ved hjelp av sprøytestøpningsinnretninger som benytter pregeskiver utledet fra originalplaten. En original opptegningsplate innbefatter vanligvis et glass-substrat som har en skiveformet, plan overflate med et tynt opptegningssjikt, slik som en metallfilm. Informasjon blir i alminnelighet opptegnet i oppteg-ningss j iktet ved å fokusere en intensitetsmodulert skrivestråle på sjiktet ved å benytte en radialt bevegelig optisk linse når originalskiven blir dreiet ved en forutbestemt hastighet. Stråleintensiteten blir modulert i samsvar med f.m.-signalet
for å tilveiebringe endringer større og mindre enn forutbestemt terskel, ved hvilken metallfilmen blir smeltet hvor-
ved rekken med med avstand anbragte fordypninger blir utfor-
met i filmen. Rekken med fordypninger og mellomrom har fortrinnsvis en nominell driftssyklus på 50/50, hvorved signalet blir opptegnet med minimal annen harmonisk forvrengning.
Foreliggende oppfinnelse angår en metode anvendt ved fremstilling av originalvideo-skiver av typen som ...(har et fotomotstandsopptegningssjikt og fremgangsmåten for tilveie-bringelse av pregeplater fra slike originalplater. Originalplaten innbefatter et glass-substrat med en glatt, plan overflate, på hvilken et tynt, jevnt opptegningssjikt med fotomotstand er avleiret. Et f.m.-informasjonssignal blir opptegnet i fotomotstandsopptegningssjiktet ved å benytte en intensitetsmodulert skrivende lysstråle som tilveiebringer i tur og orden med avstand anbragte eksponerte områder anordnet i en rekke med hovedsakelig sirkulære og konsentriske opptegningsspor.
Ved et trekk ved oppfinnelsen blir det eksponerte fotomotstandssjiktet fremkalt ved fordeling på sjiktet, mens det roterer ved en relativt lav hastighet (f.eks. 75 til 100 omdreininger pr. minutt), først vann, for å fukte sjiktet på forhånd, så både vann og en fremkalleroppløsning av foreskrevet normalitet for delvis å fremkalle sjiktet, og tilslutt en fremkalleroppløsning alene for fullstendig å fremkalle sjiktet. Det fremkalte fotomotstandssjiktet blir så skyllet med vann for å fjerne restfremkallingsoppløsninger, og tilslutt dreiet med relativt høy hastighet fortrinnsvis 750 til 1000 omdreininger pr. minutt for å tørke det fremkalte sjiktet. Det benyttede fotomotstandssjiktet er fortrinnsvis Shipley AZ 135 0 fotomotstand, og fremkalleroppløsningen er fortrinnsvis enten kaliumhydroksyd eller natriumhydroksyd med en normalitet på omkring 0,230 til 0,240. Ved et annet, mer detaljert trekk ved oppfinnelsen, har fordelingen av vann og fremkalleroppløsning en tidsvarighet på omkring 5 til 10 sekunder, fordelingen av fremkalleroppløsning alene en tidsvarighet på omkring 2 0 sekunder, og skyllingen en tidsvarighet på omkring 3 0 til 6 0 sekunder.
Mange andre trekk og fordeler ved oppfinnelsen vil fremgå av den følgende detaljerte beskrivelsen i forbindelse med tegningene, som ved hjelp av eksempler beskriver prinsippene ved oppfinnelsen, hvor: Fig. 1 viser et forenklet skjematisk diagram av innretningen for opptegning av et f.m.-informasjonssignal på en originalopptegningsplate, frembragt i samsvar med foreliggende oppfinnelse. Fig. 2 viser et forstørret planriss av et segment av originalplaten på fig. 1, som viser en rekke med avstand anbragte eksponerte områder anordnet i flere i det vesentlige sirkulære konsentriske opptegningsspor. Fig. 3 viser en kurve over den modulerte intensiteten til
skrivestrålen i opptegningsinnretningen på fig. 1.
Fig. 4 viser et snitt av en del av opptegningsoriginalplaten,
tatt langs et opptegningsspor og viser fotomotstandsopptegningssjiktet som skal bli eksponert alltid når intensiteten til skrivestrålen på fig. 3 overskrider en forutbestemt terskel.
Fig. 5 viser et snitt av originalopptegningsplaten på fig. 4,
etter fremkallingen, for å fjerne områdene som ligger med avstand fra hverandre og som er eksponerte.
Fig. 6 viser et perspektivriss av en dreibar innretning, benyttet for å påføre fotomotstandsopptegningssjiktet på originalopptegningsplaten på fig. 1.
Det skal nå henvises til tegningene, og spesielt til fig. 1 som viser en innretning for opptegning av et frekvensmodulert (f.m.)-informasjonssignal på en originalopptegningsplate 11. Originalplaten, den såkalte master'en, innbefatter et glass-substrat 13 med en glatt, plan øvre overflate på hvilken er anbragt et fotomotstandssjikt 15 som har en foreskrevet jevn tykkelse. Fotomotstandssjiktet blir eksponert alltid når det blir truffet av en lysstråle som har en intensitet som overskrider en forutbestemt opptegningsterskel.
Opptegningsinnretningen innbefatter en laserskriver 17 slik
som en argon-ion-laser for frembringelse av en skrivende lysstråle 19 som har en foreskrevet intensitet og en intensitets-modulator 21 for modulering av intensiteten til skrivestrålen i samsvar med et f.m.-informasjonssignal mottatt på linjen 23.
Opptegningsinnretningen innbefatter videre en spindelmotor 25 for dreiing av originalopptegningsplaten 11 ved en foreskrevet vinkelhastighet, og en objektivlinse 27 for fokusering av den intensitetsmodulerte strålen på fotomotstandssjiktet 15 til den roterende originalplaten. Objektivlinsen er anbragt på en vogn (ikke vist) som er radialt bevegelig i forhold til originalplaten slik at den fokuserte strålen gir et spiralmønster på fotomotstandssjiktet.
Som vist på fig. 2, 3 og 4 blir den intensitetsmodulerte strålen 19 vekselvis større og mindre enn den forutbestemte opp- ■ tegningsterskeien til fotomotstandssjiktet 15 hvorved en serie med avstand anbragte eksponerte områder 2 9 anordnet i flere i hovedsaken sirkulære og konsentriske opptegningsspor 31 blir utformet i sjiktet. Hvert eksponerte område og tilliggende mellomrom korresponderer med en periode for f.m.-signalet. Fig. 5 viser opptegningsoriginalplaten 11 etter fremkallingen for fjerning av eksponerte områder, idet platen nå er i egnet tilstand for bruk ved fremstilling av en matrise.
Originalplaten 11 blir til å begynne med preparert for bruk ved opptegningsinnretningen på fig. 1, som benytter en spesiell prosess hvor den øvre overflaten av glass-substratet 13 blir først slipt og polert, og så vasket. Fotomotstandssjiktet 15 blir så dannet ved fordeling av en fotomotstands-oppløsning på overflaten, som deretter blir tørket og brent på en foreskrevet måte. Etter brenningen er originalplaten i egnet stand for opptegning. Ved et annet trekk ved oppfinnelsen er et tynt metallsjikt dannet ved substratet før dannelsen av det fotofølsomme sjiktet.
Nærmere bestemt blir den plane overflaten til glass-substratet 13 til å begynne med preparert ved første sliping av det på
en vanlig måte ved å benytte en aluminiumoksyd-blanding som har omkring en ni-mikro-korn-størrelse. Overflaten blir så polert ved å benytte en zirkoniumoksyd- eller ceriumoksyd-poleringsblanding med submikro-partikkelstørrelse. Man har
funnet at ceriumoksyd polerer overflaten hurtigere, men er generelt vanskeligere å vaske.
Den polerte overflaten til glass-substratet 13 blir så vasket ved en spesiell tre-trinns prosess. Først blir overflaten spylt med høyrenset, de-ionisert vann, og børstet med en fin børste for å fjerne mesteparten av poleringsblandingen. Det de-ioniserte vannet har fortrinnsvis en resistivitet på 18 mega-ohm centimeter. Den vaskede overflaten til glass-substratet 13 blir deretter undersøkt ved å undersøke med det blotte øye under et lys med høy intensitet. Ved dette lyset vil defekter slik som skraper og mikroskopiske fordypninger komme tilsyne som punktkilder med spredt lys. Når en defekt er detektert blir et mikroskop benyttet for å måle dens stør-relse. Dersom en defekt er større enn 25 ym, eller dersom antall defekter under 10 ym overskrider 1 pr. kvadratmilli-meter, blir substratet vraket og poleringen og vaskesekvensen blir gjentatt. Overflaten blir så tørket med aceton for å fjerne ethvert spor av støv og olje påført under behandlingen.
Overflaten blir så spylt med en renseoppløsning og ved det tredje trinnet blir overflaten igjen spylt med de-ionisert vann i en periode på omkring 10 til 20 minutter.
Etter rensingen blir substratet 13 anbragt på et dreiebord som vist på fig. 6, og dreiet med en vinkelhastighet på omkring 750-1000 omdreininger pr. minutt for å tørke overflaten. Fig. 6 viser innretningen for bruk ved dannelse av fotomotstandssjiktet 15 på det rensede substratet 13. Innretningen innbefatter en motor 33 hvis hastighet kan varieres for dreiing av substratet på en foreskrevet måte og en dreie-
arm 35 på hvilken der er anbragt 3 fordelingsrør 37, 39 og 41 for fordeling av de-ionisert vann, en stannokloridoppløs-ning og en fotomotstandsoppløsning henholdsvis, i en foreskrevet rekkefølge.
Substratet 13 blir først dreiet med en vinkelhastighet på om kring 75-100 omdreininger pr. minutt, mens stannokloriden blir fordelt på den rensede øvre overflaten gjennom fordel-ingsrøret 39. Dreiearmen 35 blir så dreiet manuelt slik at stannokloriden blir påført hele overflaten. Det antas at stannokloridmolekylene kleber til den rensede overflaten til substratet, og derved fremmer en påfølgende adhesjon av fotomotstandsoppløsningen.
Vann blir så fordelt over overflaten gjennom fordelingsrøret 37 for å vaske rest-stannokloridoppløsningen og vinkelhastigheten til motoren 33 blir såøket til omkring 750-100 omdreininger pr. minutt for å tørke den vaskede overflaten. Overflaten er nå i egnet stand for fordeling av fotomotstands. oppløsningen.
Fotomotstandsoppløsningen er preparert ved fortynning av Shipley AZ 1350 fotomotstand med Shipley AZ tynner, som er antatt å innbefatte "cellosolve acetat" i et forhold på omkring 3 til 1. Dette gir en oppløsning som har en viskositet på omkring 1,3 centipoise, sem så blir filtrert for å fjerne partikler større enn omkring en \ ym. Viskositeten kan bli målt ved hjelp av vanlig kjent teknikk, slik som f.eks. ved.
å benyttt et Canon-Finske viskometer.
Den fortynnede fotomotstandsoppløsningen blir så fordelt gjennom rørledningen 41 på preparatets overflate, mens substratet blir dreiet ved hjelp av motoren 33 ved en vinkelhastighet på omkring 75-100 omdreininger pr. minutt. Dreiearmen 35 blir så igjen dreiet manuelt slik at oppløsningen blir fordelt over hele substratets radius. Ved hastigheter under omkring 7 5 omdreininger pr. minutt, kan en film med i hovedsaken jevn tykkelse bli tilveiebragt kun dersom en relativt lang fordelingstid blir benyttet, men dette øker like-ledes forurensningen av sjiktet. Ved hastigheter over omkring 100 omdreininger pr. minutt kan imidlertid radiale streker og strømningsmerker oppstå som følgelig påvirker kvaliteten til den påfølgende opptegningen av informasjoner. Omkring 35 ml med fotomotstandsoppløsning er nødvendig for fullstendig å dekke et substrat som har en diameter på omkring 35,56 cm.
Etter at fotomotstandsoppløsningen har blitt påført overflaten til substratet 13, blir vinkelhastigheten til motoren 33 øket til omkring 750-1000 omdreininger pr. minutt inntil den har tørket. Dette gir en foreskrevet jevn tykkelse for fotomotstandssjiktet 15.
Under hensyntagen til det faktum at tykkelsen til fotomotstandssjiktet 15 er omvendt proporsjonalt med både omdrei-ningene pr. minutt og temperaturen, kan den spesifikke vinkelhastigheten ved hvilken substratet blir rotert for delvis tørking av fotomotstandsoppløsningen bli justert på enkel måte for å tilveiebringe foreskrevet tykkelse. Egnet vinkelhastighet kan bli bestemt på vanlig måte ved å benytte f.eks. et Tolansky-interferometer. Denne teknikken gir en indika-sjon på den relative tykkelsen til sjiktet og ved å benytte en gjentagende prosess, hvor vinkelhastigheten blir sukses-sivt justert, kan den optimale hastigheten bli bestemt. Dersom viskositeten og temperaturen til fotomotstandsoppløs-ningen kan bli opprettholdt i det vesentlige jevn, er det kun sjelden nødvendig med denne vinkelhastighetskalibreringen. Det er foretrukket at sjiktet har en tykkelse på omkring
1150 Å til 1350 Å og de deretter produserte reproduksjons-skivene vil ha informasjons-lagringsfordypninger av tilsvar-ende høyde.
Dersom man har funnet at det tørkede fotomotstandssjiktet 15 er defekt på en eller annen måte (f.eks. ved å inneholde radiale streker eller fremmede partikler) kan sjiktet bli fjernet ved å benytte et egnet løsningsmiddel slik som Shipley AZ tynner. Et nytt sjikt kan bli påført slik som ovenfor beskrevet.
Etter fjerningen fra dreiebordinnretningen på fig. 6, blir opptegningsoriginalplaten 11 brent for fullstendig tørking av fotomotstandssjiktet 15 og derved maksimalisering av dens eksponerte toleranse. Originalplaten blir fortrinnsvis brent ved omkring 80°C i omkring 20 minutter. Disse parametrene må bli holdt innenfor små toleranser for å minimalisere endringene i eksponerte toleranser når påfølgende opptegning av informasjon på et antall opptegningsoriginaler.
Da eksponeringsfølsomheten til hver opptegningsoriginal er litt forskjellig fra hverandre, er det ønskelig å optimali-sere toppintensiteten for den intensitetsmodulerte lysstrålen 19 (fig. 1) for hver original slik at f.m.-informasjons-signalet kan bli opptegnet med en optimal 50/50 driftssyklus. I samsvar med et annet trekk ved oppfinnelsen, blir et foreskrevet prøvesignal opptegnet på hver original 11 ved flere sett med tilliggende opptegningsspor, idet hvert sett er opptegnet med en annen toppintensitet. Etter at prøvesignal-sporene har blitt fremkalt, ved å benytte en fremkallings-teknikk beskrevet ovenfor, blir opptegningsoriginalen under-søkt for å bestemme hvilket sporsett som har en driftssyklus nærmest den ønskede 50/50 verdien. Optimaltopp-intensiteten kan derved bli bestemt, og f.m.-informasjonssignalet kan deretter bli opptegnet med optimal driftssyklus på den øvrige ennå ikke eksponerte delen av opptegningsoriginalen.
Prøvesignalet har fortrinnsvis en konstant frekvens på omkring 7-8 MHz, og signalet blir fortrinnsvis opptegnet på 3 eller 4 sporsett hvor hvert sett opptegnes med en topp-stråleintensitet som varierer med omkring 5%. Hvert sett blir opptegnet i omkring 10 sekunder, som korresponderer med flere hundre opptegningsspor. Settene er også fortrinnsvis adskilt fra hverandre ved hjelp av smale bånd med ikke-eksponerte deler med fotomotstandssjikt 15 og er anbragt i et smalt område tilliggende den indre periferien av sjiktet.
De påfølgende sett med fremkalte opptegningsspor kan bli lett undersøkt ved å benytte en leselysstråle (ikke vist) for avsøkning av hvert sett for å tilveiebringe en reflek- tert stråle som har en intensitet som er modulert i samsvar med et opptegnede prøvesignal. Den reflekterte strålen blir modulert i intensitet fordi refleksjonsfaktoren til uendrede deler med fotomotstandssjikt 15 er på omkring 4%, mens derimot refleksjonsfaktoren til endrede deler av sjiktet er i det vesentlige null. Den modulerte strålen blir fortrinnsvis detektert og overvåket i en vanlig spektrums-analysator for å bestemme tilstedeværelsen av annen harmonisk forvrengning. Denne forvrengningen er et minimum når prøvesignalet blir opptegnet med optimal 50/50 driftssyklus.
Det er ikke nødvendig at lesestrålen følger et enkelt opptegningsspor i hvert sett med spor, siden samme prøvesignalet blir opptegnet på tilliggende spor. Det må imidlertid bli tatt hensyn til at for å sikre at eksentrisiteten i opptegningsoriginalplaten 11 ikke bevirker at lesestrålen avsøker mer enn ett enkelt sett med spor av gangen. Lesestrålen er fortrinnsvis tilveiebragt ved hjelp av en helium-neon-laser slik.at dens bølgelengde ikke vil eksponere fotomotstandssjiktet 15.
Ved å benytte opptegningsinnretningen på fig. 1 med toppintensiteten til skrivestrålen 19' justert til foreskrevet optimums-verdi, blir f.m.-informasjonssignalet så opptegnet på den øvrige ikke-eksponerte delen av fotomotstandsopptegningssjiktet Opptegningsoriginalen 11 blir så fremkalt for å omforme hvert opptegningsspor til en rekke med avstand anbragte fordypninger med jevn dybde og bredde og en kontinu-erlig endrende lengde.
Den eksponerte opptegningsoriginalen 11 kan bli fremkalt ved en spesiell prosess hvor en rekke fluider blir fordelt på originalen, mens den blir dreiet ved hjelp av et dreiebord av den typen vist på fig. 6, ved en hastighet på omkring 75-1Q0 omdreininger pr. minutt. Ved denne prosessen blir vann først fordelt på det på forhånd fuktede sjiktet, og både vann og en utviklingsoppløsning av foreskrevet normalitet blir fordelt for delvis å fremkalle sjiktet og tilslutt blir fremkalleroppløsning alene fordelt for fullstendig frem-
kalling av sjiktet. Det fremkalte fotomotstandssjiktet blir så vasket med vann for å fjerne rester av fremkallings-oppløsning, hvoretter vinkelhastigheten til den roterende originalskiven blir øket til omkring 750-1000 omdreininger pr. minutt for å tørke det fremkalte sjiktet.
Den foretrukne fremkalleroppløsningen blir valgt fra en gruppe innbefattende kaliumhydroksyd og natriumhydroksyd og har en normalitet på omkring 0,230 til 0,240. Fortrinnsvis har trinnet med fordeling av både vann og fremkalleroppløsning en varighet på omkring 5 til 10 sekunder, trinnet med fordeling av fremkalleroppløsning alene omkring 20 sekunder, og trin-
net med vasking en varighet på omkring 3 0 til 6 0 sekunder.
En matrise, egnet for bruk ved støping av video-skivereproduksjoner, blir fremstilt fra den fremkalte opptegningsoriginalen 11. Matrisen kan bli fremstilt ved først dampavset-ning av en jevn metallfilm på omkring 500-600 Å -tykkelse på fotomotstandsopptegningssjiktet 15, og så elektroplettering og en annen jevn metallfilm på omkring 0,38 mm tykkelse på
den første filmen. Den underliggende overflaten til den første filmen tilpasser seg nøyaktig mønsteret til de med avstand anbragte fordypninger dannet i fotomotstandssjiktet,
og de to filmene danner sammen et integrert metallsjikt. Dette integrerte metallsjiktet kan bli adskilt fra den underliggende opptegningsskiven og resterende fotomotstandsmate-riale fjernet ved å benytte en egnet fotomotstandstynner og derved dannelse av matrisen. Begge metallfilmene kan også
være dannet av nikkel.
Originalplatene innbefatter fotomotstandsopptegningssjikt
hvor f.m.-informasjonssignaler kan bli opptegnet med høye signal/støyforhold og høy tetthet. Metallmatriser blir fremstilt av disse originalskivene for bruk ved støping av reproduksjoner av originaler.
Selv om oppfinnelsen er beskrevet i detalj, er det klart at fagmannen på området kan utføre flere modifikasjoner uten at dette avviker fra hensikten og rammen av oppfinnelsen.
Claims (5)
1. Fremgangsmåte for fremkalling av et eksponert foto-mctstandssjikt av en foreskrevet, jevn tykkelse på en original video-skive, karakterisert ved dreiing av video-original-skiven ved en første foreskrevet hastighet, <y> elging av en fotomotstandsfremkalleroppløsning som har en foreskrevet normalitet, fordeling av vann på fotomotstandssjiktet til den roterende originale video-skiven,
for å fukte sjiktet på forhånd, fordeling av både vann og fremkalleroppløsning på fotomotstandssjiktet, fordeling av fremkalleroppløsning alene på fotomotstandssjiktet for fullstendig å fremkalle sjiktet, vasking av det fremkalte fotomotstandssjiktet med vann for å fjerne rester av fremkaller-oppløsning fra sjiktet, og dreiing av video-original-skiven ved en andre foreskrevet hastighet for å tørke det fremkalte fotomotstandssjiktet.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at fotomotstandssjiktet er utledet fra Shipley AZ 1350 fotomotstand, og at fotomotstandsfremkaller-oppløsningen er valgt fra gruppen som innbefatter kaliumhydroksyd og natriumhydroksyd.
3. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at fotomotstandsfremkalleroppløsningen er valgt til å ha en normalitet i området på omkring 0,230 til omkring 0,240.
4. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at den første foreskrevne hastigheten er i området på omkring 75 til omkring 100 omdreininger pr. minutt, og at den andre foreskrevne hastigheten er i området fra omkring 750 til 1000 omdreininger pr. minutt.
5. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at fordelingen av både vann og fremkaller- oppløsning har en tidsvarighet i området fra omkring 5 sekunder til omkring 10 sekunder, at fordelingen av fremkaller-oppløsningen alene har en tidsvarighet på omkring 2 0 sekunder, og at vaskingen har en tidsvarighet på omkring 30 til omkring 6 0 sekunder.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17674380A | 1980-08-11 | 1980-08-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO813611L true NO813611L (no) | 1982-02-12 |
Family
ID=22645656
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO811797A NO158519C (no) | 1980-08-11 | 1981-05-27 | Fremgangsmaate for aa preparere et glass-substrat for bruk ved fremstilling av en original video-skive. |
NO813612A NO813612L (no) | 1980-08-11 | 1981-10-26 | Fremgangsmaate for fremstilling av video-skiver. |
NO813611A NO813611L (no) | 1980-08-11 | 1981-10-26 | Fremgangsmaate for fremstilling av video-skiver. |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO811797A NO158519C (no) | 1980-08-11 | 1981-05-27 | Fremgangsmaate for aa preparere et glass-substrat for bruk ved fremstilling av en original video-skive. |
NO813612A NO813612L (no) | 1980-08-11 | 1981-10-26 | Fremgangsmaate for fremstilling av video-skiver. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0072378B1 (no) |
JP (4) | JPH0246366B2 (no) |
KR (1) | KR850001002B1 (no) |
AT (1) | ATE48200T1 (no) |
AU (1) | AU539526B2 (no) |
BR (1) | BR8104816A (no) |
CA (1) | CA1186570A (no) |
DE (1) | DE3177126D1 (no) |
ES (5) | ES8301543A1 (no) |
HK (1) | HK26991A (no) |
MX (5) | MX151350A (no) |
NO (3) | NO158519C (no) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0246366B2 (no) * | 1980-08-11 | 1990-10-15 | Discovision Ass | |
KR870002142B1 (ko) * | 1982-09-20 | 1987-12-12 | 디스커비소젼 어시에이츠 | 광학 기록 매체 및 그의 제조방법 |
US4564280A (en) * | 1982-10-28 | 1986-01-14 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for developing resist film including a movable nozzle arm |
US4514439A (en) * | 1983-09-16 | 1985-04-30 | Rohm And Haas Company | Dust cover |
EP0139478B1 (en) * | 1983-09-23 | 1989-06-28 | Unisys Corporation | Improved method for overcoating optical recording media |
JPS60182030A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-17 | Hoya Corp | 情報記録用基板の製造方法 |
CA1265394A (en) * | 1986-09-19 | 1990-02-06 | James E. Geary, Jr. | Free surface casting method |
US4810527A (en) * | 1986-09-19 | 1989-03-07 | E. I. Du Pont Nemours And Company | Free surface casting method |
US5057685A (en) * | 1989-01-04 | 1991-10-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical rotation detector including a disk having slits with concave and convex parts and method of manufacturing |
JP2545677B2 (ja) * | 1992-09-30 | 1996-10-23 | 東芝イーエムアイ株式会社 | フォトレジストの塗布方法 |
US5395803A (en) * | 1993-09-08 | 1995-03-07 | At&T Corp. | Method of spiral resist deposition |
US6207247B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-03-27 | Nikon Corporation | Method for manufacturing a molding tool used for sustrate molding |
US6814897B2 (en) | 1998-03-27 | 2004-11-09 | Discovision Associates | Method for manufacturing a molding tool used for substrate molding |
CN102445862A (zh) * | 2010-09-30 | 2012-05-09 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种改进的晶圆显影方法 |
CN104570609A (zh) * | 2013-10-29 | 2015-04-29 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种光刻胶涂布轨迹的实施方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3954469A (en) * | 1973-10-01 | 1976-05-04 | Mca Disco-Vision, Inc. | Method of creating a replicating matrix |
JPS50136333A (no) * | 1974-04-17 | 1975-10-29 | ||
JPS5226214A (en) * | 1975-08-25 | 1977-02-26 | Hitachi Ltd | Method for coating resist |
DE2554692C2 (de) * | 1975-12-05 | 1977-11-17 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Vorrichtung zur Herstellung der Magnetschichten von Magnetspeicherplatten |
JPS5934783B2 (ja) * | 1976-09-14 | 1984-08-24 | ソニー株式会社 | デイスク原盤の製法 |
JPS5346004A (en) * | 1976-10-08 | 1978-04-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of press.master for video disk |
JPS6053675B2 (ja) * | 1978-09-20 | 1985-11-27 | 富士写真フイルム株式会社 | スピンコ−テイング方法 |
JPS5567742A (en) * | 1978-11-16 | 1980-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Glass substrate recording medium |
JPS5927229B2 (ja) * | 1979-09-19 | 1984-07-04 | 富士通株式会社 | スピンナ− |
JPH0246366B2 (no) * | 1980-08-11 | 1990-10-15 | Discovision Ass | |
JP2516799B2 (ja) * | 1988-08-05 | 1996-07-24 | 本田技研工業株式会社 | 流体式動力伝達装置の直結機構制御方法 |
-
1980
- 1980-10-22 JP JP55146985A patent/JPH0246366B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-05-15 CA CA000377670A patent/CA1186570A/en not_active Expired
- 1981-05-20 AU AU70866/81A patent/AU539526B2/en not_active Expired
- 1981-05-27 NO NO811797A patent/NO158519C/no not_active IP Right Cessation
- 1981-06-08 KR KR1019810002039A patent/KR850001002B1/ko active
- 1981-07-27 BR BR8104816A patent/BR8104816A/pt not_active IP Right Cessation
- 1981-08-04 ES ES504534A patent/ES8301543A1/es not_active Expired
- 1981-08-04 ES ES504536A patent/ES8301544A1/es not_active Expired
- 1981-08-04 ES ES504533A patent/ES8301043A1/es not_active Expired
- 1981-08-04 ES ES504535A patent/ES8301542A1/es not_active Expired
- 1981-08-04 ES ES504532A patent/ES8204867A1/es not_active Expired
- 1981-08-07 EP EP81303630A patent/EP0072378B1/en not_active Expired
- 1981-08-07 DE DE8181303630T patent/DE3177126D1/de not_active Expired
- 1981-08-07 AT AT81303630T patent/ATE48200T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-08-11 MX MX188698A patent/MX151350A/es unknown
- 1981-08-11 MX MX188701A patent/MX149707A/es unknown
- 1981-08-11 MX MX188699A patent/MX149813A/es unknown
- 1981-08-11 MX MX188697A patent/MX151549A/es unknown
- 1981-08-11 MX MX188700A patent/MX150294A/es unknown
- 1981-10-26 NO NO813612A patent/NO813612L/no unknown
- 1981-10-26 NO NO813611A patent/NO813611L/no unknown
-
1987
- 1987-12-18 JP JP62321152A patent/JPS63177329A/ja active Granted
-
1991
- 1991-01-29 JP JP3026661A patent/JPH0760534B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-01-29 JP JP3026662A patent/JP2521849B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-11 HK HK269/91A patent/HK26991A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO813611L (no) | Fremgangsmaate for fremstilling av video-skiver. | |
NO163758B (no) | Fremgangsmaate for dannelse av et fotoresistsjikt. | |
US4422904A (en) | Method for forming video discs | |
CA1173304A (en) | Method for forming video discs | |
CA1191597A (en) | Method for forming video discs | |
CA1165613A (en) | Method for developing photoresist layer on a video disc master | |
KR870001116B1 (ko) | 비데오 디스크 성형방법 | |
KR0133405B1 (ko) | 광디스크 기판 제조방법 | |
JP2532590B2 (ja) | 光ディスク原盤用洗浄装置 | |
NZ263235A (en) | Optical investigation of photoresist development on optical recording master disk | |
JPH08203132A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 | |
JP2648586B2 (ja) | 記録媒体 | |
JPS60226043A (ja) | 情報記録担体の複製用原盤の製造装置 | |
JPH03141053A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
JP2005032390A (ja) | 情報記録担体用ガラス原盤の製造方法 | |
JPH09134550A (ja) | スタンパの作成方法及び光デイスク原盤 | |
JPS603690B2 (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
JPH0845120A (ja) | ディスクの製造方法 | |
JPH01223461A (ja) | 現像装置 | |
JPS60136044A (ja) | 光デイスクの製造方法 | |
JPH0421940A (ja) | 光ディスク用マスタ原盤の製造方法 | |
JPH07201085A (ja) | 光デイスク原盤及びその作成方法 | |
JPH06180867A (ja) | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 | |
JPH03192550A (ja) | 光ディスク製造方法 | |
JPS6364648A (ja) | 光学デイスク用原盤の現像方法 |