NL7605772A - Inrichting voor het centreren van twee op elkaar geplaatste voorwerpen. - Google Patents

Inrichting voor het centreren van twee op elkaar geplaatste voorwerpen.

Info

Publication number
NL7605772A
NL7605772A NL7605772A NL7605772A NL7605772A NL 7605772 A NL7605772 A NL 7605772A NL 7605772 A NL7605772 A NL 7605772A NL 7605772 A NL7605772 A NL 7605772A NL 7605772 A NL7605772 A NL 7605772A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
centering
objects located
objects
Prior art date
Application number
NL7605772A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of NL7605772A publication Critical patent/NL7605772A/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
NL7605772A 1975-05-30 1976-05-28 Inrichting voor het centreren van twee op elkaar geplaatste voorwerpen. NL7605772A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50064272A JPS51140488A (en) 1975-05-30 1975-05-30 Mask alignment device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7605772A true NL7605772A (nl) 1976-12-02

Family

ID=13253398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7605772A NL7605772A (nl) 1975-05-30 1976-05-28 Inrichting voor het centreren van twee op elkaar geplaatste voorwerpen.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4170418A (nl)
JP (1) JPS51140488A (nl)
DE (1) DE2624062C3 (nl)
GB (1) GB1546194A (nl)
NL (1) NL7605772A (nl)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0005462A2 (de) * 1978-05-22 1979-11-28 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zum Positionieren von zwei aufeinander einzujustierenden Objekten

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53111280A (en) * 1977-03-10 1978-09-28 Canon Inc Mask or wafer for production of semiconductor elements and device for aligning these
DE2726173C2 (de) * 1977-06-08 1982-05-27 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und Schaltung zur automatischen Positionierung eines Werkstückes relativ zu einem Abtastfeld bzw. zu einer Maske, sowie Verwendung des Verfahrens
JPS54114181A (en) * 1978-02-27 1979-09-06 Canon Inc Alignment device
DE2846316A1 (de) * 1978-10-24 1980-06-04 Siemens Ag Verfahren und vorrichtung zur automatischen ausrichtung von zwei aufeinander einzujustierenden objekten
DE2822269C2 (de) * 1978-05-22 1983-12-01 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur automatischen Ausrichtung von zwei aufeinander einzujustierenden Objekten
JPS5588347A (en) * 1978-12-27 1980-07-04 Fujitsu Ltd Automatic aligning system
DE2917971A1 (de) * 1979-05-04 1980-11-13 Leitz Ernst Gmbh Verfahren zur automatischen auswertung von eindruecken bei der haertepruefung von werkstoffen und einrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
JPS5655041A (en) * 1979-10-11 1981-05-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Positioning exposure
JPS56110234A (en) * 1980-02-06 1981-09-01 Canon Inc Projection printing device
US4362389A (en) * 1980-02-19 1982-12-07 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for projection type mask alignment
JPS5874038A (ja) * 1981-10-28 1983-05-04 Canon Inc マスクとウエハ−の位置合せ方法
JPS59172724A (ja) * 1983-03-22 1984-09-29 Canon Inc マーク検出装置
US4639604A (en) * 1983-03-29 1987-01-27 Nippon Kagaku K.K. Method and apparatus for detecting an edge position of a pattern and eliminating overlapping pattern signals
GB2151350A (en) * 1983-11-25 1985-07-17 Vs Eng Ltd Sensing arrangement
US4652914A (en) * 1984-04-27 1987-03-24 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Method of recording register marks
GB2158325B (en) * 1984-04-27 1987-10-21 Dainippon Screen Mfg A method and apparatus for facilitating alignment of images
EP0296192A1 (en) * 1986-12-29 1988-12-28 Hughes Aircraft Company X-Y-$g(U)-Z POSITIONING STAGE
US4891526A (en) * 1986-12-29 1990-01-02 Hughes Aircraft Company X-Y-θ-Z positioning stage
GB8727964D0 (en) * 1987-11-30 1988-01-06 Atomic Energy Authority Uk Displacement monitoring with vibration/temperature fluctuation compensation
JP2880317B2 (ja) * 1991-03-28 1999-04-05 ウシオ電機株式会社 フィルム露光方法
US6038349A (en) * 1995-09-13 2000-03-14 Ricoh Company, Ltd. Simultaneous registration of multiple image fragments
US5734594A (en) * 1996-09-25 1998-03-31 Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Method and system for enhancement of wafer alignment accuracy

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3038369A (en) * 1958-12-22 1962-06-12 Bell Telephone Labor Inc Positioning a transistor by use of the optical reflectance characteristics of the electrode stripes
US3955072A (en) * 1971-03-22 1976-05-04 Kasper Instruments, Inc. Apparatus for the automatic alignment of two superimposed objects for example a semiconductor wafer and a transparent mask
JPS5148109B2 (nl) * 1972-06-21 1976-12-18
JPS549900B2 (nl) * 1972-10-13 1979-04-28
US3943359A (en) * 1973-06-15 1976-03-09 Hitachi, Ltd. Apparatus for relatively positioning a plurality of objects by the use of a scanning optoelectric microscope

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0005462A2 (de) * 1978-05-22 1979-11-28 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zum Positionieren von zwei aufeinander einzujustierenden Objekten
EP0005462A3 (en) * 1978-05-22 1979-12-12 Siemens Aktiengesellschaft Berlin Und Munchen Process and device for automatically aligning two objects that are to be adjusted

Also Published As

Publication number Publication date
GB1546194A (en) 1979-05-16
JPS5547453B2 (nl) 1980-11-29
US4170418A (en) 1979-10-09
DE2624062C3 (de) 1980-07-24
DE2624062A1 (de) 1976-12-16
DE2624062B2 (de) 1979-11-08
JPS51140488A (en) 1976-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7605772A (nl) Inrichting voor het centreren van twee op elkaar geplaatste voorwerpen.
NL7611199A (nl) Inrichting voor het rangschikken van voorwerpen.
NL7601814A (nl) Inrichting voor het verwerken van drukwerken.
NL185500C (nl) Werkwijze voor het fluoreren van oppervlakken.
NL181513C (nl) Inrichting voor het met elkaar verbinden van twee bouwelementen.
NL7505447A (nl) Inrichting voor het vergelijken van twee patro- nen.
NL7607670A (nl) Inrichting voor het detecteren van ioniserende straling.
NL7603278A (nl) Inrichting voor het behandelen van pijpen.
NL7611733A (nl) Inrichting voor het afkoelen van voorwerpen.
NL7612452A (nl) Inrichting voor het tillen van invaliden.
NL166667C (nl) Inrichting voor het opstapelen van plaatvormige delen.
NL7600163A (nl) Werkwijze voor het carbonyleren van arylalkylha- logeniden.
NL7602729A (nl) Inrichting voor het ontbramen van werkstukken.
NL177856C (nl) Inrichting voor het detecteren van bewegende objecten.
NL7607666A (nl) Werkwijze en inrichting voor het onderling ver- binden van afzonderlijke lichtgeleiders.
NL162665C (nl) Werkwijze voor het polymeriseren van 1-alkenen.
NL7611626A (nl) Inrichting voor het verbinden van twee vlakke flenzen.
NL7711016A (nl) Inrichting voor het sorteren van voorwerpen.
NL7602867A (nl) Inrichting voor het lokaliseren van lichtver- schijnselen.
NL7608786A (nl) Inrichting voor het diffunderen van stoffen tussen twee media.
NL7600396A (nl) Inrichting voor het hanteren van buizen.
NL7603702A (nl) Inrichting voor het verwerken van afval.
NL7700102A (nl) Apparaat voor het verwerken van twee detektor- uitgangssignalen.
NL7612921A (nl) Inrichting voor het verspanend bewerken van vlakken.
NL7602814A (nl) Inrichting voor het ontvangen van tijdelijke merktekens.

Legal Events

Date Code Title Description
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
BV The patent application has lapsed