NL1015810C2 - Belichtingstoestel van het aftastende type. - Google Patents
Belichtingstoestel van het aftastende type. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1015810C2 NL1015810C2 NL1015810A NL1015810A NL1015810C2 NL 1015810 C2 NL1015810 C2 NL 1015810C2 NL 1015810 A NL1015810 A NL 1015810A NL 1015810 A NL1015810 A NL 1015810A NL 1015810 C2 NL1015810 C2 NL 1015810C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- template
- substrate
- scanning
- shielding plate
- opening portion
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70558—Dose control, i.e. achievement of a desired dose
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
Korte aanduiding: Belichtingstoestel van het aftastende type.
Achtergrond van de uitvinding
De uitvinding heeft betrekking op een belichtingstoestel van het aftastende type en meer in het bijzonder op een belichtingstoestel van het aftastende type voor het gelijkmaken van de belichtings-5 hoeveelheid in een vlak.
Onder verwijzing naar fig. 1 zal eerst een beschrijving van een gangbaar belichtingstoestel van het aftastende type worden gegeven.
In fig. 1 wordt door een lichtbron 1, zoals een laser en een lamp, een belichtingslichtbundel 2 afgegeven. De belichtingslichtbun-10 del 2 plant zich voort door een optisch systeem 3, zoals een lens, en wordt in een substraat 4 op een substraattafel geïntroduceerd.
Met een dergelijke opbouw wordt een belichtingsgebied bestuurd door gebruik te maken van een sjabloonscherm 5. Verder bestraalt de belichtingslichtbundel 2 een oppervlak van een sjabloon 6. De het 15 sjabloon 6 doorlopende belichtingslichtbundel 2 belicht het oppervlak van het substraat 4.
In een dergelijk belichtingstoestel van het aftastende type wordt het sjabloon 6 afgetast in een door een in fig. 1 weergegeven pijl aangegeven richting, terwijl het substraat 4 synchroon met het 20 sjabloon 6 in omgekeerde richting wordt afgetast.
Onder deze omstandigheden wordt een patroon op het sjabloon 6 achtereenvolgens overgebracht op het substraat 4.
Dit soort belichtingstoestel van het aftastende type wordt bijvoorbeeld geopenbaard in de Japanse niet-onderzcchte octrooipublica-25 tie Nr. Hei. 7-142313.
De belichtingssterkte is echter uniform in elk gebied van het substraat, dat een breed oppervlak in het hierboven vermelde gangbare aftasttoestel heeft.
Het is dientengevolge moeilijk om het patroon nauwkeurig over 30 te brengen, wanneer het patroon in omvang verder wordt gereduceerd.
Samenvatting van de uitvinding
Het is derhalve een doel van de uitvinding een belichtingstoestel van het aftastende type te verschaffen, welk toestel in staat is de belichtingssterkte in een vlak uniform op een substraat met een 35 breed oppervlak te houden.
1015810 - 2 -
Het is een ander doel van de uitvinding een belichtingstoestel van het aftastende type te verschaffen, welk toestel in staat is tot het nauwkeurig overbrengen van een fijn patroon.
In een belichtingstoestel van het aftastende type volgens de 5 uitvinding wordt een van een lichtbron afkomstige belichtingslicht-bundel via een openingsgedeelte van een sjabloonscherm op een sjabloon geïntroduceerd.
Verder wordt een patroon op het sjabloon achtereenvolgens overgebracht op het substraat door middel van het aftasten van het sja-10 bloon respectievelijk het substraat.
Onder deze omstandigheden is het substraat verdeeld in een aantal gebieden langs een aftastrichting.
Bovendien is een variabele eenheid voor het wijzigen van een openingsoppervlak van het openingsgedeelte van het sjabloonscherm zo-15 danig ingericht om een geïntegreerde belichtingshoeveelheid in elk gebied in hoofdzaak gelijk te maken.
In dit geval wordt de variabele eenheid synchroon aan het aftasten van het sjabloon en het substraat bestuurd.
In een ander belichtingstoestel van het aftastende type volgens 20 de uitvinding wordt een van een lichtbron afkomstige belichtings- lichtbundel via een openingsgedeelte van een sjabloonscherm geïntroduceerd op een sjabloon.
Verder wordt een patroon op het sjabloon achtereenvolgens overgebracht op het substraat door middel van het aftasten van het sja-25 bloon respectievelijk het substraat.
Bij een dergelijke opbouw vormt het sjabloonscherm het openingsgedeelte door het overlappen van een eerste lichtafschermplaat met een tweede lichtafschermplaat.
Verder wordt een zijde evenwijdig aan de aftastrichting van het 30 openingsgedeelte door één zijde van het in de eerste lichtafschermplaat gevormde openingsgedeelte gevormd.
Bovendien wordt een lengte van een zijde loodrecht op de af-tastrichting van het openingsgedeelte van het sjabloonscherm bepaald op basis van de tweede lichtafschermplaat.
35 In het belichtingstoestel van het aftastende type is een aan- stuureenheid zodanig ingericht om een van de eerste lichtafschermplaat en de tweede lichtafschermplaat synchroon met het aftasten van het sjabloon en het substraat aan te sturen.
1015810 - 3 -
In dit geval wordt de lengte bepaald op basis van een instelge-bied, dat aan één zijdegedeelte evenwijdig aan de aftastrichting van de tweede lichtafschermplaat is verschaft.
Eventueel kan de lengte worden bepaald op basis van instelge-5 bieden, die aan beide zijgedeelten evenwijdig aan de aftastrichting van de tweede lichtafschermplaat zijn verschaft.
Korte beschrijving van de tekening
Fig. 1 toont een gangbaar belichtingstoestel van het aftastende type; 10 fig- 2A toont een belichtingstoestel van het aftastende type volgens de uitvinding; fig. 2B toont een toestand, waarin een eerste lichtafschermplaat en een tweede lichtafschermplaat zijn overlapt teneinde een openingsgedeelte van een sjabloonscherm te besturen; 15 fig. 3A is een aanzicht, dat een toestand toont, waarin een substraat is verdeeld in een aantal gebieden; fig. 3B is een grafiek, die een geïntegreerde belichtingshoe-veelheid voor elk gebied op een substraat toont; fig. 3C is een aanzicht, dat een tweede lichtafschermplaat voor 20 het instellen van een belichtingshoeveelheid toont; en fig. 4 is een aanzicht, dat een andere tweede afschermplaat voor het instellen van een belichtingshoeveelheid toont.
Beschrijving van de voorkeursuitvoerinqsvorm
Onder verwijzing naar fig. 2 tot en met fig. 4 zal een algemene 25 beschrijving worden gegeven van een aftasttoestel volgens de uitvinding .
In het belichtingstoestel van het aftastende type wordt een van een lichtbron 1 afkomstige belichtingslichtbundel 2 via een openingsgedeelte 20 van een sjabloonscherm 10 op een sjabloon 6 geïntrodu-30 ceerd.
Bij een dergelijke opbouw wordt een patroon op het sjabloon 6 achtereenvolgens overgebracht op het substraat 4 door middel van het aftasten van het sjabloon 6 respectievelijk het substraat 4.
Onder deze omstandigheden is het substraat 4 verdeeld in een 35 aantal gebieden A tot en met H langs een aftastrichting van het substraat 4, zoals is weergegeven in fig. 2B.
Verder is een variabele eenheid 30 van een openingsgedeelteop-pervlak zodanig ingericht om het openingsoppervlak van het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm 10 te veranderen teneinde een -3-315810 - 4 - geïntegreerde belichtingshoeveelheid in elk gebied in hoofdzaak gelijk te maken. Hierin is de variabele eenheid 30 bij voorkeur samengesteld uit een eerste lichtafschermplaat 11 en een tweede lichtaf-schermplaat 12.
5 Hierbij wordt de variabele eenheid 30 bestuurd door het syn chroniseren van het sjabloon met het substraat 4 via een aanstuureen-heid 13.
Verder wordt de van de lichtbron 1 afkomstige belichtingslicht-bundel 2 via het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm 10 op het 10 sjabloon 6 geïntroduceerd. Het patroon op het sjabloon 6 wordt achtereenvolgens overgebracht door het aftasten van het sjabloon 6 respectievelijk het substraat 4.
Het sjabloonscherm 10 vormt het openingsgedeelte 20 door middel van het overlappen van de eerste lichtafschermplaat 11 met de tweede 15 lichtafschermplaat 12.
Onder deze omstandigheden wordt een zijde evenwijdig aan de af-tastrichting van het openingsgedeelte 20 gevormd door één zijde 11b van het in de eerste lichtafschermplaat 11 gevormde openingsgedeelte 11a, zoals is weergegeven in fig. 2B.
20 Onderwijl wordt een lengte 12b van een zijde loodrecht op de aftastrichting van het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm bepaald door de tweede afschermplaat 12.
Bovendien stuurt de aanstuureenheid 13 een van de eerste lichtaf schermplaat 11 en de tweede 1ichtafschermplaat 12 synchroon met de 25 aftasting tussen het sjabloon 6 en het substraat 4 aan.
Een lengte 12b van een zijde 20a loodrecht op de aftastrichting van het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm 10 wordt bepaald op basis van een instelgebied 121, dat aan één zijdegedeelte evenwijdig aan de aftastrichting van de tweede lichtafschermplaat 12 is ver-30 schaft, zoals is weergegeven in fig. 3C.
Eventueel kan de lengte 12b van de zijde 20a loodrecht op de aftastrichting van het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm 10 worden bepaald op basis van instelgebieden 121 en 122, die aan beide zijgedeelten evenwijdig aan de aftastrichting van de tweede lichtaf-35 schermplaat 12 zijn verschaft, zoals is weergegeven in fig. 4.
Onder verwijzing naar fig. 2 tot en met fig. 4 zal een gedetailleerde beschrijving gegeven worden van het aftasttoestel volgens de uitvinding.
j 159 10 - 5 -
Het belichtingstoestel van het aftastende type volgens de uitvinding kan in hoofdzaak verschillen van het in fig. 1 weergegeven gangbare toestel van het aftastende type in de opbouw van het sja-bloonscherm.
5 In het belichtingstoestel van het aftastende type volgens de uitvinding wordt eerst een geïntegreerde hoeveelheid berekend voor elk gebied A tot en met H op basis van door middel van een belich-tingssensor 7 verkregen belichtingsgegevens in een vlak, zoals is weergegeven in fig. 3B. Hierbij dient opgemerkt te worden, dat de be-10 lichtingssensor 7 is weergegeven in fig. 2A.
In dit geval heeft het gebied A de grootste belichtingshoeveel-heid, zoals is weergegeven in fig. 3B. Verder wordt de belichtings-hoeveelheid achtereenvolgens kleiner in de volgorde van het gebied F, het gebied B, het gebied E, het gebied G, het gebied C, het gebied H 15 en het gebied D, zoals is weergegeven in fig. 3B.
Om de belichtingshoeveelheid voor elk gebied A tot en met H gelijk te maken, is een gebied 121 verschaft om de belichtingshoeveelheid in de lichtafschermplaat 12 in te stellen, zoals is weergegeven in fig. 3C.
20 Daardoor wordt het oppervlak van het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm 10 variabel, wanneer elk gebied A tot en met H wordt belicht. Dientengevolge wordt de belichtingshoeveelheid op het substraat 4 constant.
Het oppervlak van het openingsgedeelte 20 van het sjabloon-25 scherm 10 is daardoor het kleinst in het gebied A, in fig. 3B. Verder wordt het oppervlak van het openingsgedeelte 20 achtereenvolgens groter in de volgorde van het gebied B, het gebied E, het gebied G, het gebied C, het gebied H, en het gebied D door het instellen van het instelgebied 121 van de tweede lichtafschermplaat 12.
30 In fig. 2B wordt het oppervlak van het openingsgedeelte 20 be stuurd op voorwaarde, dat de eerste lichtafschermplaat 12 en de tweede lichtafschermplaat 12 elkaar overlappen.
Onder een dergelijke omstandigheid wordt de zijde van de af-tastrichting van het openingsgedeelte 20 bepaald op basis van de af-35 meting 11b van het openingsgedeelte 11a.
De zijde 20a.loodrecht op de aftastrichting van het openingsgedeelte 20 wordt bepaald op basis van de lengte van de richting loodrecht op de aftastrichting van het openingsgedeelte 12a van de tweede lichtafschermplaat 12.
10 15 8 10 - 6 -
Daardoor wordt de lengte 12b zodanig gekozen, dat de geïntegreerde belichtingshoeveelheid constant wordt in elk gebied A tot en met H. Verder wordt een van de eerste 1ichtafschermplaat 12 en de tweede lichtafschermplaat 12 afgetast in de door de pijl aangegeven 5 richting synchroon met het aftasten van het sjabloon 6 en het substraat 4 .
Daardoor kan de geïntegreerde belichtingshoeveelheid continu worden bestuurd in elk gebied A tot en met H omdat het oppervlak van het openingsgedeelte 20 variabel is.
10 Vervolgens zal een beschrijving worden gegeven van een werkwij ze voor het besturen van het belichtingstoestel van het aftastende type volgens de uitvinding.
De van de lichtbron 1 afkomstige belichtingslichtbundel 2 wordt via het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm 10 op het sjabloon 15 6 geïntroduceerd, zoals is weergegeven in fig. 2A.
Het patroon op het sjabloon 6 wordt achtereenvolgens overgebracht op het substraat 4 door middel van het aftasten van het sjabloon 6 respectievelijk het substraat 4.
Onder deze omstandigheden worden het sjabloon 5 en het sub-20 straat 4 naar een eerste positie respectievelijk een tweede positie bewogen. Synchroon aan deze bewerking wordt het oppervlak van het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm 10 van een eerste oppervlak naar een tweede oppervlak veranderd. Verder wordt het openingsgedeelte 20 van het sjabloonscherm 10 zodanig variabel bestuurd, dat 25 de geïntegreerde belichtingshoeveelheid in de eerste positie en de geïntegreerde belichtingshoeveelheid in de tweede positie in hoofdzaak constant worden.
De belichting wordt derhalve stabiel uitgevoerd op het substraat, dat het grote oppervlak in het belichtingstoestel van het af-30 tastende type volgens de uitvinding heeft.
Hoewel de uitvinding tot dusverre is geopenbaard in samenhang met verschillende uitvoeringsvormen daarvan, zal het voor de vakman op dit gebied van de techniek eenvoudig mogelijk zijn om de uitvinding op verschillende andere manieren in praktijk te brengen.
101^810
Claims (7)
1. Belichtingstoestel van het aftastende type, waarin een van een lichtbron afkomstige belichtingslichtbundel via een openingsge-deelte van een sjabloonscherm op een sjabloon wordt geïntroduceerd, en een patroon op het sjabloon achtereenvolgens op het substraat 5 wordt overgedragen door middel van het aftasten van het sjabloon respectievelijk het substraat, waarbij: het substraat is verdeeld in een aantal gebieden langs een af-tastrichting, en een variabele eenheid voor het veranderen van een openingsop-10 pervlak van het openingsgedeelte van het sjabloonscherm is ingericht om een geïntegreerde belichtingshoeveelheid in elk van de gebieden in hoofdzaak gelijk te maken.
2. Toestel volgens conclusie 1, waarbij: de variabele eenheid synchroon met het aftasten van het sja-15 bloon en het substraat wordt bestuurd.
3. Belichtingstoestel van het aftastende type, waarin een van een lichtbron afkomstige belichtingslichtbundel via een openingsgedeelte van een sjabloonscherm op een sjabloon wordt geïntroduceerd, en een patroon op het sjabloon achtereenvolgens op het substraat 20 wordt overgedragen door middel van het aftasten van het sjabloon respectievelijk het substraat, waarbij: het sjabloonscherm het openingsgedeelte vormt door het overlappen van een eerste lichtafschermplaat met een tweede lichtafscherm-plaat, 25 een zijde evenwijdig aan de aftastrichting van het openingsge deelte wordt gevormd door één zijde van het in de eerste lichtafschermplaat gevormde openingsgedeelte, en een lengte van een zijde loodrecht op de aftastrichting van het openingsgedeelte van het sjabloonscherm wordt bepaald op basis van de 30 tweede lichtafschermplaat.
4. Toestel volgens conclusie 3, waarbij: een aanstuureenheid is ingericht om één van de eerste lichtafschermplaat en de tweede lichtafschermplaat synchroon met het aftasten van het sjabloon en het substraat aan te sturen.
5. Toestel volgens conclusie 3, waarbij: 7015810 - 8 - de lengte wordt bepaald op basis van een instelgebied, dat aan één zijdegedeelte evenwijdig aan de aftastrichting van de tweede lichtafschermplaat is verschaft.
6. Toestel volgens conclusie 3, waarbij: 5 de lengte wordt bepaald op basis van instelgebieden, die aan beide zijgedeelten evenwijdig aan de aftastrichting van de tweede lichtafschermplaat zijn verschaft.
7. Werkwijze voor het besturen van een belichtingstoestel van het aftastende type, waarin een van een lichtbron afkomstige belich- 10 tingslichtbundel via een openingsgedeelte van een sjabloonscherm op een sjabloon wordt geïntroduceerd, en een patroon op het sjabloon achtereenvolgens op het substraat wordt overgedragen door middel van het aftasten van het sjabloon respectievelijk het substraat, omvattende de stappen van: 15 het bewegen van het sjabloon en het substraat vanuit een eerste positie naar een tweede positie, het veranderen van een oppervlak van het openingsgedeelte van het sjabloonscherm vanaf een eerste oppervlak naar een tweede oppervlak, en 20 het op een zodanige wijze variabel besturen van het openingsge deelte van het sjabloonscherm, dat een eerste geïntegreerde belich-tingshoeveelheid in de eerste positie en een tweede geïntegreerde be-lichtingshoeveelheid in de tweede positie op het substraat in noofd-zaak constant worden. \ 0 1 5 8 1 0
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21518599 | 1999-07-29 | ||
JP11215185A JP2001044111A (ja) | 1999-07-29 | 1999-07-29 | 走査型露光装置とその制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL1015810A1 NL1015810A1 (nl) | 2001-01-30 |
NL1015810C2 true NL1015810C2 (nl) | 2001-07-24 |
Family
ID=16668091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL1015810A NL1015810C2 (nl) | 1999-07-29 | 2000-07-26 | Belichtingstoestel van het aftastende type. |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6542223B1 (nl) |
JP (1) | JP2001044111A (nl) |
NL (1) | NL1015810C2 (nl) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1431829A1 (en) * | 2002-12-19 | 2004-06-23 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI251116B (en) * | 2002-12-19 | 2006-03-11 | Asml Netherlands Bv | Device manufacturing method, computer-readable medium and lithographic apparatus |
TWI233541B (en) * | 2003-10-29 | 2005-06-01 | Hannstar Display Corp | An exposure method and an apparatus thereof |
US8085383B2 (en) | 2005-10-27 | 2011-12-27 | Asml Holding N.V. | System, method, and apparatus for scanning detector for fast and frequent illumination uniformity correction module |
KR101700249B1 (ko) * | 2010-10-07 | 2017-02-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 노광 장치, 노광 방법 및 노광 장치용 블라인드 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0614124A2 (en) * | 1993-02-01 | 1994-09-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
EP0633506A1 (en) * | 1993-06-11 | 1995-01-11 | Nikon Corporation | Scanning exposure apparatus |
JPH07142313A (ja) * | 1993-06-11 | 1995-06-02 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
US5473410A (en) * | 1990-11-28 | 1995-12-05 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
US5591958A (en) * | 1993-06-14 | 1997-01-07 | Nikon Corporation | Scanning exposure method and apparatus |
EP0869396A2 (en) * | 1997-03-31 | 1998-10-07 | Svg Lithography Systems, Inc. | Adjustable slit and method for varying line width |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3316704B2 (ja) | 1993-06-10 | 2002-08-19 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、走査露光方法、及び素子製造方法 |
JPH07135146A (ja) | 1993-06-29 | 1995-05-23 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いた素子の製造方法 |
JPH0833020A (ja) | 1994-07-11 | 1996-02-02 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 無線パケットチャネル設定方法 |
-
1999
- 1999-07-29 JP JP11215185A patent/JP2001044111A/ja active Pending
-
2000
- 2000-07-26 NL NL1015810A patent/NL1015810C2/nl not_active IP Right Cessation
- 2000-07-31 US US09/628,885 patent/US6542223B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5473410A (en) * | 1990-11-28 | 1995-12-05 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
EP0614124A2 (en) * | 1993-02-01 | 1994-09-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
EP0633506A1 (en) * | 1993-06-11 | 1995-01-11 | Nikon Corporation | Scanning exposure apparatus |
JPH07142313A (ja) * | 1993-06-11 | 1995-06-02 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
US5591958A (en) * | 1993-06-14 | 1997-01-07 | Nikon Corporation | Scanning exposure method and apparatus |
EP0869396A2 (en) * | 1997-03-31 | 1998-10-07 | Svg Lithography Systems, Inc. | Adjustable slit and method for varying line width |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1431829A1 (en) * | 2002-12-19 | 2004-06-23 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001044111A (ja) | 2001-02-16 |
NL1015810A1 (nl) | 2001-01-30 |
US6542223B1 (en) | 2003-04-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU2003226932B2 (en) | Light modulating engine | |
US6295119B1 (en) | Scanning type exposure apparatus with multiple field diaphragms for providing consistent exposure | |
KR100666383B1 (ko) | 포토리소그래피 시스템에서의 선폭의 변화를 보상하는, 공간적으로 제어 가능한 부분 간섭성을 갖는 광조사 시스템 | |
KR950034473A (ko) | 노광장치 및 방법 | |
EP0957384A3 (en) | Optical image forming method and device, image forming apparatus and aligner for lithography | |
US20120050705A1 (en) | Photolithography system | |
NL1015810C2 (nl) | Belichtingstoestel van het aftastende type. | |
KR20110074623A (ko) | 노광 장치 및 포토마스크 | |
KR20110059801A (ko) | Euv 마이크로리소그래피용 조명 시스템 | |
JP3863221B2 (ja) | 曲げ板ガラスの曲げ率測定方法 | |
JP2001028671A (ja) | 画像読取装置及び画像読取方法 | |
KR100281208B1 (ko) | 주사형 노광 장치, 및 그 장치를 이용한 소자 제조 방법 | |
JP3601174B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
US4755013A (en) | Light scanning optical system of an image output scanner using an electro mechanical light modulator | |
JPH04215417A (ja) | 露光方法 | |
US4490034A (en) | Apparatus for correcting an unevenness in an intensity of illumination of an original in a copying machine capable of variable magnification | |
NL1024809C2 (nl) | Werkwijze en apparaat voor het belichten of vormen van een patroon op een dun substraat of dergelijke. | |
JP4338628B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2899154B2 (ja) | 複写装置 | |
KR960032583A (ko) | 주사노광방법 및 장치 | |
US4740815A (en) | Apparatus for compensating for irregularities of illumination for a copier | |
JP4427779B2 (ja) | ビームスポットのサイズを測定可能なパターン描画装置 | |
JP2638962B2 (ja) | 画像露光装置 | |
JP2024051203A (ja) | 露光装置および露光装置の焦点検出方法 | |
JP2005032777A (ja) | 露光装置および露光方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
AD1A | A request for search or an international type search has been filed | ||
RD2N | Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report) |
Effective date: 20010521 |
|
PD2B | A search report has been drawn up | ||
SD | Assignments of patents |
Owner name: NEC ELECTRONICS CORPORATION |
|
VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20050201 |