KR20190114822A - Laminate for display device, and composition for forming partition - Google Patents
Laminate for display device, and composition for forming partition Download PDFInfo
- Publication number
- KR20190114822A KR20190114822A KR1020190034885A KR20190034885A KR20190114822A KR 20190114822 A KR20190114822 A KR 20190114822A KR 1020190034885 A KR1020190034885 A KR 1020190034885A KR 20190034885 A KR20190034885 A KR 20190034885A KR 20190114822 A KR20190114822 A KR 20190114822A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- partition
- preferable
- mass
- composition
- pigment
- Prior art date
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 title claims abstract description 188
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 81
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 41
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 101
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 79
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 79
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 74
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 72
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 63
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 47
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 38
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 29
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 15
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 6
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 description 50
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 46
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 33
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 30
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 14
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 8
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 5
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 5
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 5
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical group NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical group NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical class COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N isobutyl acetate Chemical compound CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropyl acetate Chemical compound CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 2
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- JVYNAINACXQUBL-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,9,9,10,10-decafluorododecane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)CCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)F JVYNAINACXQUBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASEOYCMPSWVAFP-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]pentane Chemical compound FC(C(C(CC)(F)F)(F)F)(F)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(C(C(CC)(F)F)(F)F)(F)F ASEOYCMPSWVAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMMOLDZBACYVIN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2,3,3-hexafluoropentoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]propoxy]pentane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OCC(C)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC KMMOLDZBACYVIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluorodecane Chemical compound CCCCCCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)F FWFUGQANHCJOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJURQEZAWYGJDB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluorobutoxy)butane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)CC IJURQEZAWYGJDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNKAWHZNOFVLS-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(1,1,2,2-tetrafluoropropoxy)octane Chemical compound CCCCCCC(F)(F)C(F)(F)OC(F)(F)C(C)(F)F MKNKAWHZNOFVLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCCPAVALGCCVQZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(1,1,2,2-tetrafluorobutoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]butane Chemical compound CCC(F)(F)C(F)(F)OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(F)(F)C(F)(F)CC GCCPAVALGCCVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)C(O)CO JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWEAGLZFYKQPLZ-UHFFFAOYSA-N 1-[4,5-diphenyl-2-(2,4,6-trichlorophenyl)imidazol-2-yl]-4,5-diphenyl-2-(2,4,6-trichlorophenyl)imidazole Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC(Cl)=CC=2Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 RWEAGLZFYKQPLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxy-1,5-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1CC(C)(O)C(=O)C(O)(C)CC1=CC=C(OCCO)C=C1 LZHUBCULTHIFNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)CO WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical group ClC1=CC=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)COC(=O)C(C)=C JJBFVQSGPLGDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCOCCOCCO DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCOC(C)COC(C)CO XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=C(C)C=C1 PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZZHMXSIYMFDK-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-prop-2-enoyloxyethoxy)phosphoryloxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOP(=O)(OCCOC(=O)C=C)OCCOC(=O)C=C YQZZHMXSIYMFDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVPLLZZDAKVSSO-UHFFFAOYSA-N 2-[bis[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phosphoryloxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(=O)(OCCOC(=O)C(C)=C)OCCOC(=O)C(C)=C VVPLLZZDAKVSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJJPLEZQSCZCKE-UHFFFAOYSA-N 2-aminopropane-1,3-diol Chemical compound OCC(N)CO KJJPLEZQSCZCKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOGSBOVWPQXXAH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCCC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 VOGSBOVWPQXXAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 3-acetyloxybutyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)CCOC(C)=O MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARZSRJNMSIMAKS-UHFFFAOYSA-N 4-aminobutane-1,2-diol Chemical compound NCCC(O)CO ARZSRJNMSIMAKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQGKDMHENBFVRC-UHFFFAOYSA-N 5-aminopentan-1-ol Chemical compound NCCCCCO LQGKDMHENBFVRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMFWEWMHABZQNB-UHFFFAOYSA-N 6-acetyloxyhexyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCCCCCOC(C)=O ZMFWEWMHABZQNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVIKVWFGPLAFS-UHFFFAOYSA-N 9-(2-methylprop-2-enoyloxy)nonyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C YJVIKVWFGPLAFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPJPAMHBPZNK-UHFFFAOYSA-N C(=C)OC(CCCCCCC)CC Chemical compound C(=C)OC(CCCCCCC)CC LNCPJPAMHBPZNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 241000557626 Corvus corax Species 0.000 description 1
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- WPSMNPYXDWIDKU-UHFFFAOYSA-N FOS(=O)(=O)CCCCCCCCCCCC Chemical compound FOS(=O)(=O)CCCCCCCCCCCC WPSMNPYXDWIDKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N Lactic Acid Natural products CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N Propanolamine Chemical compound NCCCO WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006230 acetylene black Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N butyl propionate Chemical compound CCCCOC(=O)CC BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N butyric acid isopropyl ester Natural products CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical class CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N glycoluril Chemical compound N1C(=O)NC2NC(=O)NC21 VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000006233 lamp black Substances 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylethanamine Chemical compound CCN(C)CC GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N p-Cumylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005460 perfluorocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067265 pigment yellow 138 Drugs 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N propionic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N propyl butyrate Chemical compound CCCOC(=O)CCC HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 238000007152 ring opening metathesis polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010421 standard material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940086542 triethylamine Drugs 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
- H01L27/153—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
- H01L27/156—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/58—Optical field-shaping elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 표시 소자용 적층체 및 격벽 형성용 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a laminate for display elements and a composition for forming partition walls.
액정 표시 소자나 발광 다이오드(LED) 소자 등의 표시 소자에는, 블랙 매트릭스 등이라 칭해지는 패터닝된 격벽이 사용되고 있다. 이 격벽은, 표시 소자에 있어서 광의 혼색을 방지하기 위한 구획으로서 기능하며, 차광성을 발휘하기 위해서 흑색 안료가 함유되고 있다. 종래, 이러한 격벽의 형성은, 감방사선성 조성물을 사용하여, 노광 및 현상을 행하는 포토리소그래피법에 의해 널리 행해지고 있다(특허문헌 1, 2 참조).Patterned partitions, such as a black matrix, are used for display elements, such as a liquid crystal display element and a light emitting diode (LED) element. This partition wall functions as a section for preventing the mixing of light in the display element, and a black pigment is contained in order to exhibit light shielding properties. Conventionally, formation of such a partition is widely performed by the photolithographic method which performs exposure and image development using a radiation sensitive composition (refer patent document 1, 2).
한편, 액정 표시 소자로서, 격벽간에 파장 변환층과 컬러 필터층의 2층을 설치한 구조를 갖는 액정 표시 소자가 개발되어 있다(특허문헌 3 참조). 특허문헌 3의 액정 표시 소자는, 파장 변환층 및 컬러 필터층에 의해, 백색광을, 구획된 영역마다 적색광, 녹색광 또는 청색광으로 변환하도록 구성되어 있다. 특허문헌 3의 액정 표시 소자와는 달리, 청색 광원을 사용하여, 파장 변환층과 컬러 필터층에 의해, 청색광을, 구획된 소정의 영역에 있어서 적색광 또는 녹색광으로 변환하도록 구성된 액정 표시 소자도 검토되고 있다.On the other hand, as a liquid crystal display element, the liquid crystal display element which has a structure which provided two layers of a wavelength conversion layer and a color filter layer between partitions is developed (refer patent document 3). The liquid crystal display element of patent document 3 is comprised by the wavelength conversion layer and the color filter layer so that white light may be converted into red light, green light, or blue light for every partitioned area. Unlike the liquid crystal display element of patent document 3, the liquid crystal display element comprised so that a blue light source may convert blue light into red light or green light in the predetermined | prescribed area | region partitioned using the blue light source is also examined. .
또한, 마이크로 LED 소자 등이라 칭해지는, 복수의 마이크로 LED가 배치된 표시 소자도 개발되어 있다(특허문헌 4 참조). 마이크로 LED 소자에 있어서도, 격벽간에 LED에 더해서 파장 변환층이나 컬러 필터층을 설치한 구조를 채용할 수 있다. 이러한 구조로 함으로써, 예를 들어 LED로서는 청색 LED만을 사용하면서, 구획된 영역마다 적색광, 녹색광 또는 청색광을 발광시킬 수 있다.Moreover, the display element in which the some micro LED is arrange | positioned called micro LED element etc. is also developed (refer patent document 4). Also in a micro LED element, the structure which provided the wavelength conversion layer and the color filter layer in addition to LED between partition walls can be employ | adopted. Such a structure makes it possible to emit red light, green light or blue light for each partitioned area while using only a blue LED as the LED, for example.
상기한 바와 같이, 격벽간에 파장 변환층이나 컬러 필터층 등의 복수의 층을 형성하는 경우나, 충분한 발광 강도로 변환된 변환광을 얻기 위해서 파장 변환층의 막 두께를 높게 하기 위해서는, 격벽을 높게 설치할 필요가 있다. 그러나, 안료를 포함하는 격벽을 감방사선성 조성물을 사용한 포토리소그래피법에 의해 형성하는 경우, 도막의 하부에까지 조사광이 닿기 어렵다. 그 때문에, 높이가 있는 격벽을 형성하는 것은 곤란하다. 한편, 충분한 차광성을 갖지 않으면, 표시 소자용 격벽으로서의 기능이 발휘되지 않는다.As described above, in order to form a plurality of layers such as a wavelength conversion layer or a color filter layer between the partition walls, or to increase the thickness of the wavelength conversion layer in order to obtain the converted light converted into sufficient light emission intensity, the partition walls are formed high. There is a need. However, when the partition containing a pigment is formed by the photolithographic method using a radiation sensitive composition, irradiation light hardly reaches even the lower part of a coating film. Therefore, it is difficult to form a partition with a height. On the other hand, if it does not have sufficient light-shielding property, the function as a partition for display elements will not be exhibited.
본 발명은, 이상과 같은 사정에 기초하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 격벽으로서의 충분한 차광성과, 높이를 겸비한 격벽을 갖는 표시 소자용 적층체, 및 이러한 격벽을 적합하게 형성할 수 있는 격벽 형성용 조성물을 제공하는 것이다.This invention is made | formed based on the above circumstances, The objective is the laminated body for display elements which has a partition which has sufficient light shielding property as a partition, and the height, and the partition formation composition which can form such a partition suitably. To provide.
상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 발명은, 기판, 상기 기판의 한쪽 면측을 복수의 영역으로 구획하는 격벽, 및 상기 복수의 영역의 적어도 하나의 영역 내에 설치된 파장 변환층을 구비하고, 상기 격벽의 높이가 5㎛ 이상 30㎛ 이하이고, 상기 격벽의 높이 1㎛당 광학 농도가 0.2 이상 0.7 이하인 표시 소자용 적층체이다.The invention made to solve the above problems comprises a substrate, a partition wall partitioning one surface side of the substrate into a plurality of regions, and a wavelength conversion layer provided in at least one region of the plurality of regions, the height of the partition wall being It is 5 micrometers or more and 30 micrometers or less, It is a laminated body for display elements whose optical density per 1 micrometer of the said partitions is 0.2 or more and 0.7 or less.
상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 다른 발명은, 당해 표시 소자용 적층체의 격벽의 형성에 사용되어, 흑색 안료, 알칼리 가용성 수지 및 용매를 함유하고, 상기 용매를 제외한 전체 성분에 대한 상기 흑색 안료의 함유량이, 0.1질량% 이상 5.0질량% 이하인 격벽 형성용 조성물이다.Another invention made in order to solve the said subject is used for formation of the partition of the said laminated body for display elements, contains a black pigment, alkali-soluble resin, and a solvent, and content of the said black pigment with respect to all components except the said solvent It is a composition for partition formation which is 0.1 mass% or more and 5.0 mass% or less.
상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 또 다른 발명은, 흑색 안료, 유기 안료, 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물 및 용매를 함유하고, 상기 용매를 제외한 전체 성분에 대한 상기 흑색 안료의 함유량이, 0.1질량% 이상 5.0질량% 이하이고, 상기 중합성 화합물의 함유량(MD)에 대한 상기 알칼리 가용성 수지의 함유량(MC)의 질량비(MC/MD)가, 0.3 이상 2.0 이하인 격벽 형성용 조성물이다.Another invention made in order to solve the said subject contains a black pigment, an organic pigment, alkali-soluble resin, a polymeric compound, and a solvent, The content of the said black pigment with respect to all components except the said solvent is 0.1 mass% or more. and 5.0 mass% or less, and the content of the polymerizable compound content of the alkali-soluble resin for the (D M) (M C) weight ratio of composition (C M / D M) is formed less than 0.3: 2.0 of the partition wall.
본 발명에 따르면, 격벽으로서의 충분한 차광성과, 높이를 겸비한 격벽을 갖는 표시 소자용 적층체, 및 이러한 격벽을 적합하게 형성할 수 있는 격벽 형성용 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a laminate for display elements having a sufficient light shielding property as a partition, a partition having a height, and a partition forming composition capable of suitably forming such a partition.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 표시 소자용 적층체의 모식적 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 표시 소자용 적층체를 구비하는 마이크로 LED 소자의 모식적 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a laminate for display elements according to an embodiment of the present invention.
It is typical sectional drawing of the micro LED element provided with the laminated body for display elements which concerns on one Embodiment of this invention.
본 발명자들은, 충분한 높이를 갖는 격벽을 형성한 경우, 단위 높이(두께)당 광학 농도가 비교적 낮아도, 격벽의 높이에 의해 충분한 차광성이 발휘되는 것을 지견했다. 또한 발명자들은, 이러한, 높이가 있고 또한 단위 높이당 광학 농도가 비교적 낮은 격벽은, 소정의 조성을 갖는 격벽 형성용 조성물을 사용한 포토리소그래피법에 보다 적합하게 형성할 수 있는 것을 지견했다. 본 발명의 일 실시 형태에 따른 표시 소자용 적층체 및 격벽 형성용 조성물은, 이러한 지견에 기초하여 완성된 것이다. 이하, 적절히 도면을 참조하면서, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 표시 소자용 적층체 및 격벽 형성용 조성물에 대해서 상세하게 설명한다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors discovered that when the partition which has sufficient height is formed, even if the optical density per unit height (thickness) is comparatively low, sufficient light shielding property is exhibited by the height of a partition. Furthermore, the inventors have found that such a partition having a height and having a relatively low optical density per unit height can be more suitably formed in a photolithography method using a composition for forming a partition having a predetermined composition. The laminated body for display elements and the composition for partition wall formation which concern on one Embodiment of this invention are completed based on such knowledge. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the laminated body for display elements and the composition for partition wall formation which concern on one Embodiment of this invention are demonstrated in detail, referring drawings suitably.
<표시 소자용 적층체><Laminated body for display element>
본 발명의 일 실시 형태에 따른 도 1의 표시 소자용 적층체(10)는, 기판(11), 격벽(12), 파장 변환층(13a, 13b) 및 컬러 필터층(14a, 14b)을 구비한다. 또한, 본 발명의 일 실시 형태인 도 1의 표시 소자용 적층체(10)는 청색 광원이 사용된 액정 표시 소자에 적합하게 적용되는 구성으로 하고 있다.The
(기판)(Board)
기판(11)은 투명하거나 또는 불투명한 판이다. 기판(11)으로서는, 투명한 판, 특히 무색 투명한 판을 적합하게 사용할 수 있다. 기판(11)의 재질로서는, 예를 들어 유리, 석영, 수지 등을 들 수 있다. 수지로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카르보네이트, 폴리이미드, 환상 올레핀의 개환 중합체(ROMP 폴리머), 폴리아크릴레이트, ABS 수지, AES 수지 등을 들 수 있다. 기판(11)으로서는, 유리 기판 및 수지 기판이 바람직하다. 또한, TFT 기판 등을 기판(11)으로서 사용할 수도 있다.The substrate 11 is a transparent or opaque plate. As the board | substrate 11, a transparent board, especially a colorless transparent board, can be used suitably. As a material of the board | substrate 11, glass, quartz, resin, etc. are mentioned, for example. Examples of the resin include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, polycarbonate, polyimide, ring-opening polymer of cyclic olefin (ROMP polymer), polyacrylate, ABS resin, AES resin and the like. Can be mentioned. As the board | substrate 11, a glass substrate and a resin substrate are preferable. In addition, a TFT substrate or the like can be used as the substrate 11.
(격벽)(septum)
격벽(12)은 기판(11)의 한쪽 면(도 1에 있어서의 상면)측을 복수의 영역으로 구획한다. 격벽(12)은 기판(11)의 한쪽 면에 형성되어 있다. 격벽(12)은 통상, 평면에서 보아 격자 형상으로 형성되어 있다. 즉, 격벽(12)은 복수의 관통 구멍(개구)이 형성된 막 형상을 갖는다. 또한, 격벽(12)은 블랙 매트릭스, 뱅크 등으로도 칭해지는 것이지만, 색을 한정하는 것은 아니다. 격벽(12)은 회색인 것이 바람직하다.The
격벽(12)의 높이(h)의 하한은, 5㎛이고, 8㎛가 바람직하고 10㎛가 보다 바람직하다. 격벽(12)의 높이(h)를 상기 하한 이상으로 함으로써, 격벽(12)의 높이가 충분하게 되어, 격벽(12) 사이에 충분한 두께의 2층 이상의 층을 양호하게 설치하는 것 등이 가능해진다. 한편, 격벽(12)의 높이(h)의 상한은, 30㎛이고, 20㎛가 바람직하다. 격벽(12)의 높이(h)를 상기 상한 이하로 함으로써, 포토리소그래피법에 의한 효과적인 형성을 가능하게 한다.The minimum of the height h of the
격벽(12)의 높이 1㎛당 광학 농도(OD)의 하한은, 0.2이고, 0.25가 바람직하고, 0.3이 보다 바람직한 경우도 있다. 격벽(12)의 높이(h)가 상기 하한 이상이고, 또한 격벽(12)의 높이 1㎛당 광학 농도가 상기 하한 이상인 것에 의해, 격벽(12)이 충분한 차광성을 발휘할 수 있다. 한편, 이 광학 농도의 상한은, 0.7이고, 0.6, 0.5, 0.4 또는 0.3이어도 된다. 격벽(12)의 높이(h)의 관계에서, 단위 높이당 광학 농도가 낮은 경우에도, 충분한 차광성을 발휘할 수 있다. 또한, 단위 높이당 광학 농도가 낮은 격벽(12)은 포토리소그래피법에 의한 형성성이 우수하다.The minimum of optical density OD per 1 micrometer in height of the
격벽(12)의 폭(w)의 하한으로서는, 5㎛가 바람직하고, 10㎛가 보다 바람직하다. 격벽(12)의 폭(w)을 상기 하한 이상으로 함으로써 영역간의 광의 혼색을 보다 충분히 억제할 수 있다. 한편, 격벽(12)의 폭(w)의 상한으로서는 100㎛가 바람직하고, 50㎛가 보다 바람직하다. 격벽(12)의 폭(w)을 상기 상한 이하로 함으로써, 보다 선명하고 또한 치밀한 화상의 표시 소자를 제공하는 것 등이 가능하다. 또한, 격벽(12)의 폭(w)은, 기판(11)과 접한 부분에 있어서의 폭(도 1에 있어서의 저변)을 의미한다.As a minimum of the width w of the
격벽(12)의 애스펙트비(높이(h)/폭(w))의 하한으로서는, 0.4가 바람직하고, 0.6이 보다 바람직하다. 격벽(12)의 애스펙트비를 상기 하한 이상으로 함으로써 폭(w)이 필요 이상으로 커지는 것을 억제하면서, 충분한 높이(h)를 확보하여, 양호한 차폐성을 발현할 수 있다. 한편, 이 애스펙트비의 상한으로서는 2가 바람직하고, 1.5가 보다 바람직하다. 애스펙트비를 상기 하한 이하로 함으로써, 포토리소그래피법에 의해 양호한 형상을 갖는 격벽(12)을 용이하게 형성하는 것 등이 가능하다.As a minimum of the aspect ratio (height h / width w) of the
격벽(12)의 단면 형상은, 순테이퍼상인 것이 바람직하다. 격벽(12)의 단면 형상이 순테이퍼상인 것으로, 도포 등에 의한 격벽(12) 사이로의 파장 변환층(13a, 13b), 컬러 필터층(14a, 14b) 등의 형성이 용이해져서, 표시 소자용 적층체(10)의 광학 성능 등이 높아지는 등과 같은 이점이 있다. 또한, 순테이퍼상이란, 기판(11)의 표면에 대한 격벽(12)의 측면의 각 θ가, 90° 미만인 형상을 말한다. 상기 각 θ의 상한은 85°가 바람직하고, 80°가 보다 바람직하다. 한편, 이 각 θ의 하한은, 50°가 바람직하고, 60°가 보다 바람직하다.It is preferable that the cross-sectional shape of the
격벽(12)의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 대한 정적 접촉각의 하한으로서는, 5°가 바람직하고, 15°가 보다 바람직하고, 30°가 더욱 바람직하다. 한편, 이 정적 접촉각의 상한으로서는 90°가 바람직하고, 80°가 보다 바람직하고, 70°가 더욱 바람직하다. 상기 정적 접촉각이 상기 범위인 것으로, 격벽(12) 사이로의 도포성이 높아진다. 따라서, 도포에 보다 양호하게 파장 변환층(13a, 13b), 컬러 필터층(14a, 14b)을 설치하는 것이 가능해져서, 표시 소자용 적층체(10)의 광학 성능 등이 향상된다. 또한, 후술하는 바와 같이, 격벽(12)에 불소 함유 화합물을 함유시킴으로써, 발액성이 높아진다. 따라서, 불소 함유 화합물의 함유량 등에 의해, 상기 정적 접촉각을 조정할 수 있다.As a minimum of the static contact angle with respect to the propylene glycol monomethyl ether acetate of the
격벽(12)은 격벽 형성용 조성물에 의해 형성할 수 있다. 이 격벽 형성용 조성물에 대해서는, 나중에 상세히 설명한다. 따라서, 격벽(12)을 형성하는 성분은, 후술하는 격벽 형성용 조성물에 있어서의 용매를 제외한 성분이다. 따라서, 격벽(12)을 구성하는 적합한 조성은, 후술하는 격벽 형성용 조성물에 있어서의 용매를 제외한 전체 성분을 포함하는 조성과 마찬가지이다. 즉, 격벽(12)을 구성하는 각 성분의 적합한 함유량도, 격벽 형성용 조성물에 있어서의 용매를 제외한 전체 성분에 대한 각 성분의 함유량(고형분 중 함유량)으로서 기재한 범위와 마찬가지이다.The
(파장 변환층)(Wavelength converting layer)
파장 변환층(13a)은, 격벽(12)에 의해 구획된 기판(11)의 한쪽 면측의 복수의 영역 중 하나의 영역(20) 내에 설치되어 있다. 파장 변환층(13a)은, 나중에 상세히 설명하는 컬러 필터층(14a)의 표면에 적층되어 있다. 파장 변환층(13b)은 상기 복수의 영역 중 다른 영역(21) 내에 설치되어 있다. 파장 변환층(13b)은, 나중에 상세히 설명하는 컬러 필터층(14b)의 표면에 적층되어 있다. 상기 복수의 영역 중 또 다른 영역(22) 내에는, 파장 변환층은 설치되어 있지 않다. 이와 같이, 파장 변환층은, 격벽(12)에 의해 구획된 기판(11)의 한쪽 면측의 복수의 영역의 적어도 하나의 영역 내에 설치되어 있다. 또한, 파장 변환층(13a, 13b)은, 격벽(12)의 개구 부분에 있어서의 컬러 필터층(14a, 14b) 상에 적층되어 있다. 또한, 도 1의 형태와는 달리, 파장 변환층과 컬러 필터층의 적층순이 반대인 표시 소자용 적층체여도 된다. 즉, 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 표시 소자용 적층체에 있어서는, 기판, 파장 변환층 및 컬러 필터층의 순으로 적층된 층 구조를 갖는다.The
또한, 영역(20)은 당해 표시 소자용 적층체(10)가, 액정 표시 소자 등의 표시 소자에 내장되었을 때, 적색광을 발하는 영역에 대응한다. 영역(21)은, 마찬가지로 녹색광을 발하는 영역에 대응한다. 영역(22)은, 마찬가지로 청색광을 발하는 영역에 대응한다. 이 적색광을 발하는 영역(20), 녹색광을 발하는 영역(21) 및 청색광을 발하는 영역(22)이 반복해서 종횡으로 배치된다.In addition, the area |
파장 변환층(13a)은, 청색광을 적색광으로 변환하는 층이다. 파장 변환층(13b)은, 청색광을 녹색광으로 변환하는 층이다. 파장 변환층(13a, 13b)은, 양자 도트, 형광제 등의 파장 변환제 및 결합제 수지를 함유하는 층으로서 형성할 수 있다. 또한, 파장 변환제의 종류를 조정함으로써, 원하는 색으로 변환 가능한 파장 변환층으로 할 수 있다.The
(컬러 필터층)(Color filter layer)
컬러 필터층(14a)은 파장 변환층(13a)에 인접해서 설치되어 있다. 즉, 컬러 필터층(14a)은 파장 변환층(13a)이 설치된 영역(20) 내에 설치되어 있다. 컬러 필터층(14a)은 기판(11)의 표면에 적층되어 있다. 영역(20)에 있어서는, 기판(11)의 표면에 컬러 필터층(14a) 및 파장 변환층(13a)이 이 순으로 적층되어 있다. 이와 같이, 격벽(12)의 개구 부분인 영역(20) 내에, 컬러 필터층(14a) 및 파장 변환층(13a)이 적층되어 있다. 컬러 필터층(14a)은 적색 컬러 필터이다. 당해 표시 소자용 적층체(10)가 표시 소자에 내장되었을 때, 영역(20)에 있어서는, 도 1의 상방으로부터의 청색광이 파장 변환층(13a)에 의해 적색광으로 변환되지만, 변환되지 않고 누설된 청색광은, 이 컬러 필터층(14a)에 의해 흡수된다.The
컬러 필터층(14b)은 파장 변환층(13b)에 인접해서 설치되어 있다. 즉, 컬러 필터층(14b)은 파장 변환층(13b)이 설치된 영역(21) 내에 설치되어 있다. 컬러 필터층(14b)은 기판(11)의 표면에 적층되어 있다. 영역(21)에 있어서는, 기판(11)의 표면에 컬러 필터층(14b) 및 파장 변환층(13b)이 이 순으로 적층되어 있다. 컬러 필터층(14b)은 녹색 컬러 필터이다. 이와 같이, 격벽(12)의 개구 부분인 영역(21) 내에, 컬러 필터층(14b) 및 파장 변환층(13b)이 적층되어 있다. 당해 표시 소자용 적층체(10)가 표시 소자에 내장되었을 때, 영역(21)에 있어서는, 도 1의 상방으로부터의 청색광이 파장 변환층(13b)에 의해 녹색광으로 변환되지만, 변환되지 않고 누설된 청색광은, 이 컬러 필터층(14b)에 의해 흡수된다.The
컬러 필터층(14a, 14b)은 안료, 염료 등의 착색제 및 결합제 수지를 함유하는 층으로서 형성할 수 있다. 착색제의 종류를 조정함으로써, 원하는 색의 컬러 필터층으로 할 수 있다. 또한, 적색광 및 녹색광을 투과시켜서, 변환되지 않고 누설된 청색광을 흡수하는 재료로서, 황색 안료, 황색 염료 등의 착색제를 사용하는 것도 가능하다. 상기 착색제를 사용함으로써 컬러 필터층(14a, 14b)을 동일한 재료로 형성할 수 있기 때문에, 표시 소자용 적층체의 성형성이 향상되는 경우가 있다.The color filter layers 14a and 14b can be formed as a layer containing coloring agents, such as a pigment and dye, and binder resin. By adjusting the kind of coloring agent, it can be set as the color filter layer of a desired color. Moreover, it is also possible to use coloring agents, such as a yellow pigment and a yellow dye, as a material which permeate | transmits red light and green light, and absorbs the blue light which leaked unconverted. Since the color filter layers 14a and 14b can be formed from the same material by using the said coloring agent, the moldability of the laminated body for display elements may improve.
또한, 영역(22)에 있어서는, 컬러 필터층은 설치되어 있지 않다. 영역(22)에는, 투명층(15)이 적층되어 있다. 투명층(15)은 투명성의 수지 등에 의해 형성된다.In addition, in the area |
(용도 등)(Use, etc.)
당해 표시 소자용 적층체(10)는, 충분한 차광성과, 높이를 겸비한 격벽(12)을 갖는다. 이 때문에, 당해 표시 소자용 적층체(10)는, 표시 소자의 일례인 액정 표시 소자에 사용할 수 있다. 당해 표시 소자용 적층체(10)는, 액정 표시 소자에 있어서의 소위 컬러 필터로서 사용된다. 구체적으로는, 당해 표시 소자용 적층체(10)는, 청색 LED 등의 청색 광원이 사용된 액정 표시 소자에 적합하게 사용된다. 즉, 영역(20)에 있어서는, 도 1에 있어서의 상측에 배치되게 되는 광원으로부터의 청색광이 적색광으로 변환되어, 적색광이 발해진다. 영역(21)에 있어서는, 광원으로부터의 청색광이 녹색광으로 변환되어, 녹색광이 발해진다. 영역(22)에 있어서는, 광원으로부터의 청색광이 그대로 발해진다. 당해 표시 소자용 적층체(10)를 구비하는 액정 표시 소자는, 표시 소자용 적층체(10) 이외의 구성은, 청색 광원이 사용된 종래 공지된 액정 표시 소자와 마찬가지이다.The said display element laminated
(마이크로 LED 소자에 대한 적용)(Applicable for Micro LED Device)
본 발명의 일 실시 형태에 따른 표시 소자용 적층체는, 표시 소자의 일례인 마이크로 LED 소자에도 적합하게 적용할 수 있다. 마이크로 LED 소자란, 복수의 미세한 LED(마이크로 LED)가 배치된 표시 소자이다.The laminated body for display elements which concerns on one Embodiment of this invention can be applied suitably also to the micro LED element which is an example of a display element. The micro LED element is a display element in which a plurality of fine LEDs (micro LEDs) are arranged.
도 2의 마이크로 LED 소자(30)는, 표시 소자용 적층체(10)와, TFT 기판(31)과, TFT 기판(31)에 설치된 청색 LED(32a, 32b, 32c)를 구비한다. 도 2의 표시 소자용 적층체(10)는, 실질적으로 도 1의 표시 소자용 적층체(10)와 마찬가지이며, 동일 번호를 붙이고 상세한 설명을 생략한다. 단, 청색 LED(32a, 32b, 32c)를 격벽(12) 사이의 각 영역에 배치 가능하도록, 격벽(12)의 높이나, 파장 변환층(13a, 13b), 컬러 필터층(14a, 14b)의 두께 등은 적절히 조정된다.The
청색 LED(32a)는 격벽(12) 사이의 복수의 영역 중 하나의 영역(40)에 배치되어 있다. 청색 LED(32b)는 다른 영역(41)에 배치되어 있다. 청색 LED(32c)는 또 다른 영역(42)에 배치되어 있다.The
마이크로 LED 소자(30)의 영역(40)에 있어서는, 청색 LED(32a)로부터의 청색광이, 파장 변환층(13a) 및 컬러 필터(14a)를 거쳐서 적색광으로 변환되어, 적색광이 발해진다. 영역(41)에 있어서는, 청색 LED(32b)로부터의 청색광이, 파장 변환층(13b) 및 컬러 필터(14b)를 거쳐서 녹색광으로 변환되어, 녹색광이 발해진다. 영역(42)에 있어서는, 청색 LED(32c)로부터의 청색광이 그대로 발해진다.In the
<격벽 형성용 조성물><Composition for forming partition wall>
본 발명의 일 실시 형태에 따른 격벽 형성용 조성물은, [A] 흑색 안료, [B] 유기 안료, [C] 알칼리 가용성 수지, [D] 중합성 화합물 및 [G] 용매를 함유한다. 또한, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서는, [B] 유기 안료 및 [D] 중합성 화합물은, 필수 성분이 아니다. 당해 격벽 형성용 조성물은, [E] 광중합 개시제나, [F] 불소 함유 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 당해 격벽 형성용 조성물은, 그 밖의 성분을 더 함유할 수 있다.The composition for partition wall formation which concerns on one Embodiment of this invention contains [A] black pigment, [B] organic pigment, [C] alkali-soluble resin, [D] polymeric compound, and [G] solvent. In addition, in one embodiment of the present invention, the organic pigment [B] and the polymerizable compound [D] are not essential components. It is preferable that the said composition for partition formation contains a [E] photoinitiator and a [F] fluorine-containing compound. The partition forming composition may further contain other components.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서는, [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 [A] 흑색 안료의 함유량이, 0.1질량% 이상 5.0질량% 이하이다. 당해 격벽 형성용 조성물에 의하면, [A] 흑색 안료의 함유량이 상기 범위이기 때문에, 높이가 5㎛ 이상 30㎛ 이하의 격벽을 형성했을 때에, 이 격벽이 충분한 차광성을 발휘할 수 있다. 또한, 당해 격벽 형성용 조성물에 의하면, 이러한 격벽을 포토리소그래피법에 의해 적합하게 형성할 수 있다. 이하, 각 성분에 대해서 설명한다.In the said composition for partition formation, content of the [A] black pigment with respect to all the components except [G] solvent is 0.1 mass% or more and 5.0 mass% or less. According to the said composition for partition formation, since content of [A] black pigment is the said range, when the height of 5 micrometers-30 micrometers of partitions is formed, this partition can exhibit sufficient light-shielding property. Moreover, according to the said composition for partition formation, such a partition can be formed suitably by the photolithographic method. Hereinafter, each component is demonstrated.
([A] 흑색 안료)([A] black pigment)
[A] 흑색 안료로서는, 카본 블랙, 티타늄 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 페릴렌 블랙 등을 들 수 있다. 흑색 안료는, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.[A] As the black pigment, carbon black, titanium black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, perylene black and the like can be given. As the black pigment, one kind or two or more kinds can be used.
이들 흑색 안료 중에서도, 얻어지는 격벽의 차광성을 효과적으로 높일 수 있다는 등의 점에서, 카본 블랙이 바람직하다.Among these black pigments, carbon black is preferable in that the light shielding property of the partition wall obtained can be improved effectively.
카본 블랙으로서는, 이하와 같은 시판품을 들 수 있다.As carbon black, the following commercial items are mentioned.
미쯔비시 가가꾸사의 MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, #5, #10, #20, #25, #30, #32, #33, #40, #44, #45, #47, #50, #52, #55, #650, #750, #850, #900, #950, #960, #970, #980, #990, #1000, #2200, #2300, #2350, #2400, #2600, #2650, #3030, #3050, #3150, #3250, #3400, #3600, #3750, #3950, #4000, #4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31BMitsubishi Chemical Corporation MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, # 5, # 10, # 20, # 25, # 30, # 32, # 33, # 40, # 44, # 45, # 47, # 50, # 52, # 55, # 650, # 750, # 850, # 900, # 950, # 960, # 970, # 980, # 990, # 1000, # 2200 , # 2300, # 2350, # 2400, # 2600, # 2650, # 3030, # 3050, # 3150, # 3250, # 3400, # 3600, # 3750, # 3950, # 4000, # 4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31B
데구사사의 Printex(등록상표, 이하 동일함)3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, PrintexG, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170Degussa Printex (registered trademark, the same as below) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U , Printex V, PrintexG, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170
캐봇사의 Monarch(등록상표, 이하 동일함)120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL(등록상표, 이하 동일함)99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN(등록상표)XC72R, ELFTEX(등록상표)-8, TPK1099R, TPK1104R, TPK1227RCabot's Monarch120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL 99, REGAL99R, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN® XC72R, ELFTEX®-8, TPK1099R, TPK1104R, TPK1227R
콜롬비아 카본사의 RAVEN(등록상표, 이하 동일함)11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22, RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1000, RAVEN1020, RAVEN1040, RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000RAVEN (registered trademark, hereinafter same) 11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22, RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1000, RAVEN1020, RAVEN1040, RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000
그 밖의 흑색 안료로서는, 국제공개 제2017/110893호에 기재된 각 흑색 안료를 적합하게 사용할 수 있다.As another black pigment, each black pigment of international publication 2017/110893 can be used suitably.
[A] 흑색 안료는, 재결정법, 재침전법, 용제 세정법, 승화법, 진공 가열법 또는 이들의 조합에 의해 정제해서 사용할 수 있다. 또한, 흑색 안료는, 소망에 따라, 그의 입자 표면을 수지 등으로 개질해서 사용해도 된다. 흑색 안료의 입자 표면을 개질하는 수지로서는, 예를 들어 일본특허공개 제2001-108817호 공보에 기재된 비히클 수지, 또는 시판되고 있는 각종 안료 분산용 수지를 들 수 있다. 또한, 흑색 안료는, 소위 솔트 밀링에 의해, 1차 입자를 미세화해서 사용해도 된다. 솔트 밀링의 방법으로서는, 예를 들어, 일본특허공개 평08-179111호 공보에 개시되어 있는 방법을 채용할 수 있다.The black pigment (A) can be used by refining by recrystallization, reprecipitation, solvent washing, sublimation, vacuum heating, or a combination thereof. In addition, you may use a black pigment, modifying the particle surface with resin etc. as needed. As resin which modifies the surface of the particle | grains of a black pigment, the vehicle resin of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-108817, or commercially available resin for disperse | distributing various pigments is mentioned, for example. In addition, you may use a black pigment refine | purifying primary particle by what is called salt milling. As a method of salt milling, the method disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 08-179111 can be employ | adopted, for example.
[A] 흑색 안료의 평균 입자 직경의 하한은, 10㎚가 바람직하고, 30㎚가 바람직하고, 50㎚가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한은, 500㎚가 바람직하고, 300㎚가 보다 바람직하고, 200㎚가 더욱 바람직하고, 100㎚가 보다 더욱 바람직하다.10 nm is preferable, as for the minimum of the average particle diameter of (A) black pigment, 30 nm is preferable and 50 nm is more preferable. On the other hand, 500 nm is preferable, 300 nm is more preferable, 200 nm is still more preferable, and this upper limit of this upper limit is more preferable.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서의 [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 [A] 흑색 안료의 함유량, 즉 고형분 중 함유량의 하한은, 0.1질량%이고, 0.3질량%가 바람직하고, 0.5질량%가 보다 바람직하고, 1.0질량%가 더욱 바람직하고, 1.5질량%가 보다 더욱 바람직하다. [A] 흑색 안료의 함유량을 상기 하한 이상으로 함으로써 얻어지는 격벽의 차광성을 높일 수 있다. 특히, 높이가 5㎛ 이상인 격벽 차광성을 높일 수 있다. 한편, [A] 흑색 안료의 함유량의 상한은, 5.0질량%이고, 4.5질량%가 바람직하고, 4.0질량%가 보다 바람직하고, 3.5질량%가 더욱 바람직하고, 3.0질량%가 보다 더욱 바람직하고, 2.5질량%가 보다 더욱 바람직하고, 2.0질량%가 보다 더욱 바람직하다. [A] 흑색 안료의 함유량을 상기 상한 이하로 함으로써, 특히 높이가 있는 격벽을 형성할 때, 양호한 패터닝성이나 경화성이 발현된다. 특히, [A] 흑색 안료의 함유량을 상기 상한 이하로 함으로써, 순테이퍼상의 격벽을 효과적으로 형성할 수 있다.The lower limit of the content of the [A] black pigment, that is, the solid content, to all the components except the solvent [G] in the composition for forming a partition is 0.1% by mass, preferably 0.3% by mass, and 0.5% by mass More preferably, 1.0 mass% is more preferable, and 1.5 mass% is still more preferable. The light-shielding property of the partition obtained by making content of (A) black pigment more than the said minimum can be improved. In particular, the partition light shielding property whose height is 5 micrometers or more can be improved. On the other hand, the upper limit of content of [A] black pigment is 5.0 mass%, 4.5 mass% is preferable, 4.0 mass% is more preferable, 3.5 mass% is more preferable, 3.0 mass% is still more preferable, 2.5 mass% is more preferable, and 2.0 mass% is still more preferable. By making content of the black pigment (A) below the said upper limit, especially when forming a partition with a height, favorable patterning property and sclerosis | hardenability are expressed. In particular, by setting the content of the [A] black pigment to be equal to or less than the above upper limit, the forward tapered partition wall can be effectively formed.
([B] 유기 안료)([B] organic pigment)
[B] 유기 안료는, 흑색 안료 이외의 유기 안료이다. 당해 격벽 형성용 조성물이 [B] 유기 안료를 포함함으로써, 얻어지는 격벽의 차광성을 보다 높일 수 있다.The organic pigment (B) is an organic pigment other than a black pigment. When the said composition for partition formation contains [B] organic pigment, the light shielding property of the partition obtained can be improved more.
[B] 유기 안료로서는, 예를 들어 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트(Pigment)로 분류되고 있는 화합물, 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I) 번호가 붙여져 있는 것을 들 수 있다.[B] As the organic pigment, for example, a compound classified as a pigment in the color index (CI; issued by The Society of Dyers and Colourists), specifically, the color index (CI) number as follows Is attached.
C.I. 피그먼트 옐로우12, C.I. 피그먼트 옐로우13, C.I. 피그먼트 옐로우14, C.I. 피그먼트 옐로우17, C.I. 피그먼트 옐로우20, C.I. 피그먼트 옐로우24, C.I. 피그먼트 옐로우31, C.I. 피그먼트 옐로우55, C.I. 피그먼트 옐로우83, C.I. 피그먼트 옐로우93, C.I. 피그먼트 옐로우109, C.I. 피그먼트 옐로우110, C.I. 피그먼트 옐로우138, C.I. 피그먼트 옐로우139, C.I. 피그먼트 옐로우150, C.I. 피그먼트 옐로우153, C.I. 피그먼트 옐로우154, C.I. 피그먼트 옐로우155, C.I. 피그먼트 옐로우166, C.I. 피그먼트 옐로우168, C.I. 피그먼트 옐로우180, C.I. 피그먼트 옐로우185, C.I. 피그먼트 옐로우211; C.I. 피그먼트 오렌지36, C.I. 피그먼트 오렌지43, C.I. 피그먼트 오렌지51, C.I. 피그먼트 오렌지61, C.I. 피그먼트 오렌지71; C.I. 피그먼트 레드9, C.I. 피그먼트 레드97, C.I. 피그먼트 레드122, C.I. 피그먼트 레드123, C.I. 피그먼트 레드149, C.I. 피그먼트 레드168, C.I. 피그먼트 레드176, C.I. 피그먼트 레드177, C.I. 피그먼트 레드180, C.I. 피그먼트 레드209, C.I. 피그먼트 레드215, C.I. 피그먼트 레드224, C.I. 피그먼트 레드242, C.I. 피그먼트 레드254; C.I. 피그먼트 바이올렛19, 피그먼트 바이올렛23, 피그먼트 바이올렛29; C.I. 피그먼트 블루15, C.I. 피그먼트 블루60, C.I. 피그먼트 블루15:3, C.I. 피그먼트 블루15:4, C.I. 피그먼트 블루15:6; C.I. 피그먼트 그린7, C.I. 피그먼트 그린36, C.I. 피그먼트 그린136, C.I. 피그먼트 그린210; C.I. 피그먼트 브라운23, C.I. 피그먼트 브라운25; C.I. 피그먼트 블랙1, C.I. 피그먼트 블랙7C.I. Pigment Yellow 12, C.I. Pigment Yellow 13, C.I. Pigment Yellow 14, C.I. Pigment Yellow 17, C.I. Pigment Yellow 20, C.I. Pigment Yellow 24, C.I. Pigment Yellow 31, C.I. Pigment Yellow 55, C.I. Pigment Yellow 83, C.I. Pigment Yellow 93, C.I. Pigment Yellow 109, C.I. Pigment Yellow 110, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 153, C.I. Pigment Yellow 154, C.I. Pigment Yellow 155, C.I. Pigment Yellow 166, C.I. Pigment Yellow 168, C.I. Pigment Yellow 180, C.I. Pigment Yellow 185, C.I. Pigment yellow 211; C.I. Pigment Orange 36, C.I. Pigment Orange 43, C.I. Pigment Orange 51, C.I. Pigment Orange 61, C.I. Pigment orange 71; C.I. Pigment Red 9, C.I. Pigment Red 97, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 123, C.I. Pigment Red 149, C.I. Pigment Red 168, C.I. Pigment Red 176, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 180, C.I. Pigment Red 209, C.I. Pigment Red 215, C.I. Pigment Red 224, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment red 254; C.I. Pigment violet 19, pigment violet 23, pigment violet 29; C.I.
[B] 유기 안료는, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. 또한, [B] 유기 안료는, 예를 들어 황산 재결정법, 용제 세정법이나, 이들의 조합 등에 의해 정제해서 사용할 수 있다.The organic pigment (B) may be used alone or in combination of two or more. In addition, the [B] organic pigment can be refine | purified by the sulfuric acid recrystallization method, the solvent washing method, these combinations, etc., for example.
[B] 유기 안료로서는, 자색 안료 및 청색 안료가 바람직하고, 자색 안료 및 청색 안료의 양쪽을 포함하는 것이 보다 바람직하다.As the organic pigment (B), a purple pigment and a blue pigment are preferable, and it is more preferable to include both a purple pigment and a blue pigment.
[B] 유기 안료의 평균 입자 직경의 하한은, 10㎚가 바람직하고, 30㎚가 바람직하고, 50㎚가 보다 바람직하다. 한편, 이 상한은, 500㎚가 바람직하고, 300㎚가 보다 바람직하고, 200㎚가 더욱 바람직하고, 100㎚가 보다 더욱 바람직하다.10 nm is preferable, as for the minimum of the average particle diameter of the organic pigment (B), 30 nm is preferable and 50 nm is more preferable. On the other hand, 500 nm is preferable, 300 nm is more preferable, 200 nm is still more preferable, and this upper limit of this upper limit is more preferable.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서의 [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 [B] 유기 안료의 함유량의 하한으로서는, 1질량%가 바람직하고, 2질량%가 보다 바람직하고, 4질량%가 더욱 바람직하다. [B] 유기 안료의 함유량을 상기 하한 이상으로 함으로써, 얻어지는 격벽의 차광성을 보다 높일 수 있다. 한편, [B] 유기 안료의 함유량의 상한으로서는 40질량%가 바람직하고, 30질량%가 보다 바람직하고, 20질량%가 더욱 바람직하고, 15질량%가 보다 더욱 바람직하고, 10질량%가 보다 더욱 바람직하고, 8질량%가 보다 더욱 바람직하다. [B] 유기 안료의 함유량을 상기 상한 이하로 함으로써, 특히 높이가 있는 격벽을 형성할 때의 패터닝성, 경화성, 얻어지는 격벽의 형상 등이 개선된다.As a minimum of content of the [B] organic pigment with respect to the all components except the [G] solvent in the said composition for partition formation, 1 mass% is preferable, 2 mass% is more preferable, 4 mass% is further more preferable. Do. By making content of (B) organic pigment more than the said minimum, the light-shielding property of the partition obtained can be improved more. On the other hand, as an upper limit of content of the [B] organic pigment, 40 mass% is preferable, 30 mass% is more preferable, 20 mass% is more preferable, 15 mass% is more preferable, 10 mass% is further more Preferably, 8 mass% is more preferable. By making content of the (B) organic pigment below the said upper limit, especially the patterning property at the time of forming a partition with a height, curability, the shape of the partition obtained, etc. improve.
([C] 알칼리 가용성 수지)([C] alkali-soluble resin)
[C] 알칼리 가용성 수지는, 알칼리성의 용액에 가용인 수지이며, 알칼리 현상성을 갖는 수지이다. 당해 격벽 형성용 조성물은, [C] 알칼리 가용성 수지를 함유함으로써, 원하는 형상을 갖는, 높이가 있는 격벽을 용이하게 형성할 수 있다.[C] Alkali-soluble resin is resin which is soluble in alkaline solution, and is resin which has alkali developability. The said partition formation composition can easily form the partition with a height which has a desired shape by containing [C] alkali-soluble resin.
[C] 알칼리 가용성 수지로서는, 1개 이상의 산성기를 포함하는 구조 단위를 갖는 수지인 것이 바람직하다. 산성기로서는, 예를 들어 카르복시기, 산 무수물 기, 페놀성 수산기 및 술포기를 들 수 있다. 이들 중에서도, 산성기로서는, 카르복시기 및 페놀성 수산기가 바람직하고, 카르복시기가 보다 바람직하다.[C] As alkali-soluble resin, it is preferable that it is resin which has a structural unit containing 1 or more acidic group. As an acidic group, a carboxy group, an acid anhydride group, a phenolic hydroxyl group, and a sulfo group are mentioned, for example. Among these, as an acidic group, a carboxyl group and phenolic hydroxyl group are preferable, and a carboxyl group is more preferable.
카르복시기를 갖는 [C] 알칼리 가용성 수지로서는, 특히 1개 이상의 카르복시기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「(a) 카르복시기 함유 불포화 단량체」라고 약칭한다)의 단독 중합체여도 되지만, (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「(b) 공중합성 불포화 단량체」라고 약칭한다)와의 공중합체(이하, 「카르복시기 함유 공중합체」라고 약칭한다)가 바람직하다.As the [C] alkali-soluble resin having a carboxyl group, a homopolymer of an ethylenically unsaturated monomer having one or more carboxyl groups (hereinafter, abbreviated as "(a) carboxyl group-containing unsaturated monomer") may be used, but (a) carboxyl group-containing unsaturated Copolymers with monomers and other copolymerizable ethylenically unsaturated monomers (hereinafter abbreviated as "(b) copolymerizable unsaturated monomers") (hereinafter abbreviated as "carboxyl group-containing copolymer") are preferable.
(a) 카르복시기 함유 불포화 단량체로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로르아크릴산, 신남산 등의 불포화 모노카르복실산; 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산 또는 그의 무수물; 숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 등의 2가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복시기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체는, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.(a) As a carboxyl group-containing unsaturated monomer, For example, unsaturated monocarboxylic acids, such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, (alpha)-chloroacrylic acid, cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids or anhydrides thereof such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride and mesaconic acid; Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] of divalent or more polyvalent carboxylic acid, such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] ester; and mono (meth) acrylates of polymers having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals, such as? -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. (a) A carboxyl group-containing unsaturated monomer can use 1 type (s) or 2 or more types.
(a) 카르복시기 함유 불포화 단량체로서는, (메트)아크릴산, 숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 및 ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트 등이 바람직하고, (메트)아크릴산이 특히 바람직하다.As the (a) carboxyl group-containing unsaturated monomer, (meth) acrylic acid, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, and the like are preferable, and (meth) acrylic acid This is particularly preferred.
[C] 알칼리 가용성 수지에 있어서, (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율의 하한으로서는, 1질량%가 바람직하고, 5질량%가 보다 바람직하다. (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율을 상기 하한 이상으로 함으로써 알칼리 가용성을 높일 수 있다. 한편, 이 공중합 비율의 상한으로서는 50질량%가 바람직하고, 40질량%가 보다 바람직하다. (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율을 상기 상한 이하로 함으로써, 알칼리 현상액에 의해 현상할 때 기판으로부터의 탈락이나 표면의 막 거칠음을 억제하여, 얻어지는 격벽의 형상을 보다양호한 것으로 할 수 있다.[C] Alkali-soluble resin WHEREIN: As a minimum of the copolymerization ratio of (a) carboxyl group-containing unsaturated monomer, 1 mass% is preferable and 5 mass% is more preferable. (a) Alkali solubility can be improved by making the copolymerization ratio of a carboxy group containing unsaturated monomer more than the said minimum. On the other hand, as an upper limit of this copolymerization ratio, 50 mass% is preferable and 40 mass% is more preferable. By setting the copolymerization ratio of the (a) carboxyl group-containing unsaturated monomer below the above upper limit, it is possible to make the shape of the partition wall obtained by suppressing dropping from the substrate and film roughness on the surface when developing with an alkaline developer.
(b) 공중합성 불포화 단량체로서는, 예를 들어(b) As a copolymerizable unsaturated monomer, for example
N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 N-위치 치환 말레이미드;N-position substituted maleimide, such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexyl maleimide;
스티렌, α-메틸스티렌, p-히드록시스티렌, 4-이소프로페닐페놀, 아세나프틸렌 등의 방향족 비닐 화합물;Aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, p-hydroxystyrene, 4-isopropenylphenol and acenaphthylene;
메틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트 등의 알킬(메트)아크릴레이트;Alkyl (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate;
2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메트)아크릴레이트;Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;
비닐(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트 등의 불포화 알코올의 (메트)아크릴산에스테르;(Meth) acrylic acid ester of unsaturated alcohols, such as vinyl (meth) acrylate and allyl (meth) acrylate;
페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 아릴(메트)아크릴레이트;Aryl (meth) acrylates such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate;
시클로헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트 등의 지환식 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르;Alicyclic compounds such as cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate (Meth) acrylic acid ester which has a formula hydrocarbon group;
폴리에틸렌글리콜(중합도 2 내지 10)메틸에테르(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(중합도 2 내지 10)메틸에테르(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(중합도 2 내지 10)모노(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(중합도 2 내지 10)모노(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트 등의 다가 알코올의 (메트)아크릴산에스테르;Polyethylene glycol (polymerization degree 2-10) methyl ether (meth) acrylate, polypropylene glycol (polymerization degree 2-10) methyl ether (meth) acrylate, polyethylene glycol (polymerization degree 2-10) mono (meth) acrylate, polypropylene (Meth) acrylic acid esters of polyhydric alcohols such as glycol (polymerization degree 2 to 10) mono (meth) acrylate and glycerol mono (meth) acrylate;
시클로헥실비닐에테르, 이소보르닐비닐에테르, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일비닐에테르, 펜타시클로펜타데카닐비닐에테르, 3-(비닐옥시메틸)-3-에틸옥세탄 등의 비닐에테르;Cyclohexyl vinyl ether, isobornyl vinyl ether, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-ylvinyl ether, pentacyclopentadedecanylvinyl ether, 3- (vinyloxymethyl) -3-ethyloxetane Vinyl ethers such as these;
4-히드록시페닐(메트)아크릴레이트, 파라쿠밀페놀의 에틸렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 등의 아릴알코올의 (메트)아크릴산에스테르;(Meth) acrylic acid esters of aryl alcohols such as 4-hydroxyphenyl (meth) acrylate and ethylene oxide modified (meth) acrylate of paracumylphenol;
글리시딜(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데실(메트)아크릴레이트 등의 옥시라닐기 또는 옥세타닐기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르; Glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] (Meth) acrylic acid ester which has an oxiranyl group or an oxetanyl group, such as decyl (meth) acrylate;
폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 매크로 모노머 등을 들 수 있다.The macromonomer etc. which have a mono (meth) acryloyl group at the terminal of polymer molecular chains, such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, and polysiloxane, are mentioned.
(b) 공중합성 불포화 단량체로서는, (메트)아크릴산의 에스테르인 것이 바람직하고, 알킬(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다. (b) 공중합성 불포화 단량체는, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.(b) As a copolymerizable unsaturated monomer, it is preferable that it is ester of (meth) acrylic acid, and alkyl (meth) acrylate is more preferable. (b) A copolymerizable unsaturated monomer can use 1 type (s) or 2 or more types.
(b) 공중합성 불포화 단량체로서는, 그 외, 불소를 포함하는 불포화 단량체(후술하는 (c) 불소 함유 불포화 단량체)를 사용할 수 있다. 단, 당해 격벽 형성용 조성물에 있어서, 불소를 포함하지 않는 알칼리 가용성 수지와, 불소를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 병용한 경우, 이 불소를 포함하는 알칼리 가용성 수지는, 후술하는 [F1] 불소 함유 수지로 분류한다. 불소를 포함하지 않는 알칼리 가용성 수지를 사용하지 않고, 불소를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 사용한 경우, 이 불소를 포함하는 알칼리 가용성 수지는, [C] 알칼리 가용성 수지이다.As (b) a copolymerizable unsaturated monomer, the unsaturated monomer containing fluorine ((c) fluorine-containing unsaturated monomer mentioned later) can also be used. However, in the said partition formation composition, when alkali-soluble resin which does not contain fluorine and alkali-soluble resin containing fluorine is used together, alkali-soluble resin containing this fluorine is [F1] fluorine-containing resin mentioned later Classify as When alkali-soluble resin containing fluorine is used without using alkali-soluble resin which does not contain fluorine, alkali-soluble resin containing this fluorine is [C] alkali-soluble resin.
[C] 알칼리 가용성 수지는, (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체 등을 사용하여, 공지된 방법에 의해 중합하는 것으로 얻을 수 있다. [C] 알칼리 가용성 수지는, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.[C] Alkali-soluble resin can be obtained by superposing | polymerizing by a well-known method using (a) carboxy group containing unsaturated monomer. [C] Alkali-soluble resin can use 1 type (s) or 2 or more types.
[C] 알칼리 가용성 수지의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)의 하한으로서는, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정한 값에 있어서, 2,000이 바람직하고, 3,000이 보다 바람직하고, 4,000이 더욱 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는 500,000이 바람직하고, 100,000이 보다 바람직하고, 50,000이 더욱 바람직하다. Mw를 상기 범위로 함으로써, 용매나 현상액에 대한 용해성, 물리적 특성 등을 밸런스 좋게 양호한 상태로 할 수 있다.[C] As a lower limit of the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion of alkali-soluble resin, in the value measured by the gel permeation chromatography (GPC) method, 2,000 is preferable, 3,000 are more preferable, and 4,000 are furthermore desirable. On the other hand, as this upper limit, 500,000 is preferable, 100,000 is more preferable, 50,000 is further more preferable. By making Mw into the said range, the solubility, physical property, etc. with respect to a solvent and a developing solution can be made to be in a favorable state balanced.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서의 [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 [C] 알칼리 가용성 수지의 함유량의 하한으로서는, 10질량%가 바람직하고, 25질량%가 보다 바람직하고, 25질량%가 더욱 바람직하다. 한편, [C] 알칼리 가용성 수지의 함유량의 상한으로서는 60질량%가 바람직하고, 50질량%가 보다 바람직하고, 40질량%가 더욱 바람직하고, 30질량%가 보다 더욱 바람직하다. [C] 알칼리 가용성 수지의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 특히 높이가 있는 격벽을 형성할 때의 패터닝성, 경화성, 얻어지는 격벽의 형상 등이 개선된다.As a minimum of content of [C] alkali-soluble resin with respect to all the components except [G] solvent in the said partition formation composition, 10 mass% is preferable, 25 mass% is more preferable, 25 mass% is further desirable. On the other hand, as an upper limit of content of [C] alkali-soluble resin, 60 mass% is preferable, 50 mass% is more preferable, 40 mass% is more preferable, 30 mass% is still more preferable. By making content of (C) alkali-soluble resin into the said range, especially the patterning property at the time of forming a partition with a height, curability, the shape of the partition obtained, etc. improve.
([D] 중합성 화합물)([D] polymerizable compound)
[D] 중합성 화합물은, 1 또는 2 이상의 중합성기를 갖는 화합물을 말한다. 단, 중합성기를 갖는 [C] 알칼리 가용성 수지 및 중합성기를 갖는 [F] 불소 함유 화합물은 제외된다. [D] 중합성 화합물은, 2 이상의 중합성기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다. [D] 중합성 화합물은, 중합체여도 되고, 단량체여도 되지만, 단량체인 것이 바람직하다.The polymerizable compound [D] refers to a compound having one or two or more polymerizable groups. However, [C] alkali-soluble resin which has a polymeric group, and [F] fluorine-containing compound which has a polymeric group is excluded. [D] The polymerizable compound is preferably a compound having two or more polymerizable groups. The polymerizable compound (D) may be a polymer or a monomer, but is preferably a monomer.
중합성기로서는, 예를 들어 에틸렌성 불포화기, 옥시라닐기, 옥세타닐기, N-알콕시메틸아미노기 등을 들 수 있다. [D] 중합성 화합물로서는, 2 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물 및 2 이상의 N-알콕시메틸아미노기를 갖는 화합물이 바람직하고, 2 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 보다 바람직하다.As a polymerizable group, an ethylenically unsaturated group, an oxiranyl group, an oxetanyl group, an N-alkoxy methylamino group, etc. are mentioned, for example. As the polymerizable compound (D), a compound having two or more (meth) acryloyl groups and a compound having two or more N-alkoxymethylamino groups is preferable, and a compound having two or more (meth) acryloyl groups is more preferable.
2 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물로서는, 2관능 (메트)아크릴산에스테르나, 3관능 이상의 (메트)아크릴산에스테르 등의 다관능 (메트)아크릴산에스테르를 예시할 수 있다.As a compound which has two or more (meth) acryloyl groups, polyfunctional (meth) acrylic acid ester, such as a bifunctional (meth) acrylic acid ester and a trifunctional or more (meth) acrylic acid ester, can be illustrated.
2관능 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 1,9-노난디올디아크릴레이트, 1,9-노난디올디메타크릴레이트 등을 들 수 있다.As a bifunctional (meth) acrylic acid ester, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene Glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,9-nonanediol diacryl The rate, 1, 9- nonane diol dimethacrylate, etc. are mentioned.
3관능 이상의 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와의 혼합물, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 트리(2-아크릴로일옥시에틸)포스페이트, 트리(2-메타크릴로일옥시에틸)포스페이트, 숙신산 변성 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 숙신산 변성 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 외에, 직쇄 알킬렌기 및 지환식 구조를 갖고, 또한 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과, 분자 내에 1개 이상의 히드록시기를 갖고, 또한 3개, 4개 또는 5개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물과 반응시켜서 얻어지는 다관능 우레탄 아크릴레이트계 화합물 등을 들 수 있다.As (meth) acrylic acid ester more than trifunctional, for example, trimethylol propane triacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, Pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate Mixture, dipentaerythritol hexamethacrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol hexaacrylate, tri (2-acryloyloxyethyl) phosphate, tri (2-methacryloyloxyethyl) phosphate, succinic acid modified penta Erythritol triacrylate, succinic acid modified dipentaerythritol pen In addition to the acrylate, a compound having a linear alkylene group and an alicyclic structure and also having two or more isocyanate groups, one or more hydroxy groups in a molecule, and three, four or five (meth) acryloyloxy groups The polyfunctional urethane acrylate type compound etc. which are obtained by making it react with the compound which has can be mentioned.
2 이상의 N-알콕시메틸아미노기를 갖는 화합물로서는, 예를 들어 멜라민 구조, 벤조구아나민 구조 또는 우레아 구조를 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 멜라민 구조 또는 벤조구아나민 구조란, 1 이상의 트리아진환 또는 페닐 치환 트리아진환을 기본 골격으로서 갖는 화학 구조를 말하며, 멜라민, 벤조구아나민 또는 그들의 축합물도 포함하는 개념이다. 2 이상의 N-알콕시메틸아미노기를 갖는 화합물의 구체예로서는, N,N,N',N',N",N"-헥사(알콕시메틸)멜라민, N,N,N',N'-테트라(알콕시메틸)벤조구아나민, N,N,N',N'-테트라(알콕시메틸)글리콜우릴 등을 들 수 있다.As a compound which has two or more N-alkoxy methylamino groups, the compound etc. which have a melamine structure, a benzoguanamine structure, or a urea structure are mentioned, for example. Melamine structure or benzoguanamine structure means the chemical structure which has one or more triazine ring or a phenyl substituted triazine ring as a basic skeleton, and is a concept including melamine, benzoguanamine, or their condensate. Specific examples of the compound having two or more N-alkoxymethylamino groups include N, N, N ', N', N ", N" -hexa (alkoxymethyl) melamine, N, N, N ', N'-tetra (alkoxy Methyl) benzoguanamine, N, N, N ', N'- tetra (alkoxy methyl) glycoluril, etc. are mentioned.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서의 [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 [D] 중합성 화합물의 함유량의 하한으로서는, 20질량%가 바람직하고, 30질량%가 보다 바람직하고, 40질량%가 더욱 바람직하다. 한편, [D] 중합성 화합물의 함유량의 상한으로서는 80질량%가 바람직하고, 70질량%가 보다 바람직하고, 60질량%가 더욱 바람직하다. [D] 중합성 화합물의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 특히 높이가 있는 격벽을 형성할 때의 패터닝성, 경화성, 얻어지는 격벽의 형상 등이 개선된다.As a minimum of content of the [D] polymeric compound with respect to all the components except the [G] solvent in the said partition formation composition, 20 mass% is preferable, 30 mass% is more preferable, 40 mass% is further desirable. On the other hand, as an upper limit of content of a [D] polymeric compound, 80 mass% is preferable, 70 mass% is more preferable, and 60 mass% is further more preferable. By making content of a polymeric compound (D) into the said range, especially the patterning property at the time of forming a partition with a height, curability, the shape of the partition obtained, etc. improve.
[D] 중합성 화합물의 함유량(MD)에 대한 [C] 알칼리 가용성 수지의 함유량(MC)의 질량비(MC/MD)의 하한으로서는, 0.3이 바람직하고, 0.4가 보다 바람직하고, 0.5가 더욱 바람직하다. 한편, 이 질량비(MC/MD)의 상한으로서는 2.0이 바람직하고, 1.5가 보다 바람직하고, 1.0이 더욱 바람직하다. 질량비(MC/MD)를 상기 범위 내로 함으로써, 패터닝성, 경화성, 현상성 등의 밸런스가 적합화되며, 특히 높이가 있는 격벽을 형성할 때, 그 형상 등이 보다 양호한 것이 된다.[D] As the lower limit of the mass ratio (M C / M D) of the [C] content of the alkali-soluble resin to the content (M D) of the polymerizable compound (M C), 0.3 is preferable, and 0.4 is more preferred, 0.5 is more preferred. On the other hand, as the upper limit of the mass ratio (C M / D M) 2.0 is preferable, and 1.5 is more preferable, and 1.0 is more preferred. By into the mass ratio (C M / D M) above range, the patterning property, curability, and the balance of the screen, such as developability suitable, in particular when forming the barrier rib with a height, and it is better than the shape and the like.
([E] 광중합 개시제)([E] photopolymerization initiator)
[E] 광중합 개시제는, 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 방사선의 노광에 의해, [D] 중합성 화합물의 중합을 개시할 수 있는 활성종을 발생하는 화합물이다. [E] 광중합 개시제는, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다. [D] 광중합 개시제로서는, 옥심에스테르 화합물, 아세토페논 화합물, 비이미다졸 화합물 등을 들 수 있다.The photopolymerization initiator (E) is a compound that generates an active species capable of initiating polymerization of the polymerizable compound [D] by exposure to radiation such as visible light, ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, or X-ray. [E] A photoinitiator can use 1 type (s) or 2 or more types. [D] As the photopolymerization initiator, an oxime ester compound, an acetophenone compound, a biimidazole compound, etc. may be mentioned.
옥심에스테르 화합물로서는, O-아실옥심 화합물이 대표적이며, 구체적으로는, 예를 들어 1,2-옥탄디온1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 1-(9-에틸-6-벤조일-9.H.-카르바졸-3-일)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-n-부틸-6-(2-에틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로푸라닐벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심), 에타논-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)메톡시벤조일}-9.H.-카르바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심) 등을 들 수 있다.As an oxime ester compound, O-acyl oxime compound is typical, For example, 1,2-octanedione 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyl oxime)], ethanone- 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), 1- (9-ethyl-6-benzoyl-9.H. -Carbazol-3-yl) -octane-1-onoxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane -1-onoxime-O-benzoate, 1- [9-n-butyl-6- (2-ethylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-onoxime-O -Benzoate, ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime ), Ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), Ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone -1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybene Joyl} -9.H.-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) etc. are mentioned.
옥심에스테르 화합물로서는, WO2016/017537호, 일본특허공개 제2015-93842호 공보, WO2012/132558호, 일본특허공개 제2011-132215호 공보, WO2009/081483호, WO2008/078686호, 일본특허공개 제2008-100955호 공보에 기재된 화합물을 사용할 수 있다.As an oxime ester compound, WO2016 / 017537, Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-93842, WO2012 / 132558, Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-132215, WO2009 / 081483, WO2008 / 078686, Japanese Patent Laid-Open No. 2008 The compound described in -100955 can be used.
옥심에스테르 화합물의 시판품으로서는, 예를 들어 NCI-831, NCI-930(이상, 가부시키가이샤 ADEKA사제), DFI-020, DFI-091(이상, 다이토케믹스 가부시키가이샤제) 이르가큐어 OXE01, OXE02, OXE03(이상, BASF사제) 등을 사용할 수도 있다.As a commercial item of an oxime ester compound, For example, NCI-831, NCI-930 (above, ADEKA Corporation make), DFI-020, DFI-091 (above, Daito Chemicals Co., Ltd.) Irgacure OXE01, OXE02, OXE03 (above, BASF Corporation), etc. can also be used.
아세토페논 화합물로서는, 예를 들어 α-아미노케톤 화합물, α-히드록시케톤 화합물 등을 들 수 있다.As an acetophenone compound, the (alpha)-amino ketone compound, the (alpha)-hydroxy ketone compound, etc. are mentioned, for example.
α-아미노케톤 화합물로서는, 예를 들어 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온 등을 들 수 있다.As an α-amino ketone compound, for example, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl)- 1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, etc. are mentioned. .
α-히드록시케톤 화합물로서는, 예를 들어 1-페닐-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등을 들 수 있다.As an α-hydroxy ketone compound, for example, 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one and 1- (4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane- 1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, etc. are mentioned.
비이미다졸 화합물로서는, 예를 들어 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.As a biimidazole compound, it is 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'- tetraphenyl- 1,2'-biimidazole, 2,2'-bis, for example. (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole or 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, etc. are mentioned.
[E] 광중합 개시제로서는, 이들 중에서도 옥심에스테르 화합물이 바람직하다.As a photoinitiator (E), an oxime ester compound is preferable among these.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서의 [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 [E] 광중합 개시제의 함유량의 하한으로서는, 1질량%가 바람직하고, 2질량%가 보다 바람직하다. 한편, [E] 광중합 개시제의 함유량의 상한으로서는 15질량%가 바람직하고, 10질량%가 보다 바람직하다. [E] 광중합 개시제의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 특히 높이가 있는 격벽을 형성할 때의 패터닝성, 경화성, 얻어지는 격벽의 형상 등이 개선된다.As a minimum of content of the [E] photoinitiator with respect to the all components except the [G] solvent in the said partition formation composition, 1 mass% is preferable and 2 mass% is more preferable. On the other hand, as an upper limit of content of the [E] photoinitiator, 15 mass% is preferable and 10 mass% is more preferable. By making content of the (E) photoinitiator into the said range, especially the patterning property at the time of forming a partition with a height, curability, the shape of the partition obtained, etc. improve.
([F] 불소 함유 화합물)([F] fluorine-containing compound)
[F] 불소 함유 화합물은, 불소 원자를 포함하는 화합물이다. 당해 격벽 형성용 조성물이 [F] 불소 함유 화합물을 함유함으로써, 얻어지는 격벽의 발액성을 높일 수 있다. 격벽의 발액성이 높은 경우, 격벽 사이의 영역에 도포에 의해 파장 변환층 등의 층을 형성할 때의 도포성을 높이는 것 등이 가능하다. [F] 불소 함유 화합물은, 수지(중합체)여도 되고, 수지 이외여도 된다. [F] 불소 함유 화합물로서는, [F1] 불소 함유 수지 및 [F2] 불소 함유 계면 활성제가 바람직하고, [F1] 불소 함유 수지가 보다 바람직하다. [F] 불소 함유 화합물은, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.[F] The fluorine-containing compound is a compound containing a fluorine atom. When the said composition for partition formation contains a [F] fluorine-containing compound, the liquid repellency of the partition obtained can be improved. When liquid repellency of a partition is high, it is possible to improve the applicability | paintability at the time of forming layers, such as a wavelength conversion layer, by application | coating to the area | region between partitions. [F] The fluorine-containing compound may be a resin (polymer) or may be other than resin. As the [F] fluorine-containing compound, [F1] fluorine-containing resin and [F2] fluorine-containing surfactant are preferable, and [F1] fluorine-containing resin is more preferable. [F] A fluorine-containing compound can use 1 type (s) or 2 or more types.
([F1] 불소 함유 수지)([F1] fluorine-containing resin)
[F1] 불소 함유 수지는, 불소 원자를 포함하는 수지이다. [F1] 불소 함유 수지는, 불소를 포함하는 구조 단위를 갖는 수지인 것이 바람직하다. [F1] 불소 함유 수지는, 불소를 포함하는 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「(c) 불소 함유 불포화 단량체」라고 생략한다)의 단독 중합체여도 되고, (c) 불소 함유 불포화 단량체와 다른 (d) 공중합성 불포화 단량체와의 공중합체여도 된다.[F1] The fluorine-containing resin is a resin containing a fluorine atom. [F1] The fluorine-containing resin is preferably a resin having a structural unit containing fluorine. [F1] The fluorine-containing resin may be a homopolymer of fluorine-containing ethylenically unsaturated monomer (hereinafter referred to as "(c) fluorine-containing unsaturated monomer"), and (c) different from the fluorine-containing unsaturated monomer (d). The copolymer with a copolymerizable unsaturated monomer may be sufficient.
(c) 불소 함유 불포화 단량체는, 불소를 포함하는 기를 갖는 것이 바람직하다. 불소를 포함하는 기로서는, 적어도 하나의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄화수소기를 들 수 있고, 적어도 하나의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1 이상 20 이하의 알킬기 및 적어도 하나의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 4 이상 20 이하의 1가의 시클로알킬기가 바람직하고, 적어도 하나의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1 이상 20 이하의 알킬기가 보다 바람직하다.(c) It is preferable that a fluorine-containing unsaturated monomer has group containing fluorine. Examples of the group containing fluorine include a hydrocarbon group in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom, and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom and 4 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom. 20 or more monovalent cycloalkyl group is preferable, and the C1-C20 alkyl group in which at least 1 hydrogen atom was substituted by the fluorine atom is more preferable.
불소를 포함하는 기의 탄소수의 하한으로서는, 4가 바람직하고, 6이 보다 바람직하다. 이의 상한으로서는 16이 바람직하고, 12가 보다 바람직하다. 불소를 포함하는 기의 불소수의 하한은 1이지만, 3이 바람직하고, 5가 보다 바람직하다. 이의 상한으로서는 예를 들어 30이고, 20이면 된다.As a minimum of carbon number of the group containing fluorine, 4 is preferable and 6 is more preferable. As an upper limit of this, 16 is preferable and 12 is more preferable. Although the minimum of fluorine number of the group containing fluorine is 1, 3 is preferable and 5 is more preferable. As an upper limit thereof, it is 30, for example, 20 may be sufficient.
적어도 하나의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 1 이상 20 이하의 알킬기로서는, 상술한 알킬기 중 탄소수가 1 이상 20 이하인 것에 있어서의 수소 원자의 적어도 하나가 불소 원자로 치환된 부분 불소화 알킬기, 퍼플루오로알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom include a partially fluorinated alkyl group and a perfluoroalkyl group in which at least one of the hydrogen atoms in the above-mentioned alkyl group has 1 to 20 carbon atoms. Can be mentioned.
적어도 하나의 수소 원자가 불소 원자로 치환된 탄소수 4 이상 20 이하의 1가의 시클로알킬기로서는, 상술한 시클로알킬기 중 탄소수가 4 이상 20 이하인 것에 있어서의 수소 원자의 적어도 하나가 불소 원자로 치환된 부분 불소화 시클로알킬기, 퍼플루오로시클로알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the monovalent cycloalkyl group having 4 to 20 carbon atoms in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom include a partially fluorinated cycloalkyl group in which at least one of the hydrogen atoms in the above-mentioned cycloalkyl group has 4 to 20 carbon atoms, substituted with a fluorine atom, Perfluoro cycloalkyl group etc. are mentioned.
(c) 불소 함유 불포화 단량체로서는, 트리플루오로메틸(메트)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로n-프로필(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로이소프로필(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로n-부틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로이소부틸(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로tert-부틸(메트)아크릴레이트, 2-(1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로필)(메트)아크릴레이트, 1-(2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로펜틸)(메트)아크릴레이트, 퍼플루오로시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 1-(2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필)(메트)아크릴레이트, 1-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-헵타데카플루오로데실)(메트)아크릴레이트, 1-(5-트리플루오로메틸-3,3,4,4,5,6,6,6-옥타플루오로헥실)(메트)아크릴레이트, 1H,1H,2H,2H-트리데카플루오로옥틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산불소화탄화수소 에스테르 등을 들 수 있다. 이들은, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.(c) As the fluorine-containing unsaturated monomer, trifluoromethyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, perfluoroethyl (meth) acrylate, perfluoro n- Propyl (meth) acrylate, perfluoroisopropyl (meth) acrylate, perfluoro n-butyl (meth) acrylate, perfluoroisobutyl (meth) acrylate, perfluoro tert-butyl (meth) Acrylate, 2- (1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl) (meth) acrylate, 1- (2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoro Lopentyl) (meth) acrylate, perfluorocyclohexylmethyl (meth) acrylate, 1- (2,2,3,3,3-pentafluoropropyl) (meth) acrylate, 1- (3, 3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl) (meth) acrylate, 1- (5-tri Fluoromethyl-3,3,4,4,5,6,6,6-octafluorohexyl) (meth) acrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluorooctyl (meth ) (Meth such as acrylate), and the like fluorinated hydrocarbon acrylate ester. These can use 1 type (s) or 2 or more types.
[F1] 불소 함유 수지에 있어서, (c) 불소 함유 불포화 단량체의 공중합 비율의 하한으로서는, 5질량%가 바람직하고, 10질량%가 보다 바람직하고, 30질량%가 더욱 바람직하다. 한편, 이 공중합 비율의 상한으로서는 80질량%가 바람직하고, 60질량%가 보다 바람직하고, 40질량%가 더욱 바람직하다.[F1] In fluorine-containing resin, as a minimum of the copolymerization ratio of (c) fluorine-containing unsaturated monomer, 5 mass% is preferable, 10 mass% is more preferable, 30 mass% is further more preferable. On the other hand, as an upper limit of this copolymerization ratio, 80 mass% is preferable, 60 mass% is more preferable, 40 mass% is further more preferable.
(d) 공중합성 불포화 단량체로서는, 상술한 (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체, (b) 공중합성 불포화 단량체 등을 들 수 있다.(d) As a copolymerizable unsaturated monomer, the above-mentioned (a) carboxyl group-containing unsaturated monomer, (b) copolymerizable unsaturated monomer, etc. are mentioned.
(d) 공중합성 불포화 단량체 중에서도, (메트)아크릴산 등, (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. [F1] 불소 함유 수지에 있어서, (a) 카르복시기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율은, 예를 들어 1질량% 이상 30질량% 이하가 바람직하다.Among the (d) copolymerizable unsaturated monomers, it is preferable to use (a) carboxyl group-containing unsaturated monomers such as (meth) acrylic acid. [F1] In the fluorine-containing resin, the copolymerization ratio of the (a) carboxyl group-containing unsaturated monomer is preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less, for example.
또한, (d) 공중합성 불포화 단량체로서는, 옥시라닐기 또는 옥세타닐기를 갖는 불포화 단량체도 바람직하다. 이러한 불포화 단량체로서는, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 상술한 옥시라닐기 또는 옥세타닐기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다. [F1] 불소 함유 수지에 있어서, 옥시라닐기 또는 옥세타닐기를 갖는 불포화 단량체의 공중합 비율은, 예를 들어 10질량% 이상 50질량% 이하가 바람직하다.Moreover, as (d) copolymerizable unsaturated monomer, the unsaturated monomer which has an oxiranyl group or an oxetanyl group is also preferable. As such an unsaturated monomer, the (meth) acrylic acid ester etc. which have the above-mentioned oxiranyl group or oxetanyl group, such as glycidyl (meth) acrylate, are mentioned. [F1] In the fluorine-containing resin, the copolymerization ratio of the unsaturated monomer having an oxiranyl group or an oxetanyl group is preferably, for example, 10 mass% or more and 50 mass% or less.
(d) 공중합성 불포화 단량체로서는, 수산기를 갖는 불포화 단량체도 바람직하다. 이러한 불포화 단량체로서는, 4-이소프로페닐페놀, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트 등의 상술한 (b) 공중합성 불포화 단량체 중에서, 수산기를 갖는 화합물을 들 수 있다. [F1] 불소 함유 수지에 있어서, 수산기를 갖는 불포화 단량체의 공중합 비율은, 예를 들어 5질량% 이상 30질량% 이하가 바람직하다.(d) As a copolymerizable unsaturated monomer, the unsaturated monomer which has a hydroxyl group is also preferable. As such an unsaturated monomer, the compound which has a hydroxyl group is mentioned among the above-mentioned (b) copolymerizable unsaturated monomers, such as 4-isopropenyl phenol and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. [F1] In the fluorine-containing resin, the copolymerization ratio of the unsaturated monomer having a hydroxyl group is preferably 5 mass% or more and 30 mass% or less, for example.
[F1] 불소 함유 수지는, (c) 불소 함유 불포화 단량체 등을 사용하여, 공지된 방법에 의해 중합하는 것으로 얻을 수 있다. [F1] 불소 함유 수지의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)의 하한으로서는, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정한 값에 있어서, 2,000이 바람직하고, 3,000이 보다 바람직하고, 4,000이 더욱 바람직하다. 한편, 이 상한으로서는 100,000이 바람직하고, 50,000이 보다 바람직하고, 20,000이 더욱 바람직하다.[F1] The fluorine-containing resin can be obtained by polymerization by a known method using (c) a fluorine-containing unsaturated monomer or the like. As a minimum of the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion of [F1] fluorine-containing resin, in the value measured by the gel permeation chromatography (GPC) method, 2,000 is preferable, 3,000 is more preferable, and 4,000 are furthermore desirable. On the other hand, as this upper limit, 100,000 is preferable, 50,000 is more preferable, and 20,000 is further more preferable.
([F2] 불소 함유 계면 활성제)([F2] fluorine-containing surfactant)
[F2] 불소계 계면 활성제로서는, 말단, 주쇄 및 측쇄의 적어도 어느 것의 부위에 플루오로알킬기 및/또는 플루오로알킬렌기를 갖는 화합물이 바람직하다. 불소계 계면 활성제로서는, 예를 들어 1,1,2,2-테트라플루오로n-옥틸(1,1,2,2-테트라플루오로n-프로필)에테르, 1,1,2,2-테트라플루오로n-옥틸(n-헥실)에테르, 헥사에틸렌글리콜디(1,1,2,2,3,3-헥사플루오로n-펜틸)에테르, 옥타에틸렌글리콜디(1,1,2,2-테트라플루오로n-부틸)에테르, 헥사프로필렌글리콜디(1,1,2,2,3,3-헥사플루오로n-펜틸)에테르, 옥타프로필린글리콜디(1,1,2,2-테트라플루오로n-부틸)에테르, 퍼플루오로n-도데칸술폰산나트륨, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로n-데칸, 1,1,2,2,3,3,9,9,10,10-데카플루오로n-도데칸, 플루오로알킬벤젠술폰산나트륨, 플루오로알킬인산나트륨, 플루오로알킬카르복실산나트륨, 디글리세린테트라키스(플루오로알킬폴리옥시에틸렌에테르), 플루오로알킬암모늄요오드, 플루오로알킬베타인, 플루오로알킬폴리옥시에틸렌에테르, 퍼플루오로알킬폴리옥시에탄올, 퍼플루오로알킬알콕실레이트, 카르복실산플루오로알킬에스테르 등을 들 수 있다.[F2] As the fluorine-based surfactant, a compound having a fluoroalkyl group and / or a fluoroalkylene group in at least one of the terminal, the main chain and the side chain is preferable. As the fluorine-based surfactant, for example, 1,1,2,2-tetrafluoro n-octyl (1,1,2,2-tetrafluoro n-propyl) ether, 1,1,2,2-tetrafluoro N-octyl (n-hexyl) ether, hexaethylene glycol di (1,1,2,2,3,3-hexafluoro n-pentyl) ether, octaethylene glycol di (1,1,2,2- Tetrafluoro n-butyl) ether, hexapropylene glycol di (1,1,2,2,3,3-hexafluoro n-pentyl) ether, octapropylin glycoldi (1,1,2,2-tetra Fluoro n-butyl) ether, perfluoro n-dodecanesulfonate, 1,1,2,2,3,3-hexafluoro n-decane, 1,1,2,2,3,3,9 , 9,10,10-decafluoro n-dodecane, sodium fluoroalkylbenzenesulfonate, sodium fluoroalkyl phosphate, sodium fluoroalkyl carboxylate, diglycerin tetrakis (fluoroalkylpolyoxyethylene ether), Fluoroalkylammonium iodine, fluoroalkylbetaine, fluoroalkylpolyoxyethylene ether, perfluoroalkylpol Reoxyethanol, a perfluoroalkyl alkoxylate, carboxylic acid fluoroalkyl ester, etc. are mentioned.
[F2] 불소계 계면 활성제의 시판품으로서는, 예를 들어 BM-1000, BM-1100(이상, BM CHEMIE사), F-142D, F-172, F-173, F-183, F-178, F-191, F-471, F-476, F-554(이상, DIC사), 플루오라드 FC-170C, 플루오라드 FC-171, 플루오라드 FC-430, 플루오라드 FC-431(이상, 스미또모 쓰리엠사), 서플론 S-112, 서플론 S-113, 서플론 S-131, 서플론 S-141, 서플론 S-145, 서플론 S-382, 서플론 SC-101, 서플론 SC-102, 서플론 SC-103, 서플론 SC-104, 서플론 SC-105, 서플론 SC-106(이상, 아사히 가라스사) 등을 들 수 있다.As a commercial item of the [F2] fluorine-based surfactant, for example, BM-1000, BM-1100 (above, BM CHEMIE Co., Ltd.), F-142D, F-172, F-173, F-183, F-178, and F- 191, F-471, F-476, F-554 (above, DIC Corporation), Fluoride FC-170C, Fluoride FC-171, Fluoride FC-430, Fluoride FC-431 (or more, Sumitomo 3M Corporation ), Suplon S-112, Suplon S-113, Suplon S-131, Suplon S-141, Suplon S-145, Suplon S-382, Suplon SC-101, Suplon SC-102, Suplon SC-103, Suplon SC-104, Suplon SC-105, Suplon SC-106 (above, Asahi Glass Company), etc. are mentioned.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서의 [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 [F] 불소 함유 화합물의 함유량의 하한으로서는, 0.1질량%가 바람직하고, 1질량%가 보다 바람직하고, 3질량%가 더욱 바람직하고, 5질량%가 보다 더욱 바람직하다. [F] 불소 함유 화합물의 함유량을 상기 하한 이상으로 함으로써, 얻어지는 격벽의 발액성을 보다 충분히 발휘할 수 있다. 한편, [F] 불소 함유 화합물의 함유량의 상한으로서는 30질량%가 바람직하고, 15질량%가 보다 바람직하다.As a minimum of content of the [F] fluorine-containing compound with respect to all the components except the [G] solvent in the said partition formation composition, 0.1 mass% is preferable, 1 mass% is more preferable, 3 mass% is further Preferably, 5 mass% is more preferable. By making content of a [F] fluorine-containing compound more than the said minimum, the liquid repellency of the partition obtained can be exhibited more fully. On the other hand, as an upper limit of content of a [F] fluorine-containing compound, 30 mass% is preferable and 15 mass% is more preferable.
([G] 용매)([G] solvent)
[G] 용매는, 상기 [A] 내지 [F] 성분이나 그 밖의 성분을 분산 또는 용해하고, 또한 이들 성분과 반응하지 않고, 알맞은 휘발성을 갖는 것인 한, 적절하게 선택해서 사용할 수 있다.The solvent [G] can be appropriately selected and used as long as it disperses or dissolves the components [A] to [F] and other components, and does not react with these components and has appropriate volatility.
[G] 용매로서는, 예를 들어As the solvent [G], for example,
에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르; Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n -Propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene Glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tri (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monoethyl ether;
락트산메틸, 락트산에틸 등의 락트산알킬에스테르;Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;
메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 이소프로판올, 이소부탄올, t-부탄올, 옥탄올, 2-에틸헥산올, 시클로헥산올 등의 (시클로)알킬알코올;(Cyclo) alkyl alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, isopropanol, isobutanol, t-butanol, octanol, 2-ethylhexanol and cyclohexanol;
디아세톤알코올 등의 케토알코올;Keto alcohols such as diacetone alcohol;
에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트;Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as acetate, 3-methoxybutyl acetate and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;
디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 글리콜에테르;Glycol ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methylethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran;
메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤;Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone;
프로필렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산디올디아세테이트 등의 디아세테이트;Diacetates such as propylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate and 1,6-hexanediol diacetate;
3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트 등의 알콕시카르복실산에스테르;Alkoxy carboxyl, such as 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethylpropionate, 3-ethoxy ethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, ethyl ethoxy acetate, and 3-methyl-3- methoxy butyl propionate Acid esters;
아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산i-프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산i-부틸, 포름산n-아밀, 아세트산i-아밀, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산i-프로필, 부티르산n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸등의 지방산 알킬에스테르;Ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl acetate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate Fatty acid alkyl esters such as n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutanoate;
톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소;Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;
N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드, 또는 락탐 등을 들 수 있다.Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, or lactams.
[G] 용매로서는, 용해성, 분산성, 도포성 등의 관점에서, (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트가 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트가 보다 바람직하다. [G] 용매는, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.[G] As the solvent, from the viewpoint of solubility, dispersibility, applicability, and the like, (poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetate is preferable, and propylene glycol monomethyl ether acetate is more preferable. [G] A solvent can use 1 type (s) or 2 or more types.
[G] 용매의 함유량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, [G] 용매를 제외한 전체 성분의 합계 함유량이, 5질량% 이상 70질량% 이하가 되는 양이 바람직하고, 10질량% 이상 60질량% 이하가 되는 양이 보다 바람직하다. 이러한 형태로 함으로써, 당해 격벽 형성용 조성물의 도포성, 보존 안정성 등을 보다 양호하게 할 수 있다.Although content of the solvent [G] is not specifically limited, The quantity which the total content of all the components except the [G] solvent becomes 5 mass% or more and 70 mass% or less is preferable, and 10 mass% or more and 60 mass% or less The amount to become more preferable. By setting it as such a form, the applicability | paintability of the said composition for partition formation, storage stability, etc. can be made more favorable.
(분산제)(Dispersant)
당해 격벽 형성용 조성물은, 분산제를 더 포함하고 있어도 된다. 당해 격벽 형성용 조성물이 분산제를 더 포함함으로써, [A] 흑색 안료 및 [B] 유기 안료의 분산성이 향상되어, 얻어지는 격벽의 차광성 등을 보다 높일 수 있다.The said partition formation composition may further contain the dispersing agent. When the said composition for partition formation further contains a dispersing agent, the dispersibility of [A] black pigment and [B] organic pigment improves, and the light-shielding property of the partition obtained can be improved more.
분산제로서는, 예를 들어 우레탄계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르계 분산제, 폴리에틸렌글리콜디에스테르계 분산제, 소르비탄 지방산에스테르계 분산제, 폴리에스테르계 분산제, (메트)아크릴계 분산제, 인산에스테르계 분산제 등을 들 수 있다.Examples of the dispersant include urethane dispersants, polyethyleneimine dispersants, polyoxyethylene alkyl ether dispersants, polyoxyethylene alkylphenyl ether dispersants, polyethylene glycol diester dispersants, sorbitan fatty acid ester dispersants, polyester dispersants, (Meth) acrylic-type dispersing agent, a phosphate ester type dispersing agent, etc. are mentioned.
분산제의 시판품으로서는, 예를 들어 Disperbyk-2000, Disperbyk-2001, Disperbyk-182, Disperbyk-184, BYKLPN6919, BYK-LPN21116(이상, 빅 케미(BYK)사) 등의 (메트)아크릴계 분산제, Disperbyk-161, Disperbyk-162, Disperbyk-165, Disperbyk-167, Disperbyk-170, Disperbyk-182(이상, 빅 케미(BYK)사), 솔스퍼스 76500(루브리졸사) 등의 우레탄계 분산제, 솔스퍼스 24000(루브리졸사) 등의 폴리에틸렌이민계 분산제, 아지스퍼 PB821, 아지스퍼 PB822, 아지스퍼 PB880, 아지스퍼 PB881(이상, 아지노모또 파인테크노사) 등의 폴리에스테르계 분산제, Disperbyk-110, Disperbyk-180 등의 인산에스테르계 분산제 외에, BYK-LPN21324(빅 케미(BYK)사)를 사용할 수 있다.As a commercial item of a dispersing agent, (meth) acrylic-type dispersing agents, such as Disperbyk-2000, Disperbyk-2001, Disperbyk-182, Disperbyk-184, BYKLPN6919, BYK-LPN21116 (above, BYK Corporation), Disperbyk-161, for example. Urethane dispersants such as, Disperbyk-162, Disperbyk-165, Disperbyk-167, Disperbyk-170, Disperbyk-182 (above, Big Chemie (BYK)), Solsperth 76500 (Lubric Sol), Solsperth 24000 (Lubric Polyethylenimine dispersants such as Zolsa), polyester dispersants such as Azisper PB821, Azisper PB822, Azisper PB880, Azisper PB881 (above, Ajinomoto Fine Techno Co.), Disperbyk-110, Disperbyk-180, etc. In addition to the phosphate ester dispersant, BYK-LPN21324 (BYK Corporation) can be used.
분산제로서는, (메트)아크릴계 분산제, 인산에스테르계 분산제, 우레탄계 분산제 및 폴리에스테르계 분산제가 바람직하고, (메트)아크릴계 분산제가 보다 바람직하다. 또한, 분산제는, 아민가가 10 내지 100mgKOH/g인 것이 바람직하다. 「아민가」란, 고형분 1g을 중화하는데 필요한 HCl과 당량의 KOH의 ㎎수를 나타낸다.As a dispersing agent, a (meth) acrylic-type dispersing agent, a phosphate ester-type dispersing agent, a urethane-type dispersing agent, and a polyester-type dispersing agent are preferable, and a (meth) acrylic-type dispersing agent is more preferable. In addition, the dispersant preferably has an amine number of 10 to 100 mgKOH / g. "Amine value" represents the number of mg of HCl and equivalent KOH required to neutralize 1 g of solid content.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서의 [A] 흑색 안료 및 [B] 유기 안료의 합계 100질량부에 대한 분산제의 함유량의 하한으로서는, 0.5질량부가 바람직하고, 2질량부가 보다 바람직하다. 한편, 이 함유량의 상한으로서는 60질량부가 바람직하고, 30질량부가 보다 바람직하다.As a minimum of content of the dispersing agent with respect to a total of 100 mass parts of [A] black pigment and [B] organic pigment in the said partition formation composition, 0.5 mass part is preferable and 2 mass parts is more preferable. On the other hand, as an upper limit of this content, 60 mass parts is preferable and 30 mass parts is more preferable.
(첨가제)(additive)
당해 격벽 형성용 조성물은, 필요에 따라, 상기 [A] 내지 [G] 성분 및 분산제 이외에, 여러가지 첨가제를 함유할 수도 있다. 첨가제로서는, 예를 들어 폴리비닐알코올, 폴리(플루오로알킬아크릴레이트)류 등의 고분자 화합물; 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제; 2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 3,9-비스[2-[3-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)-프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사-스피로[5.5]운데칸, 티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트 등의 산화 방지제; 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제; 폴리아크릴산나트륨 등의 응집 방지제; 말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 메사콘산, 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 5-아미노-1-펜탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올등의 잔사 개선제; 숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트 등의 현상성 개선제 등을 들 수 있다.The said partition formation composition may contain various additives other than the said [A]-[G] component and a dispersing agent as needed. As an additive, For example, High molecular compounds, such as polyvinyl alcohol and poly (fluoroalkyl acrylate); Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclo Hexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. Adhesion promoter; 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxa-spiro [5.5] undecane, thiodiethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], tris ( Antioxidants such as 2,4-di-t-butylphenyl) phosphite; Ultraviolet absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones; Aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate; Malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid, 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 5-amino-1-pentanol, 3-amino-1,2-propane Residue improving agents such as diol, 2-amino-1,3-propanediol and 4-amino-1,2-butanediol; Developability improvement agents, such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyl oxyethyl], mono phthalate mono [2- (meth) acryloyl oxyethyl], (omega) -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, etc. are mentioned. Can be.
당해 격벽 형성용 조성물에 있어서의 [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 이들 첨가제의 함유량의 하한으로서는, 0.1질량%가 바람직하고, 0.3질량%가 보다 바람직하다. 한편, 이 함유량의 상한으로서는 10질량%가 바람직하고, 3질량%가 보다 바람직하다.As a minimum of content of these additives with respect to all the components except the [G] solvent in the said partition formation composition, 0.1 mass% is preferable and 0.3 mass% is more preferable. On the other hand, as an upper limit of this content, 10 mass% is preferable and 3 mass% is more preferable.
(제조 방법)(Production method)
당해 격벽 형성용 조성물의 제조 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고 각 성분을 혼합함으로써 제조할 수 있다. 예를 들어 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다. 먼저, [A] 흑색 안료를 [G] 용매 중, 분산제의 존재 하에서, 분쇄하면서 혼합 및 분산시켜서 [A] 흑색 안료의 분산액을 얻는다. 이 조작은, 예를 들어 비즈 밀, 롤 밀 등을 사용해서 행할 수 있다. [B] 유기 안료를 사용하는 경우도 마찬가지로, [B] 유기 안료의 분산액을 얻는다. 얻어진 분산액, 그 밖의 성분 및 필요에 따라서 추가로 [G] 용매를 혼합함으로써 당해 격벽 형성용 조성물을 얻을 수 있다. 당해 격벽 형성용 조성물은, 필요에 따라 여과 처리를 실시하여, 응집물을 제거할 수 있다.It does not specifically limit as a manufacturing method of the said partition formation composition, It can manufacture by mixing each component. For example, it can manufacture by the following method. First, the [A] black pigment is mixed and dispersed while pulverizing in the presence of the dispersant in the solvent [G] to obtain a dispersion of the [A] black pigment. This operation can be performed using a bead mill, a roll mill, etc., for example. In the case of using the organic pigment [B], a dispersion of the organic pigment [B] is similarly obtained. The said partition formation composition can be obtained by mixing the obtained dispersion liquid, other components, and [G] solvent further as needed. The said partition formation composition can perform a filtration process as needed and can remove an aggregate.
<격벽의 형성 방법><Formation method of partition wall>
당해 격벽 형성용 조성물을 사용한 격벽의 형성 방법의 일 실시 형태는,One embodiment of the method for forming a partition using the composition for forming a partition,
(1) 당해 격벽 형성용 조성물에 의해, 기판의 한쪽 면측에 도막을 형성하는 공정(이하, 「공정 (1)」이라고도 한다),(1) Process of forming a coating film in the one surface side of a board | substrate with the said partition formation composition (henceforth a "process (1)"),
(2) 상기 도막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정(이하, 「공정 (2)」라고도 한다), 및(2) a step of irradiating at least a part of the coating film with radiation (hereinafter also referred to as "step (2)"), and
(3) 방사선 조사 후의 상기 도막을 현상하는 공정(이하, 「공정 (3)」이라고도 한다)(3) Process of developing the said coating film after irradiation (it is also called "process (3)" hereafter)
을 구비한다.It is provided.
당해 형성 방법은,The formation method is
(4) 상기 현상된 도막을 가열하는 공정(이하, 「공정 (4)」라고도 한다)(4) Process of heating the developed coating film (hereinafter also referred to as "step (4)")
을 더 구비할 수 있다. 이하, 각 공정에 대해서 상세하게 설명한다.It may be further provided. Hereinafter, each process is explained in full detail.
(공정 (1))(Step (1))
본 공정에서는, 당해 격벽 형성용 조성물을 사용하여, 기판 상에 도막을 형성한다. 구체적으로는, 용액상의 당해 격벽 형성용 조성물을 기판 표면에 도포하고, 바람직하게는 프리베이크를 행함으로써 용매를 제거하여 도막을 형성한다.In this process, a coating film is formed on a board | substrate using the said partition formation composition. Specifically, the solution-forming composition for partition wall formation is applied to the substrate surface, and preferably, the solvent is removed by prebaking to form a coating film.
도포 방법으로서는, 예를 들어 스프레이법, 롤 코팅법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 다이 도포법, 바 도포법, 잉크젯법 등의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 이들 중에서 도포 방법으로서는, 스핀 코팅법, 바 도포법 및 슬릿 다이 도포법이 바람직하다. 상기 프리베이크의 조건으로서는, 각 성분의 종류, 사용 비율 등에 따라서도 다르지만, 예를 들어 60℃ 이상 130℃ 이하에서 30초 이상 10분 이하 정도로 할 수 있다.As the coating method, for example, a suitable method such as a spray method, a roll coating method, a spin coating method (spin coating method), a slit die coating method, a bar coating method, or an inkjet method can be adopted. Among these, as a coating method, the spin coating method, the bar coating method, and the slit die coating method are preferable. Although it changes also with the kind of each component, a use ratio, etc. as conditions of the said prebaking, it can be made into about 30 second or more and 10 minutes or less at 60 degreeC or more and 130 degreeC or less, for example.
(공정 (2))(Step (2))
본 공정에서는, 상기 도막의 일부에 방사선을 조사한다. 구체적으로는, 공정 (1)에서 형성한 도막에 소정의 패턴을 갖는 마스크를 개재해서 방사선을 조사한다. 이 때 사용되는 방사선으로서는, 예를 들어 자외선, 원자외선, X선, 하전 입자선 등을 들 수 있다.In this process, a part of said coating film is irradiated with radiation. Specifically, radiation is irradiated to the coating film formed at the process (1) through the mask which has a predetermined | prescribed pattern. Examples of the radiation used at this time include ultraviolet rays, far ultraviolet rays, X-rays, charged particle beams, and the like.
상기 자외선으로서는, 예를 들어 g선(파장 436㎚), i선(파장 365㎚) 등을 들 수 있다. 원자외선으로서는, 예를 들어 KrF 엑시머 레이저 광 등을 들 수 있다. X선으로서는, 예를 들어 싱크로트론 방사선 등을 들 수 있다. 하전 입자선으로서는, 예를 들어 전자선 등을 들 수 있다. 이들 방사선 중, 자외선이 바람직하고, 자외선 중에서도 g선, h선 및/또는 i선을 포함하는 방사선이 보다 바람직하다. 방사선의 노광량으로서는, 0.1J/㎡ 이상 20,000J/㎡ 이하가 바람직하다.As said ultraviolet-ray, g line | wire (wavelength 436 nm), i line | wire (wavelength 365 nm), etc. are mentioned, for example. As far ultraviolet rays, KrF excimer laser light etc. are mentioned, for example. As X-ray, a synchrotron radiation etc. are mentioned, for example. As a charged particle beam, an electron beam etc. are mentioned, for example. Among these radiations, ultraviolet rays are preferable, and among the ultraviolet rays, radiation containing g rays, h rays and / or i rays is more preferable. As an exposure amount of radiation, 0.1J / m <2> or more and 20,000J / m <2> or less are preferable.
(공정 (3))(Step (3))
본 공정에서는, 상기 방사선이 조사된 도막을 현상한다. 구체적으로는, 공정 (2)에서 방사선이 조사된 도막에 대하여, 현상액에 의해 현상을 행하여 방사선의 비조사 부분(비노광 부분)을 제거한다. 상기 현상액으로서는, 예를 들어 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 규산나트륨, 메타규산나트륨, 암모니아, 에틸아민, n-프로필아민, 디에틸아민, 디에틸아미노에탄올, 디-n-프로필아민, 트리에틸아민, 메틸디에틸아민, 디메틸에탄올아민, 트리에탄올아민, 테트라메틸암모늄히드록시드(TMAH), 테트라에틸암모늄히드록시드, 피롤, 피페리딘, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]-5-노난 등의 알칼리(염기성 화합물)의 수용액 등을 들 수 있다. 또한, 상기 알칼리의 수용액에 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용매나 계면 활성제를 적당량 첨가한 수용액, 또는 당해 격벽 형성용 조성물을 용해 가능한 각종 유기 용매를 소량 포함하는 알칼리 수용액을 현상액으로서 사용해도 된다.In this step, the coating film irradiated with the radiation is developed. Specifically, the coating film irradiated with the radiation in the step (2) is developed with a developer to remove the non-irradiated portion (non-exposed portion) of the radiation. As the developer, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, ammonia, ethylamine, n-propylamine, diethylamine, diethylaminoethanol, di-n-propylamine, triethyl Amine, methyldiethylamine, dimethylethanolamine, triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), tetraethylammonium hydroxide, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0 And aqueous solutions of alkali (basic compounds) such as] -7-undecene and 1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonane. Moreover, you may use as a developing solution the aqueous solution which added a suitable amount of water-soluble organic solvents and surfactants, such as methanol and ethanol, and the various organic solvents which can melt | dissolve the said composition for partition formation in aqueous solution of the said alkali.
현상 방법으로서는, 예를 들어 액고임법, 디핑법, 요동 침지법, 샤워법 등의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 현상 시간으로서는, 당해 경화성 수지 조성물의 조성에 따라 다르지만, 예를 들어 30초 이상 120초 이하로 할 수 있다.As the developing method, for example, a suitable method such as a liquid dipping method, a dipping method, a rocking dipping method or a shower method can be adopted. As image development time, although it changes with the composition of the said curable resin composition, it can be 30 second or more and 120 second or less, for example.
(공정 (4))(Step (4))
본 공정에서는, 상기 현상된 도막을 가열한다. 가열 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 오븐이나 핫 플레이트 등의 가열 장치를 사용해서 가열할 수 있다. 본 공정에 있어서의 가열 온도로서는, 예를 들어 120℃ 이상 300℃ 이하로 할 수 있다. 가열 시간으로서는, 예를 들어 5분 이상 2시간 이하로 할 수 있다. 이와 같이 해서, 목적으로 하는 격벽을 기판 상에 형성할 수 있다.In this step, the developed coating film is heated. Although it does not specifically limit as a heating method, For example, it can heat using heating apparatuses, such as an oven and a hotplate. As heating temperature in this process, it can be 120 degreeC or more and 300 degrees C or less, for example. As heating time, it can be made into 5 minutes or more and 2 hours or less, for example. In this manner, the target partition wall can be formed on the substrate.
<표시 소자용 적층체의 제조 방법><The manufacturing method of the laminated body for display elements>
본 발명의 일 실시 형태에 따른 표시 소자용 적층체는, 예를 들어The laminated body for display elements which concerns on one Embodiment of this invention, for example
기판의 한쪽 면측에 격벽을 형성하는 공정(이하, 「공정 (A)」라고도 한다),Process of forming a partition on one side of a board | substrate (henceforth a "process (A)"),
격벽에 의해 구획된 복수의 영역의 적어도 하나의 영역에 컬러 필터층을 설치하는 공정(이하 「공정 (B)」라고도 한다), 및Providing a color filter layer in at least one region of the plurality of regions partitioned by the partition (hereinafter also referred to as "process (B)"), and
상기 적어도 하나의 영역에 파장 변환층을 설치하는 공정(이하 「공정 (C)」라고도 한다)A step of providing a wavelength conversion layer in the at least one region (hereinafter also referred to as "step (C)")
을 구비한다.It is provided.
또한, 표시 소자용 적층체가 컬러 필터층을 갖지 않는 경우, 상기 공정 (B)는 행하지 않아도 된다.In addition, when the laminated body for display elements does not have a color filter layer, the said process (B) does not need to be performed.
(공정 (A))(Step (A))
상기 공정 (A)는, 상술한 「격벽의 형성 방법」에 의해 적합하게 행할 수 있다.The said process (A) can be suitably performed by the above-mentioned "formation method of a partition."
(공정 (B))(Step (B))
상기 공정 (B)는, 격벽에 의해 구획된 복수의 영역 중 소정의 영역에, 컬러 필터층 형성용 조성물을 도포하고, 도막을 경화시키는 것 등에 의해 행할 수 있다. 컬러 필터층 형성용 조성물은, 예를 들어 안료, 염료 등의 착색제, 결합제 수지, 용매 등을 포함한다. 또한, 격벽이 발액성을 갖는 경우, 격벽간의 소정의 영역에 컬러 필터층 형성용 조성물이 유입되기 쉬워지기 때문에, 소정의 영역 상에 양호하게 도막이 형성된다. 이하의 공정 (C)에 있어서의 파장 변환층 형성용 조성물의 도포에 있어서도 마찬가지이다.The said process (B) can be performed by apply | coating the composition for color filter layer formation to a predetermined | prescribed area | region among the some area | region partitioned by the partition, and hardening a coating film. The composition for color filter layer formation contains coloring agents, such as a pigment and dye, binder resin, a solvent, etc., for example. Moreover, when a partition has liquid repellency, since the composition for color filter layer formation easily flows into the predetermined area | region between partitions, a coating film is formed satisfactorily on a predetermined area | region. The same applies to the application of the composition for forming a wavelength conversion layer in the following step (C).
(공정 (C))(Step (C))
상기 공정 (C)는, 격벽에 의해 구획된 복수의 영역 중 소정의 영역에, 파장 변환층 형성용 조성물을 도포하고, 도막을 경화시키는 것 등에 의해 행할 수 있다. 또한, 예를 들어 도 1의 표시 소자용 적층체(10)를 제조하는 경우에는, 각 컬러 필터층(14a, 14b) 상에 파장 변환층 형성용 조성물을 도포하게 된다. 파장 변환층 형성용 조성물은, 예를 들어 양자 도트, 형광제 등의 파장 변환제, 결합제 수지, 용매 등을 포함한다.The said process (C) can be performed by apply | coating the composition for wavelength conversion layer formation to a predetermined | prescribed area | region among the some area | region partitioned by the partition, and hardening a coating film. For example, when manufacturing the
이러한 각 공정을 거쳐, 당해 표시 소자용 적층체를 얻을 수 있다. 또한, 도 1의 표시 소자용 적층체(10)의 투명층(15)은, 투명성 수지의 충전, 투명성 수지를 포함하는 조성물의 도포 및 경화 등에 의해 형성할 수 있다.Through each of these steps, the laminate for display elements can be obtained. In addition, the
<그 밖의 실시 형태><Other embodiments>
본 발명은 상술한 실시 형태에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위에서 그 구성을 변경할 수도 있다. 예를 들어, 본 발명의 표시 소자용 적층체는, 컬러 필터층이 설치되어 있지 않아도 된다. 또한, 본 발명의 표시 소자용 적층체는, 예를 들어 백색 광원 등, 청색 광원 이외를 광원으로 하는 표시 소자에 적용할 수도 있다. 또한 본 발명의 격벽 형성용 조성물은, 높이가 5㎛미만 또는 30㎛ 초과의 격벽 등의 형성에 사용할 수도 있다.This invention is not limited to embodiment mentioned above, The structure can also be changed in the range which does not change the summary of this invention. For example, the color filter layer may not be provided in the laminated body for display elements of this invention. Moreover, the laminated body for display elements of this invention can also be applied to display elements which make a light source other than a blue light source, such as a white light source, for example. Moreover, the composition for partition formation of this invention can also be used for formation of the partition, etc. whose height is less than 5 micrometers or more than 30 micrometers.
[실시예]EXAMPLE
이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 등에 있어서의 측정은, 이하의 방법에 의해 행하였다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In addition, the measurement in the Example etc. was performed by the following method.
(중량 평균 분자량(Mw))(Weight average molecular weight (Mw))
중합체의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은, 이하의 조건으로 측정했다.The weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion of the polymer was measured on condition of the following.
·측정 방법: 겔 투과 크로마토그래피(GPC)법Measurement method: gel permeation chromatography (GPC) method
·표준 물질: 폴리스티렌 환산Standard material: polystyrene equivalent
·장치: 도소사의 「HLC-8220」Device: `` HLC-8220 '' from Tosoh Corporation
·칼럼: 도소사의 가드 칼럼 「HXL-H」, 「TSK gel G7000HXL」, 「TSK gel GMHXL」 2개 및 「TSK gel G2000HXL」을 순차 연결한 것Column: A series of guard columns `` HXL-H '', `` TSK gel G7000HXL '', `` TSK gel GMHXL '' and `` TSK gel G2000HXL ''
·용매: 테트라히드로푸란Solvent: Tetrahydrofuran
·샘플 농도: 0.7질량%Sample concentration: 0.7 mass%
·주입량: 70μLInjection volume: 70 μL
·유속: 1mL/minFlow rate: 1 mL / min
(안료의 평균 입자 직경)(Average particle diameter of pigment)
제조예에서 얻어진 안료 분산액을 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)로 10배로 희석하고, 입도 분포계(HORIBA사의 「L-500」)를 사용하여, 안료의 평균 입자 직경을 구했다.The pigment dispersion liquid obtained by the manufacture example was diluted 10 times with propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), and the average particle diameter of the pigment was calculated | required using the particle size distribution meter ("L-500" by HORIBA Corporation).
[합성예 1] 알칼리 가용성 수지 (C)의 합성Synthesis Example 1 Synthesis of Alkali-Soluble Resin (C)
플라스크 내를 질소 치환한 후, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 8질량부를 용해한 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 용액 250질량부를 투입했다. 계속해서, 불포화 단량체로서, 메타크릴산 20질량부 및 메틸메타크릴레이트 80질량부를 투입한 후, 느리게 교반을 시작했다. 용액의 온도를 70℃로 상승시키고, 이 온도를 5시간 유지했다. 그 후, 반응 생성 용액을 다량의 메탄올에 적하하여 반응물을 응고시켰다. 이 응고물을 수세 후, 테트라히드로푸란 200g에 재용해하고, 다량의 메탄올로 다시 응고시킴으로써, 알칼리 가용성 수지 (C)를 얻었다. 얻어진 알칼리 가용성 수지 (C)의 Mw는 9,500이었다.After nitrogen-substituting the flask, 250 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetate solutions which melt | dissolved 8 mass parts of 2,2'- azobis (2, 4- dimethylvaleronitrile) were prepared. Subsequently, after adding 20 mass parts of methacrylic acid and 80 mass parts of methyl methacrylates as an unsaturated monomer, stirring was started slowly. The temperature of the solution was raised to 70 ° C. and maintained at this temperature for 5 hours. Thereafter, the reaction product solution was added dropwise to a large amount of methanol to solidify the reaction product. Alkaline soluble resin (C) was obtained by dissolving this coagulated | water-solid after washing with water, 200 g of tetrahydrofuran, and solidifying again with a large amount of methanol. Mw of obtained alkali-soluble resin (C) was 9,500.
[합성예 2] 불소 함유 수지 (F1-1)의 합성Synthesis Example 2 Synthesis of Fluorine-Containing Resin (F1-1)
불포화 단량체로서, 1H,1H,2H,2H-트리데카플루오로옥틸메타크릴레이트 30질량부, 메타크릴산 10질량부 및 메틸메타크릴레이트 60질량부를 사용한 것 이외에는 합성예 1과 마찬가지로 하여 불소 함유 수지 (F1-1)을 합성했다. 얻어진 불소 함유 수지 (F1-1)의 Mw는 8,200이었다.A fluorine-containing resin was produced in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 30 parts by mass of 1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluorooctyl methacrylate, 10 parts by mass of methacrylic acid, and 60 parts by mass of methyl methacrylate were used. (F1-1) was synthesize | combined. Mw of the obtained fluorine-containing resin (F1-1) was 8,200.
[합성예 3] 불소 함유 수지 (F1-2)의 합성Synthesis Example 3 Synthesis of Fluorine-Containing Resin (F1-2)
불포화 단량체로서, 1H,1H,2H,2H-트리데카플루오로옥틸메타크릴레이트 30질량부, 글리시딜메타크릴레이트 35질량부, 메타크릴산 7질량부, N-페닐말레이미드 16질량부 및 4-이소프로페닐페놀 12질량부를 사용한 것 이외에는 합성예 1과 마찬가지로 하여 불소 함유 수지 (F1-2)를 합성했다. 얻어진 불소 함유 수지 (F1-2)의 Mw는 8,100이었다.As an unsaturated monomer, 30 mass parts of 1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluorooctyl methacrylate, 35 mass parts of glycidyl methacrylates, 7 mass parts of methacrylic acid, 16 mass parts of N-phenylmaleimide, and A fluorine-containing resin (F1-2) was synthesized in the same manner as in Synthesis example 1 except that 12 parts by mass of 4-isopropenylphenol were used. Mw of the obtained fluorine-containing resin (F1-2) was 8,100.
[제조예 1] 흑색 안료 분산액 (A)의 제조Production Example 1 Preparation of Black Pigment Dispersion (A)
카본 블랙을 30질량부, 분산제로서 BYK-LPN21116(빅케미(BYK)사 제조, (메트)아크릴계 분산제, 아민가 29mgKOH/g 고형분 농도 40질량%)을 12.5질량부 및 용매로서 PGMEA를 고형분 농도가 35질량%가 되도록 사용하여, 비즈 밀에 의해 12시간 혼합·분산하여, 흑색 안료 분산액 (A)를 제조했다. 흑색 안료의 평균 입자 직경은 70㎚였다. 흑색 안료 분산액 100질량%로 한 경우, 흑색 안료의 함유량은 30질량%였다.30 parts by mass of carbon black and 12.5 parts by mass of BYK-LPN21116 (manufactured by BYK Co., Ltd., (meth) acrylic dispersant, amine valence 29 mgKOH / g
[제조예 2] 유기 안료 분산액 (B)의 제조Production Example 2 Preparation of Organic Pigment Dispersion (B)
피그먼트 바이올렛29를 15질량부, 피그먼트 블루60을 15부, 분산제로서 BYK-LPN21116을 12.5질량부 및 용매로서 PGMEA를 고형분 농도가 35질량%가 되도록 사용하여, 비즈 밀에 의해 12시간 혼합·분산하여, 유기 안료 분산액 (B)를 제조했다. 유기 안료의 평균 입자 직경은 60㎚였다. 유기 안료 분산액 100질량%로 한 경우, 유기 안료의 함유량은 30질량%였다.15 parts by mass of
[실시예 1]Example 1
[A] 흑색 안료를 포함하는 분산액으로서, 제조예 1에서 얻은 흑색 안료 분산액 (A) 25질량부, [B] 유기 안료를 포함하는 분산액으로서, 제조예 2에서 얻은 유기 안료 분산액 (B) 100질량부, [C] 알칼리 가용성 수지로서, 합성예 1에서 얻은 알칼리 가용성 수지 (C) 100질량부, [D] 중합성 화합물로서, KAYARAD DPHA(니폰 가야쿠 가부시키가이샤제 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물) 100질량부, [E] 광중합 개시제로서, NCI-930(ADEKA사제) 10질량부, [F2] 불소 함유 계면 활성제로서, F-554(DIC사제) 0.5질량부, 첨가제의 실란 커플링제로서, KBM-403(신에쓰 가가꾸사제 3-글리시독시프로필트리메톡시실란) 3질량부 및 [G] 용매로서, PGMEA를 고형분 농도가 30질량%가 되는 양(519질량부)을 배합하여, (S-1) 격벽 형성용 조성물을 제조했다.[A] 25 mass parts of black pigment dispersion liquid (A) obtained by the manufacture example 1 as a dispersion liquid containing a black pigment, and 100 mass of organic pigment dispersion liquids (B) obtained by the production example 2 as a dispersion liquid containing the [B] organic pigment. In addition, as a [C] alkali-soluble resin, 100 mass parts of alkali-soluble resins (C) obtained by the synthesis example 1, and a [D] polymeric compound are KAYARAD DPHA (Dipentaerythritol hexaacrylate made by Nippon Kayaku Co., Ltd.). 100 parts by mass of a mixture of and dipentaerythritol pentaacrylate), 10 parts by mass of NCI-930 (manufactured by ADEKA Corporation) as a [E] photopolymerization initiator, and a [F2] fluorine-containing surfactant; Mass part and 3 mass parts of KBM-403 (3-glycidoxy propyl trimethoxysilane by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a silane coupling agent of an additive, and PGMEA make solid content concentration into 30 mass% as a [G] solvent. The amount (519 mass parts) was mix | blended and the composition for partition formation (S-1) was manufactured.
[실시예 2 내지 11 및 비교예 1 내지 2][Examples 2 to 11 and Comparative Examples 1 to 2]
사용한 각 성분의 종류 및 배합량을 표 1에 기재된 바와 같이 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, (S-2) 내지 (S-13) 격벽 형성용 조성물을 제조했다. 또한, 표 1 중 「F1-1」은 합성예 2에서 얻은 불소 함유 수지 (F1-1)이고, 「F1-2」는 합성예 3에서 얻은 불소 함유 수지 (F1-2)이다. 또한, 표 1에는 [G] 용매를 제외한 전체 성분에 대한 [A] 흑색 안료의 함유량(고형분 중 [A] 함유량) 및 [D] 중합성 화합물의 함유량(MD)에 대한 [C] 알칼리 가용성 수지의 함유량(MC)의 질량비(MC/MD)도 나타낸다.Except having performed the kind and compounding quantity of each used component as Table 1, it carried out similarly to Example 1, and manufactured the composition for partition formation (S-2)-(S-13). In addition, in Table 1, "F1-1" is fluorine-containing resin (F1-1) obtained by the synthesis example 2, and "F1-2" is fluorine-containing resin (F1-2) obtained by the synthesis example 3. In addition, Table 1 shows [C] alkali solubility of content (A content in solid content) of [A] black pigment with respect to all components except [G] solvent, and content (M D ) of [D] polymeric compound. The mass ratio (M C / M D ) of the content (M C ) of the resin is also shown.
(광학 농도의 측정)(Measurement of optical density)
소다유리 기판 상에, 스핀 코터를 사용해서 각 격벽 형성용 조성물을 도포한 뒤, 핫 플레이트에서 90℃ 2분간 프리베이크를 행하여, 막 두께 2.4㎛의 도막을 형성했다. 이어서, 고압 수은 램프를 사용하여, 포토마스크를 개재하지 않고, 도막에 365㎚, 405㎚ 및 436㎚의 각 파장을 포함하는 방사선을 200J/㎡의 노광량으로 노광했다. 그 후, 도막에 23℃의 0.04% 수산화칼륨 수용액을 현상압 1kgf/㎠(노즐 직경 1㎜)로 토출함으로써, 샤워 현상을 행하였다. 그 후, 추가로 230℃에서 1시간 포스트베이크를 행하여, 기판 상에 막 두께 2㎛의 경화막을 형성했다.After apply | coating each composition for partition formation on a soda glass substrate using a spin coater, it prebaked 90 degreeC for 2 minutes on the hotplate, and formed the coating film of 2.4 micrometers in thickness. Subsequently, using a high pressure mercury lamp, the radiation including each wavelength of 365 nm, 405 nm, and 436 nm was exposed to the coating film by the exposure amount of 200 J / m <2> without passing through a photomask. Thereafter, shower development was performed by discharging a 0.04% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. at a developing pressure of 1 kgf / cm 2 (nozzle diameter of 1 mm) to the coating film. Then, post-baking was further performed at 230 degreeC for 1 hour, and the cured film with a film thickness of 2 micrometers was formed on the board | substrate.
얻어진 막 두께 2㎛의 경화막에 대하여, 광학 농도계(오츠카 덴시사의 「LCF1100A」)를 사용해서 광학 농도(OD)를 측정했다. 측정된 OD 및 형성한 경화막의 막 두께로부터, 두께(높이) 1㎛당 광학 농도를 계산했다. 측정 결과를 표 2에 나타낸다.About the obtained cured film with a film thickness of 2 micrometers, optical density (OD) was measured using the optical density meter ("LCF1100A" of Otsuka Denshi Corporation). The optical density per 1 micrometer of thickness (height) was computed from the measured OD and the film thickness of the formed cured film. The measurement results are shown in Table 2.
(차광성)(Shade)
도막의 두께를 12㎛로 한 것 이외에는 상기 「광학 농도의 측정」과 마찬가지 방법으로 해서, 기판 상에 막 두께 10㎛의 경화막을 형성했다.A cured film having a film thickness of 10 μm was formed on a substrate in the same manner as in the above “Measurement of Optical Concentration” except that the thickness of the coating film was 12 μm.
얻어진 막 두께 10㎛의 경화막에 대하여, 광학 농도계(오츠카 덴시사의 「LCF1100A)를 사용해서 광학 농도(OD)를 측정했다. 얻어진 광학 농도가 2.5 이상인 경우에는 「○」, 1.5 이상 2.5 미만인 경우에는 「△」, 1.5 이하인 경우에는 「×」라 평가했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.About the obtained cured film with a film thickness of 10 micrometers, optical density (OD) was measured using the optical density meter ("LCF1100A of Otsuka Denshi Corporation"). When the obtained optical density was 2.5 or more, it evaluated as "(circle)", and when it was 1.5 or more and less than 2.5, it was "(triangle | delta)" and when it was 1.5 or less, it evaluated as "x." The evaluation results are shown in Table 2.
(격벽의 형성)(Formation of bulkhead)
소다유리 기판 상에, 스핀 코터를 사용해서 각 격벽 형성용 조성물을 도포한 뒤, 핫 플레이트에서 90℃ 2분간 프리베이크를 행하여, 막 두께 12㎛의 도막을 형성했다. 이어서, 고압 수은 램프를 사용하고, L/S=10㎛/30㎛의 포토마스크를 사용해서 도막에 365㎚, 405㎚ 및 436㎚의 각 파장을 포함하는 방사선을 50J/㎡의 노광량으로 노광했다. 그 후, 도막에 23℃의 0.04% 수산화칼륨 수용액을 현상압 1kgf/㎠(노즐 직경 1㎜)로 토출함으로써, 샤워 현상을 행하였다. 그 후, 또한 230℃에서 1시간 포스트베이크를 행하여, 기판 상에 막 두께 10㎛, 애스펙트비 0.8(막 두께/라인폭)의 격벽(경화막)을 형성했다.After apply | coating each composition for partition formation on a soda glass board | substrate using a spin coater, it prebaked 90 degreeC for 2 minutes on the hotplate, and formed the coating film of film thickness of 12 micrometers. Subsequently, using a high-pressure mercury lamp, a photomask of L / S = 10 µm / 30 µm was used to expose the radiation including each wavelength of 365 nm, 405 nm and 436 nm to the coating film at an exposure dose of 50 J / m 2. . Thereafter, shower development was performed by discharging a 0.04% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. at a developing pressure of 1 kgf / cm 2 (nozzle diameter of 1 mm) to the coating film. Thereafter, post-baking was further performed at 230 ° C. for 1 hour to form a partition (cured film) having a film thickness of 10 μm and an aspect ratio of 0.8 (film thickness / line width) on the substrate.
(테이퍼 형상)(Taper shape)
상기 「격벽의 형성」에 있어서의 현상 처리 후에, SEM을 사용해서 패턴의 단면 관찰을 행하였다. 테이퍼 형상(기판 표면에 대한 격벽의 측면의 각)이 50° 이상 80° 미만인 경우에는 「◎」, 80° 이상 90° 미만인 경우에는 「○」, 90° 이상 100° 미만인 경우에는 「△」, 100° 이상인 경우에는 「×」라 평가했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.After the development process in said "formation of a partition," cross-sectional observation of the pattern was performed using SEM. "◎" when the tapered shape (angle of the side surface of the partition to the substrate surface) is 50 ° or more and less than 80 °, "○" when 80 ° or more and less than 90 °, "△", when 90 ° or more and less than 100 ° In the case of 100 degrees or more, it evaluated as "x". The evaluation results are shown in Table 2.
(패턴 성형성)(Pattern formability)
상기 현상 처리 후에, 비조사 부분이 완전히 용해되었는지 여부를 눈으로 보고 확인했다. 용해가 확인된 경우에는 「○」, 확인되지 않은 경우에는 「×」라 평가했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.After the development treatment, it was visually confirmed whether the non-irradiated portion was completely dissolved. When melt | dissolution was confirmed, it evaluated as "(circle)" and when not confirmed, it was "x". The evaluation results are shown in Table 2.
(발액성)(Liquidity)
접촉각계(교와 가이멘 가가꾸사의 자동 접촉각계 「CA-V150」)를 사용하여, 상기 현상 처리를 행하기 전의 도막 상에서의, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트의 정적 접촉각을 측정하여, 발액성을 평가했다. 접촉각이 30° 이상 90° 이하인 경우를 「◎」, 15° 이상 30° 미만인 경우를 「○」, 5° 이상 15 미만인 경우를 「△」, 5° 미만인 경우를 「×」라 평가했다. 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Using a contact angle meter (automatic contact angle meter "CA-V150" manufactured by Kyowa Kaimen Kagaku Co., Ltd.), the static contact angle of propylene glycol monomethyl ether acetate on the coating film before performing the above development treatment was measured to obtain liquid repellency. Evaluated. "(Circle)" and the case where the contact angle is 30 degrees or more and 90 degrees or less were "(circle)" and the case where it was 15 degrees or more and less than 30 degrees were evaluated as "(circle)" and the case where it was 5 degrees or more and less than 15 as "x". The evaluation results are shown in Table 2.
표 2에 나타낸 바와 같이, 각 실시예의 격벽 형성용 조성물은 패턴 형성성(현상성)이 양호하며, 이들 격벽 형성용 조성물로 형성된 경화막(격벽)은, 충분한 차광성을 갖는다. 또한, 각 실시예의 격벽 형성용 조성물 중에서도, 고형분 중 [A] 흑색 안료의 함유량이 특히 낮은 실시예 1, 3 내지 11의 각 격벽 형성용 조성물로부터는, 순테이퍼상의 격벽이 형성되었다. 또한, 불소 함유 수지를 포함하는 실시예 8 내지 11의 격벽 형성용 조성물로 형성된 경화막은, 발액성도 우수하다. 각 실시예의 격벽 형성용 조성물로부터는, 격벽으로서의 충분한 차광성과, 높이를 겸비한 격벽을 형성할 수 있는 것을 알 수 있다.As shown in Table 2, the partition formation composition of each Example has good pattern formation property (developability), and the cured film (partition wall) formed from these partition formation compositions has sufficient light shielding property. Moreover, among the compositions for partition formation of each Example, the forward tapered partition was formed from the compositions for Example 1, 3-11 of which content of [A] black pigment is especially low in solid content. Moreover, the cured film formed from the composition for partition formation of Examples 8-11 containing fluorine-containing resin is also excellent in liquid repellency. From the composition for partition formation of each Example, it turns out that the partition which had sufficient light shielding property as a partition, and the height can be formed.
본 발명의 표시 소자용 적층체는, 액정 표시 소자, 마이크로 LED 소자 등의 표시 소자의 구성 부재로서 적합하게 사용할 수 있다.The laminated body for display elements of this invention can be used suitably as a structural member of display elements, such as a liquid crystal display element and a micro LED element.
10 : 표시 소자용 적층체
11 : 기판
12 : 격벽
13a, 13b : 파장 변환층
14a, 14b : 컬러 필터층
15 : 투명층
20, 21, 22 : 격벽으로 구획된 영역
30 : 마이크로 LED 소자
31 : TFT 기판
32a, 32b, 32c : 청색 LED
40, 41, 42 : 격벽으로 구획된 영역10: laminate for display element
11: substrate
12: bulkhead
13a, 13b: wavelength conversion layer
14a, 14b: color filter layer
15: transparent layer
20, 21, 22: area partitioned by bulkhead
30: micro LED element
31: TFT substrate
32a, 32b, 32c: blue LED
40, 41, 42: area partitioned by bulkhead
Claims (13)
상기 기판의 한쪽 면측을 복수의 영역으로 구획하는 격벽, 및
상기 복수의 영역의 적어도 하나의 영역 내에 설치된 파장 변환층
을 구비하고,
상기 격벽의 높이가 5㎛ 이상 30㎛ 이하이고,
상기 격벽의 높이 1㎛당 광학 농도가 0.2 이상 0.7 이하인 표시 소자용 적층체.Board,
A partition wall partitioning one side of the substrate into a plurality of regions, and
A wavelength conversion layer provided in at least one region of the plurality of regions
And
The height of the said partition is 5 micrometers or more and 30 micrometers or less,
The laminated body for display elements whose optical density per 1 micrometer of heights of a said partition is 0.2 or more and 0.7 or less.
흑색 안료,
알칼리 가용성 수지, 및
용매
를 함유하고,
상기 용매를 제외한 전체 성분에 대한 상기 흑색 안료의 함유량이, 0.1질량% 이상 5.0질량% 이하인 격벽 형성용 조성물.It is used for formation of the partition of the laminated body for display elements of any one of Claims 1-7,
Black pigment,
Alkali-soluble resins, and
menstruum
Containing,
The composition for partition formation in which content of the said black pigment with respect to the all components except the said solvent is 0.1 mass% or more and 5.0 mass% or less.
유기 안료,
알칼리 가용성 수지,
중합성 화합물, 및
용매
를 함유하고,
상기 용매를 제외한 전체 성분에 대한 상기 흑색 안료의 함유량이, 0.1질량% 이상 5.0질량% 이하이고,
상기 중합성 화합물의 함유량(MD)에 대한 상기 알칼리 가용성 수지의 함유량(MC)의 질량비(MC/MD)가, 0.3 이상 2.0 이하인 격벽 형성용 조성물.Black pigment,
Organic pigments,
Alkali soluble resin,
Polymerizable compounds, and
menstruum
Containing,
Content of the said black pigment with respect to all the components except the said solvent is 0.1 mass% or more and 5.0 mass% or less,
The content of the polymerizable compound (M D) The content of the alkali-soluble resin for the (M C) weight ratio (C M / D M) is 0.3 or more 2.0 or less of the composition for a bulkhead forming.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2018-067644 | 2018-03-30 | ||
JP2018067644A JP2019179111A (en) | 2018-03-30 | 2018-03-30 | Display element laminate and partition forming composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190114822A true KR20190114822A (en) | 2019-10-10 |
Family
ID=68206827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190034885A KR20190114822A (en) | 2018-03-30 | 2019-03-27 | Laminate for display device, and composition for forming partition |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2019179111A (en) |
KR (1) | KR20190114822A (en) |
TW (1) | TW201942671A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023234561A1 (en) * | 2022-06-03 | 2023-12-07 | 주식회사 동진쎄미켐 | Display device and photo-sensitive resin composition for same |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102285669B1 (en) * | 2018-08-27 | 2021-08-04 | 동우 화인켐 주식회사 | A color filter, a method of making thereof, and an image display device comprising thereof |
CN112993131B (en) * | 2019-12-17 | 2023-03-31 | 群创光电股份有限公司 | Method for manufacturing display device |
JP2021110896A (en) * | 2020-01-15 | 2021-08-02 | 太陽インキ製造株式会社 | Display partition |
JP2021158252A (en) * | 2020-03-27 | 2021-10-07 | ソニーグループ株式会社 | Light-emitting device and image display device |
JP7507006B2 (en) | 2020-04-30 | 2024-06-27 | サカタインクス株式会社 | Pigment dispersion composition for black matrix, resist composition for black matrix, and black matrix |
KR20230066363A (en) * | 2020-09-14 | 2023-05-15 | 에이지씨 가부시키가이샤 | Substrates for LED devices and image display devices |
US20230163264A1 (en) * | 2020-12-26 | 2023-05-25 | BOE MLED Technology Co., Ltd. | Display substrate and method for manufacturing the same, and display apparatus |
TWI771171B (en) * | 2021-04-16 | 2022-07-11 | 錼創顯示科技股份有限公司 | Micro light emitting diode display panel |
WO2023079620A1 (en) * | 2021-11-04 | 2023-05-11 | コニカミノルタ株式会社 | Inkjet ink for forming partition, inkjet ink set for forming partition, method for manufacturing led device, and led device |
WO2024024842A1 (en) * | 2022-07-29 | 2024-02-01 | 富士フイルム株式会社 | Laminate manufacturing method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003302515A (en) | 2002-04-09 | 2003-10-24 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition, color filter, black matrix and liquid crystal display element |
JP2004205862A (en) | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Jsr Corp | Radiation-sensitive composition, black matrix, color filter and color liquid crystal display |
JP2012142489A (en) | 2011-01-05 | 2012-07-26 | Sony Corp | Light emitting device, lighting device, and display device |
JP2016070949A (en) | 2014-09-26 | 2016-05-09 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Display device |
-
2018
- 2018-03-30 JP JP2018067644A patent/JP2019179111A/en active Pending
-
2019
- 2019-02-21 TW TW108105752A patent/TW201942671A/en unknown
- 2019-03-27 KR KR1020190034885A patent/KR20190114822A/en unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003302515A (en) | 2002-04-09 | 2003-10-24 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition, color filter, black matrix and liquid crystal display element |
JP2004205862A (en) | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Jsr Corp | Radiation-sensitive composition, black matrix, color filter and color liquid crystal display |
JP2012142489A (en) | 2011-01-05 | 2012-07-26 | Sony Corp | Light emitting device, lighting device, and display device |
JP2016070949A (en) | 2014-09-26 | 2016-05-09 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Display device |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023234561A1 (en) * | 2022-06-03 | 2023-12-07 | 주식회사 동진쎄미켐 | Display device and photo-sensitive resin composition for same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201942671A (en) | 2019-11-01 |
JP2019179111A (en) | 2019-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20190114822A (en) | Laminate for display device, and composition for forming partition | |
JP6265093B2 (en) | Colored composition, colored cured film, display element and solid-state image sensor | |
JP7047642B2 (en) | Photosensitive composition for partition wall formation, partition wall and display element | |
TWI688611B (en) | Colorant dispersion liquid and manufacturing method thereof, coloring composition and manufacturing method thereof, coloring cured film, display element and solid-state imaging element | |
JP5919674B2 (en) | Colorant, coloring composition, color filter and display element | |
JP2016027384A (en) | Photosensitive composition for bezel formation, bezel, and display device | |
KR20100138767A (en) | Coloring composition, color filter and color liquid crystal display device | |
KR101992866B1 (en) | Colored photosensitive resin composition | |
JP6206211B2 (en) | Colored composition, colored cured film, and display element | |
KR101835171B1 (en) | A colored photosensitive resin composition for color filter, color filter and liquid crystal display device having the same | |
KR102355813B1 (en) | Colored Photosensitive Resin Composition, Color Filter and Display Device | |
KR20140100261A (en) | Colored photosensitive resin composition | |
KR101992867B1 (en) | Colored photosensitive resin composition | |
KR101857083B1 (en) | Colored photosensitive resin composition, color filter, and image display apparatus comprising the same | |
JP2015180712A (en) | Coloring composition, colored cured film, and display element and solid state image sensor | |
JP2022132155A (en) | Partition-forming photosensitive resin composition, partition structure produced using the same, and display device comprising partition structure | |
KR102436143B1 (en) | A colored photosensitive resin composition, a color filter and an image display device produced using the same | |
KR20150012521A (en) | Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display having the same | |
KR20180023249A (en) | Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same | |
JP2016074773A (en) | Coloring composition, colored cured film, and display element and solid state image sensor | |
KR102416843B1 (en) | Colored photosensitive resin composition and color filter using the same | |
KR20180135838A (en) | Colored photosensitive resin composition, color filter, and image display apparatus comprising the same | |
KR102363755B1 (en) | Colored photosensitive resin composition and color filter using the same | |
KR102664597B1 (en) | Black photosensitive resin composition, cured film and black matrix produced using the same | |
WO2023054597A1 (en) | Photosensitive resin composition, cured product, partition wall, organic electroluminescent element, and image display device |